KR100912703B1 - 기판 처리 장치 및 이 장치를 이용한 기판 처리 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (3)
- 기판의 상면에 약액을 공급하는 상부 노즐과 상기 기판의 저면에 상기 약액을 공급하는 하부 노즐을 포함하는 기판 처리부;상기 상부 노즐로 상기 약액을 공급하는 상부 약액 공급라인;상기 하부 노즐로 상기 약액을 공급하는 하부 약액 공급라인;약액 공급 시스템으로부터 상기 상부 약액 공급라인과 상기 하부 약액 공급라인으로 상기 약액을 공통으로 공급하는 하나의 약액 공급라인;상기 하나의 약액 공급라인을 상기 상부 약액 공급라인 및 상기 하부 약액 공급라인으로 분기시키는 분기부재;상기 하나의 약액 공급라인에 구비되며, 상기 하나의 약액 공급라인 내 상기 약액을 일정한 유압으로 조절하는 정압 밸브;상기 하나의 약액 공급라인에 구비되는 디버팅 밸브; 및상기 디버팅 밸브에 의해 상기 하나의 약액 공급라인으로부터 상기 약액 공급 시스템으로 상기 약액을 순환시키는 약액 순환 라인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 삭제
- 기판 처리 방법에 있어서,하나의 공급 라인 내 약액을 일정한 유압으로 조절하고;일정한 유압으로 조절된 약액을 상부 약액 공급 라인과 하부 약액 공급 라인에 공통으로 공급하고;상부 노즐 및 하부 노즐이 각각 상기 상부 약액 공급 라인 및 상기 하부 약액 공급 라인으로부터 상기 일정한 유압으로 조절된 약액을 공급받고;상기 상부 노즐이 기판의 상면 상에 상기 일정한 유압으로 조절된 약액을 공급하고;상기 하부 노즐이 기판의 저면 상에 상기 일정한 유압으로 조절된 약액을 공급하되,상기 기판 처리 방법은 상기 하나의 공급 라인 내 약액을 일정한 유압으로 조절하기 이전에, 상기 하나의 약액 공급 라인으로부터 상기 약액 공급 시스템으로 상기 약액을 선택적으로 순환시키는 것을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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KR20040023943A (ko) * | 2002-09-12 | 2004-03-20 | 주식회사 라셈텍 | 양면 동시 세정이 가능한 매엽식 웨이퍼 세정장치 |
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KR20070058329A (ko) * | 2005-12-02 | 2007-06-08 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 기판 세정 방법 및 기판 세정 장치 |
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2007
- 2007-10-11 KR KR1020070102486A patent/KR100912703B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
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