KR100801656B1 - 처리액 공급 방법 - Google Patents
처리액 공급 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100801656B1 KR100801656B1 KR1020060069384A KR20060069384A KR100801656B1 KR 100801656 B1 KR100801656 B1 KR 100801656B1 KR 1020060069384 A KR1020060069384 A KR 1020060069384A KR 20060069384 A KR20060069384 A KR 20060069384A KR 100801656 B1 KR100801656 B1 KR 100801656B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- tank
- liquid
- line
- processing liquid
- supply
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/6715—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
Abstract
Description
Claims (4)
- 처리액을 저장하는 제 1 탱크 및 제 2 탱크, 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크 각각에 연결되며 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크로부터 기판처리공정을 수행하는 기판 처리부로 처리액을 공급하는 공급라인, 그리고 상기 기판 처리부로부터 사용된 처리액을 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크로 회수하는 회수라인을 가지는 처리액 공급 장치를 사용하여 상기 제 1 탱크 및 상기 제 2 탱크로부터 상기 기판 처리부로 처리액을 공급하는 방법에 있어서,공급이 이루어지는 상기 제 1 탱크로부터 공급 대기 중인 상기 제 2 탱크로 교체가 이루어지는 동안에는 상기 공급라인 및 상기 회수라인 내 사용된 처리액은 배수되거나, 상기 제 1 탱크로 회수되는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 처리액 공급 방법은,상기 기판 처리부로 처리액의 공급이 이루어지는 상기 제 1 탱크 내 처리액의 수위가 기설정된 수위 이하로 내려가면, 상기 공급 라인 및 상기 회수 라인으로부터 상기 사용된 처리액이 제거되도록, 설정시간 동안 상기 제 1 탱크와 상기 제 2 탱크로부터 동시에 상기 공급 라인을 통해 상기 기판 처리부로 처리액을 공급하고 상기 기판 처리부로부터 상기 회수 라인을 통해 상기 사용된 처리액을 회수한 후, 상기 설정 시간이 경과되면, 상기 제 1 탱크의 처리액 공급이 중단되고 상기 제 2 탱크로부터 상기 기판 처리부로 처리액을 공급하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 기판 처리부에서 사용된 처리액은 처리액의 공급이 이루어지는 탱크로 회수되고, 상기 제 1 탱크와 상기 제 2 탱크의 처리액 공급이 동시에 이루어지는 동안에는 상기 제 1 탱크로 회수하는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 공급라인은,펌프가 설치되어 상기 기판처리부로 처리액을 공급하는 메인 공급라인, 상기 제 1 탱크로부터 상기 메인 공급라인으로 처리액을 공급하는 제 1 공급라인, 그리고 상기 제 2 탱크로부터 상기 메인 공급라인으로 처리액을 공급하는 제 2 공급라인을 포함하고,상기 처리액 공급 장치는,상기 메인 공급라인으로부터 분기되어 상기 제 1 탱크 내 처리액을 배수하는 제 1 배수라인 및 상기 메인 공급라인으로부터 분기되어 상기 제 2 탱크 내 처리액을 배수하는 제 2 배수라인, 그리고 상기 회수 라인으로부터 분기되어 상기 회수 라인으로 따라 이동되는 상기 사용된 처리액을 배수하는 배수관을 더 포함하되,상기 제 1 탱크와 상기 제 2 탱크의 처리액 공급이 동시에 이루어지는 동안 에는 상기 제 1 배수라인 또는 상기 제 2 배수라인, 그리고 상기 배수관을 통해 상기 사용된 처리액이 배수되는 것을 특징으로 하는 처리액 공급 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060069384A KR100801656B1 (ko) | 2006-07-24 | 2006-07-24 | 처리액 공급 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060069384A KR100801656B1 (ko) | 2006-07-24 | 2006-07-24 | 처리액 공급 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080009591A KR20080009591A (ko) | 2008-01-29 |
KR100801656B1 true KR100801656B1 (ko) | 2008-02-05 |
Family
ID=39221962
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060069384A KR100801656B1 (ko) | 2006-07-24 | 2006-07-24 | 처리액 공급 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100801656B1 (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101021547B1 (ko) | 2008-11-25 | 2011-03-16 | 세메스 주식회사 | 처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법 |
KR20220088561A (ko) | 2020-12-18 | 2022-06-28 | 세메스 주식회사 | 처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102310463B1 (ko) * | 2013-12-23 | 2021-10-12 | 세메스 주식회사 | 처리액공급유닛 및 이를 가지는 기판처리장치 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010110106A (ko) * | 2000-06-02 | 2001-12-12 | 노지 구니히로 | 약액공급장치 |
KR20030087896A (ko) * | 2002-05-10 | 2003-11-15 | 한국디엔에스 주식회사 | 약액 공급 장치 |
-
2006
- 2006-07-24 KR KR1020060069384A patent/KR100801656B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20010110106A (ko) * | 2000-06-02 | 2001-12-12 | 노지 구니히로 | 약액공급장치 |
KR20030087896A (ko) * | 2002-05-10 | 2003-11-15 | 한국디엔에스 주식회사 | 약액 공급 장치 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101021547B1 (ko) | 2008-11-25 | 2011-03-16 | 세메스 주식회사 | 처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법 |
KR20220088561A (ko) | 2020-12-18 | 2022-06-28 | 세메스 주식회사 | 처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080009591A (ko) | 2008-01-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102353792B1 (ko) | 기판 액 처리 장치, 기판 액 처리 장치의 세정 방법 및 기억 매체 | |
US9278768B2 (en) | Process liquid changing method and substrate processing apparatus | |
JP2015220318A5 (ko) | ||
KR101750647B1 (ko) | 액 공급 장치 및 기판 처리 장치 | |
KR20080011910A (ko) | 약액 혼합 장치 및 방법 | |
KR100801656B1 (ko) | 처리액 공급 방법 | |
KR100788906B1 (ko) | 처리액 공급 방법 | |
KR20170039360A (ko) | 탱크 필터링 장치 | |
JP5695727B2 (ja) | 自己洗浄槽保有型膜ろ過装置 | |
KR20080011911A (ko) | 약액 혼합 장치 및 방법 | |
JP5855778B2 (ja) | 自己洗浄槽保有型膜ろ過装置 | |
KR100598914B1 (ko) | 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비 | |
KR100934364B1 (ko) | 약액 공급 장치 | |
KR100780936B1 (ko) | 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법 | |
KR100701395B1 (ko) | 오토스트레이너의 약품세정 장치 및 방법 | |
KR101037182B1 (ko) | 기판 제조장치의 약액 처리장치 및 그 방법 | |
KR100956557B1 (ko) | 약액 공급 장치 | |
KR20080044419A (ko) | 약액 회수 장치 및 방법 | |
KR20110081482A (ko) | 세정액 공급 장치 | |
KR101021547B1 (ko) | 처리액 공급 장치 및 처리액 공급 방법 | |
KR0129924Y1 (ko) | 반도체 식각장치 | |
JP2001286886A (ja) | 排水の処理方法 | |
KR20060030689A (ko) | 기판 세정 장치 | |
KR100489652B1 (ko) | 반도체장치 제조용 혼합형 웨이퍼 침지장치 | |
JP3519603B2 (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
G170 | Re-publication after modification of scope of protection [patent] | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130123 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140203 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150121 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160106 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170123 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180123 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190123 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200114 Year of fee payment: 13 |