KR100598914B1 - 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비 - Google Patents

약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비 Download PDF

Info

Publication number
KR100598914B1
KR100598914B1 KR1020040069936A KR20040069936A KR100598914B1 KR 100598914 B1 KR100598914 B1 KR 100598914B1 KR 1020040069936 A KR1020040069936 A KR 1020040069936A KR 20040069936 A KR20040069936 A KR 20040069936A KR 100598914 B1 KR100598914 B1 KR 100598914B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chemical liquid
housing
line
processing unit
unit
Prior art date
Application number
KR1020040069936A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060021105A (ko
Inventor
오래택
김춘식
윤국진
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020040069936A priority Critical patent/KR100598914B1/ko
Publication of KR20060021105A publication Critical patent/KR20060021105A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100598914B1 publication Critical patent/KR100598914B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041Cleaning
    • H01L21/02043Cleaning before device manufacture, i.e. Begin-Of-Line process
    • H01L21/02052Wet cleaning only
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like

Abstract

본 발명은 약액 재생 시스템에 관한 것으로, 시스템은 처리부로부터 약액이 회수되는 제 1하우징과 약액을 혼합탱크로 공급하고 순환시키는 제 2하우징을 가진다. 약액이 제 2하우징에서 순환되고 혼합탱크로 공급되는 동안에서 처리부로부터 약액의 회수가 가능하므로 약액의 회수율이 매우 높다.
약액, 재생, 회수, 순환, 하우징

Description

약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기 시스템을 가지는 기판 처리 설비{SYSTEM AND METHOD FOR RECYCLING CHEMICAL, AND APPARATUS FOR TREATING A SUBSTRATE USING THE SYSTEM}
도 1은 일반적인 약액 재생 시스템을 개략적으로 보여주는 도면;
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 약액 재생 시스템이 적용된 기판 처리 설비를 개략적으로 보여주는 도면;
도 3은 도 2의 기판 처리 설비의 변형된 예를 개략적으로 보여주는 도면; 그리고
도 4는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 기판 재생 방법을 순차적으로 보여주는 플로우차트이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 처리부 20 : 약액 공급부
30 : 약액 재생부 182 : 회수라인
220 : 혼합 탱크 240 : 버퍼 탱크
320 : 제 1하우징 340 : 제 2하우징
360 : 약액 회수 부재 382 : 순환라인
384 : 공급라인 386 : 이송라인
386 : 배출라인 394 : 필터
400 : 농도 조절부
본 발명은 기판을 제조하는 설비 및 방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 기사용된 약액을 재생하는 시스템 및 방법, 그리고 이를 이용하여 기판을 처리하는 설비에 관한 것이다.
반도체 기판을 제조하기 위해서는 다양한 공정이 요구된다. 이들 중 습식 식각이나 세정 등과 같은 공정에서는 다양한 종류의 약액이 사용되고 있다. 약액은 매우 고가이며, 폐기시 환경을 오염시키는 등의 문제가 있다. 따라서 일반적인 설비에서는 기사용된 약액을 회수하여 다시 사용하고 있다. 도 1은 일반적인 설비에서의 약액 재생 시스템을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 1을 참조하면, 약액 재생 시스템(2)은 하나의 하우징(920)을 가진다. 처리 장치에서 사용된 약액은 회수 라인(922)을 통해서 하우징(920) 내로 공급되고, 하우징(920)의 바닥면에는 배출라인(926)과 순환라인(924)이 연결된다. 순환라인(924)에는 필터(940)가 설치되어 약액 내 불순물을 제거한다. 순환라인(924)으로부터 이송라인(928)이 분기되며, 약액은 이송라인(928)을 통해 재사용을 위한 공간으 로 공급된다. 하우징(920)에는 하우징(920) 내부를 감압하기 위한 진공라인(960)이 설치된다. 하우징(920) 내부가 감압됨으로써 하우징(920)과 처리장치간에 압력차가 발생하고, 압력차에 의해 처리장치로부터 하우징(920)으로 약액이 회수된다.
상술한 일반적인 약액 재생 시스템(2) 사용시 다음과 같은 문제가 있다. 약액이 회수되는 동안 하우징(920) 내부는 감압되어야 하므로, 하우징(920) 내에서 약액의 순환이 이루어질 수 없다. 또한, 약액이 순환되는 동안과 약액을 재사용하기 위해 소정 공간으로 이송하는 동안 약액의 회수가 이루어지지 않으므로, 처리장치로부터 배출되는 약액이 회수되지 않는다.
본 발명은 처리 장치로부터 약액의 회수율을 증대시키고, 약액의 회수 및 약액의 순환과 이송라인으로부터 공급이 계속적으로 이루어질 수 있는 약액 재생 시스템 및 방법, 그리고 위 시스템을 이용한 기판 처리 설비를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명인 기판 처리 설비는 기판에 대해 소정 공정을 수행하는 처리부, 상기 처리부로 약액을 공급하는 약액 공급부, 그리고 상기 처리부로부터 약액을 회수하고, 회수된 약액을 상기 약액 공급부로 공급하는 약액 재생부를 포함한다. 상기 약액 재생부는 상기 처리부로부터 약액을 회수하는 제 1하우징과 상기 제 1하우징으로부터 약액을 공급받는 제 2하우징을 가진다. 상기 제 2하우징에는 약액이 순환되는 순환라인과 약액을 상기 약액 공급부로 공급 되는 이송라인이 제공된다. 상기 회수라인에는 약액으로부터 불순물을 제거하는 필터가 설치될 수 있다.
상기 약액은 회수라인을 통해 상기 처리부로부터 상기 제 1하우징으로 공급되고, 상기 약액 재생부는 상기 처리부로부터 약액을 상기 제 1하우징으로 유도하는 약액 회수 부재를 더 포함한다. 일 예에 의하면, 상기 약액 회수 부재는 상기 회수라인에 설치된 펌프를 가진다. 다른 예에 의하면, 상기 약액 회수 부재는 상기 제 1하우징 내부의 기체가 배기되는 진공라인과 상기 진공라인에 설치되어 상기 제 1하우징 내부를 감압하는 진공펌프를 가진다. 상기 제 1하우징 내부는 진공으로 유지되고, 상기 제 2하우징 내부는 상압으로 유지될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 제 1하우징으로부터 약액은 공급라인을 통해 상기 제 2하우징으로 공급되고, 상기 공급라인은 상기 순환라인으로부터 분기되어 상기 제 1하우징과 연결되며, 상기 공급라인에는 내부를 개폐하는 밸브가 설치된다. 상기 이송라인은 상기 순환라인으로부터 분기되어 상기 약액 공급부와 연결되고, 상기 약액 재생부는 상기 순환라인으로부터 분기되며 상기 제 1하우징 또는 상기 제 2하우징 내 약액을 배출하는 배출라인을 가질 수 있다.
또한, 상기 약액 공급부는 약액 공급라인 및 탈이온수 공급라인으로부터 약액과 탈이온수를 공급받고, 상기 이송라인을 통해 약액을 공급받는 혼합 탱크를 포함할 수 있다. 상기 기판 처리 설비는 상기 혼합 탱크 내 약액의 농도를 조절하는 농도 조절부를 더 포함할 수 있다. 일 예에 의하면, 상기 농도 조절부는 상기 이송라인을 통해 상기 혼합 탱크로 공급되는 약액의 농도를 측정하는 검출기와 상기 검 출기로부터 검출 신호를 전송받아 약액의 농도를 측정하고 상기 약액 공급라인에 설치된 밸브와 상기 탈이온수 공급라인에 설치된 밸브를 제어하는 제어기를 가진다.
또한, 본 발명의 약액 재생 시스템은 기판에 대해 공정을 수행하는 처리부로부터 회수라인을 통해 공정에 사용된 약액을 공급받는 공간을 제공하는 제 1하우징과 상기 제 1하우징과 분리된 공간을 제공하며 상기 제 1하우징으로부터 약액을 공급받는, 그리고 약액을 순환시키고 필터가 설치된 순환라인과 재생을 위한 탱크로 약액을 공급하는 이송라인을 가지는 제 2하우징을 가진다.
상기 약액 재생 시스템은 상기 처리부로부터 약액을 상기 제 1하우징으로 유도하는 약액 회수 부재를 더 포함한다. 일 예에 의하면, 상기 약액 회수 부재는 상기 회수라인에 설치된 펌프를 가진다. 다른 예에 의하면, 상기 약액 회수 부재는 상기 제 1하우징 내부의 기체가 배기되는 진공라인과 상기 진공라인에 설치되어 상기 제 1하우징 내부를 감압하는 펌프를 가진다. 상기 제 1하우징 내부는 진공으로 유지되고, 상기 제 2하우징 내부는 상압으로 유지된다.
또한, 본 발명의 약액 재생 방법은 처리부에서 공정에 사용된 약액이 제 1하우징으로 회수되는 단계, 상기 제 1하우징으로부터 약액이 상기 제 1하우징과 분리된 제 2하우징으로 공급되는 단계, 상기 제 2하우징 내의 약액이 필터가 설치된 순환라인을 통해 순환되는 단계, 그리고 상기 처리부로 약액을 공급하는 약액 공급부로 상기 제 2하우징 내의 약액을 공급하는 단계를 포함한다.
일 예에 의하면, 상기 제 1하우징으로부터 약액이 상기 제 1하우징과 분리된 제 2하우징으로 공급되는 단계는 상기 회수라인에 설치된 펌프의 작동에 의해 상기 제 1하우징으로부터 상기 제 2하우징으로 약액이 공급되는 단계를 포함한다. 다른 예에 의하면, 상기 제 1하우징으로부터 약액이 상기 제 1하우징과 분리된 제 2하우징으로 공급되는 단계는 상기 제 1하우징 내부를 감압하는 단계를 포함한다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 2 내지 도 4를 참조하여 보다 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 기판 처리 설비(1)를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 2를 참조하면, 기판 처리 설비(1)는 처리부(10), 약액 공급부(20), 그리고 약액 재생부(30)(청구범위에는 약액 재생 시스템 또는 약액 재생부(30)로 기재됨)를 가진다. 처리부(10)는 약액을 사용하여 기판 상에 소정의 공정을 수행한다. 예컨대, 처리부(10)는 식각액을 사용하여 기판을 식각하는 장치일 수 있다. 또한, 처리부(10)는 세정액을 사용하여 기판을 세정하는 장치일 수 있다. 처리부(10)는 약액이 배출되는 배출구 및 탈이온수가 배출되는 배출구가 각각 형성된 챔버(120)를 가진다. 챔버(120)는 기판을 지지 또는 회전시키는 지지대(140)를 가지며, 지지대(140) 상부에는 기판 상으로 약액을 공급하는 노즐(160)이 설치된 다. 기판은 집적회로 제조를 위해 사용되는 기판으로 반도체 웨이퍼(W) 또는 유리기판 등일 수 있다.
약액 공급부(20)는 노즐(160)로 약액을 공급한다. 약액 공급부(20)는 혼합 탱크(220)와 버퍼 탱크(280)를 가진다. 혼합 탱크(220)에서 처리부(10)로 공급되는 약액은 탈이온수와 혼합된다. 약액은 약액 저장부(240)로부터 약액 공급라인(242)을 통해 혼합 탱크(220)로 공급되고, 탈이온수는 탈이온수 저장부(260)로부터 탈이온수 공급라인(262)을 통해 혼합 탱크(220)로 공급된다. 또한, 후술하는 바와 같이 약액 재생부(30)로부터 재생된 약액이 이송라인(386)을 통해 혼합 탱크(220)로 공급된다. 약액 공급라인(242), 탈이온수 공급라인(262), 그리고 이송라인(386)에는 각각 그 내부 통로를 통해 흐르는 액체의 유량을 조절하는 유량 조절 부재가 설치된다. 유량 조절 부재로는 밸브(244, 264, 377) 또는 질량유량계(mass flow controller) 등이 사용될 수 있다. 혼합 탱크(220)에서 탈이온수와 일정 비율로 혼합된 약액은 배관을 통해 버퍼 탱크(280)로 공급된다. 버퍼 탱크(280)에 저장된 약액은 하나 또는 복수의 처리부(10)로 약액을 공급한다. 선택적으로 공정의 종류에 따라 탈이온수의 공급없이 처리부(10)로 약액만 공급될 수 있다.
약액 재생부(30)는 처리부(10)에서 사용된 약액을 여과한 후 이를 다시 혼합 탱크(220)로 공급한다. 약액 재생부(30)는 제 1하우징(320)과 제 2하우징(340)을 가진다. 제 1하우징(320)과 제 2하우징(340)에는 각각 내부에 약액에 저장되는 공간(328, 348)이 형성되며, 제 1하우징(320)에 의해 제공되는 공간(328)과 제 2하우징(340)에 의해 제공되는 공간(348)은 분리된다. 도 2에 도시된 바와 같이 제 1하 우징(320)과 제 2하우징(340)은 일체로 제조될 수 있으며, 선택적으로 제 1하우징(320)과 제 2하우징(340)은 각각 제조되어 일정거리 이격된 상태로 배치될 수 있다. 처리부(10)에서 사용된 약액은 회수라인(182)을 통해 제 1하우징(320)으로 회수되거나 배출라인(184)을 통해 외부로 배출된다. 회수라인(182)은 처리부(10)의 배출구와 제 1하우징(320)을 연결하고, 배출라인(184)은 회수라인(182)으로부터 분기될 수 있다. 회수라인(182)과 배출라인(184)에는 각각 내부 통로를 개폐하는 밸브가 설치된다. 선택적으로 회수라인(182)과 배출라인(184)은 각각 독립적으로 처리부(10)와 연결될 수 있다.
약액의 회수를 위해 약액 회수 부재(360)가 제공된다. 일 예에 의하면, 약액의 회수는 제 1하우징(320)과 처리부(10) 간의 압력차에 의해 이루어진다. 제 1하우징(320) 내의 공간(328)은 외부로부터 밀폐되고, 약액 회수 부재(360)는 제 1하우징(320)의 상부면을 통해 제 1하우징(320) 내 상부까지 삽입되는 진공라인(362)을 가진다. 진공라인(362)에는 진공펌프(366)가 결합된다. 즉, 제 1하우징(320) 내부는 진공으로 유지되고, 제 2하우징(340) 내부는 상압으로 유지된다. 다른 예에 의하면, 도 3에 도시된 바와 같이 약액 회수 부재는 회수라인(182) 상에 설치되는 펌프(368)를 가지고, 회수라인(182)을 통해 흐르는 약액은 펌프(368)의 유동압에 의해 제 1하우징(320)으로 제공될 수 있다. 처리부(10)로부터 회수되는 약액의 량이 적은 경우에는 진공라인(362) 상에 진공펌프(366)를 설치하여 사용하는 것이 바람직하다.
제 1하우징(320)에 저장된 약액은 공급라인(384)을 통해 제 2하우징(340)으 로 공급된다. 제 2하우징(340)으로 공급된 약액은 순환라인(382)을 통해 복수회 순환된다. 순환라인(382)에는 그 내부를 흐르는 약액에 유동압을 제공하는 펌프(392)와 약액으로부터 불순물을 여과시키는 필터(394)가 설치된다. 여과가 완료된 약액은 이송라인(386)을 통해 상술한 혼합 탱크(220)로 공급된다.
일 예에 의하면, 순환라인(382)의 일단은 제 2하우징(340)의 바닥면과 연결되고, 순환라인(382)의 타단은 제 2하우징(340)의 상부면을 통해 제 2하우징(340) 내 상부까지 삽입된다. 공급라인(384)은 순환라인(382)의 제 1지점(352)에서 분기되어 제 1하우징(320)의 바닥면과 연결된다. 공급라인(384)에는 내부 통로를 개폐하는 제 1밸브(371)가 설치되고, 순환라인(382)의 일단과 제 1지점(352) 사이에는 내부 통로를 개폐하는 제 2밸브(372)가 설치된다. 제 1하우징(320)으로부터 제 2하우징(340)으로 약액이 공급되는 동안 제 1밸브(371)는 열리고, 제 2밸브(372)는 닫힌다. 제 2하우징(340)으로부터 약액이 순환되는 동안 제 1밸브(371)는 닫히고, 제 2밸브(372)는 열린다. 이송라인(386)은 순환라인(382)의 제 2지점(354)으로부터 분기되어 혼합 탱크(220)와 연결된다. 제 2지점(354)은 제 1지점(352)과 순환라인(382)의 타단 사이에 위치된다. 이송라인(386)에는 그 내부 통로를 개폐하는 제 3밸브(373)가 설치되고, 제 2지점(354)과 순환라인(382)의 타단 사이에는 그 내부 통로를 개폐하는 제 4밸브(374)가 설치된다. 제 2하우징(340) 내 약액이 순환되는 동안 제 3밸브(373)는 닫히고 제 4밸브(374)는 열린다. 제 2하우징(340) 내 약액이 혼합 탱크(220)로 공급되는 동안 제 3밸브(373)는 열리고 제 4밸브(374)는 닫힌다. 하나의 펌프에 의해 약액의 순환과 혼합 탱크(220)로 의 공급이 이루어지도록 펌프 (392)는 제 1지점(352)과 제 2지점(354) 사이에 설치되는 것이 바람직하다. 또한, 제 2지점(354)으로부터 배출라인(375)이 분기될 수 있다. 배출라인(375)에는 그 내부 통로를 개폐하는 제 5밸브(375)가 설치된다. 제 1하우징(320) 또는 제 2하우징(340) 내 약액을 폐기할 때에는 제 3밸브(373)와 제 4밸브(374)는 닫히고 제 5밸브(375)가 열린다. 이와 달리 공급라인(384), 순환라인(382), 배출라인(375), 그리고 이송라인(386)은 독립적으로 제 1하우징(320) 또는 제 2하우징(340)에 연결될 수 있다.
상술한 구조를 가지는 본 발명의 장치에 의하면, 처리부(10)로부터 회수되는 약액이 저장되는 공간(328)과 혼합 탱크(220)로 공급되거나 순환되는 약액이 저장되는 공간(348)이 독립적으로 제공된다. 따라서 약액이 순환되고 혼합 탱크(220)로 공급되는 동안에도 처리부(10)로부터 약액의 회수가 가능하다. 따라서 일반적인 장치에 비해 처리부(10)로부터 약액의 회수율을 향상시킬 수 있다.
제 1하우징(320)과 제 2하우징(340)에는 각각 그 내부에 채워진 약액의 수위를 측정하는 수위측정부(350)가 설치될 수 있다. 수위측정부(350)는 복수의 센서들을 가진다. 예컨대, 수위측정부(350)는 각각의 하우징 내 상부에 위치되며, 약액의 수위가 하우징(320, 340)으로부터 약액의 배출이 시작되는 위치까지 도달하였는지 여부를 측정하는 센서와 각각의 하우징(320, 340) 내 하부에 위치되며, 약액의 수위가 약액의 배출을 중단하는 위치까지 도달하였는지 여부를 측정하는 센서를 가질 수 있다.
본 발명의 설비에는 농도 조절부(400)가 제공될 수 있다. 약액 재생부(30)로 부터 이송라인(386)을 통해 혼합 탱크(220)로 공급되는 약액은 처리부에서 웨이퍼와의 반응으로 인해 농도가 저하된다. 농도 조절부(400)는 처리부(10)로 공급되는 약액이 정해진 농도를 가지도록 혼합부로 공급되는 약액과 탈이온수의 량을 조절한다. 농도 조절부(400)는 검출기(420)와 제어기(440)를 가진다. 검출기(420)는 이송라인(386)을 통해 혼합 탱크(220)로 공급되는 약액의 농도를 측정한다. 검출기(420)로부터 검출된 신호는 제어기(440)로 전송된다. 제어기(440)는 전송받은 신호로부터 약액의 농도를 측정하고, 탈이온수 공급라인(262)과 약액 공급라인(242)에 설치된 밸브의 개폐정도 또는 개방시간 등을 조절한다. 검출기(420)는 순환라인(382) 상에 설치된다. 선택적으로 검출기(420)는 이송라인(386)이나 제 2하우징(340) 내에 설치될 수 있다.
다음에는 도 4를 참조하여 본 발명의 약액 재생 방법을 설명한다. 처음에 처리부(10)에서 공정에 사용된 약액이 제 1하우징(320)으로 회수된다(스텝 S10). 제 1하우징(320)에서 약액이 정해진 수위에 도달하면 제 1하우징(320)으로부터 제 2하우징(340)으로 약액이 공급된다. 약액이 정해진 수위에 도달하면 제 1하우징(320)으로부터 제 2하우징(340)으로 약액의 공급이 중단된다(스텝 S20). 제 2하우징(340)에 채워진 약액이 순환라인(382)을 통해 순환되면서 필터(394)에 의해 약액 내 불순물이 제거된다(스텝 S30). 일정시간이 경과되면 제 2하우징(340)에 채워진 약액을 이송라인(386)을 통해 혼합 탱크(220)로 공급한다(스텝 S40). 제 2하우징(340)에 채워진 약액이 순환되거나 혼합 탱크(220)로 공급되는 동안 처리부(10)로부터 제 1하우징(320)으로 약액의 회수는 계속적으로 이루어진다.
본 발명에 의하면, 약액 재생부는 처리부로부터 약액 회수를 위한 공간과 약액이 혼합탱크로의 공급 또는 순환을 위한 공간을 각각 가진다. 따라서 약액이 혼합탱크로 공급되거나 순환되는 동안에도 처리부로부터 약액이 계속적으로 회수될 수 있으므로 약액의 회수율이 매우 높다.

Claims (16)

  1. 기판에 대해 소정 공정을 수행하는 처리부와;
    상기 처리부로 약액을 공급하는 약액 공급부와; 그리고
    상기 처리부로부터 약액을 회수하고, 회수된 약액을 상기 약액 공급부로 공급하는 약액 재생부를 포함하되,
    상기 약액 재생부는,
    상기 처리부로부터 약액을 회수하는 제 1하우징과;
    상기 제 1하우징으로부터 약액을 공급받는 제 2하우징과;
    필터가 설치되며, 상기 제 2하우징 내의 약액이 순환되는 순환라인과; 그리고
    상기 제 2하우징 내의 약액이 상기 약액 공급부로 공급되는 이송라인을 포함하며,
    상기 제 1하우징과 상기 제 2하우징은 일체로 제조되며, 상기 제 1하우징 내 약액이 저장되는 공간과 상기 제 2하우징 내 약액이 저장되는 공간은 서로 분리되도록 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  2. 기판에 대해 소정 공정을 수행하는 처리부와;
    상기 처리부로 약액을 공급하는 약액 공급부와; 그리고
    상기 처리부로부터 약액을 회수하고, 회수된 약액을 상기 약액 공급부로 공급하는 약액 재생부를 포함하되,
    상기 약액 재생부는,
    상기 처리부로부터 약액을 회수하는 제 1하우징과;
    상기 제 1하우징으로부터 약액을 공급받는 제 2하우징과;
    상기 제 2하우징 내의 약액이 순환되는 순환라인과;
    상기 제 2하우징 내의 약액이 상기 약액 공급부로 공급되는 이송라인과; 그리고
    상기 약액이 회수라인을 통해 상기 처리부로부터 상기 제 1하우징으로 공급되도록 유도하는 약액 회수 부재를 포함하되,
    상기 약액 회수 부재는 상기 회수라인에 설치된 펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  3. 기판에 대해 소정 공정을 수행하는 처리부와;
    상기 처리부로 약액을 공급하는 약액 공급부와; 그리고
    상기 처리부로부터 약액을 회수하고, 회수된 약액을 상기 약액 공급부로 공급하는 약액 재생부를 포함하되,
    상기 약액 재생부는,
    상기 처리부로부터 약액을 회수하는 제 1하우징과;
    상기 제 1하우징으로부터 약액을 공급받는 제 2하우징과;
    상기 제 2하우징 내의 약액이 순환되는 순환라인과;
    상기 제 2하우징 내의 약액이 상기 약액 공급부로 공급되는 이송라인과; 그리고
    상기 약액이 회수라인을 통해 상기 처리부로부터 상기 제 1하우징으로 공급되도록 유도하는 약액 회수 부재를 포함하되,
    상기 약액 회수 부재는,
    상기 제 1하우징 내부의 기체가 배기되는 진공라인과;
    상기 진공라인에 설치되어 상기 제 1하우징 내부를 감압하는 진공펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 제 1하우징 내부는 진공으로 유지되고, 상기 제 2하우징 내부는 상압으로 유지되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  5. 제 2항 또는 제 3항에 있어서,
    상기 약액 재생부는 상기 순환라인에 설치되어 약액 내 불순물을 제거하는 필터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  6. 기판에 대해 소정 공정을 수행하는 처리부와;
    상기 처리부로 약액을 공급하는 약액 공급부와; 그리고
    상기 처리부로부터 약액을 회수하고, 회수된 약액을 상기 약액 공급부로 공급하는 약액 재생부를 포함하되,
    상기 약액 재생부는,
    상기 처리부로부터 약액을 회수하는 제 1하우징과;
    상기 제 1하우징으로부터 약액을 공급받는 제 2하우징과;
    상기 제 2하우징 내의 약액이 순환되는 순환라인과; 그리고
    상기 제 2하우징 내의 약액이 상기 약액 공급부로 공급되는 이송라인을 포함하며,
    상기 제 1하우징으로부터 약액은 공급라인을 통해 상기 제 2하우징으로 공급되고,
    상기 공급라인은 상기 순환라인으로부터 분기되어 상기 제 1하우징과 연결되며, 상기 공급라인에는 내부를 개폐하는 밸브가 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 이송라인은 상기 순환라인으로부터 분기되어 상기 약액 공급부와 연결되고,
    상기 약액 재생부는 상기 순환라인으로부터 분기되며 상기 제 1하우징 또는 상기 제 2하우징 내 약액을 배출하는 배출라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  8. 기판에 대해 소정 공정을 수행하는 처리부와;
    상기 처리부로 약액을 공급하는 약액 공급부와; 그리고
    상기 처리부로부터 약액을 회수하고, 회수된 약액을 상기 약액 공급부로 공급하는 약액 재생부를 포함하되,
    상기 약액 재생부는,
    상기 처리부로부터 약액을 회수하는 제 1하우징과;
    상기 제 1하우징으로부터 약액을 공급받는 제 2하우징과;
    상기 제 2하우징 내의 약액이 순환되는 순환라인과; 그리고
    상기 제 2하우징 내의 약액이 상기 약액 공급부로 공급되는 이송라인을 포함하며,
    상기 약액 공급부는 약액 공급라인 및 탈이온수 공급라인으로부터 약액과 탈이온수를 공급받고, 상기 이송라인을 통해 약액을 공급받는 혼합 탱크를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 기판 처리 설비는 상기 혼합 탱크 내 약액의 농도를 조절하는 농도 조 절부를 더 포함하되,
    상기 농도 조절부는,
    상기 이송라인을 통해 상기 혼합 탱크로 공급되는 약액의 농도를 측정하는 검출기와;
    상기 검출기로부터 검출 신호를 전송받아 약액의 농도를 측정하고, 상기 약액 공급라인에 설치된 밸브와 상기 탈이온수 공급라인에 설치된 밸브를 제어하는 제어기를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  10. 기판에 대해 공정을 수행하는 처리부로부터 회수라인을 통해 공정에 사용된 약액을 공급받는 공간을 제공하는 제 1하우징과;
    상기 제 1하우징과 분리된 공간을 제공하며 상기 제 1하우징으로부터 약액을 공급받는, 그리고 약액을 순환시키고 필터가 설치된 순환라인과 재생을 위한 탱크로 약액을 공급하는 이송라인을 가지는 제 2하우징과; 그리고
    상기 처리부로부터 약액을 상기 제 1하우징으로 유도하는 약액 회수 부재를 포함하되,
    상기 제 1하우징과 상기 제 2하우징은 일체로 제조되며, 상기 제 1하우징 내 약액이 저장되는 공간과 상기 제 2하우징 내 약액이 저장되는 공간은 서로 분리되도록 제공되는 것을 특징으로 하는 약액 재생 시스템.
  11. 기판에 대해 공정을 수행하는 처리부로부터 회수라인을 통해 공정에 사용된 약액을 공급받는 공간을 제공하는 제 1하우징과;
    상기 제 1하우징과 분리된 공간을 제공하며 상기 제 1하우징으로부터 약액을 공급받는, 그리고 약액을 순환시키고 필터가 설치된 순환라인과 재생을 위한 탱크로 약액을 공급하는 이송라인을 가지는 제 2하우징과; 그리고
    상기 처리부로부터 약액을 상기 제 1하우징으로 유도하는 약액 회수 부재를 포함하되,
    상기 약액 회수 부재는 상기 회수라인에 설치된 펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 재생 시스템.
  12. 기판에 대해 공정을 수행하는 처리부로부터 회수라인을 통해 공정에 사용된 약액을 공급받는 공간을 제공하는 제 1하우징과;
    상기 제 1하우징과 분리된 공간을 제공하며 상기 제 1하우징으로부터 약액을 공급받는, 그리고 약액을 순환시키고 필터가 설치된 순환라인과 재생을 위한 탱크로 약액을 공급하는 이송라인을 가지는 제 2하우징과; 그리고
    상기 처리부로부터 약액을 상기 제 1하우징으로 유도하는 약액 회수 부재를 포함하되,
    상기 약액 회수 부재는,
    상기 제 1하우징 내부의 기체가 배기되는 진공라인과;
    상기 진공라인에 설치되어 상기 제 1하우징 내부를 감압하는 펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 재생 시스템.
  13. 제 12항에 있어서,
    상기 제 1하우징 내부는 진공으로 유지되고, 상기 제 2하우징 내부는 상압으로 유지되는 것을 특징으로 하는 약액 재생 시스템.
  14. 처리부에서 공정에 사용된 약액이 제 1하우징으로 회수되는 단계와;
    상기 제 1하우징으로부터 약액이 상기 제 1하우징과 분리된 제 2하우징으로 공급되는 단계와;
    상기 제 2하우징 내의 약액이 필터가 설치된 순환라인을 통해 순환되는 단계와; 그리고
    상기 처리부로 약액을 공급하는 약액 공급부로 상기 제 2하우징 내의 약액을 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 재생 방법.
  15. 제 14항에 있어서,
    상기 제 1하우징으로부터 약액이 상기 제 1하우징과 분리된 제 2하우징으로 공급되는 단계는,
    상기 회수라인에 설치된 펌프의 작동에 의해 상기 제 1하우징으로부터 상기 제 2하우징으로 약액이 공급되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 재생 방법.
  16. 제 14항 또는 제 15항에 있어서,
    상기 제 1하우징으로부터 약액이 상기 제 1하우징과 분리된 제 2하우징으로 공급되는 단계는,
    상기 제 1하우징 내부를 감압하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 재생 방법.
KR1020040069936A 2004-09-02 2004-09-02 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비 KR100598914B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040069936A KR100598914B1 (ko) 2004-09-02 2004-09-02 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040069936A KR100598914B1 (ko) 2004-09-02 2004-09-02 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060021105A KR20060021105A (ko) 2006-03-07
KR100598914B1 true KR100598914B1 (ko) 2006-07-10

Family

ID=37128084

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040069936A KR100598914B1 (ko) 2004-09-02 2004-09-02 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100598914B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200073311A (ko) * 2018-12-13 2020-06-24 주식회사 금강쿼츠 세정액 순환 필터링 장치

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100878011B1 (ko) * 2007-08-02 2009-01-12 세메스 주식회사 약액 공급 장치
KR100911746B1 (ko) * 2007-10-08 2009-08-10 세메스 주식회사 기판 처리 장치
KR101658810B1 (ko) * 2009-12-23 2016-09-30 주식회사 동진쎄미켐 연속식 혼합장치를 이용한 재생약액 공급 장치
KR101955592B1 (ko) * 2015-12-17 2019-03-08 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR980012285A (ko) * 1996-07-09 1998-04-30 황인길 폐수 재순환 기능을 구비한 웨이퍼 가공용 초순수 공급 시스템
KR20010062026A (ko) * 1999-12-02 2001-07-07 히가시 데쓰로 기판처리장치
KR20010112512A (ko) * 2000-06-05 2001-12-20 나가세 히데오 기판 표면 처리장치
JP2002068715A (ja) 2000-06-14 2002-03-08 Sun Tec Syst:Kk 硫酸リサイクル装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR980012285A (ko) * 1996-07-09 1998-04-30 황인길 폐수 재순환 기능을 구비한 웨이퍼 가공용 초순수 공급 시스템
KR20010062026A (ko) * 1999-12-02 2001-07-07 히가시 데쓰로 기판처리장치
KR20010112512A (ko) * 2000-06-05 2001-12-20 나가세 히데오 기판 표면 처리장치
JP2002068715A (ja) 2000-06-14 2002-03-08 Sun Tec Syst:Kk 硫酸リサイクル装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200073311A (ko) * 2018-12-13 2020-06-24 주식회사 금강쿼츠 세정액 순환 필터링 장치
KR102134918B1 (ko) * 2018-12-13 2020-07-20 주식회사 금강쿼츠 세정액 순환 필터링 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060021105A (ko) 2006-03-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5922138A (en) Liquid treatment method and apparatus
JP3464843B2 (ja) 基板処理装置における基板処理方法および基板処理装置
JP2007123393A (ja) 基板処理装置
CN112740361A (zh) 衬底处理装置及衬底处理方法
KR100598914B1 (ko) 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비
KR20040037245A (ko) 다중 반도체 기판용 고압 처리 챔버
KR100280011B1 (ko) 반도체장치 제조용 기포분리기와 이를 적용한 액체공급장치 및 그 구동방법
KR100801656B1 (ko) 처리액 공급 방법
KR100780936B1 (ko) 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법
JP2541443B2 (ja) ウェットエッチング装置及びフィルタ再生方法
KR20050024959A (ko) 반도체 제조 설비에서 사용되는 약액 공급 장치 및 방법
JPH11145100A (ja) 基板処理装置
KR100904462B1 (ko) 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법
KR20060030689A (ko) 기판 세정 장치
KR100600196B1 (ko) 기판용 표면처리 시스템
KR101425813B1 (ko) 웨이퍼의 침지식 세정 건조 장치
US11806767B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR100220382B1 (ko) 반도체 습식장치
JP3891776B2 (ja) 基板処理装置
JP2003273061A (ja) 処理方法及び処理システム
JP2000033347A (ja) 洗浄装置
WO2020189327A1 (ja) 基板処理装置、基板処理方法および半導体製造方法
KR100632044B1 (ko) 웨이퍼의 세정장치 및 방법
JP2001028356A (ja) 洗浄装置
KR100653706B1 (ko) 반도체 제조설비의 케미컬 공급장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130702

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140704

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150706

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160624

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170704

Year of fee payment: 12