JP2000021838A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 部品の故障などの異常を検知して処理不良の
発生を抑制する。 【解決手段】 制御部２７が濃度モニタ２６で監視され
る混合処理液の濃度現在値を基にフィードバック制御に
よって薬液供給流量調節機構を制御して濃度目標値の混
合処理液を基板処理部内の処理槽に供給する機能を有す
る混合処理液供給部を備えた基板処理装置において、異
常検知部４は、濃度モニタ２６からの混合処理液の濃度
現在値が濃度許容範囲から外れたか、制御部２７から電
空変換器２３ｅ、２５ｂに与えられる各処理液供給流量
操作信号の現在値が各々の変動許容範囲から外れたこと
を検知すると、異常が発生したと判断し、異常処理部５
は異常処理として混合部への薬液の供給を全て停止して
処理槽に純水のみが供給される状態にし、ブザーやラン
プなどの警報器５１を作動させて警報を発する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複数種類の処理液
を混合して得られた混合処理液で、半導体ウエハや液晶
表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、
光ディスク用の基板などの基板の表面処理を行う枚葉式
やバッチ式の基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の基板処理装置は、複数種
類の処理液を混合して得られた混合処理液で基板の表面
処理を行う基板処理部と、複数種類の処理液を混合し、
得られた混合処理液を基板処理部に供給する混合処理液
供給部とを備えている。

【０００３】混合処理液供給部は、例えば、複数種類の
処理液を混合する混合部と、混合部で混合された混合処
理液を基板処理部に供給する混合処理液供給系と、混合
部に個々の処理液を個別に供給する複数の処理液供給系
と、与えられた処理液供給流量操作信号に応じて、混合
部への処理液の供給流量を調節する処理液供給流量調節
機構と、混合処理液の濃度現在値を監視する濃度監視機
構と、混合処理液の濃度目標値と混合処理液の濃度現在
値との濃度偏差を打ち消すような処理液供給流量操作信
号を処理液供給流量調節機構に与える制御部とを備え
て、制御部が濃度監視機構で監視される混合処理液の濃
度現在値を基にフィードバック制御によって処理液供給
流量調節機構を制御して濃度目標値の混合処理液を基板
処理部に供給する機能を有している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たように、フィードバック制御によって混合処理液の混
合を行う混合処理液供給部を備えた基板処理装置の場
合、次のような問題がある。

【０００５】すなわち、処理液供給流量調節機構は、例
えば、圧力調節器や流量調節弁、ポンプなどで構成さ
れ、濃度監視機構は、例えば、混合部で混合された後の
混合処理液に対する透過光の強度に基づいて、混合処理
液の濃度を得る濃度モニタ、あるいは、混合部への各処
理液の供給流量の現在値を監視してこれら各処理液の供
給流量の現在値から混合処理液の濃度現在値を算出して
監視する機構などで構成され、制御部は、例えば、ＣＰ
Ｕやメモリなどを備えたマイクロコンピューターなどで
構成されているが、これら部品の１つでも故障などが起
きれば、濃度目標値通りの混合処理液を安定して基板処
理部に供給できなくなる可能性があり、基板の表面処理
を適正に行えなくなる事態が生じ得る。

【０００６】例えば、濃度監視機構の故障によって、制
御部で認識される混合処理液の濃度現在値が、混合処理
液の実際の濃度と一致しなくなる可能性がある。この場
合、混合処理液の実際の濃度と相違する濃度を基に制御
部が濃度目標値の混合処理液を得るようにフィードバッ
ク制御することになる。そのため、制御部で濃度目標値
の混合処理液が得られていると認識しているとき、実際
には、濃度目標値と相違する混合処理液を混合して基板
処理部に供給していることになる。

【０００７】また、例えば、制御部の故障や誤動作によ
って、制御部から処理液供給流量調節機構に与える処理
液供給流量操作信号の値が、濃度目標値に対応した操作
信号の目標値から大きくズレる可能性がある。この場
合、制御部によるフィードバック制御が安定せず、得ら
れる混合処理液の濃度が発振して、濃度目標値の混合処
理液が安定して得られなくなる。

【０００８】また、処理液供給流量調節機構の故障によ
って、制御部から与えられる処理液供給流量操作信号に
応じた処理液の供給流量の調節と相違する調節を行う場
合にも、制御部によるフィードバック制御が安定せず、
得られる混合処理液の濃度が発振して、濃度目標値の混
合処理液が安定して得られなくなる。

【０００９】その他、濃度監視機構や制御部、処理液供
給流量調節機構以外の混合処理液供給部内の部品が故障
しても、濃度目標値通りの混合処理液を安定して基板処
理部に供給できなくなる可能性もある。

【００１０】しかしながら、従来、混合処理液供給部内
の部品の故障などを監視しておらず、作業者は、基板の
処理不良が発生してはじめて混合処理液供給部に異常が
起きたことを知るに至っている。そのため、従来、混合
処理液供給部内の部品が故障すると基板の処理不良の発
生が避けられず装置への信頼性の低下を招くという問題
がある。また、基板の処理不良が発生したことを作業者
が知るまで、処理不良の基板を継続して製造し続けると
ことになり、処理不良の基板を多数製造する恐れもあ
る。さらに、基板処理によっては、処理不良の結果、回
復不可能な破損を基板に与えて基板を廃棄しなければな
らない場合もあり、そのような場合には、ユーザーは多
大の損害を被ることになる。特に、バッチ式の基板処理
装置は、複数枚の基板をまとめて混合処理液に浸漬して
処理するので、混合処理液供給部に異常が発生すると１
度に多数の基板の処理不良が発生し、処理不良の結果、
基板を廃棄しなければならない場合には、損害額は膨大
なものになる。

【００１１】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、部品の故障などの異常発生を検知し
て、基板の処理不良の発生を抑制し、信頼性の高い基板
処理装置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、複数種類の処理液を混合
して得られた混合処理液で基板の表面処理を行う基板処
理部と、複数種類の処理液を混合する混合部と、前記混
合部で混合された混合処理液を前記基板処理部に供給す
る混合処理液供給系と、前記混合部に個々の処理液を個
別に供給する複数の処理液供給系と、前記混合部への処
理液の供給流量を調節する処理液供給流量調節手段と、
混合処理液の濃度現在値を監視する濃度監視手段と、混
合処理液の濃度目標値と混合処理液の濃度現在値との濃
度偏差を打ち消すような処理液供給流量操作信号を前記
処理液供給流量調節手段に与える制御手段と、混合処理
液の濃度現在値が混合処理液の所定の濃度許容範囲から
外れたか否かに基づいて異常が発生したことを検知する
異常検知手段と、異常発生が検知されると所定の異常処
理を行う異常処理手段と、を備えたことを特徴とするも
のである。

【００１３】請求項２に記載の発明は、上記請求項１に
記載の基板処理装置において、前記異常検知手段は、前
記制御手段から前記処理液供給流量調節手段に与えられ
る処理液供給流量操作信号の現在値をさらに監視し、こ
の処理液供給流量操作信号の現在値が処理液供給流量操
作信号の所定の変動許容範囲から外れたか否かの情報も
考慮して異常発生の判定を行うことを特徴とするもので
ある。

【００１４】請求項３に記載の発明は、上記請求項１ま
たは２に記載の基板処理装置において、前記異常処理手
段が行う異常処理は、前記混合部への少なくとも一部の
処理液の供給を停止する処理を含むことを特徴とするも
のである。

【００１５】請求項４に記載の発明は、上記請求項１ま
たは２に記載の基板処理装置において、前記基板処理部
は、混合処理液に複数枚の基板を浸漬して各基板の表面
処理を行う処理槽を備えており、前記混合部へ供給する
複数種類の処理液は、純水と１種類以上の薬液であり、
前記異常処理手段は、異常発生が検知されると薬液の供
給を停止し、純水のみを供給することを特徴とするもの
である。

【００１６】請求項５に記載の発明は、上記請求項１な
いし４のいずれかに記載の基板処理装置において、前記
異常処理手段が行う異常処理は、警報を発する処理を含
むことを特徴とするものである。

【００１７】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。以下のようにして、複数種類の処理液を混合し、得
られた混合処理液を基板処理部に供給する。

【００１８】すなわち、複数の処理液供給系から複数種
類の処理液が混合部に供給され、各処理液が混合部で混
合されて混合処理液が得られる。この混合処理液が混合
処理液供給系によって基板処理部に供給され、基板処理
部においてこの混合処理液で基板の表面処理が行われ
る。

【００１９】混合部への処理液の供給流量は、制御手段
から与えられた処理液供給流量操作信号に応じて、処理
液供給流量調節手段によって調節される。

【００２０】また、濃度監視手段は混合処理液の濃度現
在値を監視しており、制御手段は混合処理液の濃度目標
値と混合処理液の濃度現在値との濃度偏差を打ち消すよ
うな処理液供給流量操作信号を処理液供給流量調節手段
に与えて、フィードバック制御により、混合処理液の混
合を行う。

【００２１】上記構成の装置において、濃度監視手段や
制御手段、処理液供給流量調節手段などの部品が故障す
ると、混合処理液の濃度現在値が濃度目標値からズレた
り、濃度が発振して不安定になったりする可能性があ
る。従って、混合処理液の濃度目標値を中心に適宜の濃
度上限値と濃度下限値とを設定してその間の濃度幅を濃
度許容範囲として、混合処理液の濃度現在値がその濃度
許容範囲内に収束しているか濃度許容範囲から外れたか
により、部品の故障などの異常の発生を検知することが
できる。

【００２２】そこで、異常検知手段は、濃度監視手段か
らの混合処理液の濃度現在値が混合処理液の所定の濃度
許容範囲から外れたか否かに基づいて異常が発生したこ
とを検知し、異常検知手段によって異常発生が検知され
ると、異常処理手段が、例えば、請求項３ないし５に記
載の発明のような所定の異常処理を行う。

【００２３】請求項２に記載の発明では、異常検知手段
は、制御手段から処理液供給流量調節手段に与えられる
処理液供給流量操作信号の現在値をさらに監視し、この
処理液供給流量操作信号の現在値が処理液供給流量操作
信号の所定の変動許容範囲から外れたか否かの情報も考
慮して異常発生の判定を行う。濃度監視手段等の部品の
故障などの異常が発生すると、制御手段から処理液供給
流量調節手段に与えられる処理液供給流量操作信号が、
混合処理液の濃度目標値に対応する処理液供給流量操作
信号の目標値から大きくズレたり、発振して不安定にな
ったりする可能性がある。従って、混合処理液の濃度目
標値に対応する処理液供給流量操作信号の目標値を中心
に適宜の操作信号上限値と操作信号下限値とを設定して
その間の操作信号幅を変動許容範囲とすれば、制御手段
から処理液供給流量調節手段に与えられる処理液供給流
量操作信号の現在値が処理液供給流量操作信号の所定の
変動許容範囲から外れたか否かの情報も異常発生の判定
に用いることができる。この請求項２に記載の発明によ
れば、処理液供給流量操作信号も考慮して部品の故障な
どの異常の発生をより確実に検知することができる。

【００２４】請求項３に記載の発明によれば、異常検知
手段によって異常発生が検知されると、異常処理手段
は、異常処理として、混合部への少なくとも一部の処理
液の供給を停止する。異常処理手段は、装置構成や動作
状況などに応じて混合部への全ての処理液の供給を停止
してもよいし、例えば、請求項４に記載の発明のよう
に、基板に支障のある処理液の混合部への供給を停止
し、基板に支障のない処理液の混合部への供給は継続し
てもよい。

【００２５】請求項４に記載の発明は、混合処理液に複
数枚の基板を浸漬して各基板の表面処理を行う処理槽を
基板処理部に備えたバッチ式の基板処理装置であって、
混合部へ供給する複数種類の処理液が純水と１種類以上
の薬液である場合の異常処理であり、異常処理手段は、
異常検知手段によって異常発生が検知されると基板に支
障のある処理液である薬液の供給を停止し、基板に支障
のない処理液である純水のみを供給する。

【００２６】請求項５に記載の発明によれば、異常処理
手段は、異常検知手段によって異常発生が検知されると
警報を発する。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明の第１実施例に係る
基板処理装置の全体構成を示す図であり、図２はその制
御系の構成を示すブロック図である。

【００２８】この第１実施例装置は、複数種類の処理液
としての純水と１種類以上の薬液とを混合して得られた
混合処理液で基板Ｗの表面処理を行うバッチ式の基板処
理装置の一実施例である。

【００２９】この装置は、大きく分けて、混合処理液に
複数枚の基板Ｗを浸漬して各基板Ｗの表面処理を行う処
理槽１０を備えた基板処理部１と、純水と薬液とを混合
し、得られた混合処理液を基板処理部１内の処理槽１０
に供給する混合処理液供給部２と、混合処理液の濃度目
標値を決める混合条件などを設定する設定器３と、異常
検知部４及び異常処理部５を備えている。

【００３０】処理槽１０は、槽底部から混合処理液の供
給を受け、余剰の混合処理液をオーバーフローさせて排
出させるように構成されている。処理槽１０から排出さ
れた混合処理液は、廃棄するように構成してもよいし、
混合処理液供給部２に戻して再利用するようにしてもよ
い。

【００３１】混合処理液供給部２は、純水と各薬液を混
合する混合部２１と、混合部２１で混合された混合処理
液を基板処理部１内の処理槽１０に供給する混合処理液
供給系２２と、混合部２１に純水を供給する純水供給系
２３と、混合部２１に各薬液を個別に供給する１または
複数の薬液供給系２４と、与えられた純水供給流量操作
信号（処理液供給流量操作信号）に応じて、混合部２１
への純水の供給流量を調節する純水供給流量調節機構２
５Ｐと、与えられた薬液供給流量操作信号（処理液供給
流量操作信号）に応じて、混合部２１への各薬液の供給
流量を調節する薬液供給流量調節機構２５Ｑと、混合処
理液の濃度現在値を監視するための濃度モニタ２６と、
混合処理液の濃度目標値と混合処理液の濃度現在値との
濃度偏差を打ち消すような薬液供給流量操作信号を薬液
供給流量調節機構２５Ｑに与える制御部２７とを備えて
いる。この制御部２７は濃度モニタ２６で監視される混
合処理液の濃度現在値を基にフィードバック制御によっ
て薬液供給流量調節機構２５Ｑを制御して濃度目標値の
混合処理液を基板処理部１内の処理槽１０に供給する機
能を有している。

【００３２】混合部２１は、純水流路２１ａと、純水流
路２１ａに各薬液を導入する各薬液導入路２１ｂとが形
成された混合管２１ｃを備えており、純水流路２１ａに
流通している純水に各薬液導入路２１ｂから各薬液を導
入して純水と薬液とを混合して純水流路２１ａの出口２
１ｄから混合処理液が排出されるように構成されてい
る。純水流路２１ａの出口２１ｄに、例えば孔空きのね
じり板などからなるスタティックミキサーなどの適宜の
撹拌機構を配設して、純水と各薬液とをムラなく混合で
きるように構成してもよい。

【００３３】混合処理液供給系２２は、混合部２１を構
成する混合管２１ｃの純水流路２１ａの出口２１ｄに一
端側が連通接続され、処理槽１０の底部に他端側が連通
接続された混合処理液供給管２２ａを備えている。この
混合処理液供給管２２ａの管路途中に濃度モニタ２６が
配設されている。この濃度モニタ２６は、混合部２１で
混合された後の混合処理液に対する透過光や反射光の強
度に基づいて、混合処理液の濃度、すなわち、混合処理
液中の薬液の濃度を計測することができる。なお、この
種の濃度モニタ２６は、各々の薬液の分光特性が相違し
ていれば、純水に複数種類の薬液を混合した場合でも、
混合処理液内の各々の薬液の濃度を個別に得ることがで
きる。

【００３４】純水供給系２３には、純水供給源２３ａに
一端側が連通接続され、混合部２１を構成する混合管２
１ｃの純水流路２１ａの入口２１ｅに他端側が連通接続
された純水供給管２３ｂを備えている。純水供給管２３
ｂには、純水供給源２３ａの側から順に、純水圧力調節
器２３ｃ、純水開閉弁２３ｄが配設されている。純水圧
力調節器２３ｃは、電空変換器２３ｅから与えられた空
気圧（パイロット圧）に応じて、純水圧力調節器２３ｃ
の二次側の純水圧力を調節する制御弁であり、この純水
圧力調節器２３ｃによって、純水圧力調節器２３ｃの二
次側の純水供給路２３ｂを流通する純水の流量を一定に
して、混合部２１に供給する純水の供給流量を一定にす
ることができる。

【００３５】電空変換器２３ｅは、供給される加圧空気
（圧空）を、制御部２７からの操作電圧（純水供給流量
操作信号）に応じた空気圧（パイロット圧）に変換して
出力する。制御部２７は、混合部２１に供給する純水の
供給流量が後述する純水供給流量目標値となるような操
作電圧を電空変換器２３ｅに与えることによって、混合
部２１には純水流量目標値の純水が供給される。純水圧
力調節器２３ｃと電空変換器２３ｅとは、純水供給流量
調節機構２５Ｐを構成する。

【００３６】純水開閉弁２３ｄは、混合部２１への純水
の供給とその停止とを切り換える開閉弁であり、その開
閉制御は制御部２７により行われる。

【００３７】各薬液供給系２４の構成は全て同じである
ので、１つの薬液供給系２４の構成を例に説明する。薬
液供給系２４は、薬液供給源２４ａに一端側が連通接続
され、混合部２１を構成する混合管２１ｃの薬液導入路
２１ｂに他端側が連通接続された薬液供給管２４ｂを備
えている。薬液供給管２４ｂには、薬液流量調節弁２５
ａが配設されている。

【００３８】薬液供給流量調節機構２５Ｑは、上記薬液
流量調節弁２５ａと電空変換器２５ｂとを備えている。
薬液流量調節弁２５ａに電空変換器２５ｂからパイロッ
ト圧を与えることにより、薬液流量調節弁２５ａの弁の
開度を操作して、薬液供給管２４ｂの薬液流量を制御し
て、混合部２１への薬液の供給流量を調節することがで
きる。なお、薬液流量調節弁２５ａは、開閉弁を兼用し
ており、弁を完全に閉じるように調節することもでき、
弁を完全に閉じることにより、混合部２１への薬液の供
給を停止することもできる。

【００３９】設定器３から設定された混合条件は制御部
２７に与えられる。設定器３からは、混合条件として、
混合処理液の濃度目標値（混合処理液中の各々の薬液の
濃度目標値）、純水供給流量目標値、薬液供給流量目標
値の全て、または、いずれか２つの目標値が設定され
る。いずれか２つの目標値が設定された場合には、その
２つの目標値から残りの１つの目標値を算出することが
できる。従って、制御部２７では、混合処理液の濃度目
標値、純水供給流量目標値、薬液供給流量目標値の全て
を把握することができる。そこで、制御部２７は、上述
したように混合部２１に供給する純水の供給流量を純水
供給流量目標値に維持するような操作電圧（純水供給流
量操作信号）を電空変換器２３ｅに与えるとともに、混
合処理液の濃度目標値と濃度モニタ２６で監視される混
合処理液の濃度現在値との濃度偏差を打ち消すような操
作電圧（薬液供給流量操作信号）を電空変換器２５ｂに
与える。

【００４０】すなわち、濃度モニタ２６からの混合処理
液の濃度現在値が混合処理液の濃度目標値よりも小さい
ときには、混合部２１への薬液の供給流量を増やすよう
な操作電圧を電空変換器２５ｂに与え、濃度モニタ２６
からの混合処理液の濃度現在値が混合処理液の濃度目標
値よりも大きいときには、混合部２１への薬液の供給流
量を減らすような操作電圧を電空変換器２５ｂに与え
て、濃度偏差が「０」となるように制御する。

【００４１】なお、上記フィードバック制御における電
空変換器２５ｂへの操作電圧は、例えば、Ｐ（比例動
作）、Ｉ（積分動作）、Ｉ² （二重積分動作）、Ｄ（微
分動作）を含む制御則や純水供給流量目標値などに基づ
き、フィードバック制御における周知の方法で算出す
る。また、純水に複数種類の薬液を混合する場合には、
各薬液ごとの濃度目標値に基づき上記制御を各薬液ごと
に並行して行う。

【００４２】この制御部２７は、ＣＰＵやメモリを備え
たマイクロコンピューターなどで構成されている。

【００４３】濃度モニタ２６から制御部２７に与えられ
る混合処理液の濃度現在値と、制御部２７から電空変換
器２３ｅ、２５ｂに与えられる操作電圧（純水供給流量
操作信号、薬液供給流量操作信号）とは、異常検知部４
に与えられている。また、混合処理液の濃度目標値や純
水供給流量目標値、薬液供給流量目標値が、制御部２７
から異常検知部４に与えられる。純水供給流量目標値に
基づき、混合処理液の濃度目標値に対応する純水供給流
量操作信号（制御部２７から電空変換器２３ｅに与えら
れる操作電圧）の目標値を求めることができ、薬液供給
流量目標値に基づき、混合処理液の濃度目標値に対応す
る薬液供給流量操作信号（制御部２７から電空変換器２
５ｂに与えられる操作電圧）の目標値を求めることがで
きる。

【００４４】図３に示すように、混合処理液の濃度目標
値がＤＴであれば、異常検知部４では、この濃度目標値
ＤＴを中心に適宜の濃度上限値ＤＵと濃度下限値ＤＤと
を設定してその濃度幅を濃度許容範囲ＤＷとする。濃度
上限値ＤＵと濃度下限値ＤＤは、例えば、予め決めてお
いた定数を濃度目標値ＤＴに加算した値と減算した値と
したり、予め決めておいた割合を濃度目標値ＤＴに掛け
合わせた値を濃度目標値ＤＴに加算した値と減算した値
としたりするなどにより設定する。なお、図３（ｂ）に
示すように、濃度目標値ＤＴが経時的に変化する場合に
は、それに応じて濃度許容範囲ＤＷも変化させる。

【００４５】また、図４に示すように、或る処理液の処
理液供給流量操作信号（純水供給流量操作信号でも薬液
供給流量操作信号でもよい）の目標値がＣＳＴであれ
ば、異常検知部４では、この処理液供給流量操作信号の
目標値ＣＳＴを中心に適宜の操作信号上限値ＣＳＵと操
作信号下限値ＣＳＤとを設定してその間の操作信号幅を
変動許容範囲ＣＳＷとする。操作信号上限値ＣＳＵと操
作信号下限値ＣＳＤは、上述した濃度上限値ＤＵと濃度
下限値ＤＤと同様に方法で設定し、図４（ｂ）に示すよ
うに、処理液供給流量操作信号の目標値ＣＳＴが経時的
に変化する場合には、それに応じて変動許容範囲ＣＳＷ
も変化させる。異常検知部４では、混合処理液の混合に
使用する全ても処理液（純水及び各薬液）に対する各々
の変動許容範囲ＣＳＷを求める。

【００４６】そして、異常検知部４は、濃度モニタ２６
からの混合処理液の濃度現在値が濃度許容範囲ＤＷから
外れたか否かの情報と、制御部２７から電空変換器２３
ｅ、２５ｂに与えられる各処理液供給流量操作信号の現
在値が各々の変動許容範囲ＣＳＷから外れたか否かの情
報とに基づき、異常発生の判定を行う。

【００４７】異常発生が検知されると、異常処理部５は
薬液流量調節弁２５ａの弁を閉じるパイロット圧を薬液
流量調節弁２５ａに与えるような操作電圧を電空変換器
２５ｂに与えて混合部２１への薬液の供給を全て停止
し、処理槽１０に純水のみが供給される状態にするとと
もに、ブザーやランプなどの警報器５１を作動させて警
報を発するなどの異常処理を実行する。

【００４８】異常検知部４と異常処理部５とは、制御部
２７とは個別のマイクロコンピューターなどで構成され
ている。

【００４９】次に上記構成を有する装置の動作を説明す
る。まず、作業者は、設定器３から混合条件を設定す
る。設定された混合条件に基づき制御部２７は処理の準
備を行い、異常検知部４は濃度許容範囲ＤＷと変動許容
範囲ＣＳＷを設定する。

【００５０】処理槽１０に混合処理液の供給を開始する
とき、処理槽１０は純水で満たされている。これは或る
混合処理液を使って基板Ｗの表面処理を行った後、次の
混合処理液で基板Ｗの表面処理を行う場合も同様であ
る。すなわち、或る混合処理液による基板Ｗの表面処理
が終わると、処理槽１０に純水だけが供給され、処理槽
１０内の使用済みの混合処理液を一旦純水で置換する。
それに続いて、処理槽１０に純水が供給されている状態
で、純水中への薬液の導入を開始することにより、新た
な混合処理液を処理槽１０に供給して、処理槽１０の純
水を新たな混合処理液で置換する。

【００５１】制御部２７は、混合処理液の濃度目標値に
応じた純水供給流量目標値の純水が混合部２１に供給す
るような純水供給流量操作信号を一義的に電空変換器２
３ｅに与え続ける一方で、図５に示すように、薬液の供
給開始から所定時間ｔｓの間は、混合処理液の濃度目標
値に応じた薬液供給流量目標値の薬液が混合部２１に供
給するような薬液供給流量操作信号を一義的に電空変換
器２５ｂに与え、薬液の供給開始から所定時間ｔｓが経
過して以後、設定された混合条件から決まる混合処理液
の濃度目標値と濃度モニタ２６からの混合処理液の濃度
現在値との濃度偏差を打ち消すような操作電圧を電空変
換部２５ｂに与えて、フィードバック制御により混合処
理液を混合する。薬液の供給開始当初は、混合部２１へ
の薬液供給流量の立ち上がりが緩慢であるので、濃度偏
差が大きくなり、このときフィードバック制御を行う
と、混合処理液の濃度現在値が高くなり過ぎる、いわゆ
るオーバーシュートが発生する。これを防止するため
に、薬液の供給開始当初の所定時間ｔｓの間は、フィー
ドバック制御を行わず、混合処理液の濃度目標値に応じ
た薬液供給流量目標値の薬液が混合部２１に供給するよ
うな薬液供給流量操作信号を一義的に電空変換器２５ｂ
に与えるようにしている。

【００５２】それと並行して、異常検知部４は、濃度モ
ニタ２６からの混合処理液の濃度現在値が濃度許容範囲
ＤＷから外れたか否か、及び、制御部２７から電空変換
部２３ｅ、２５ｂに与えられる各処理液供給流量操作信
号が各々の変動許容範囲ＣＳＷから外れたか否かを監視
する。図５（ａ）において、混合処理液の濃度現在値が
濃度許容範囲ＤＷから外れたか、または、図５（ｂ）に
おいて、各処理液供給流量操作信号が各々の変動許容範
囲ＣＳＷから外れるのは、混合処理液供給部２内の部品
の故障など、何らかの異常が起きたと推定できる。従っ
て、混合処理液の濃度現在値が濃度許容範囲ＤＷから外
れたか、または、各処理液供給流量操作信号が各々の変
動許容範囲ＣＳＷから外れたことを検知すると、異常が
発生したものと判断し、異常処理部５が、混合部２１へ
の薬液の供給を全て停止し、処理槽１０に純水のみが供
給される状態にするとともに、警報器５１から警報を発
する。これにより、異常が発生すると、処理槽１０は純
水に置換され、濃度目標値から外れた混合処理液に長時
間基板Ｗを浸漬することがなく、基板Ｗへの損傷などを
防止できる。また、警報によって異常が発生すると、作
業者は異常発生を直ぐに知ることができ、適宜の復旧作
業を速やかに行うことができる。

【００５３】ところで、混合処理液の供給開始の初期の
純水のみが処理槽１０に供給されている状態から、混合
部２１に薬液を供給し始めた当初は、図５に示すよう
に、混合部２１への薬液供給流量の立ち上がりが緩慢で
あり、適宜の時間が経過した後に、混合処理液の濃度現
在値が濃度目標値に到達する。従って、この薬液の供給
開始の初期段階で、異常検知部４が検知動作を行えば、
正常であっても異常と判断してしまう。そこで、薬液の
供給開始から混合処理液の濃度現在値が濃度目標値に到
達するまでに要する十分な時間ｔｗを決めて、異常検知
部４は、薬液の供給開始からこの遅れ時間ｔｗが経過し
てから異常の検知動作を開始するように構成している。
上記遅れ時間ｔｗは実験によって予め決めておくことが
できる。

【００５４】次に本発明の第２実施例装置の構成を図
６、図７を参照して説明する。図６は本発明の第２実施
例装置の全体構成を示す図であり、図７はその制御系の
構成を示すブロック図である。

【００５５】この第２実施例は、複数種類の処理液とし
て、純水と１種類以上の薬液とを混合して得られた混合
処理液で基板Ｗの表面処理を行う枚葉式の基板処理装置
の一実施例である。

【００５６】すなわち、基板処理部１には、１枚の基板
Ｗを水平姿勢に保持して鉛直方向の軸心Ｊ周りで回転さ
せるスピンチャック１１やスピンチャック１１に保持さ
れた基板Ｗの表面に混合処理液を噴出供給するノズル１
２などを備えている。この基板処理部１では、スピンチ
ャック１１に基板Ｗを保持して軸心Ｊ周りで回転させな
がら所定時間の間ノズル１２から基板Ｗの表面に混合処
理液が噴出供給されて基板Ｗの表面処理が行われる。

【００５７】混合処理液供給部２は、混合部としての混
合貯留タンク３１を備えている。混合貯留タンク３１に
は、混合貯留タンク３１に貯留されている混合処理液の
貯留量を検知するために、例えば、上限センサ３１ａと
下限センサ３１ｂとを備えている。これらセンサ３１
ａ、３１ｂは、例えば、静電容量センサなどで構成され
る。上限センサ３１ａは、混合処理液が混合貯留タンク
３１から溢れ出すのを防止するために設けられ、下限セ
ンサ３１ｂは、混合貯留タンク３１に貯留される混合処
理液の残量不足を防止するために設けられている。各セ
ンサ３１ａ、３１ｂからの検知信号は制御部３０に与え
られる。

【００５８】混合貯留タンク３１の底部には、混合貯留
タンク３１に貯留されている混合処理液を排液ドレイン
３２ａに排出するための排液管３２ｂが設けられてい
る。排液管３２ｂには開閉弁３２ｃが配設されている。
例えば、混合条件を変えた混合処理液を新たに得る場合
に、開閉弁３２ｃを開にして、混合貯留タンク３１に貯
留されている現在の混合処理液を排液ドレイン３２ａに
排出して混合貯留タンク３１を空にし、その後開閉弁３
２ｃを閉にしてから新たな混合処理液の混合を開始す
る。開閉弁３２ｃの開閉制御は制御部３０によって行わ
れる。

【００５９】混合貯留タンク３１で純水と薬液とが混合
され、混合貯留タンク３１に貯留されている混合処理液
は、混合処理液供給系３３によって基板処理部１内のノ
ズル１２に供給される。

【００６０】この混合処理液供給系３３は、混合貯留タ
ンク３１内に一端側が連通接続され、ノズル１２に他端
側が連通接続された混合処理液供給管３３ａと、帰還管
３３ｂとを備えている。混合処理液供給管３３ａには、
ポンプ３３ｃと、第１実施例と同様の構成の濃度モニタ
２６と、混合処理液をノズル１２に供給する側と帰還管
３３ｂに流す側とで切り換える切り換え弁３３ｄとが配
設されている。ポンプ３３ｃによって混合貯留タンク３
１に貯留されている混合処理液が混合処理液供給管３３
ａに送り出される。帰還管３３ｂは、切り換え弁３３ｄ
に一端側が連通接続され、混合貯留タンク３１に他端側
が連通接続されている。

【００６１】通常時、ポンプ３３ｃは常に駆動されてい
て、混合貯留タンク３１に貯留されている混合処理液が
混合処理液供給管３３ａに送り出されている。ノズル１
２から基板Ｗに混合処理液を供給して表面処理する時だ
け、切り換え弁３３ｄは混合処理液をノズル１２に供給
する側に切り換えられ、それ以外の非処理時は、切り換
え弁３３ｄは混合処理液を帰還管３３ｂに流す側に切り
換えられている。従って、非処理時は、混合処理液は、
混合処理液供給管３３ａ及び帰還管３３ｂを経て循環さ
れている。ポンプ３３ｃの駆動制御、及び、切り換え弁
３３ｄの切り換え制御は制御部３０によって行われる。
また、混合処理液供給管３３ａに流通している混合処理
液の濃度が濃度モニタ２６によって計測されて制御部３
０と、第１実施例と同様の構成の異常検知部４に与えら
れるようになっている。

【００６２】混合貯留タンク３１には、純水供給系２３
から純水が供給されるとともに、１または複数の薬液供
給系３４から各薬液が供給されるようになっている。

【００６３】純水供給系２３は、第１実施例のものと同
様の構成であり、純水供給源２３ａから混合貯留タンク
３１へ純水を供給する純水供給管２３ｂと、純水開閉弁
２３ｄと、純水供給流量調節機構２５Ｐを構成する純水
圧力調節器２３ｃ及び電空変換器２３ｅとを備えてい
る。純水供給系２３の各部品の制御は制御部３０によっ
て行われる。

【００６４】第２実施例の薬液供給系３４は、薬液を貯
留する薬液貯留タンク３４ａと、薬液貯留タンク３４ａ
に一端側が連通接続され、混合貯留タンク３１に他端側
が連通接続された薬液供給管３４ｂと、薬液供給管３４
ｂに配設されたポンプ３４ｃとを備えている。ポンプ３
４ｃは、例えば、ダイアフラムポンプやベローズポンプ
などの容量型のポンプで構成され、薬液貯留タンク３４
ａに貯留された薬液の吸引と混合貯留タンク３１への薬
液の吐出とを繰り返して薬液供給管３４ｂを介して薬液
貯留タンク３４ａに貯留されている薬液を混合貯留タン
ク３１に供給する。また、このポンプ３４ｃは、薬液供
給流量調節手段を兼用しており、制御部３０からのポン
プ３４ｃの駆動信号（薬液供給流量操作信号）に応じ
て、薬液の吸引、吐出の周期を変えたり、１回の吸引、
吐出動作の吐出量を変えたりすることで単位時間当たり
の混合貯留タンク３１への薬液の供給流量を適宜に調節
するようになっている。制御部３０からのポンプ３４ｃ
の駆動信号は異常検知部４にも与えられている。

【００６５】その他の構成は第１実施例と同様であるの
で、共通する部分は図１、図２と同じ符号を付して説明
を省略する。

【００６６】次に、この第２実施例装置の動作を説明す
る。新たな混合処理液を混合する開始時点では、混合貯
留タンク３１が空の状態であり、切り換え弁３３ｄは、
混合処理液を帰還管３３ｂに流す側に切り換えられてい
るものとする。

【００６７】この状態で、制御部３０は、まず、設定器
３から設定された混合条件に応じた純水供給流量目標値
と薬液供給流量目標値とに従って、混合貯留タンク３１
への純水と薬液の供給を行う。

【００６８】また、混合貯留タンク３１への純水と薬液
の供給を開始すると、制御部３０は、ポンプ３３ｃを駆
動して、混合処理液を混合処理液供給管３３ａ及び帰還
管３３ｂを経て循環させる。ポンプ３３ｃによって混合
処理液を混合処理液供給管３３ａに送り出す際に、純水
と薬液とは略ムラなく混ぜ合わされるが、必要に応じ
て、濃度モニタ２６の上流側にスタティックミキサーな
どの適宜の撹拌機構を設けて、純水と薬液とを確実にム
ラなく混ぜ合わせるようにしてもよい。

【００６９】混合貯留タンク３１への純水と薬液の供給
を開始してから予め決められた所定時間が経過すると、
制御部３０は、混合貯留タンク３１への純水の供給流量
を純水供給流量目標値に維持しつつ、設定された混合条
件から決まる混合処理液の濃度目標値と濃度モニタ２６
からの混合処理液の濃度現在値との濃度偏差を打ち消す
ような駆動信号をポンプ３４ｃに与えて混合貯留タンク
３１への薬液の供給流量を調節するフィードバック制御
に切り換える。以後、上限センサ３１ａからの信号によ
って上限センサ３１ａが設けられた上限高さ位置まで混
合貯留タンク３１内に混合処理液が貯留されるまで、ポ
ンプ３３ｃを駆動し混合処理液を循環させつつ、フィー
ドバック制御によって純水と薬液の供給を行い、上限高
さ位置まで混合貯留タンク３１内に混合処理液が貯留さ
れると純水と薬液の供給を停止する。なお、純水と薬液
の供給を停止した後もポンプ３３ｃの駆動を継続して混
合処理液を循環させ続ける。

【００７０】一方で、異常検知部４は、制御部３０が上
記フィーバック制御に切り換えてから所定の遅れ時間ｔ
ｗが経過して以後、純水と薬液の供給停止までの間、濃
度モニタ２６からの濃度現在値と、制御部３０から電空
変換器２３ｅに与えられる純水供給流量操作信号と、制
御部３０からのポンプ３４ｃの駆動信号（薬液供給流量
操作信号）とに基づく異常の検知動作を行う。この第２
実施例の上記遅れ時間ｔｗは、上記第１実施例の遅れ時
間ｔｗと同様の趣旨のもので、制御部３０が上記フィー
バック制御に切り換えてから混合処理液の濃度現在値が
濃度目標値に到達するまでに要する十分な時間であり、
実験によって予め決めておく。

【００７１】また、この第２実施例の異常の検知動作
は、第１実施例と同様に、濃度現在値が濃度目標値に応
じて予め決めた濃度許容範囲から外れたか、または、電
空変換器２３ｅに与えられる純水供給流量操作信号が濃
度目標値に対応した純水供給流量操作信号の目標値に応
じて予め決めた変動許容範囲から外れたか、または、ポ
ンプ３４ｃの駆動信号が濃度目標値に対応した駆動信号
の目標値に応じて予め決めた変動許容範囲から外れたと
き異常が発生したと判断するものである。異常が検知さ
れると異常処理部５は異常処理を行う。この第２実施例
では、異常処理部５は異常処理として、純水開閉弁２３
ｄを閉にするとともに各ポンプ３４ｃの駆動を停止して
混合貯留タンク３１への純水と全ての薬液の供給を停止
する処理と、警報器５１から警報を発する処理を行う。
これにより、異常発生後の純水と薬液の無駄な消費をな
くすことができ、また、警報によって異常の発生を作業
者が直ぐに知ることができる。なお、この第２実施例で
は、異常発生時に基板Ｗが混合処理液に浸漬されている
わけではないので、混合貯留タンク３１への純水と全て
の薬液の供給を停止しても基板Ｗへの処理不良は起きな
い。

【００７２】上限高さ位置まで混合貯留タンク３１内に
混合処理液が貯留され、ポンプ３３ｃの駆動を継続して
混合処理液を循環させ続ける状態で、基板Ｗの表面処理
を行う時には、制御部３０は、混合処理液をノズル１２
に供給する側に切り換え弁３３ｄを切り換え、所定の処
理時間が経過すると、混合処理液を帰還管３３ｂに流す
側に切り換え弁３３ｄを切り換える。以後、基板Ｗの表
面処理を行うごとに、上記動作を繰り返す。

【００７３】一方で、異常検知部４は、上限高さ位置ま
で混合貯留タンク３１内に混合処理液が貯留された以
後、濃度モニタ２６からの混合処理液の濃度現在値を監
視し、濃度現在値が濃度許容範囲から外れると、異常が
発生したと判断する。この場合には、異常処理部５は異
常処理として警報器５１から警報を発する。

【００７４】基板Ｗの表面処理を行うごとに、混合貯留
タンク３１に貯留されている混合処理液は徐々に減少し
ていく。そして、下限センサ３１ｂからの信号によって
下限センサ３１ｂが設けられた下限高さ位置まで混合貯
留タンク３１内の混合処理液が減少すると、制御部３０
は、フィードバック制御により、混合貯留タンク３１へ
純水供給流量目標値の供給流量で純水を一定に供給しつ
つ、設定された混合条件から決まる混合処理液の濃度目
標値と濃度モニタ２６からの混合処理液の濃度現在値と
の濃度偏差を打ち消すような駆動信号をポンプ３４ｃに
与えて混合貯留タンク３１へ薬液を供給し、上限高さ位
置まで混合貯留タンク３１内に混合処理液が貯留される
と純水と薬液の供給を停止する。

【００７５】このとき、異常検知部４は、濃度モニタ２
６からの濃度現在値と、制御部３０から電空変換器２３
ｅに与えられる純水供給流量操作信号と、制御部３０か
らのポンプ３４ｃの駆動信号（薬液供給流量操作信号）
とに基づく異常の検知動作を行い、異常が検知される
と、異常処理部５は、混合貯留タンク３１への純水と薬
液の供給を停止し、警報器５１から警報を発する。

【００７６】なお、混合条件を変えて新たな混合処理液
を混合する場合には、制御部３０は、開閉弁３２ｃを開
にして混合貯留タンク３１に貯留されている現在の混合
処理液を排液ドレイン３２ａに排出して、混合貯留タン
ク３１を空にしてから、開閉弁３２ｃを閉にし、上述し
た混合貯留タンク３１が空の状態からの動作を開始して
新たな混合処理液の混合を行う。

【００７７】以上の動作により、基板Ｗの表面処理に用
いる混合処理液を混合貯留タンク３１で混合しつつ、異
常検知部４が混合処理液供給部２の異常を検知して、異
常を検知すると、異常処理部５が所定の異常処理を行
う。すなわち、本発明は、この第２実施例のような構成
の基板処理装置においても適用することができる。

【００７８】なお、上記第１、第２実施例では、混合部
２１、混合貯留タンク３１への純水の供給流量を純水圧
力で調節しているが、流量調節弁やポンプなどで調節す
るものであってもよい。

【００７９】また、第１実施例の薬液の供給流量を圧力
調節器やポンプなどで調節してもよいし、第２実施例の
薬液の供給流量を圧力調節器や流量調節弁などで調節し
てもよい。

【００８０】上記第１、第２実施例では、混合部２１、
混合貯留タンク３１への純水の供給を一定の供給流量に
し、フィードバック制御による混合処理液の濃度制御を
混合部２１、混合貯留タンク３１への薬液の供給流量を
調節することで行ったが、薬液の供給流量を一定にし、
純水の供給流量を調節してフィードバック制御による混
合処理液の濃度制御を行う装置であっても本発明は同様
に適用できる。

【００８１】また、上記第１、第２実施例では、濃度モ
ニタ２６を備えて混合処理液の濃度現在値を監視した
が、濃度モニタ２６に代えて混合部２１、混合貯留タン
ク３１への純水と各薬液の各々の供給流量を検出する流
量センサを設け、純水と各薬液の各々の供給流量から混
合処理液の濃度現在値を算出しつつ、混合処理液の濃度
現在値を監視するように構成してもよい。

【００８２】また、上記第１、第２実施例やその変形例
では、混合処理液の濃度現在値と、薬液供給流量操作信
号や純水供給流量操作信号などの処理液供給流量操作信
号とに基づき、異常発生を検知するようにしているが、
混合処理液の濃度現在値のみを監視して異常発生を検知
するようにしてもよい。

【００８３】上記各実施例や各変形例では、混合処理液
における溶媒となる処理液に純水を用いる例を紹介した
が、溶媒として純水以外の処理液を使用して混合処理液
を混合する装置にも本発明は同様に適用することができ
る。

【００８４】その他、基板処理装置の全体的な構成は、
上記第１、第２実施例やその変形例に限定されことな
く、複数種類の処理液をフィードバック制御によって混
合する機能を備えた基板処理装置に対して本発明は同様
に適用することができる。

【００８５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、濃度監視手段からの混合処理
液の濃度現在値が混合処理液の所定の濃度許容範囲から
外れたか否かに基づいて部品の故障などの異常が発生し
たことを検知して所定の異常処理を行うので、異常を速
やかに検知して適宜の異常処理を速やかに実行すること
ができ、基板の処理不良を未然に防止することができ、
装置の信頼性を向上させることができる。

【００８６】請求項２に記載の発明によれば、制御手段
から処理液供給流量調節手段に与えられる処理液供給流
量操作信号の現在値をさらに監視し、この処理液供給流
量操作信号の現在値が処理液供給流量操作信号の所定の
変動許容範囲から外れた否かの情報も考慮して異常発生
を判定するので、処理液供給流量操作信号も考慮して部
品の故障などの異常の発生をより確実に検知することが
できる。

【００８７】請求項３に記載の発明によれば、異常処理
として、混合部への少なくとも一部の処理液の供給を停
止する処理を含むので、濃度目標値から外れた濃度の混
合処理液による基板の表面処理を停止することができ、
基板の処理不良を未然に防止することができ、また、無
駄な処理液の使用をなくすこともできる。

【００８８】請求項４に記載の発明によれば、混合処理
液に複数枚の基板を浸漬して各基板の表面処理を行う処
理槽を基板処理部に備えたバッチ式の基板処理装置であ
って、混合部へ供給する複数種類の処理液が純水と１種
類以上の薬液である場合の異常処理として、異常処理手
段は、異常検知手段によって異常発生が検知されると薬
液の供給を停止し、純水のみを供給するので、処理槽内
の混合処理液に浸漬されている複数枚の基板への異常濃
度の混合処理液による悪影響を防止することができる。

【００８９】請求項５に記載の発明によれば、異常処理
手段は、異常検知手段によって異常発生が検知されると
警報を発するので、異常発生を作業者はいち早く知るこ
とができ、復旧作業を速やかに行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係る基板処理装置の全体
構成を示す図である。

【図２】第１実施例装置の制御系の構成を示すブロック
図である。

【図３】異常発生の判定に用いる混合処理液の濃度許容
範囲を示す図である。

【図４】異常発生の判定に用いる処理液供給流量操作信
号の変動許容範囲を示す図である。

【図５】第１実施例の異常検知動作などを説明するため
の図である。

【図６】本発明の第２実施例装置の全体構成を示す図で
ある。

【図７】第２実施例装置の制御系の構成を示すブロック
図である。

【符号の説明】

１：基板処理部 ２：混合処理液供給部 ４：異常検知部 ５：異常処理部 １０：処理槽 ２１：混合部 ２２、３３：混合処理液供給系 ２３：純水供給系 ２４、３４：薬液供給系 ２５Ｐ：純水供給流量調節機構 ２５Ｑ：薬液供給流量調節機構 ２６：濃度モニタ ２７、３０：制御部 ３１：混合貯留タンク ３４ｃ：ポンプ ５１：警報器 Ｗ：基板 ＤＷ：濃度許容範囲 ＣＳＷ：変動許容範囲

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 誠一郎 滋賀県野洲郡野洲町大字三上字口ノ川原 2426番１ 大日本スクリーン製造株式会社 野洲事業所内 Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB01 BB04 BB05 BB88 BB92 BB93 CB12 CC01 CD22 CD42 CD43

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数種類の処理液を混合して得られた混
   合処理液で基板の表面処理を行う基板処理部と、 複数種類の処理液を混合する混合部と、 前記混合部で混合された混合処理液を前記基板処理部に
   供給する混合処理液供給系と、 前記混合部に個々の処理液を個別に供給する複数の処理
   液供給系と、 前記混合部への処理液の供給流量を調節する処理液供給
   流量調節手段と、 混合処理液の濃度現在値を監視する濃度監視手段と、 混合処理液の濃度目標値と混合処理液の濃度現在値との
   濃度偏差を打ち消すような処理液供給流量操作信号を前
   記処理液供給流量調節手段に与える制御手段と、 混合処理液の濃度現在値が混合処理液の所定の濃度許容
   範囲から外れたか否かに基づいて異常が発生したことを
   検知する異常検知手段と、 異常発生が検知されると所定の異常処理を行う異常処理
   手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記異常検知手段は、前記制御手段から前記処理液供給
   流量調節手段に与えられる処理液供給流量操作信号の現
   在値をさらに監視し、この処理液供給流量操作信号の現
   在値が処理液供給流量操作信号の所定の変動許容範囲か
   ら外れたか否かの情報も考慮して異常発生の判定を行う
   ことを特徴とする基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の基板処理装置
   において、 前記異常処理手段が行う異常処理は、前記混合部への少
   なくとも一部の処理液の供給を停止する処理を含むこと
   を特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項１または２に記載の基板処理装置
   において、 前記基板処理部は、混合処理液に複数枚の基板を浸漬し
   て各基板の表面処理を行う処理槽を備えており、 前記混合部へ供給する複数種類の処理液は、純水と１種
   類以上の薬液であり、 前記異常処理手段は、異常発生が検知されると薬液の供
   給を停止し、純水のみを供給することを特徴とする基板
   処理装置。
5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の基
   板処理装置において、 前記異常処理手段が行う異常処理は、警報を発する処理
   を含むことを特徴とする基板処理装置。