JP7363753B2 - 浴槽添加剤投入システム、給湯システムおよび浴槽添加剤投入制御方法 - Google Patents

Description

本開示は、浴槽添加剤投入システム、給湯システムおよび浴槽添加剤投入制御方法に関する。

従来、浴槽添加剤である入浴剤または洗浄剤を貯蔵する貯蔵部と、貯蔵部に貯蔵された浴槽添加剤を浴槽水が循環する浴槽水循環回路に投入する投入部と、を備えた浴槽添加剤投入システムが知られている（例えば特許文献１参照）。

特開２０００－１７５８３３号公報

しかしながら、上記の浴槽添加剤投入システムでは、浴槽添加剤が投入された浴槽水が浴槽水循環回路を循環するため、浴槽添加剤の成分によっては浴槽水循環回路を構成する部品が劣化するという問題があった。

本開示は、上述した問題を解決するためになされたもので、浴槽水循環回路を構成する部品の劣化を抑制することができる浴槽添加剤投入システム、給湯システムおよび浴槽添加剤投入制御方法を提供することを目的とする。

本開示に係る浴槽添加剤投入システムは、浴槽添加剤を浴槽に投入する投入部と、投入部により投入される浴槽添加剤の成分を分析する成分分析装置と、投入部の動作を制御して浴槽添加剤を浴槽に投入する制御装置と、を備え、制御装置は、成分分析装置によって浴槽添加剤から浴槽内の浴槽水が循環する浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が検出された場合、投入部による浴槽添加剤の投入を禁止する。

また、本開示に係る給湯システムは、水を加熱する給湯機と、給湯機によって加熱された水を浴槽へ供給する給湯流路と、浴槽内の浴槽水を循環させる循環手段を備えた浴槽水循環回路と、浴槽添加剤を貯蔵する貯蔵部と、貯蔵部に貯蔵された浴槽添加剤を浴槽に投入する投入部と、貯蔵部に貯蔵された浴槽添加剤の成分を分析する成分分析装置と、投入部の動作を制御して貯蔵部に貯蔵された浴槽添加剤を浴槽に投入する制御装置と、を備え、制御装置は、成分分析装置によって浴槽添加剤から浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が検出された場合、投入部による浴槽添加剤の投入を禁止する。

また、本開示に係る浴槽添加剤投入制御方法は、投入部により浴槽に投入される浴槽添加剤の成分を分析する第１のステップと、第１のステップでの分析結果に基づいて、浴槽添加剤に浴槽内の浴槽水が循環する浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれているか否かを判定する第２のステップと、第２のステップで浴槽添加剤に浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれていると判定された場合、投入部による浴槽添加剤の投入を禁止する第３のステップと、を備える。

本開示に係る浴槽添加剤投入システム、給湯システムおよび浴槽添加剤投入制御方法によれば、浴槽添加剤に浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれている場合には、投入部による浴槽添加剤の投入が禁止される。これにより、浴槽水循環回路を構成する部品の劣化を抑制することができる。

実施の形態１の給湯システムを示す構成図である。 実施の形態１の給湯システムの機能を示すブロック図である。 実施の形態１の給湯システムの入浴剤投入制御を示すフローチャートである。 実施の形態２の給湯システムの入浴剤投入制御を示すフローチャートである。 実施の形態３の給湯システムを示す構成図である。 実施の形態３の給湯システムの機能を示すブロック図である。

以下、図面を参照して実施の形態について説明する。各図において共通する要素には、同一の符号を付して、重複する説明を簡略化または省略する。本開示は、以下の各実施の形態で説明する構成のうち、組み合わせ可能な構成のあらゆる組み合わせを含み得る。本明細書において、「水」との表記は、その温度にかかわらず、冷水から熱湯まで、液状の水全般を含みうるものとする。

実施の形態１．
図１を用いて、実施の形態１の浴槽添加剤投入システムを備えた給湯システム１００について説明する。図１は、実施の形態１の給湯システム１００を示す構成図である。図１に示すように、実施の形態１の給湯システム１００は、給湯機１０、流路系２０、リモコン装置３０および制御装置４０を備える。

給湯機１０は、水を加熱して高温水を生成する装置である。給湯機１０は、水を加熱する図示しない加熱手段を有する。給湯機１０は、例えば、水を加熱するヒートポンプユニットと、ヒートポンプユニットで加熱されて生成した高温水を貯蔵する貯湯タンクと、を備えた貯湯式給湯機である。給湯機１０は、貯湯式給湯機以外の給湯機でもよく、例えば瞬間式給湯機でもよい。

流路系２０は、給湯流路５０および浴槽水循環回路６０を備える。

給湯流路５０は、給湯機１０によって加熱された水を浴室３００内に設置された浴槽２００へ供給する。給湯流路５０は、給湯機１０と浴槽水循環回路６０とを接続する。本実施の形態において、給湯流路５０は、給湯配管５１および給湯用電磁弁５２を備える。

給湯配管５１の一端は、給湯機１０に接続される。給湯配管５１の他端は、浴槽水循環回路６０に接続される。給湯配管５１の他端は、詳細には、後述する第一配管６１における循環ポンプ６３と加熱部６４との間に接続される。給湯用電磁弁５２は、給湯配管５１の途中に設けられる。給湯用電磁弁５２は、給湯配管５１内の流路を開閉する開閉弁である。

なお、給湯流路５０の構成は上述した構成に限られない。例えば、給湯配管５１の途中に、給湯機１０から供給される高温水と図示しない給水配管から供給される低温水とを混合して給湯温度を調節する混合器が設けられていてもよい。

浴槽水循環回路６０には、浴槽２００内の浴槽水が循環する。浴槽水循環回路６０は、浴槽２００に接続される。浴槽水循環回路６０の途中には、給湯流路５０が接続される。本実施の形態において、浴槽水循環回路６０は、第一配管６１、第二配管６２、循環ポンプ６３、加熱部６４、浴槽アダプタ６５、貯蔵部用電磁弁６６、第三配管６７、貯蔵部６８、第四配管６９、貯蔵物吐出口７０および投入用電磁弁７１を備える。

第一配管６１は、浴槽２００に取り付けられた浴槽アダプタ６５と加熱部６４とを接続する。第二配管６２は、加熱部６４と浴槽アダプタ６５とを接続する。

加熱部６４は、浴槽水循環回路６０を循環する浴槽水を加熱する。加熱部６４は、例えば電気ヒータによって浴槽水を加熱する。加熱部６４は、燃料の燃焼熱で浴槽水を加熱してもよいし、給湯機１０から供給される高温水との熱交換により浴槽水を加熱してもよい。

第一配管６１の途中には、循環ポンプ６３が接続される。循環ポンプ６３は、第一配管６１において浴槽アダプタ６５から加熱部６４へ向かう水の流れを発生させる。循環ポンプ６３は、浴槽２００内の浴槽水を浴槽水循環回路６０に循環させる循環手段である。

第二配管６２の途中には、貯蔵部用電磁弁６６が接続される。貯蔵部用電磁弁６６は、三方弁であり、入口となるａポートと、出口となるｂポートおよびｃポートと、を有する。貯蔵部用電磁弁６６は、ａ－ｂ経路およびａ－ｃ経路の２つの経路の間で流路を切替可能である。

貯蔵部用電磁弁６６のａポートには、加熱部側第二配管６２ａの一端が接続される。加熱部側第二配管６２ａは、第二配管６２における貯蔵部用電磁弁６６よりも加熱部６４側の部分である。加熱部側第二配管６２ａの他端は、加熱部６４に接続される。貯蔵部用電磁弁６６のｂポートには、浴槽側第二配管６２ｂの一端が接続される。浴槽側第二配管６２ｂは、第二配管６２における貯蔵部用電磁弁６６よりも浴槽２００側の部分である。浴槽側第二配管６２ｂの他端は、浴槽アダプタ６５に接続される。貯蔵部用電磁弁６６のｃポートには、第三配管６７の一端が接続される。第三配管６７の他端は、貯蔵部６８に接続される。

貯蔵部６８は、浴槽２００へ投入する浴槽添加剤を貯蔵する。貯蔵部６８は、内部に浴槽添加剤を貯蔵可能な容器によって構成される。浴槽添加剤は、例えば、入浴剤または洗浄剤である。本実施の形態では、浴槽添加剤として入浴剤を使用する場合の例を説明する。

貯蔵部６８には、第四配管６９の一端が接続される。第四配管６９の他端は、浴槽２００に取り付けられた貯蔵物吐出口７０に接続される。なお、本実施の形態では、貯蔵物吐出口７０は、浴槽２００における浴槽アダプタ６５よりも上方に取り付けられる。

第四配管６９の途中には、投入用電磁弁７１が設けられる。投入用電磁弁７１は、第四配管６９の流路を開閉する開閉弁である。投入用電磁弁７１は、貯蔵部６８に貯蔵された浴槽添加剤を浴槽２００に投入する投入部の一例である。

貯蔵部６８には、成分分析装置８０が設けられる。本実施の形態では、成分分析装置８０は貯蔵部６８の内部に設けられる。なお、成分分析装置８０は貯蔵部６８の外部に設けられていてもよい。成分分析装置８０は、貯蔵部６８内に貯蔵された浴槽添加剤の成分を分析する。成分分析装置８０は、浴槽添加剤に浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれているか否かを検出する。なお、本実施の形態において、浴槽水循環回路６０を構成する部品とは、例えば、第一配管６１、第二配管６２、循環ポンプ６３、加熱部６４、浴槽アダプタ６５、貯蔵部用電磁弁６６、第三配管６７、第四配管６９、貯蔵物吐出口７０および投入用電磁弁７１を構成する部品である。

成分分析装置８０は、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分として、例えば、浴槽水循環回路６０を構成する金属部品の金属腐食の原因となる成分が浴槽添加剤に含まれているか否かを検出する。金属腐食の原因となる成分とは、例えば、硫黄または塩化ナトリウムである。また、浴槽水循環回路６０を構成する金属部品とは、例えば、第一配管６１等の配管、循環ポンプ６３、加熱部６４または貯蔵部用電磁弁６６に使用される金属部品である。

また、成分分析装置８０は、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分として、浴槽水循環回路６０を構成する樹脂部品の劣化原因となる成分が浴槽添加剤に含まれているか否かを検出するようにしてもよい。樹脂部品の劣化原因となる成分とは、例えば、硫黄、アルコール、炭酸カルシウム、シリカまたは酸化チタンである。炭酸カルシウム、シリカ、酸化チタン等の水に溶けにくい成分は、研磨剤となって樹脂部品の劣化の原因となる。また、浴槽水循環回路６０を構成する樹脂部品とは、例えば、第一配管６１等の配管、循環ポンプ６３または貯蔵部用電磁弁６６に使用される樹脂部品である。

また、成分分析装置８０は、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分として、浴槽水循環回路６０を構成する部品の機能低下を引き起こす成分が浴槽添加剤に含まれているか否かを検出するようにしてもよい。浴槽水循環回路６０を構成する部品の機能低下を引き起こす成分とは、例えば高濃度の炭酸ガスである。高濃度の炭酸ガスは、例えば循環ポンプ６３の能力低下および故障を引き起こす恐れがある。

成分分析装置８０は、例えば、原子蛍光分析（ＡＦＳ）によって浴槽添加剤の成分を分析する。成分分析装置８０による分析方法は原子蛍光分析に限られず、例えば質量分析法（ＭＳ）または赤外分光法（ＩＲ）によって分析してもよい。

リモコン装置３０は、ユーザインタフェースである。本実施の形態において、リモコン装置３０は浴室３００内に取り付けられる。リモコン装置３０は、浴室３００内でなく、例えば台所またはリビングに取り付けられていてもよい。

リモコン装置３０は、表示部３１および操作部３２を有する。表示部３１は、給湯システム１００の状態に関する情報を表示する。表示部３１は、例えば液晶ディスプレイによって構成される。操作部３２は、使用者からの操作を受け付ける。操作部３２は、例えばボタンまたはキーによって構成される。表示部３１は、使用者に情報を報知する報知手段の一例である。

制御装置４０は、給湯システム１００の動作を制御する。本実施の形態では、制御装置４０は給湯機１０に搭載される。制御装置４０は、給湯機１０以外の箇所に設置されていてもよく、例えばリモコン装置３０に搭載されていてもよい。制御装置４０は、リモコン装置３０、給湯用電磁弁５２、循環ポンプ６３、貯蔵部用電磁弁６６、投入用電磁弁７１および成分分析装置８０と、それぞれ通信可能に接続されている。

図２は、実施の形態１の給湯システム１００の機能を示すブロック図である。図２に示すように、制御装置４０には、リモコン装置３０の操作部３２および成分分析装置８０からの情報が入力される。制御装置４０は、入力されたこれらの情報に基づいて、リモコン装置３０の表示部３１、給湯用電磁弁５２、循環ポンプ６３、貯蔵部用電磁弁６６、投入用電磁弁７１および成分分析装置８０の動作を制御する。

制御装置４０は、制御部４１および記憶部４２を有する。制御部４１は、記憶部４２に記憶された制御プログラムに従って各種処理を実行する。記憶部４２は、制御部４１が実行する制御プログラムおよび制御プログラムの実行に必要なデータを記憶する。

制御部４１の機能は、例えばプロセッサがメモリに記憶された制御プログラムを実行することにより実現される。記憶部４２の機能は、例えばメモリにデータが記憶されることにより実現される。プロセッサは、例えばＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）である。メモリは、例えばＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、フラッシュメモリ等の不揮発性または揮発性の半導体メモリである。

なお、実施の形態１の浴槽添加剤投入システムは、少なくとも制御装置４０、投入用電磁弁７１および成分分析装置８０によって実現される。

次に、実施の形態１の給湯システム１００の入浴剤投入制御について説明する。図３は、実施の形態１の給湯システム１００の入浴剤投入制御を示すフローチャートである。図３では、湯張り完了後に入浴剤を自動で投入する例を説明する。図３の制御は、例えば、操作部３２により湯張りの開始指令が行われたときに開始する。

ステップＳ１において、制御部４１は湯張りを開始する。具体的には、制御部４１は、給湯用電磁弁５２を開き、貯蔵部用電磁弁６６を加熱部側第二配管６２ａと浴槽側第二配管６２ｂとが連通した経路（ａ－ｂ経路）に切り替える。これにより、給湯機１０で生成した高温水が、給湯配管５１、第一配管６１、第二配管６２および浴槽アダプタ６５を通って、浴槽２００内に流入する。

ステップＳ２において、制御部４１は湯張りが完了したか否かを判定する。制御部４１は、例えば、浴槽２００内に流入した水の量が設定湯張り量に達した場合に、湯張りが完了したと判定する。設定湯張り量は、例えば操作部３２によって設定され、記憶部４２に記憶されている。浴槽２００内に流入した水の量は、例えば、給湯配管５１を流れる水の流量を検出する流量センサによって検出してもよいし、浴槽２００内の水位を検出する水位センサによって検出してもよい。制御部４１は、湯張りが完了していないと判定するとステップＳ２で待機し、湯張りが完了したと判定すると給湯用電磁弁５２を閉じて湯張りを終了しステップＳ３に進む。

ステップＳ３において、制御部４１は、操作部３２により入浴剤の自動投入の設定が行われているか否かを確認する。制御部４１は、入浴剤の自動投入の設定が行われていないと判定すると、「Ｅｎｄ」に進み、図３に示す処理を終了する。制御部４１は、入浴剤の自動投入の設定が行われていると判定すると、ステップＳ４に進む。

ステップＳ４において、制御部４１は、成分分析装置８０による入浴剤の成分分析を実施する。具体的には、制御部４１は、給湯用電磁弁５２を開き、貯蔵部用電磁弁６６を加熱部側第二配管６２ａと第三配管６７とが連通した経路（ａ－ｃ経路）に切り替える。これにより、給湯機１０で生成した高温水が、給湯配管５１、加熱部側第二配管６２ａおよび第三配管６７を通って、貯蔵部６８に流入する。貯蔵部６８に流入した水は、貯蔵部６８に貯蔵された入浴剤と混合される。成分分析装置８０は、入浴剤が溶解した水を用いて、入浴剤の成分分析を行う。なお、貯蔵部６８内に攪拌手段を設け、攪拌手段によって貯蔵部６８に流入した水と貯蔵部６８に貯蔵された入浴剤とを混合するようにしてもよい。ステップＳ４の処理の後は、ステップＳ５に進む。

ステップＳ５において、制御部４１は、成分分析装置８０の分析結果に基づいて、入浴剤に浴槽水循環回路６０の劣化原因となる成分が含まれているか否かを判定する。ステップＳ５において、制御部４１が、入浴剤に浴槽水循環回路６０の劣化原因となる成分が含まれていないと判定すると、ステップＳ６に進む。

ステップＳ６において、制御部４１は、入浴剤の投入処理を行う。具体的には、制御部４１は、給湯用電磁弁５２を開き、貯蔵部用電磁弁６６を加熱部側第二配管６２ａと第三配管６７とが連通した経路（ａ－ｃ経路）に切り替えた状態において、投入部である投入用電磁弁７１を開く。これにより、貯蔵部６８において入浴剤が溶解した水が、第四配管６９および貯蔵物吐出口７０を通って、浴槽２００内に流入する。

ステップＳ６において、制御部４１は、例えば、入浴剤の投入量が設定投入量に達した場合に、入浴剤の投入処理を終了する。設定投入量は、例えば操作部３２によって設定され、記憶部４２に記憶されている。また、記憶部４２には、入浴剤の投入処理が開始してからの経過時間と入浴剤の投入量との関係が予め記憶されている。制御部４１は、記憶部４２に記憶されたこの関係を用いて、入浴剤の投入が開始してからの経過時間から入浴剤の投入量を算出する。なお、入浴剤の投入量は、例えば、第四配管６９を流れる水の流量を検出する流量センサによって検出するようにしてもよい。

制御部４１は、ステップＳ６の処理が終了すると「Ｅｎｄ」に進み、図３に示す処理を終了する。なお、制御部４１は、ステップＳ６の処理が終了したとき、入浴剤の投入が完了した旨の表示を表示部３１に行わせるようにしてもよい。

ステップＳ５において、制御部４１が、入浴剤に浴槽水循環回路６０の劣化原因となる成分が含まれていると判定すると、ステップＳ７に進む。

ステップＳ７において、制御部４１は、投入用電磁弁７１による入浴剤の投入を禁止する。ステップＳ７の処理後はステップＳ８に進む。

ステップＳ８において、制御部４１は、入浴剤の投入が行われない旨の表示を表示部３１に行わせる。本実施の形態では、制御部４１は、入浴剤の投入が行われない旨の表示とともに、入浴剤の交換を推奨する旨のガイダンス表示を表示部３１に行わせる。制御部４１は、ステップＳ８の処理を終了すると「Ｅｎｄ」に進み、図３に示す制御を終了する。

実施の形態１の浴槽添加剤投入システムによれば、浴槽添加剤を浴槽２００に投入する投入部（投入用電磁弁７１が該当）と、投入部により投入される浴槽添加剤の成分を分析する成分分析装置８０と、投入部の動作を制御して浴槽添加剤を浴槽２００に投入する制御装置４０と、を備え、制御装置４０は、成分分析装置８０によって浴槽添加剤から浴槽２００内の浴槽水が循環する浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が検出された場合、投入部による浴槽添加剤の投入を禁止する。これにより、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれた浴槽添加剤が浴槽２００内に投入されることを防ぐことができ、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化を抑制することができる。

また、実施の形態１の浴槽添加剤投入システムによれば、制御装置４０は、成分分析装置８０によって浴槽添加剤から浴槽水循環回路６０を構成する金属部品の金属腐食の原因となる成分が検出された場合、投入部による浴槽添加剤の投入を禁止する。これにより、浴槽水循環回路６０を構成する金属部品の金属腐食の原因となる成分が含まれた浴槽添加剤が浴槽２００内に投入されることを防ぐことができ、浴槽水循環回路６０を構成する金属部品の金属腐食を抑制することができる。

また、実施の形態１の浴槽添加剤投入システムによれば、制御装置４０は、成分分析装置８０によって浴槽添加剤から浴槽水循環回路６０を構成する樹脂部品の劣化原因となる成分が検出された場合、投入部による浴槽添加剤の投入を禁止する。これにより、浴槽水循環回路６０を構成する樹脂部品の劣化原因となる成分が含まれた浴槽添加剤が浴槽２００内に投入されることを防ぐことができ、浴槽水循環回路６０を構成する樹脂部品の劣化を抑制することができる。

また、実施の形態１の浴槽添加剤投入システムによれば、制御装置４０は、投入部による浴槽添加剤の投入を禁止した場合、浴槽添加剤の投入が行われない旨の報知を報知手段（表示部３１が該当）に行わせる。これにより、使用者は浴槽添加剤の投入が行われないことを認識することができる。

また、実施の形態１の浴槽添加剤投入システムによれば、制御装置４０は、投入部による浴槽添加剤の投入を禁止した場合、浴槽添加剤の投入が行われない旨の報知とともに、浴槽添加剤の交換を推奨する旨の報知を報知手段に行わせる。これにより、使用者に浴槽添加剤の交換を促すことができる。

また、実施の形態１の給湯システムによれば、水を加熱する給湯機１０と、給湯機１０によって加熱された水を浴槽２００へ供給する給湯流路５０と、浴槽２００内の浴槽水を循環させる循環手段（循環ポンプ６３が該当）を備えた浴槽水循環回路６０と、浴槽添加剤を貯蔵する貯蔵部６８と、貯蔵部６８に貯蔵された浴槽添加剤を浴槽２００に投入する投入部と、貯蔵部６８に貯蔵された浴槽添加剤の成分を分析する成分分析装置８０と、投入部の動作を制御して貯蔵部６８に貯蔵された浴槽添加剤を浴槽２００に投入する制御装置４０と、を備え、制御装置４０は、成分分析装置８０によって浴槽添加剤から浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が検出された場合、投入部による浴槽添加剤の投入を禁止する。これにより、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれた浴槽添加剤が貯蔵部６８から浴槽２００内に投入されることを防ぐことができ、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化を抑制することができる。

また、実施の形態１の浴槽添加剤投入制御方法によれば、投入部により浴槽２００に投入される浴槽添加剤の成分を分析する第１のステップ（ステップＳ４が該当）と、第１のステップでの分析結果に基づいて、浴槽添加剤に浴槽２００内の浴槽水が循環する浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれているか否かを判定する第２のステップ（ステップＳ５が該当）と、第２のステップで浴槽添加剤に浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれていると判定された場合、投入部による浴槽添加剤の投入を禁止する第３のステップ（ステップＳ７が該当）と、を備える。これにより、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれた浴槽添加剤が浴槽２００内に投入されることを防ぐことができ、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化を抑制することができる。

実施の形態１の変形例について説明する。

実施の形態１では、湯張り完了後に入浴剤の投入が行われる例を説明した。しかし、入浴剤の投入は湯張りの途中に行われてもよい。また、操作部３２により入浴剤の投入指令が行われたときに入浴剤が投入されるようにしてもよい。

また、実施の形態１では、湯はり完了後に入浴剤の成分分析を行う例を説明した。しかし、入浴剤の成分分析は、湯張りの途中に行われてもよいし、湯張りの開始前に行われてもよい。入浴剤の成分分析は、入浴剤の投入のタイミングより前に行われればよい。

また、実施の形態１では、ステップＳ４の入浴剤の成分分析において、給湯機１０から供給された水で入浴剤を溶解して入浴剤の成分分析を行う例を説明した。しかし、図示しない給水配管から供給された水によって入浴剤を溶解して入浴剤の成分分析を行ってもよい。

また、実施の形態１では、ステップＳ６の入浴剤投入処理において、給湯機１０で生成した高温水を貯蔵部６８に供給する例を説明した。しかし、浴槽２００内の浴槽水を貯蔵部６８に供給するようにしてもよい。この場合、制御部４１は、貯蔵部用電磁弁６６を加熱部側第二配管６２ａと第三配管６７とが連通した経路（ａ－ｃ経路）に切り替えて循環ポンプ６３を動作させればよい。

また、実施の形態１のステップＳ６の入浴剤投入処理の後、浴槽添加剤が通る流路すなわち貯蔵部６８と浴槽２００との間の流路の洗浄を一定時間行うようにしてもよい。すなわち、制御部４１は、投入部である投入用電磁弁７１の動作を制御して浴槽添加剤を浴槽２００に投入した後、水を供給する水供給手段を制御して浴槽添加剤の投入時に浴槽添加剤が通る流路に水を供給するようにしてもよい。実施の形態１において、水供給手段は、貯蔵部用電磁弁６６および循環ポンプ６３である。制御部４１は、貯蔵部用電磁弁６６を加熱部側第二配管６２ａと第三配管６７とが連通した経路（ａ－ｃ経路）に切り替えて循環ポンプ６３を動作させることで、浴槽添加剤が通る流路に水を供給する。これにより、浴槽添加剤による貯蔵物吐出口７０の詰まりを抑制することができる。なお、この貯蔵物吐出口７０の洗浄は、操作部３２により指令があった場合に開始するようにしてもよい。また、水供給手段として貯蔵部用電磁弁６６および循環ポンプ６３を用いる例を説明したが、例えば、水供給手段として第四配管６９に接続される給水配管を開閉可能な開閉弁を備え、この開閉弁を制御して浴槽添加剤が通る流路に水を供給するようにしてもよい。

また、実施の形態１では、制御部４１は、投入用電磁弁７１による浴槽添加剤の投入を禁止した場合、浴槽添加剤の投入が行われない旨の報知とともに、浴槽添加剤の交換を推奨する旨の報知を表示部３１に行わせていた。しかし、制御部４１は、浴槽添加剤の交換を推奨する旨の報知ではなく、使用に適さない浴槽添加剤が使用されている旨の報知を表示部３１に行わせるようにしてもよい。これにより、使用者は、浴槽添加剤の投入が行われなかった理由が、使用に適さない浴槽添加剤が使用されているためであることを知ることができる。

また、実施の形態１では、制御部４１は、投入用電磁弁７１による浴槽添加剤の投入を禁止した場合、浴槽添加剤の投入が行われない旨の報知とともに、浴槽添加剤の交換を推奨する旨の報知を表示部３１に行わせていた。しかし、制御部４１は、浴槽添加剤の投入を禁止する制御を複数回連続で実施した場合に、浴槽添加剤の交換を推奨する旨の報知を表示部３１に行わせるようにしてもよい。すなわち、制御部４１は、浴槽添加剤の投入を禁止する制御を一度実施した場合には浴槽添加剤の投入が行われない旨の報知を行うのみとし、次回の入浴剤投入処理においても浴槽添加剤の投入を禁止する制御を実施した場合に浴槽添加剤の交換を推奨する旨の報知を表示部３１に行わせるようにしてもよい。浴槽添加剤の投入を禁止する制御を一度実施しただけでは成分分析装置８０の誤検出である可能性もあるが、浴槽添加剤の投入を禁止する制御を複数回連続で実施した場合には成分分析装置８０の誤検出である可能性は低い。このため、浴槽添加剤の投入を禁止する制御を複数回連続で実施した場合に浴槽添加剤の交換を推奨する旨の報知を表示部３１に行わせることにより、使用者によって浴槽添加剤の不要な交換が行われることを抑制することができる。

また、実施の形態１では、報知手段として表示部３１を用いる場合を例として説明したが、報知手段は表示部３１に限られない。例えば、報知手段はスピーカであってもよく、音声によって使用者に情報を報知するようにしてもよい。

また、給湯システム１００の構成は、実施の形態１で説明した構成に限られない。例えば、給湯システム１００は貯蔵部用電磁弁６６および第三配管６７を備えず、図示しない給水配管からの水が貯蔵部６８内に供給されるようにしてもよい。また、貯蔵部用電磁弁６６は第二配管６２でなく、給湯配管５１に接続されていてもよい。

また、実施の形態１では、給湯システム１００が浴槽添加剤投入システムを備える例を説明したが、浴槽添加剤投入システムは給湯システム１００とは別に設けられていてもよい。すなわち、実施の形態１では、給湯システム１００が備える制御装置４０が湯張りの制御および入浴剤の投入制御を行っていたが、湯張りの制御を行う制御装置と入浴剤の投入制御を行う制御装置とがそれぞれ別に設けられていてもよい。

実施の形態２．
実施の形態２の給湯システム１００の構成は、実施の形態１の給湯システム１００の構成と同様であるため、説明を省略する。

図４は、実施の形態２の給湯システム１００の入浴剤投入制御を示すフローチャートである。実施の形態２では、図３に示した実施の形態１の処理に加えて、ステップＳ１１からステップＳ１３の処理が実行される。ステップＳ１１からステップＳ１３以外の処理については実施の形態１と同様であるため、説明を省略する。

ステップＳ４において、成分分析装置８０による入浴剤の成分分析が実施されると、ステップＳ１１に進む。

ステップＳ１１において、制御部４１は、成分分析装置８０に不具合があるか否かを判定する。制御部４１は、例えば、成分分析装置８０による分析結果が得られていない場合に、成分分析装置８０に不具合が発生していると判定する。ステップＳ１１において、制御部４１が、成分分析装置８０に不具合が発生していないと判定すると、ステップＳ５に進む。ステップＳ１１において、制御部４１が、成分分析装置８０に不具合が発生していると判定すると、ステップＳ１２に進む。

ステップＳ１２において、制御部４１は、投入用電磁弁７１による入浴剤の投入を禁止する。ステップＳ１２の処理後はステップＳ１３に進む。

ステップＳ１３において、制御部４１は、入浴剤の投入が行われない旨の表示を表示部３１に行わせる。実施の形態２において、制御部４１は、入浴剤の投入が行われない旨の表示とともに、成分分析装置８０に不具合が発生している旨の報知を表示部３１に行わせる。なお、制御部４１は、成分分析装置８０の交換または修理を推奨する旨の表示を表示部３１に行わせてもよい。

実施の形態２の給湯システム１００によれば、制御装置４０は、成分分析装置８０に不具合が発生した場合、投入部である投入用電磁弁７１による浴槽添加剤の投入を禁止する。これにより、成分分析装置８０に不具合が発生した場合に、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれた浴槽添加剤が誤って浴槽２００内に投入されることを防止することができる。

また、実施の形態２の給湯システム１００によれば、制御装置４０は、成分分析装置８０に不具合が発生した場合、投入用電磁弁７１による浴槽添加剤の投入を禁止し、浴槽添加剤の投入が行われない旨の報知を報知手段である表示部３１に行わせるとともに、成分分析装置８０に不具合が発生した旨の報知を表示部３１に行わせる。これにより、使用者は浴槽添加剤の投入が行われなかった理由が、成分分析装置８０に不具合が発生したためであることを認識することができる。

なお、実施の形態２では、ステップＳ１１において、制御部４１は、成分分析装置８０に不具合があるか否かを判定していた。しかし、ステップＳ１１では、成分分析装置８０ではなく、例えば貯蔵物吐出口７０に不具合があるか否かを判定してもよい。この場合、制御部４１は、例えば、貯蔵物吐出口７０が詰まることで入浴剤の吐出ができない場合に、貯蔵物吐出口７０に不具合があると判定する。この場合、例えば、第四配管６９に流量センサを設けることにより、制御部４１は貯蔵物吐出口７０から入浴剤の吐出ができていないことを検出できる。制御部４１は、貯蔵物吐出口７０に不具合が発生した場合、投入用電磁弁７１による浴槽添加剤の投入を禁止するとともに、貯蔵物吐出口７０に不具合が発生した旨の報知を表示部３１に行わせる。これにより、使用者は浴槽添加剤の投入が行われなかった理由が、貯蔵物吐出口７０に不具合が発生したためであることを認識することができる。

実施の形態３．
実施の形態１では、１種類の入浴添加剤を浴槽２００内に投入可能な例を説明した。実施の形態３では、複数種類の入浴添加剤を浴槽２００内に投入可能な例を説明する。

図５は、実施の形態３の給湯システム１００を示す構成図である。図５に示すように、実施の形態３の貯蔵部６８は、第一貯蔵部６８ａおよび第二貯蔵部６８ｂを有する。第一貯蔵部６８ａは、第一浴槽添加剤を貯蔵する。第二貯蔵部６８ｂは、第二浴槽添加剤を貯蔵する。第一浴槽添加剤は、入浴剤または洗浄剤である。第二浴槽添加剤は、入浴剤または洗浄剤である。実施の形態３では、第一浴槽添加剤および第二浴槽添加剤がともに入浴剤である場合の例を説明する。

実施の形態３において、浴槽水循環回路６０は、第一配管６１、第二配管６２、循環ポンプ６３、加熱部６４、浴槽アダプタ６５、貯蔵部用電磁弁６６、貯蔵部６８、貯蔵物吐出口７０、配管９０～９５、第一電磁弁９６および第二電磁弁９７を備える。

第一電磁弁９６は、三方弁であり、入口となるａポートと、出口となるｂポートおよびｃポートと、を有する。第一電磁弁９６は、ａ－ｂ経路およびａ－ｃ経路の２つの経路の間で流路を切替可能である。

第二電磁弁９７は、三方弁であり、入口となるａポートおよびｂポートと、出口となるｃポートと、を有する。第二電磁弁９７は、ａ－ｃ経路およびｂ－ｃ経路の２つの経路の間で流路を切替可能である。また、第二電磁弁９７は、流路を開閉可能である。第二電磁弁９７は、貯蔵部６８に貯蔵された浴槽添加剤を浴槽２００へ投入する投入部の一例である。第二電磁弁９７は、第一浴槽添加剤および第二浴槽添加剤をそれぞれ個別に浴槽２００に投入可能である。

配管９０は、貯蔵部用電磁弁６６のｃポートと第一電磁弁９６のａポートとを接続する。配管９１は、第一電磁弁９６のｂポートと第一貯蔵部６８ａとを接続する。配管９２は、第一電磁弁９６のｃポートと第二貯蔵部６８ｂとを接続する。配管９３は、第一貯蔵部６８ａと第二電磁弁９７のａポートとを接続する。配管９４は、第二貯蔵部６８ｂと第二電磁弁９７のｂポートとを接続する。配管９５は、第二電磁弁９７のｃポートと貯蔵物吐出口７０とを接続する。

成分分析装置８０は、第一貯蔵部６８ａに貯蔵された第一浴槽添加剤および第二貯蔵部６８ｂに貯蔵された第二浴槽添加剤の成分を分析する。

なお、上述した構成以外については、実施の形態１の構成と同様であるため、説明を省略する。

図６は、実施の形態３の給湯システム１００の機能を示すブロック図である。図６に示すように、実施の形態３において、制御装置４０には、リモコン装置３０の操作部３２および成分分析装置８０からの情報が入力される。制御装置４０は、入力されたこれらの情報に基づいて、リモコン装置３０の表示部３１、給湯用電磁弁５２、循環ポンプ６３、貯蔵部用電磁弁６６、成分分析装置８０、第一電磁弁９６および第二電磁弁９７の動作を制御する。

実施の形態３の給湯システム１００の入浴剤投入制御は、実施の形態１または実施の形態２の制御と同様である。ただし、ステップＳ４からステップＳ８の処理内容が詳細には異なる。

ステップＳ４における入浴剤の成分分析は、例えば以下の方法で行う。制御部４１は、操作部３２によって選択された入浴剤の成分分析を行う。第一貯蔵部６８ａに貯蔵された第一浴槽添加剤の成分分析を行う場合、制御部４１は、給湯用電磁弁５２を開き、貯蔵部用電磁弁６６を加熱部側第二配管６２ａと配管９０とが連通した経路（ａ－ｃ経路）に切り替える。また、第一電磁弁９６を配管９０と配管９１とが連通した経路（ａ－ｂ経路）に切り替える。これにより、給湯機１０で生成した高温水が、給湯配管５１、加熱部側第二配管６２ａ、配管９０および配管９１を通って、第一貯蔵部６８ａに流入する。第一貯蔵部６８ａに流入した水は、第一貯蔵部６８ａに貯蔵された第一浴槽添加剤と混合される。成分分析装置８０は、第一浴槽添加剤が溶解した水を用いて、第一浴槽添加剤の成分分析を行う。なお、第二貯蔵部６８ｂに貯蔵された第二浴槽添加剤の成分分析を行う場合には、制御部４１は、第一電磁弁９６を配管９０と配管９２とが連通した経路（ａ－ｃ経路）に切り替えればよい。

ステップＳ５において、制御部４１は、成分分析装置８０の分析結果に基づいて、操作部３２によって選択された入浴剤に浴槽水循環回路６０の劣化原因となる成分が含まれているか否かを判定する。ステップＳ５において、制御部４１は、操作部３２によって選択された入浴剤に浴槽水循環回路６０の劣化原因となる成分が含まれていないと判定するとステップＳ６に進む。

ステップＳ６における入浴剤の投入処理は、例えば以下の方法で行う。制御部４１は、操作部３２によって選択された入浴剤の投入を行う。第一貯蔵部６８ａに貯蔵された第一浴槽添加剤の投入を行う場合、制御部４１は、給湯用電磁弁５２を開き、貯蔵部用電磁弁６６を加熱部側第二配管６２ａと配管９０とが連通した経路（ａ－ｃ経路）に切り替え、第一電磁弁９６を配管９０と配管９１とが連通した経路（ａ－ｂ経路）に切り替えた状態において、投入部である第二電磁弁９７を配管９３と配管９５とが連通した経路（ａ－ｃ経路）に切り替える。これにより、第一貯蔵部６８ａにおいて第一浴槽添加剤が溶解した水が、配管９３、配管９５および貯蔵物吐出口７０を通って、浴槽２００内に流入する。なお、第二貯蔵部６８ｂに貯蔵された第二浴槽添加剤を浴槽２００に投入する場合には、制御部４１は、第一電磁弁９６を配管９０と配管９２とが連通した経路（ａ－ｃ経路）に切り替えた状態で、投入部である第二電磁弁９７を配管９４と配管９５とが連通した経路（ｂ－ｃ経路）に切り替えればよい。

制御部４１は、ステップＳ５において、操作部３２によって選択された入浴剤に浴槽水循環回路６０の劣化原因となる成分が含まれていると判定すると、ステップＳ７において、選択された入浴剤の投入を禁止するとともに、ステップＳ８において、選択された入浴剤の投入が行われない旨の表示を表示部３１に行わせる。すなわち、制御部４１は、操作部３２によって第一浴槽添加剤が選択されている場合、第一浴槽添加剤に浴槽水循環回路６０の劣化原因となる成分が含まれていると判定すると、第一浴槽添加剤の投入を禁止するとともに、第一浴槽添加剤の投入が行われない旨の表示を表示部３１に行わせる。また、制御部４１は、操作部３２によって第二浴槽添加剤が選択されている場合、第二浴槽添加剤に浴槽水循環回路６０の劣化原因となる成分が含まれていると判定すると、第二浴槽添加剤の投入を禁止するとともに、第二浴槽添加剤の投入が行われない旨の表示を表示部３１に行わせる。

上述した処理動作以外については、実施の形態１または実施の形態２の処理動作と同様であるため、説明を省略する。

実施の形態３の給湯システム１００によれば、投入部（第二電磁弁９７が該当）は、第一浴槽添加剤および第二浴槽添加剤をそれぞれ個別に浴槽２００に投入可能である。成分分析装置８０は、投入部により投入される第一浴槽添加剤および第二浴槽添加剤の成分を分析する。制御装置４０は、成分分析装置８０によって第一浴槽添加剤から浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が検出された場合には投入部による第一浴槽添加剤の投入を禁止し、成分分析装置８０によって第二浴槽添加剤から浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が検出された場合には投入部による第二浴槽添加剤の投入を禁止する。これにより、貯蔵部６８に、複数種類の浴槽添加剤が貯蔵されている場合であっても、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれた浴槽添加剤が浴槽２００内に投入されることを防止することができ、浴槽水循環回路６０を構成する部品の劣化を抑制することができる。

なお、実施の形態３では、第一浴槽添加剤および第二浴槽添加剤がともに入浴剤である場合の例を説明したが、第一浴槽添加剤および第二浴槽添加剤のうち、一方が入浴剤で他方が洗浄剤であってもよいし、第一浴槽添加剤および第二浴槽添加剤の両方が洗浄剤であってもよい。

１０ 給湯機、２０ 流路系、３０ リモコン装置、３１ 表示部、３２ 操作部、４０ 制御装置、４１ 制御部、４２ 記憶部、５０ 給湯流路、５１ 給湯配管、５２ 給湯用電磁弁、６０ 浴槽水循環回路、６１ 第一配管、６２ 第二配管、６２ａ 加熱部側第二配管、６２ｂ 浴槽側第二配管、６３ 循環ポンプ、６４ 加熱部、６５ 浴槽アダプタ、６６ 貯蔵部用電磁弁、６７ 第三配管、６８ 貯蔵部、６８ａ 第一貯蔵部、６８ｂ 第二貯蔵部、６９ 第四配管、７０ 貯蔵物吐出口、７１ 投入用電磁弁、８０ 成分分析装置、９０～９５ 配管、９６ 第一電磁弁、９７ 第二電磁弁、１００ 給湯システム、２００ 浴槽、３００ 浴室。

Claims (12)

1. 浴槽添加剤を浴槽に投入する投入部と、
   前記投入部により投入される前記浴槽添加剤の成分を分析する成分分析装置と、
   前記投入部の動作を制御して前記浴槽添加剤を前記浴槽に投入する制御装置と、
   を備え、
   前記制御装置は、前記成分分析装置によって前記浴槽添加剤から前記浴槽内の浴槽水が循環する浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が検出された場合、前記投入部による前記浴槽添加剤の投入を禁止する浴槽添加剤投入システム。
2. 前記制御装置は、前記成分分析装置によって前記浴槽添加剤から前記浴槽水循環回路を構成する金属部品の金属腐食の原因となる成分が検出された場合、前記投入部による前記浴槽添加剤の投入を禁止する請求項１に記載の浴槽添加剤投入システム。
3. 前記制御装置は、前記成分分析装置によって前記浴槽添加剤から前記浴槽水循環回路を構成する樹脂部品の劣化原因となる成分が検出された場合、前記投入部による前記浴槽添加剤の投入を禁止する請求項１または２に記載の浴槽添加剤投入システム。
4. 前記制御装置は、前記成分分析装置に不具合が発生した場合、前記投入部による前記浴槽添加剤の投入を禁止する請求項１から３のいずれか一項に記載の浴槽添加剤投入システム。
5. 前記制御装置は、前記投入部による前記浴槽添加剤の投入を禁止した場合、前記浴槽添加剤の投入が行われない旨の報知を報知手段に行わせる請求項１から４のいずれか一項に記載の浴槽添加剤投入システム。
6. 前記制御装置は、前記成分分析装置の分析結果により前記投入部による前記浴槽添加剤の投入を禁止した場合、使用に適さない前記浴槽添加剤が使用されている旨の報知を前記報知手段に行わせる請求項５に記載の浴槽添加剤投入システム。
7. 前記制御装置は、前記成分分析装置の分析結果により前記投入部による前記浴槽添加剤の投入を禁止する制御を複数回連続で実施した場合、前記浴槽添加剤の交換を推奨する旨の報知を前記報知手段に行わせる請求項５または６に記載の浴槽添加剤投入システム。
8. 前記制御装置は、前記成分分析装置に不具合が発生した場合、前記投入部による前記浴槽添加剤の投入を禁止し、前記成分分析装置に不具合が発生した旨の報知を前記報知手段に行わせる請求項５から７のいずれか一項に記載の浴槽添加剤投入システム。
9. 前記制御装置は、前記投入部の動作を制御して前記浴槽添加剤を前記浴槽に投入した後、水を供給する水供給手段を制御して前記浴槽添加剤の投入時に前記浴槽添加剤が通る流路に前記水を供給する請求項１から８のいずれか一項に記載の浴槽添加剤投入システム。
10. 前記投入部は、第一浴槽添加剤および第二浴槽添加剤をそれぞれ個別に前記浴槽に投入可能であり、
    前記成分分析装置は、前記投入部により投入される前記第一浴槽添加剤および前記第二浴槽添加剤の成分を分析し、
    前記制御装置は、前記成分分析装置によって前記第一浴槽添加剤から前記浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が検出された場合には前記投入部による前記第一浴槽添加剤の投入を禁止し、前記成分分析装置によって前記第二浴槽添加剤から前記浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が検出された場合には前記投入部による前記第二浴槽添加剤の投入を禁止する請求項１から９のいずれか一項に記載の浴槽添加剤投入システム。
11. 水を加熱する給湯機と、
    前記給湯機によって加熱された水を浴槽へ供給する給湯流路と、
    前記浴槽内の浴槽水を循環させる循環手段を備えた浴槽水循環回路と、
    浴槽添加剤を貯蔵する貯蔵部と、
    前記貯蔵部に貯蔵された前記浴槽添加剤を前記浴槽に投入する投入部と、
    前記貯蔵部に貯蔵された前記浴槽添加剤の成分を分析する成分分析装置と、
    前記投入部の動作を制御して前記貯蔵部に貯蔵された前記浴槽添加剤を前記浴槽に投入する制御装置と、
    を備え、
    前記制御装置は、前記成分分析装置によって前記浴槽添加剤から前記浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が検出された場合、前記投入部による前記浴槽添加剤の投入を禁止する給湯システム。
12. 投入部により浴槽に投入される浴槽添加剤の成分を分析する第１のステップと、
    前記第１のステップでの分析結果に基づいて、前記浴槽添加剤に前記浴槽内の浴槽水が循環する浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれているか否かを判定する第２のステップと、
    前記第２のステップで前記浴槽添加剤に前記浴槽水循環回路を構成する部品の劣化原因となる成分が含まれていると判定された場合、前記投入部による前記浴槽添加剤の投入を禁止する第３のステップと、
    を備える浴槽添加剤投入制御方法。

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