JPH11333215A - ろ過フィルターのエアーロック防止装置 - Google Patents

ろ過フィルターのエアーロック防止装置

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JPH11333215A
JPH11333215A JP10150093A JP15009398A JPH11333215A JP H11333215 A JPH11333215 A JP H11333215A JP 10150093 A JP10150093 A JP 10150093A JP 15009398 A JP15009398 A JP 15009398A JP H11333215 A JPH11333215 A JP H11333215A
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air
filter
tank
chemical
pipe
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JP10150093A
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Hideaki Seto
秀晶 瀬戸
Haruhiko Yamamoto
治彦 山本
Nobuyoshi Sato
伸良 佐藤
Kyoko Saito
恭子 齋藤
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LSI Logic Corp
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0063Regulation, control including valves and floats
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D19/00Degasification of liquids
    • B01D19/0031Degasification of liquids by filtration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D36/00Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
    • B01D36/001Filters in combination with devices for the removal of gas, air purge systems

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ろ過フィルターのエアーロック現象を防止す
る。 【解決手段】 ウェハーを処理するための処理槽1と、
該処理前に予め処理液をろ過するためのろ過フィルター
を内部に有しかつ第1のエア抜きライン31と接続され
た濾過器7と、該濾過器7の一次側に配され第2のエア
抜きライン32と接続されたタンク体30とを設け、少
なくとも前記濾過器7、タンク体30を配管によって接
続し、さらに、第1のエア抜きライン31のバルブ34
と第2のエア抜きライン32のバルブ36とは別個独立
に動作可能とし、かつこれらの第1と第2のエア抜きラ
イン31、32を処理液の最上流側に直接接続する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体や液晶製造
工程におけるウェットエッチング、ウェット洗浄ウェッ
トスクラバー等のウェット処理、及びCMP(化学・機
械的研磨)、スピンコーター、スピンデベロッパー等の
非ウェット処理において問題となる、ろ過フィルターの
乾燥、エアーロック現象(フィルターがエアーにより詰
まり、フィルターのろ過面積が減少する現象)を防止す
ることができる装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図1は、従来の薬液循環系における薬液
のフィルターリングの流れを示すものである。
【0003】薬液は、まず、薬液槽1の外槽3よりポン
プ5の吸引により流れ、ポンプ5を経て濾過器7内のフ
ィルターの一次側に供給される。次いで、薬液は濾過器
7のフィルターを通り抜けてフィルターの二次側に達す
る。この時に薬液中に混入したゴミやパーティクルはフ
ィルターに引っ掛かり通過することができない。ゴミや
パーティクルを落とした薬液は薬液槽1の内槽2に到達
し、槽内のウェハー(図示せず)に作用してエッチング
や洗浄が行われる。
【0004】薬液供給系のフィルターリングについて
も、図2に示すように、薬液ボトル6からポンプ5で薬
液4を吸引し、濾過器7を通過し薬液槽1内に供給され
る。この時にゴミやパーティクルは濾過器7内のフィル
ターに引っ掛かり供給される薬液はクリーンになる。上
記薬液ボトル6から濾過器7への薬液4の搬送は、N2
ガス等による圧送によっても行うことができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記の薬液循環系や薬
液供給系においては、実際にはポンプ動作、圧送N2
ス、配管継ぎ手部分のリークまたは配管径の変化等によ
り薬液中には泡、エアー等(以後は総称してエアーと呼
ぶ)が発生し、これが薬液と混ざった形で濾過器7内の
フィルターの一次側に供給される。
【0006】このようなエアーのうちの一部は、図3に
示す濾過器7内のフィルター8の空孔に入らずに、エア
ー10同士が合体しより大きく成長し、浮力により濾過
器7の上部に集まる。このようなエアーは、濾過器7の
上部に接続されたエアー抜きライン9の途中に設けられ
たエアー抜きバルブ11の開閉によって再びエアーを薬
液槽1の外槽3又は薬液ボトル6に戻すことが従来より
行われている(図1、図2)。
【0007】しかしながら、その他のエアーは、図3の
フィルター8の膜に付着しポンプまたは圧送の圧力によ
りフィルター8の膜内に押し込まれる。
【0008】この様にフィルター8の膜中の空孔に押し
込まれたエアーはそこで安定し存在するため、以後、こ
の空孔を薬液が通ることはなくなる。従って、フィルタ
ー8における空孔は、徐々にエアーにより埋まってい
く。また、ゴミ、パーティクル等によってこの空孔が埋
まることもある。
【0009】この様にしてフィルターがエアーにより詰
まること(エアーロック現象)により、薬液循環フィル
ターの場合、薬液の循環流量の減少が起こる。これは薬
液槽内の薬液のろ過流量の減少、つまりは単位時間当た
りのろ過量の減少を意味する。従って、循環ろ過による
薬液槽内の浮遊パーティクル除去能力が低下し、これが
製品に付着することで製品の歩留りを下げる大きな要因
となっていた。極端な場合は、全く循環しないためにポ
ンプ自身の圧力によってポンプが破損する場合もあっ
た。
【0010】また、薬液供給フィルターの場合も同様
に、ろ過流量低下により供給時間が長くなり、これによ
って装置の液交換時間が長くなって稼働時間が減少する
ことがあった。これも同様に極端な場合は、薬液が供給
されなくなるケースもあった。
【0011】このようなエアーロック現象を防止するた
めの手段として、特開昭64−75012号公報及び特
開平1−127006号公報に、薬液循環ろ過装置が開
示されている。
【0012】特開昭64−75012号公報に開示され
た薬液循環ろ過装置では、図4に示すように、フィルタ
ー膜14を内蔵した濾過器13の前段にエア溜タンク2
3が連結管24を介して接続され、該エア溜タンク23
にはエア抜き管19と液面センサ20が設けられてい
る。
【0013】この装置においては、薬液導入部17より
導入されたエアーによりフィルターの一次側の液面が所
定位置まで押し下げられると液面センサ20の検知によ
りエア抜き管19に設けられたエア抜き弁22が開か
れ、エア抜きが行われる。逆に、これにより液面が上昇
すると液面センサ20の検知によりエア抜き弁22が閉
じられる。
【0014】しかしながら、この装置においては、ポン
プにより薬液が薬液導入部17からエアー溜タンク23
を経て連結管24を通ってフィルター14の一次側に供
給される。従ってフィルター14の一次側の濾過器13
内に侵入し又は発泡性薬液により濾過器13内で発生し
たエアー12が薬液の流れに逆らって連結管24を通過
してエアー溜タンク23に戻ることは不可能であった。
【0015】一方、特開平1−127006号公報に開
示されている薬液循環ろ過装置においては、図5に示す
ように、フィルタ膜14を内蔵した濾過器13の上部に
エア抜き口27を有しており、この濾過器13の前段に
はエア溜タンク23が接続され、濾過器13のエア抜き
口27とエア溜タンク23の薬液導入部17との間に、
エア還元管15が接続されている。
【0016】この装置においては、濾過器13内に侵入
し、あるいは濾過器13内で発泡したエアー12は還元
流18によりエアー還元管15を通ってエア溜タンク2
3へ還元される。
【0017】しかしながら、この装置では薬液導入部1
7中にエア還元管15が配されているため、薬液には乱
気流防止板16に当たって下側へ進む経路と、エア還元
管15を経由する経路が存在する。このため、薬液がこ
のエア還元管15を通ってフィルタ膜14の一次側に到
達する場合は、エアー12はこの流れに逆らって上昇で
きず、エアー抜きの効果が著しく低減される場合が有る
ことが解った。
【0018】従って上記の2装置においては、いずれも
エアーロック現象を効果的に解決することは不可能であ
った。
【0019】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく、
本発明のろ過フィルターのエアーロック防止装置は、ウ
ェハーを処理するための処理槽と、該処理前に予め処理
液をろ過するためのろ過フィルターを内部に有しかつ第
1のエア抜きラインと接続された濾過器と、該濾過器の
一次側に配され、第2のエア抜きラインと接続された所
定の容積を有するタンク体とを有し、少なくとも前記濾
過器、タンク体が配管によって接続され、さらに、前記
第1のエア抜きラインと前記第2のエア抜きラインとは
別個独立に動作され、かつこれらの第1と第2のエア抜
きラインが処理液の最上流側に直接接続されていること
を特徴とする。
【0020】又、前記タンク体は、その内部に、前記配
管内径の3倍以上20倍以下の処理液移動長さを有し、
かつ前記配管内径の3倍以上50倍以下のエアー移動高
さを有することが好ましい。
【0021】本発明のろ過フィルターのエアーロック防
止装置は、例えば、ウェットエッチング、ウェット洗
浄、ウェットスクラバー等のウェット処理、CMP(化
学・機械的研磨)、スピンコーター、スピンデベロッパ
ー等の非ウェット処理の処理液循環、供給系において好
適に用いることができる。
【0022】また、処理液としては、薬液(NH4
H,H22,HF,HNO3,H3PO4,HCl,H2
4,バッファードHF,イソプロピルアルコール
等)、剥離剤、有機溶剤、又はこれらに界面活性剤等を
含んだもの、純水、フォトレジスト(環化ポリイソプレ
ン、ノボラック樹脂、スチレン等)、現像液(有機溶
剤、有機アルカリ、界面活性剤含有の有機アルカリ
等)、CMPスラリー(硝酸鉄系、過酸化水素水系、二
酸化マンガン系、シリカ系、アルミナ系、酸化セリウム
系等)、ARC(Anti-Reflective Coating),TAR(T
op Anti-Reflection)等に使用する反射防止溶剤等を好
適に用いることができる。
【0023】
【発明の実施の形態】図6に、本発明のろ過フィルター
のエアーロック防止装置の一例の概略図を示す。
【0024】この例においては、ウェハー(図示せず)
をウェット処理するための処理槽1の上流方向に濾過器
7が配され、該濾過器7の一次側にはタンク体30が配
されている。タンク体30の上流側はポンプ5に接続さ
れている。
【0025】処理槽1、濾過器7、タンク体30、ポン
プ5は、内径10〜50mm程度でテフロン等で形成さ
れた配管で接続されている。さらに、濾過器7の上部に
は第1のエア抜きライン31が接続されており、このエ
ア抜きライン31は処理液の最上流側である処理槽1の
外槽3に至り、エアーが外槽3に直接戻ることができる
ように構成されている。同様に、タンク体30には第2
のエア抜きライン32が接続されており、処理槽1の外
槽3へエアーが直接戻ることができるように構成されて
いる。これらの第1のエア抜きライン31と第2のエア
抜きライン32にはバルブ34、36がそれぞれ設けら
れており、別個独立にエア抜きの操作を行うことができ
るようになっている。
【0026】図7に、このろ過フィルターのエアーロッ
ク防止装置に用いる濾過器7とタンク体30の拡大図を
示す。
【0027】図中、円筒形状の濾過器7内には、ポリプ
ロピレン、ポリエチレン、又はテフロン製等のフィルタ
ー8が配されており、該フィルター8の一次側には、タ
ンク体30が配管38を介して接続されている。該タン
ク体30は、ポンプ5と配管40によって接続されてい
る。
【0028】該タンク体30の形状は特に問わないが、
例えば、円筒状、立方体状、直方体状、又はこれに類似
した形状とすることができる。図7のように円筒状の場
合は、その直径bが配管40の内径aの3倍以上20倍
以下で、高さCが内径aの3倍以上50倍以下であるこ
とが好ましい。同様に、立方体状、直方体状の場合に
は、一辺の長さ及び高さが上記範囲にあることが好まし
い。
【0029】上記範囲に規定したのは、底面の直径又は
一辺の長さが3倍未満の場合は、タンク体30の入口と
出口の距離が短すぎるため、エアー33が浮力によって
浮く前にタンク体30の出口からフィルター8の一次側
に処理液と一緒に流れてしまい、効力が無くなる。ま
た、底面の直径又は一辺の長さが20倍を超えても効果
は変わらず、装置のコンパクト性が損なわれる。次に、
高さが3倍未満の場合は溜まったエアー33が処理液の
流れに引っ張られて出口に流れるため効果が無くなる。
また、50倍を超えても効果は変わらず、装置のコンパ
クト性が損なわれる。
【0030】濾過器7とタンク体30との距離dは、1
m以内が望ましく、15cm以内が最も好ましい。又、
距離dを0として濾過器7とタンク体30とを一体とし
て形成しても良い。前記上限より距離が長くなると、濾
過器7とタンク体30とを接続している配管38中から
エアーの発生する確率が高くなり、タンク体30によっ
てエアーを除去した意味がなくなる。
【0031】又、タンク体30は、フィルター8の一次
側の直近に接続することで効力を発揮するために、フィ
ルター8とタンク体30との間にポンプ等のエアーが発
生する部品を接続した場合は効力が低下する。
【0032】配管38のタンク体30側端部は垂直方向
上方に曲げられ、配管40から流入した処理液がそのま
まタンク体30の出口に流れないようになっている。な
お、配管38、40の形状、タンク体30への接続位置
は、上記の作用を果たせば特に図7に示すものに限定さ
れない。例えば、配管38、40は、図7に示すように
一直線上に配置されるだけでなく、互いに直交するよう
に配したり、互いにタンク体の異なる高さに接続したり
して、配管40から流入した処理液がそのままタンク体
30から出ないようにすることもできる。さらに、タン
ク体30中に遮蔽板を設けてこの作用を果たさせること
もできる。
【0033】前記の濾過器7、タンク体30は、ポリプ
ロピレン、ポリエチレン、テフロン等で形成することが
できる。
【0034】次にこの装置を用いてろ過フィルターのエ
アーロックを防止する方法について説明する。
【0035】まず、図6において、エアーを含んだ処理
液は、処理槽1の外槽3からポンプ5により吸引され該
ポンプ5を経てタンク体30に入る。
【0036】次に、図7に示すようにエアー33を含ん
だ処理液はここで浮力によりタンク体30の上部へ進む
エアー33と処理液に分れる。エアー33はタンク体3
0の上部で図6のエアー抜きバルブ36が開くまでは溜
まり、バルブ36が開くと同時にポンプ5の圧力によっ
て処理槽1の外槽3に直接戻る。一方、処理液は、タン
ク体30出口側の配管38より濾過器7のフィルター8
の一次側に送られる。そして、フィルター8で処理液は
ろ過されて、処理槽1の内槽2へ至る。
【0037】また、濾過器7内で発生した若干のエアー
10は、浮力により濾過器7上部に溜まり、エアー抜き
バルブ34が開くと同時に薬液槽1の外槽3に直接戻
る。
【0038】上記のように、タンク体30中及び濾過器
7中にそれぞれ溜まったエアー33及びエアー10は、
それぞれ一定時間ごとにバルブ36、34を開けること
で放出できるが、このエアー放出のためのバルブ開閉
は、フィルターの大きさや循環流量や使用処理液等によ
って変化する。
【0039】例えば、処理槽1の容量が40L、循環流
量が20L/min、配管40の径が3/4インチ、タ
ンク体30の寸法が底面直径165mm、高さ350m
m、エアー抜きライン31、32の配管径1/4イン
チ、使用処理液 NH4OH:H22:H2O=1:1:
6(65℃)の場合、3分間に10秒間程度の割合でバ
ルブ36、34を開ける様に設定することが好ましい。
【0040】この間隔が短くバルブが開いている時間が
長過ぎると、フィルター8を通過する単位時間当たりの
処理液量が減少するため好ましくない。また、逆の場合
はタンク体30のエアーが満タンになり、効果がなくな
る。また、濾過器7のエアー抜きとタンク体30のエア
ー抜きは同時にならないように設定することが望まし
い。
【0041】この装置においては、濾過器7に処理液が
入る前にタンク体30に処理液を通過させ、予め発生し
たエアー33をエア抜きライン32を介して処理槽1の
外槽3に直接戻して濾過器7に入るエアーを大幅に減少
させると共に、濾過器7に侵入したエアー又は濾過器7
中で発生したエアーをエア抜きライン31を介して処理
槽1の外槽3に直接戻すことができるので、ろ過フィル
ターのエアーロック現象を効果的に防止することができ
る。
【0042】又、第1のエア抜きライン31と第2のエ
ア抜きライン32とはそれぞれバルブ34、36によっ
て別個独立に動作されかつエアーが処理槽1の外槽3に
直接戻されるため、従来装置のように還元されるべきエ
アーが薬液の流れにじゃまされることはなく、エア抜き
を効果的に行うことができる。
【0043】以上、処理液循環系におけるろ過フィルタ
ーのエアーロック防止装置の一例を示したが、他の例と
して図8に、処理液供給系におけるエアーロック防止装
置の一例を示す。
【0044】この場合は、濾過器7、タンク体30にそ
れぞれ接続された第1のエア抜きライン41、第2のエ
ア抜きライン42は共に、処理液の最上流側である薬液
ボトル6に至り、エアーが薬液ボトル6に直接戻ること
ができるように構成されている。又、第1のエア抜きラ
イン41、第2のエア抜きライン42にそれぞれ設けら
れたバルブ44、46により別個独立にエア抜き操作を
行うことができる。この場合も処理液循環系の場合と同
様、エアーロック現象を効果的に防止することができ
る。
【0045】
【実施例】図6、図7に示すろ過フィルターのエアーロ
ック防止装置を、半導体製造装置でウエハー洗浄を行う
RCA洗浄工程(以後、RCAと呼ぶ)に用いて、実験
した。
【0046】このRCAの槽配列は、1槽目SC1洗
浄、2層目DIW QDR( DI WaterQuick Dump Rinc
e)、3槽目SC2洗浄、4槽目Hot DIW QD
R、5槽目Final DIW Rince、6槽目I
PA乾燥である。
【0047】1槽目のSC1洗浄槽の条件は、薬液槽1
の容量が40L、循環流量が20L/min、濾過器7
の出入口の配管径が3/4インチ、濾過器7のエア抜き
ライン配管経1/4インチ、使用薬液 NH4OH:H2
2:H2O=1:1:6(65℃)である。
【0048】3槽目のSC2洗浄槽の条件は、薬液槽1
の容量が40L、循環流量が20L/min、濾過器7
の出入口の配管径が3/4インチ、濾過器7のエア抜き
ライン配管径1/4インチ、使用薬液 HCl:H
22:H2O=1:1:5(80℃)である。
【0049】双方とも、フィルター8はテフロン製の1
0インチの長さのもので、ろ過径は0.1μmのものを
使用した。
【0050】まず、エアーロック現象の確認のための加
速実験として、タンク体を装着する前に前記の使用薬液
条件で濾過器7のエア抜きバルブを全く開けずに、薬液
循環を行った。
【0051】その結果、1槽目については31分で濾過
器7内がエアーで満タンとなった。そして、63分後に
はフィルター8の二次側には薬液は全く流れなくなっ
た。これは、フィルターがエアーロック現象を起こした
ためである。
【0052】また、3槽目については使用温度が80℃
と高いために、27分で濾過器7内がエアーで満タンと
なった。また、54分後にはフィルター8の二次側には
薬液は全く流れなくなった。
【0053】この状態でRCA洗浄を行い、パーティク
ルの付着をパーティクルカウンターで測定した結果、ウ
エハー3枚の平均付着数が345個であった。測定した
パーティクルサイズは0.3μm以上であり、処理条件
は、SC1洗浄10分、SC2洗浄10分である。
【0054】次にこのエアーロック現象を起こしたフィ
ルター8をそのまま使用できないために、IPA(イソ
プロピルアルコール)置換し直して濾過器7内に装着
し、よく純水で洗浄してIPAを除去した上で、タンク
体30を装着して同様の実験を実施した。その際に、1
槽目、3槽目共にタンク体30のエア抜きバルブ36を
3分間に10秒間開けるように設定し、条件をそろえる
ために、濾過器7のエア抜きバルブ34を全く開けず
に、薬液循環を行った。
【0055】その結果、1槽目については180分まで
実験を行ったが、この段階で濾過器7内にエアーが4分
の1溜まっただけであった。このエアーは濾過器7内で
発泡したエアーが溜まったものである。循環流量は20
L/minから17L/minに下がっていたが、エア
ーロック現象は起こしていなかった。また、3槽目につ
いても同様に180分まで実験を行ったが、1槽目と同
レベルであった。
【0056】この状態で同様のRCA洗浄を行い、パー
ティクルの付着をパーティクルカウンターで測定した結
果、ウエハー3枚の平均付着数が11個であった。測定
したパーティクルサイズは0.3μm以上である。
【0057】ここで、タンク体30の寸法は、底面直径
165mm、高さ350mmであり、出入口の配管3
8、40の径は3/4インチのものを使用した。
【0058】この実験より、本実施例のエアーロック防
止装置はフィルターのエアーロック現象の防止に大きく
貢献する事が分かった。
【0059】
【発明の効果】本発明のろ過フィルターのエアーロック
防止装置においては、第1のエア抜きラインと接続され
た濾過器の一次側に、第2のエア抜きラインと接続され
た所定の容積のタンク体を配しているため、処理液が濾
過器に入る前にタンク体中を通過させ予め発生したエア
ーを第2のエア抜きラインを介して還元することにより
濾過器に入るエアーを大幅に減少させることができると
共に、濾過器に侵入したエアー又は濾過器中で発生した
エアーを第1のエア抜きラインを介して還元することが
できるので、ろ過フィルターのエアーロック現象の発生
を防止することができる。
【0060】さらに、前記第1のエア抜きラインと前記
第2のエア抜きラインとは別個独立に動作され、かつこ
れらの第1と第2のエア抜きラインが処理液の最上流側
に直接接続されているので、エアーが循環系における処
理槽の外槽や供給系における薬液ボトル等に直接戻るこ
とが可能となり、従来装置のように還元されるべきエア
ーが薬液の流れにじゃまされることはなく、エア抜きを
効果的に行うことができる。
【0061】又、前記タンク体が、その内部に、前記配
管内径の3倍以上20倍以下の処理液移動長さを有し、
かつ前記配管内径の3倍以上50倍以下のエアー移動高
さを有することにより、ろ過フィルターのエアーロック
現象をより効果的に防止することができる。
【0062】従って、本発明のろ過フィルターのエアー
ロック防止装置によれば、フィルターのエアーロック現
象の防止により、フィルターの寿命が向上すると共に、
処理液の循環、供給効率を向上させることが可能とな
る。
【0063】又、循環効率の低下によるパーティクルの
付着増加を防止することができるので、製品歩留りを向
上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の薬液循環系における薬液のフィルターリ
ングの流れを示す概略図である。
【図2】従来の薬液供給系における薬液のフィルターリ
ングの流れを示す概略図である。
【図3】従来の濾過器内でのエアーと薬液の流れを示す
拡大図である。
【図4】従来の薬液循環ろ過装置の構成図である。
【図5】従来の薬液循環ろ過装置の構成図である。
【図6】本発明のろ過フィルターのエアーロック防止装
置の一例を示す概略図である。
【図7】本発明のろ過フィルターのエアーロック防止装
置に用いるタンク体と濾過器の拡大図である。
【図8】本発明のろ過フィルターのエアーロック防止装
置の他の例を示す概略図である。
【符号の説明】
1 処理槽(薬液槽) 4 処理液(薬液) 7 濾過器 8 フィルター 30 タンク体 31 第1のエア抜きライン 32 第2のエア抜きライン 38 配管 40 配管 41 第1のエア抜きライン 42 第2のエア抜きライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 伸良 茨城県つくば市天久保2−24−2 (72)発明者 齋藤 恭子 茨城県つくば市松代2−23−4−207

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェハーを処理するための処理槽と、該
    処理前に予め処理液をろ過するためのろ過フィルターを
    内部に有し、かつ、第1のエア抜きラインと接続された
    濾過器と、該濾過器の一次側に配され、第2のエア抜き
    ラインと接続された所定の容積を有するタンク体とを有
    し、少なくとも前記濾過器、タンク体が配管によって接
    続され、さらに、前記第1のエア抜きラインと前記第2
    のエア抜きラインとは別個独立に動作され、かつこれら
    の第1と第2のエア抜きラインが処理液の最上流側に直
    接接続されていることを特徴とするろ過フィルターのエ
    アーロック防止装置。
  2. 【請求項2】 前記タンク体が、その内部に、前記配管
    内径の3倍以上20倍以下の処理液移動長さを有し、か
    つ前記配管内径の3倍以上50倍以下のエアー移動高さ
    を有する請求項1記載のろ過フィルターのエアーロック
    防止装置。
JP10150093A 1998-05-29 1998-05-29 ろ過フィルターのエアーロック防止装置 Withdrawn JPH11333215A (ja)

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