KR20030087896A - 약액 공급 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 약액을 사용하여 반도체 웨이퍼를 처리하는 처리 장치에 약액을 공급하기 위한 장치에 있어서:둘 이상의 약액이 각각의 공급조로부터 공급되어 혼합이 이루어지는 제1탱크;상기 제1탱크의 약액을 균일하게 혼합하기 위해 상기 제1탱크의 약액을 순환시키기 위한 순환수단과;상기 제1탱크로부터 상기 혼합액을 공급받아 저장하는 제2탱크;상기 제2탱크로부터 각각의 처리 장치로 혼합액을 공급할 수 있도록 상기 혼합액을 분배하기 위한 분배기 및;상기 제2탱크로부터 상기 분배기로 혼합액을 공급하기 위한 공급 라인상에 설치되는 그리고 상기 혼합액을 가열시키기 위한 가열부를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 순환 수단은 순환라인과, 상기 순환 라인에 설치되는 제1펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 제1탱크의 약액 농도를 측정하는 농도계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 약액들이 혼합된 상태로 상기 제1탱크로 공급될 수 있도록 상기 약액들을 혼합시켜주는 혼합기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 4 항에 있어서,상기 혼합기는측면에 적어도 하나 이상의 약액 유입구를 갖는 외통과;상기 외통의 내부에 설치되는 그리고 상기 약액 유입구로부터 유입되는 약액들과 혼합되도록 상기 외통의 중앙으로 약액을 주입하는 약액 주입통을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 분배기를 통해 상기 처리 장치로 공급되는 혼합액의 압력이 일정하게 유지되도록 상기 제2탱크와 상기 분배기 사이에 설치되는 압력유지장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 처리 장치에서 사용되어진 약액을 회수하여 상기 제1탱크로 공급하기 위하여,상기 처리 장치에서 사용되어진 약액을 회수하여 저장하는 제3탱크와; 상기 제3탱크로부터 상기 제1탱크로 상기 회수된 약액을 공급하기 위한 제2펌프가 설치된 회수액 공급라인을 구비하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 가열부는상기 공급라인과 연결되는 유입구 및 유출구를 갖는 그리고 갈지자형(zigzag)으로 구불구불하게 형성된 열교환라인과;상기 열교환라인을 따라 흘러가는 상기 혼합액을 가열시키기 위한 히터와;상기 열교환라인의 여러 지점에 설치되어 상기 혼합액의 온도를 측정하는 온도센서들과;상기 혼합액이 설정 온도이상으로 과열된 경우, 상기 혼합액의 온도를 낮추기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 온도를 낮추기 위한 수단은상기 공급라인으로부터 분기되고, 상기 열교환라인의 여러 지점으로 가열되지 않은 혼합액을 선택적으로 공급하기 위한 다수의 분기라인들을 포함하여,상기 혼합액이 과열되면, 상기 분기라인을 통해 열교환라인으로 가열되지 않은 혼합액을 공급하여, 과열된 상기 혼합액의 온도를 낮추는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제 1 탱크와 상기 제 2 탱크에는 탱크 내의 약액 레벨을 검출하기 위한 액면 검출 센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 약액을 사용하여 반도체 웨이퍼를 처리하는 처리 장치에 약액을 공급하기 위한 장치에 있어서:둘 이상의 약액이 각각의 공급조로부터 공급되어 혼합이 이루어지는 제1혼합탱크;상기 제1혼합탱크의 약액을 균일하게 혼합하기 위해 상기 제1혼합탱크의 약액을 순환시키기 위한 제1순환수단과;둘 이상의 약액이 각각의 공급조로부터 공급되어 혼합이 이루어지는 제2혼합탱크;상기 제2혼합탱크의 약액을 균일하게 혼합하기 위해 상기 제2혼합탱크의 약액을 순환시키기 위한 제2순환수단과;상기 제1 및 제2혼합탱크 중 적어도 하나의 혼합탱크로부터 혼합액을 제공받아 각각의 처리 장치로 혼합액을 공급하기 위하여 상기 혼합액을 분배하는 분배기 및;상기 분배기를 통해 상기 처리 장치들로 공급되는 혼합액의 압력이 일정하게 유지되도록 상기 제1혼합탱크와 상기 분배기 사이에 그리고 상기 제2혼합탱크과 상기 분배기 사이에 설치되는 제1 및 제2 압력유지장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 11항에 있어서,상기 제1 및 제2혼합탱크 각각에는 상기 혼합액을 가열시키기 위한 가열부가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 제1 및 제2혼합탱크 각각에 설치되는 그리고 상기 약액들이 혼합된 상태로 상기 제1 및 제2 혼합탱크로 공급될 수 있도록 상기 약액들을 혼합시켜주는 혼합기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 13 항에 있어서,상기 혼합기는측면에 적어도 하나 이상의 약액 유입구를 갖는 외통과;상기 외통의 내부에 설치되는 그리고 상기 약액 유입구로부터 유입되는 약액들과 혼합되도록 상기 외통의 중앙으로 약액을 주입하는 약액 주입통을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 약액을 사용하여 반도체 웨이퍼를 처리하는 처리 장치에 약액을 공급하기 위한 장치에 있어서:둘 이상의 약액이 각각의 공급조로부터 공급되어 혼합이 이루어지는 제1탱크;상기 제1탱크의 약액을 균일하게 혼합하기 위해 상기 제1탱크의 약액을 순환시키기 위한 순환수단과;상기 제1탱크로부터 상기 혼합액을 공급받아 저장하는 제2탱크;상기 제2탱크로부터 각각의 처리 장치로 혼합액을 공급할 수 있도록 상기 혼합액을 분배하기 위한 분배기 및;상기 제2탱크와 일체형으로 형성되고, 상기 제2탱크에 저장되어 있는 상기 혼합액을 가열시키기 위한 가열부를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 제2탱크에 저장된 상기 혼합액이 N2가압에 의해 상기 분배기로 이동되도록, 상기 제2탱크에는 N2가압라인이 연결되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 약액들이 혼합된 상태로 상기 제1탱크로 공급될 수 있도록 상기 약액들을 혼합시켜주는 혼합기를 더 포함하되;상기 혼합기는측면에 적어도 하나 이상의 약액 유입구를 갖는 외통과;상기 외통의 내부에 설치되는 그리고 상기 약액 유입구로부터 유입되는 약액들과 혼합되도록 상기 외통의 중앙으로 약액을 주입하는 약액 주입통을 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 분배기를 통해 상기 처리 장치로 공급되는 혼합액의 압력이 일정하게 유지되도록 상기 제2탱크와 상기 분배기 사이에 설치되는 압력유지장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 약액 공급 장치는상기 처리 장치에서 사용되어진 약액을 회수하여 상기 제1탱크로 공급하기 위하여,상기 처리 장치에서 사용되어진 약액을 회수하여 저장하는 제3탱크와; 상기 제3탱크로부터 상기 제1탱크로 상기 회수된 약액을 공급하기 위한 제2펌프가 설치된 회수액 공급라인을 구비하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 약액을 사용하여 반도체 웨이퍼를 처리하는 처리 장치에 약액을 공급하기 위한 장치에 있어서:둘 이상의 약액이 각각의 공급조로부터 공급되어 혼합이 이루어지는 제1탱크;상기 제1탱크의 약액을 균일하게 혼합하기 위해 상기 제1탱크의 약액을 순환시키기 위한 순환수단과;상기 제1탱크로부터 상기 혼합액을 공급받아 저장하는 제2탱크;상기 제2탱크로부터 각각의 처리 장치로 혼합액을 공급할 수 있도록 상기 혼합액을 분배하기 위한 분배기 및;상기 분배기로부터 각각의 처리 장치로 혼합액을 공급하는 공급라인상에 설치되는 그리고 상기 혼합액을 가열시키기 위한 가열부를 포함하는 것을 특징으로하는 약액 공급 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20020025775 | 2002-05-10 | ||
KR1020020025775 | 2002-05-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20030087896A true KR20030087896A (ko) | 2003-11-15 |
KR100452921B1 KR100452921B1 (ko) | 2004-10-14 |
Family
ID=29707684
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2002-0046817A KR100452921B1 (ko) | 2002-05-10 | 2002-08-08 | 약액 공급 장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6918406B2 (ko) |
JP (1) | JP2004006858A (ko) |
KR (1) | KR100452921B1 (ko) |
TW (1) | TWI227169B (ko) |
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- 2003-04-14 US US10/412,209 patent/US6918406B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-02 JP JP2003127359A patent/JP2004006858A/ja active Pending
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A201 | Request for examination | ||
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GRNT | Written decision to grant | ||
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