JP4739142B2 - 薬液処理装置及び薬液供給方法並びに薬液供給プログラム - Google Patents

薬液処理装置及び薬液供給方法並びに薬液供給プログラム Download PDF

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Description

本発明は、薬液処理装置及び薬液供給方法並びに薬液供給プログラムに関するものであり、特に、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に循環流路を介して第1及び第2の薬液タンクを連通し、制御部で第1又は第2の薬液タンクを切替えて薬液処理部に薬液を供給するように構成した薬液処理装置及び同装置における薬液供給方法並びに薬液供給プログラムに関するものである。
従来より、半導体部品やフラットディスプレイや電子部品などの製造工程においては、半導体ウエハや液晶基板やディスク状記憶媒体などの被処理体を薬液を用いて洗浄やエッチングなどを行う薬液処理装置で処理する薬液処理工程が設けられていた。
この従来の薬液処理装置では、たとえば特許文献1に開示されているように、薬液を貯留する薬液タンクに閉ループ状の循環流路を連通連結するとともに、薬液を用いて被処理体を処理するための薬液処理部を循環流路に連通連結して構成していた。
そして、薬液処理装置では、薬液タンクに貯留した薬液を循環流路を介して循環させ、薬液タンク内の薬液を撹拌混合するとともに、循環流路に設けたヒータで薬液を所定温度に調温し、循環流路の途中から薬液処理部へ薬液を供給するようにしていた。
また、薬液処理装置では、長時間の使用により薬液タンクに貯留した薬液に揮発による濃度変化や経時的な劣化が生じるために、被処理体を所定数又は所定時間処理した後に薬液タンクに貯留されている薬液(旧薬液)を新規に生成した薬液(新薬液)に置換するようにしていた。
特開2005−243814号公報
ところが、上記従来の薬液処理装置では、循環流路を介して薬液を薬液タンクから薬液処理部に供給するように構成していたために、薬液タンク内を旧薬液から新薬液に置換しても、循環流路の内部に残留した旧薬液が循環流路から薬液タンク内に戻されてしまい、薬液タンク内で新薬液に旧薬液が混入して、薬液濃度の変化や薬液の劣化が生じるおそれがあった。
これは、薬液の置換に要する時間を短縮して薬液処理のスループットを向上させるために第1及び第2の薬液タンクを有し、薬液タンク内の薬液を置換する代わりに第1及び第2の薬液タンクを切替えることで薬液の置換を行うように構成した薬液処理装置でも同様であり、第1の薬液タンクに貯留された薬液(旧薬液)から第2の薬液タンクに貯留された薬液(新薬液)に切替えたときに、循環流路の内部に残留した旧薬液が循環流路から第2の薬液タンク内に戻されてしまい、第2の薬液タンク内で新薬液に旧薬液が混入して、第2の薬液タンク内で薬液濃度の変化や薬液の劣化が生じるおそれがあった。
そのため、上記薬液処理装置では、第1の薬液タンクからの薬液供給を停止させた状態でポンプによって強制的に循環流路に空気を送って循環流路の内部に残留した旧薬液を第1の薬液タンクに戻して排出し、その後、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えようにしているが、循環流路の内部から旧薬液を完全に廃棄できずに旧薬液が残留してしまいやすく、また、薬液タンクの切替えに要する時間が長くなってしまい、薬液処理のスループットの向上に支障となるおそれがあった。
このように、従来の第1及び第2の薬液タンクを有する薬液処理装置では、循環流路の内部に残留した旧薬液が新薬液に混入して薬液濃度の変化や薬液の劣化が生じるおそれがあるとともに、薬液タンクの切替えに要する時間が長くなってしまい、薬液処理のスループットの向上に支障となるおそれがあった。
そこで、請求項1に係る本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に循環流路を介して第1及び第2の薬液タンクを連通し、制御部で第1又は第2の薬液タンクを切替えて薬液処理部に薬液を供給するように構成した薬液処理装置において、制御部は、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに送る薬液切替流路を一時的に形成することにした。
また、請求項2に係る本発明では、前記請求項1に係る本発明において、前記制御部は、所定時間経過するまで前記薬液切替流路を形成することにした。
また、請求項3に係る本発明では、前記請求項1に係る本発明において、前記制御部は、薬液が所定濃度範囲内となるまで前記薬液切替流路を形成することにした。
また、請求項4に係る本発明では、前記請求項3に係る本発明において、前記制御部は、循環流路の終端部に設けた濃度センサで薬液濃度を検出することにした。
また、請求項5に係る本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に循環流路を介して第1及び第2の薬液タンクを連通するとともに、前記薬液処理部と前記第1及び第2の薬液タンクとの間に前記薬液処理部で使用した薬液を回収するための薬液回収流路を設け、制御部で第1又は第2の薬液タンクを切替えて薬液処理部に薬液を供給するとともに、薬液を供給した第1又は第2の薬液タンクに薬液を回収するように構成した薬液処理装置において、制御部は、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに送る薬液切替流路を一時的に形成するとともに、前記薬液処理部から回収した薬液を前記薬液回収流路の途中で廃棄する薬液廃棄流路を一時的に形成することにした。
また、請求項6に係る本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に第1又は第2の薬液タンクから循環流路を介して薬液を供給する薬液供給方法において、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに一時的に送ることにした。
また、請求項7に係る本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に第1又は第2の薬液タンクから循環流路を介して薬液を供給するとともに、薬液を供給した第1又は第2の薬液タンクに薬液回収流路を介して薬液を回収する薬液供給方法において、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに一時的に送るとともに、前記薬液処理部から回収した薬液を前記薬液回収流路の途中で一時的に廃棄することにした。
また、請求項8に係る本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に循環流路を介して第1及び第2の薬液タンクを連通し、制御部で第1又は第2の薬液タンクを切替えて薬液処理部に薬液を供給するように構成した薬液処理装置に薬液の供給動作を実行させるための薬液供給プログラムにおいて、前記制御部に、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに一時的に送る薬液切替ステップを実行させることにした。
また、請求項9に係る本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に循環流路を介して第1及び第2の薬液タンクを連通するとともに、前記薬液処理部と前記第1及び第2の薬液タンクとの間に前記薬液処理部で使用した薬液を回収するための薬液回収流路を設け、制御部で第1又は第2の薬液タンクを切替えて薬液処理部に薬液を供給するとともに、薬液を供給した第1又は第2の薬液タンクに薬液を回収するように構成した薬液処理装置に薬液の供給動作を実行させるための薬液供給プログラムにおいて、前記制御部に、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに一時的に送る薬液切替ステップと、前記薬液処理部から回収した薬液を前記薬液回収流路の途中で一時的に廃棄する薬液廃棄ステップとを実行させることにした。
そして、本発明では、以下に記載する効果を奏する。
すなわち、本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に第1又は第2の薬液タンクから循環流路を介して薬液を供給する薬液処理装置において、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに一時的に送り排出しているために、循環流路の内部に残留している第1の薬液タンクから供給された旧薬液と第2の薬液タンクに貯留される新薬液とが混合することがなくなり、新薬液に旧薬液が混入することによる薬液の濃度変化や劣化を未然に防止することができるとともに、短時間で薬液タンクの切替えを行うことができ、薬液処理のスループットを向上させることができる。
特に、上記制御を所定時間経過するまで行うようにした場合には、時間設定だけで上記制御を容易に行わせることができる。
また、上記制御を薬液が所定濃度範囲内になるまで行うようにした場合には、薬液の濃度によって循環流路の内部から旧薬液が排出されたことを検出することができ、循環流路の内部の旧薬液の排出を良好に行うことができる。
また、循環流路の終端部に設けた濃度センサで薬液の濃度を検出するようにした場合には、循環流路の内部から旧薬液を完全に排出することができる。
さらに、本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に第1又は第2の薬液タンクから循環流路を介して薬液を供給するとともに、薬液を供給した第1又は第2の薬液タンクに薬液回収流路を介して薬液を回収する薬液処理装置において、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに一時的に送るとともに、薬液処理部から回収した薬液を薬液回収流路の途中で一時的に廃棄することにしているために、循環流路の内部だけでなく薬液処理部に残留している第1の薬液タンクから供給された旧薬液と第2の薬液タンクに貯留される新薬液とが混合することがなくなり、新薬液に旧薬液が混入することによる薬液の濃度変化や劣化を未然に防止することができるとともに、短時間で薬液タンクの切替えを行うことができ、薬液処理のスループットを向上させることができる。
以下に、本発明に係る薬液処理装置及びこの薬液処理装置で用いる薬液供給方法並びに薬液処理装置に薬液を供給する動作を実行させるための薬液供給プログラムの具体的な構成について図面を参照しながら説明する。
[第1実施例]
図1に示すように、薬液処理装置1は、薬液を貯留するための第1及び第2の薬液タンク2,3に閉ループ状の往復流路4,5をそれぞれ連通連結するとともに、各往復流路4,5に流出流路6,7の始端部と流入流路8,9の終端部とをそれぞれ連通連結し、流出流路6,7の終端部と流入流路8,9の始端部との間に共通の循環流路10を連通連結し、この循環流路10に被処理体としてのウエハ11を薬液で処理するための第1及び第2の薬液処理部12,13をそれぞれ連通連結している。
第1及び第2の薬液タンク2,3には、純水源14と薬液源15とが純水供給流路16や薬液供給流路17を介して連通連結されており、各流路16,17には開閉弁18,19,20,21を介設している。これらの開閉弁18,19,20,21は、制御部22に接続されており、制御部22で開閉制御される。そして、制御部22で開閉弁18,19,20,21を開閉制御することで、第1又は第2の薬液タンク2,3の内部に純水源14と薬液源15とから純水と薬液とを所定比率で供給し、所定濃度の薬液を第1又は第2の薬液タンク2,3に貯留するようにしている。
また、第1及び第2の薬液タンク2,3には、排出流路23,24をそれぞれ連通連結するとともに、両排出流路23,24に共通する排出タンク25を連通連結し、排出タンク25に薬液を廃棄するための廃棄流路26を連通連結している。各排出流路23,24には、開閉弁27,28を介設しており、これらの開閉弁27,28は、制御部22に接続され、制御部22で開閉制御される。そして、制御部22で開閉弁27,28を開閉制御することで、第1又は第2の薬液タンク2,3の内部の薬液を排出タンク25を介して廃棄するようにしている。
第1及び第2の薬液タンク2,3に接続した往復流路4,5は、往路側流路29,30と復路側流路31,32とで構成しており、往路側流路29,30には、ヒータ33,34とポンプ35,36と開閉弁37,38とを順に介設し、復路側流路31,32には、開閉弁39a,40aとニードルバルブ39b,40bとを並列に介設している。これらのヒータ33,34やポンプ35,36や開閉弁37,38,39a,40aやニードルバルブ39b,40bは、制御部22に接続されており、制御部22で駆動制御或いは開閉制御される。
往路側流路29,30には、ポンプ35,36と開閉弁37,38との間に流出流路6,7の始端部をそれぞれ接続しており、各流出流路6,7には、開閉弁41,42を介設している。これらの開閉弁41,42は、制御部22に接続されており、制御部22で開閉制御される。なお、図面上では模式的に各流路を示しているために各流出流路6,7に設けた開閉弁41,42が離れた位置に図示されているが、実際には、これらの開閉弁41,42を近接配置し、各流出流路6,7を短く形成して、開閉弁41,42間の流出流路6,7に残留する薬液を少なくすることが好ましい。
また、復路側流路31,32には、開閉弁37,38と開閉弁39a,40a(ニードルバルブ39b,40b)との間に流入流路8,9の終端部をそれぞれ接続しており、各流入流路8,9には、開閉弁43,44を介設している。これらの開閉弁43,44は、制御部22に接続されており、制御部22で開閉制御される。なお、図面上では模式的に各流路を示しているために各流入流路8,9に設けた開閉弁43,44が離れた位置に図示されているが、実際には、これらの開閉弁43,44を近接配置し、各流入流路8,9を短く形成して、開閉弁43,44間の流入流路8,9に残留する薬液を少なくすることが好ましい。
さらに、各流出流路6,7は、終端部同士が接続されており、その終端部同士の接続部分に循環流路10の始端部を接続し、一方、各流入流路8,9は、始端部同士が接続されており、その始端部同士の接続部分に循環流路10の終端部を接続し、これにより、第1及び第2の薬液タンク2,3に往復流路4,5と流出流路6,7と流入流路8,9を介して循環流路10を共通に連通させている。
この循環流路10は、終端部に内部の薬液の濃度を検出するための濃度センサ45を介設しており、この濃度センサ45は制御部22に接続されている。
また、循環流路10は、中途部に第1及び第2の薬液処理部12,13の供給流路46,47をそれぞれ接続しており、各供給流路46,47には、開閉弁48,49を介設している。これらの第1及び第2の薬液処理部12,13や開閉弁48,49は、制御部22に接続されており、制御部22で駆動制御或いは開閉制御される。
薬液処理装置1は、以上に説明したように構成しており、制御部22に設けた記憶媒体22a(メモリー、ハードディスク、ディスク状メモリーなど)に格納した薬液供給プログラム50に従って薬液の供給動作を実行するようにしている。
薬液供給プログラム50は、図2に示すフローチャートに従って上記構成の薬液処理装置1に薬液の供給動作を実行させている。
以下に、薬液供給プログラム50による薬液の供給動作について説明する。なお、以下の説明では、第1の薬液タンク2から第1及び第2の薬液処理部12,13に薬液を供給する状態から、第2の薬液タンク3から第1及び第2の薬液処理部12,13に薬液を供給する状態に切替える場合について詳説する。
まず、薬液供給プログラム50では、第1の薬液タンク2から第1及び第2の薬液処理部12,13に薬液を供給する(第1薬液タンク供給ステップS1)。
具体的には、制御部22がポンプ35を駆動するとともに、排出流路23の開閉弁27と往復流路4の開閉弁37と開閉弁39aを閉弁状態とし、流出流路6の開閉弁41と流入流路8の開閉弁43と供給流路46,47の開閉弁48,49を開弁状態として、図3に示すように、第1の薬液タンク2→往路側流路29→流出流路6→循環流路10→流入流路8→ニードルバルブ39b→復路側流路31→第1の薬液タンク2の順で薬液を流動させるとともに、循環流路10から供給流路46,47を介して第1及び第2の薬液処理部12,13に薬液を供給する第1薬液タンク供給流路Aを形成する。
このときに、薬液供給プログラム50では、第2の薬液タンク3に貯留された薬液を往復流路5を介して循環させて撹拌及び調温するようにしている(第2薬液タンク撹拌調温ステップS2)。
具体的には、制御部22がヒータ34とポンプ36とを駆動するとともに、排出流路24の開閉弁28と流出流路7の開閉弁42と流入流路9の開閉弁44とを閉弁状態とし、往復流路5の開閉弁38,40aを開弁状態として、図3に示すように、第2の薬液タンク3→往路側流路30→復路側流路32→第2の薬液タンク3の順で薬液を流動させる第2薬液タンク撹拌調温流路Bを形成する。
次に、薬液供給プログラム50では、第1及び第2の薬液処理部12、13への薬液の供給を停止する(薬液供給停止ステップS3)。
具体的には、制御部22が供給流路46,47の開閉弁48,49を閉弁状態とし、往復流路4の開閉弁39aを開弁状態として、図4に示すように、第1の薬液タンク2→往路側流路29→流出流路6→循環流路10→流入流路8→復路側流路31→第1の薬液タンク2の順で薬液を流動させる一方、循環流路10から供給流路46,47を介して第1及び第2の薬液処理部12,13への薬液供給を停止する薬液供給停止流路Cを形成する。
次に、薬液供給プログラム50では、第1の薬液タンク2から第2の薬液タンク3に薬液を切替える(薬液切替ステップS4)。この薬液切替ステップS4では、第1の薬液タンク2から第2の薬液タンク3に切替えるときに、第2の薬液タンク3から供給される薬液を循環流路10を介して第1の薬液タンク2に送るようにしている。
具体的には、制御部22が第1の薬液タンク2に接続したポンプ35の駆動を停止する一方、第2の薬液タンク3に接続したポンプ36を駆動し、第1の薬液タンク2に接続した往路側流路29の開閉弁37と流出流路6の開閉弁41を閉弁状態とするとともに、第2の薬液タンク3に接続した排出流路24の開閉弁28と往路側流路30の開閉弁38と復路側流路32の開閉弁40aと流入流路9の開閉弁44とを閉弁状態とし、さらに、第1の薬液タンク2に接続した排出流路23の開閉弁27と流入流路8の開閉弁43と復路側流路31の開閉弁39aとを開弁状態とするとともに、第2の薬液タンク3に接続した流出流路7の開閉弁42を開弁状態として、図5に示すように、第2の薬液タンク3→往路側流路30→流出流路7→循環流路10→流入流路8→復路側流路31→第1の薬液タンク2→排出流路23→排出タンク25の順で薬液を流動させる薬液切替流路Dを形成する。
このように、薬液供給プログラム50による薬液供給方法においては、第1の薬液タンク2から第2の薬液タンク3に切替えるときに、第2の薬液タンク3から供給される薬液を循環流路10を介して第1の薬液タンク2に送るようにしているために、切替時に循環流路10の内部に残留していた第1の薬液タンク2から供給された薬液(旧薬液)を第2の薬液タンク3から供給される薬液(新薬液)で循環流路10から第1の薬液タンク2へ押し出すことができ、これにより、循環流路10の内部を新薬液に置換することができるとともに、第2の薬液タンク3の内部で新薬液に旧薬液が混入してしまうのを防止することができ、旧薬液の混入による新薬液の濃度変化や劣化を未然に防止することができる。
次に、薬液供給プログラム50では、循環流路10の内部の薬液の濃度が所定濃度範囲内になるまで、上記薬液切替流路Dの形成を行う上記薬液切替ステップS4の実行状態を継続する(薬液切替継続ステップS5)。
具体的には、制御部22は、循環流路10の終端部に設けた濃度センサ45で循環流路10の内部の薬液の濃度を検出し、濃度センサ45で検出された薬液の濃度が予め設定した所定濃度範囲内になったか否かを判断し、所定濃度範囲内となった場合にのみ次のステップを実行する。なお、次のステップを実行する前に供給流路46,47の開閉弁48,49を一時的に開弁状態とすることによって供給流路46,47に残留する薬液を排出することもできる。
このように、薬液供給プログラム50による薬液供給方法においては、薬液の濃度が所定濃度範囲内になるまで薬液切替ステップS4を継続して実行するようにしているために、薬液の濃度によって循環流路10の内部から旧薬液が排出されたことを検出することができ、循環流路10の内部の旧薬液の排出を良好に行うことができる。特に、濃度センサ45を循環流路10の終端部に設け、循環流路10の終端部での薬液の濃度を検出しているために、循環流路10の内部から旧薬液を完全に排出することができる。
ここで、上記薬液供給プログラム50では、薬液の濃度で薬液切替ステップS4を継続して実行するか否かを判断しているが、これに限定されるものではなく、制御部22の内部又は外部に設けたタイマで時間を計測して、予め設定した所定時間が経過するまで薬液切替ステップS4を継続して実行するようにしてもよい。この場合には、濃度センサ45を設ける必要がなくなり、時間設定だけで薬液切替を容易に行わせることができる。
次に、薬液供給プログラム50では、第2の薬液タンク3から循環流路10に薬液を供給する(第2薬液タンク供給ステップS6)。
具体的には、制御部22がポンプ36を駆動するとともに、排出流路24の開閉弁28と往復流路5の開閉弁38を閉弁状態とし、往復流路5の開閉弁40aと流出流路7の開閉弁42と流入流路9の開閉弁44を開弁状態として、図6に示すように、第2の薬液タンク3→往路側流路30→流出流路7→循環流路10→流入流路9→復路側流路32→第2の薬液タンク3の順で薬液を流動させる第2薬液タンク供給流路Eを形成する。
次に、薬液供給プログラム50では、往路側流路29に残留する薬液を排出し、第1の薬液タンク2に新たに薬液を貯留し、第1の薬液タンク2に貯留された薬液を往復流路4を介して循環させて撹拌及び調温するようにしている(第1薬液タンク撹拌調温ステップS7)。
具体的には、まず、制御部22が流出流路6の開閉弁41と流入流路8の開閉弁43とを閉弁状態とするとともに、往路側流路29の開閉弁37と復路側流路31の開閉弁39aと排出流路23の開閉弁27を開弁状態としてポンプ35を駆動し、これにより、往路側流路29に残留する薬液を復路側流路31と第1の薬液タンク2へと送った後に排出流路23を介して排出する。この往路側流路29に残留する薬液の排出は、薬液の量が少量であるために短時間で排出を完了することができ、しかも、後述するように、第2の薬液タンク3から第1及び第2の薬液処理部12、13への薬液の供給を開始した後(後述する薬液供給開始ステップS8の実行後)に行うこともできるので、薬液処理装置1における薬液処理のスループットに影響を与えることはない。
その後、制御部22がポンプ35の駆動を停止するとともに、往復流路4の開閉弁37,39aと排出流路23の開閉弁27を閉弁状態とするとともに、純水供給流路16の開閉弁18と薬液供給流路17の開閉弁20を開弁状態として、純水源14と薬液源15から所定流量の純水と薬液を第1の薬液タンク2に貯留する。
その後、制御部22がヒータ33とポンプ35とを駆動するとともに、往復流路4の開閉弁37,39aを開弁状態として、図6に示すように、第1の薬液タンク2→往路側流路29→復路側流路31→第1の薬液タンク2の順で薬液を流動させる第1薬液タンク撹拌調温流路Fを形成する。
最後に、薬液供給プログラム50では、第1及び第2の薬液処理部12、13への薬液の供給を開始する(薬液供給開始ステップS8)。
具体的には、制御部22が供給流路46,47の開閉弁48,49を開弁状態とし、図7に示すように、第2の薬液タンク3→往路側流路30→流出流路7→循環流路10→流入流路9→ニードルバルブ40b→復路側流路32→第2の薬液タンク3の順で薬液を流動させるとともに、循環流路10から供給流路46,47を介して第1及び第2の薬液処理部12,13に薬液を供給する薬液供給開始流路Gを形成する。
なお、上記薬液供給プログラム50では、第2薬液タンク供給ステップS6、第1薬液タンク撹拌調温ステップS7、薬液供給開始ステップS8の順で実行するように構成しているが、第1薬液タンク撹拌調温ステップS7は、薬液切替継続ステップS5の実行後であれば、第2薬液タンク供給ステップS6よりも前に実行してもよく、また、第2薬液タンク供給ステップS6や薬液供給開始ステップS8と同時に実行してもよく、次に第2の薬液タンク3から第1の薬液タンク2に切替える前までに実行するようにすればよい。
以上に説明したように、上記薬液処理装置1では、薬液を用いて被処理体を処理する第1及び第2の薬液処理部12,13に第1又は第2の薬液タンク2,3から循環流路10を介して薬液を供給するように構成するとともに、第1の薬液タンク2から第2の薬液タンク3に切替えるときに、第2の薬液タンク3から供給される薬液を循環流路10を介して第1の薬液タンク2に送る薬液切替流路Dを一時的に形成するようにしているために、循環流路10の内部に残留している第1の薬液タンク2から供給された旧薬液と第2の薬液タンク3に貯留される新薬液とが混合することがなくなり、新薬液に旧薬液が混入することによる薬液の濃度変化や劣化を未然に防止することができるとともに、従来よりも短時間で薬液タンクの切替えを行うことができ、薬液処理のスループットを向上させることができる。
なお、以上の説明では、第1の薬液タンク2から第2の薬液タンク3に切替える場合について説明しているが、第2の薬液タンク3から第1の薬液タンク2に切替える場合も同様にして行うことができ、この場合には、第1の薬液タンク2から供給される薬液を循環流路10を介して第2の薬液タンク3に送るようにすればよい。
[第2実施例]
上記第1実施例の薬液処理装置1では、第1及び第2の薬液タンク2,3から第1及び第2の薬液処理部12,13に供給した薬液を第1及び第2の薬液タンク2,3に回収することなく廃棄するように構成しているが、以下に説明する第2実施例の薬液処理装置51では、第1及び第2の薬液タンク2,3から第1及び第2の薬液処理部12,13に供給した薬液を第1及び第2の薬液タンク2,3に回収して再利用するように構成している。なお、以下の第2実施例の薬液処理装置51の説明では、第1実施例の薬液処理装置1と同様の機能を有する構成については同一の符号を付して説明を省略している。
第2実施例の薬液処理装置51は、第1実施例の薬液処理装置1と同様に、薬液を用いて被処理体を処理する第1及び第2の薬液処理部12,13に循環流路10を介して第1及び第2の薬液タンク2,3を連通しており、さらに、第2実施例の薬液処理装置51では、第1及び第2の薬液処理部12,13と第1及び第2の薬液タンク2,3との間に第1又は第2の薬液処理部12,13で使用した薬液を回収するための薬液回収流路52を設けて、制御部22で第1又は第2の薬液タンク2,3を切替えて第1又は第2の薬液処理部12,13に薬液を供給するとともに、薬液を供給した第1又は第2の薬液タンク2,3に薬液を回収するように構成している。
薬液回収流路52は、第1及び第2の薬液処理部12,13に回収した薬液を一時的に貯留するための回収タンク53を接続流路54,55を介してそれぞれ連通連結するとともに、回収タンク53に回収流路56の始端部を連通連結し、回収流路56の終端部に第1薬液タンク回収流路57と第2薬液タンク回収流路58と廃棄流路59の始端部を連通連結し、第1薬液タンク回収流路57の終端部を第1の薬液タンク2に連通連結し、第2薬液タンク回収流路58の終端部を第2の薬液タンク3に連通連結し、廃棄流路59の終端部を排出タンク25に連通連結している。
回収流路56は、中途部にポンプ60を介設しており、ポンプ60は、制御部22に接続されており、制御部22で駆動制御される。
また、第1及び第2薬液タンク回収流路57,58と廃棄流路59は、中途部に開閉弁61,62,63をそれぞれ介設しており、これらの開閉弁61,62,63は、制御部22に接続されており、制御部22で開閉制御される。
そして、薬液処理装置51は、制御部22に設けた記憶媒体22a(メモリー、ハードディスク、ディスク状メモリーなど)に格納した薬液供給プログラム64に従って薬液の供給動作を実行するようにしている。
薬液供給プログラム64は、図9に示すフローチャートに従って上記構成の薬液処理装置51に薬液の供給動作を実行させている。
以下に、薬液供給プログラム64による薬液の供給動作について説明する。なお、以下の説明では、第1の薬液タンク2から第1及び第2の薬液処理部12,13に薬液を供給する状態から、第2の薬液タンク3から第1及び第2の薬液処理部12,13に薬液を供給する状態に切替える場合について詳説する。
まず、薬液供給プログラム64では、第1実施例と同様に、第1の薬液タンク2から第1及び第2の薬液処理部12,13に薬液を供給する(第1薬液タンク供給ステップS1)。これにより、第1実施例と同様に、図10に示すように、第1薬液タンク供給流路Aを形成する。
このときにも、薬液供給プログラム64では、第1実施例と同様に、第2の薬液タンク3に貯留された薬液を往復流路5を介して循環させて撹拌及び調温するようにしている(第2薬液タンク撹拌調温ステップS2)。これにより、第1実施例と同様に、図10に示すように、第2薬液タンク撹拌調温流路Bを形成する。
また、このときに、薬液供給プログラム64では、第1及び第2の薬液処理部12,13で使用した薬液を供給元の第1の薬液タンク2に回収する(第1薬液タンク回収ステップS9)。
具体的には、制御部22がポンプ60を駆動するとともに、第1薬液タンク回収流路57の開閉弁61を開弁状態とし、第2薬液タンク回収流路58の開閉弁62と廃棄流路59の開閉弁63を閉弁状態として、図10に示すように、第1及び第2の薬液処理部12,13→回収流路56→第1薬液タンク回収流路57→第1の薬液タンク2の順で薬液を回収する第1薬液タンク回収流路Hを形成する。
次に、薬液供給プログラム64では、第1実施例と同様に、第1及び第2の薬液処理部12、13への薬液の供給を停止する(薬液供給停止ステップS3)。これにより、第1実施例と同様に、図11に示すように、薬液供給停止流路Cを形成する。
このときに、薬液供給プログラム64では、第1及び第2の薬液処理部12,13から回収した薬液を第1の薬液タンク2に回収せずに、薬液回収流路52の途中で廃棄するようにしている(薬液廃棄ステップS10)。
具体的には、制御部22がポンプ60を駆動するとともに、廃棄流路59の開閉弁63を開弁状態とし、第1薬液タンク回収流路57の開閉弁61と第2薬液タンク回収流路58の開閉弁62を閉弁状態として、図11に示すように、第1及び第2の薬液処理部12,13→回収流路56→廃棄流路59→排出タンク25の順で薬液を廃棄する薬液廃棄流路Iを形成する。
次に、薬液供給プログラム64では、第1実施例と同様に、第1の薬液タンク2から第2の薬液タンク3に薬液を切替える(薬液切替ステップS4)。この薬液切替ステップS4では、第1の薬液タンク2から第2の薬液タンク3に切替えるときに、第2の薬液タンク3から供給される薬液を循環流路10を介して第1の薬液タンク2に送るようにしている。これにより、第1実施例と同様に、図12に示すように、薬液切替流路Dを形成する。
このように、薬液供給プログラム64による薬液供給方法においては、第1の薬液タンク2から第2の薬液タンク3に切替えるときに、第1及び第2の薬液処理部12、13から回収した薬液を薬液回収流路52の途中で一時的に廃棄するようにしているために、切替時に第1及び第2の薬液処理部12,13に残留していた第1の薬液タンク2から供給された薬液(旧薬液)を第1及び第2の薬液処理部12,13から排出させることができ、これにより、第1及び第2の薬液処理部12,13で旧薬液と新薬液とが混合してしまうのを防止することができ、旧薬液の混入による新薬液の濃度変化や劣化を未然に防止することができる。
次に、薬液供給プログラム64では、第1実施例と同様に、循環流路10の内部の薬液の濃度が所定濃度範囲内になるまで、上記薬液切替流路Dの形成を行う上記薬液切替ステップS4の実行状態を継続する(薬液切替継続ステップS5)。ここでも、薬液供給プログラム64では、薬液の濃度で薬液切替ステップS4を継続して実行するか否かを判断しているが、これに限定されるものではなく、制御部22の内部又は外部に設けたタイマで時間を計測して、予め設定した所定時間が経過するまで薬液切替ステップS4を継続して実行するようにしてもよい。
次に、薬液供給プログラム64では、第1実施例と同様に、第2の薬液タンク3から循環流路10に薬液を供給する(第2薬液タンク供給ステップS6)。これにより、第1実施例と同様に、図13に示すように、第2薬液タンク供給流路Eを形成する。
このときにも、薬液供給プログラム64では、第1実施例と同様に、往路側流路29に残留する薬液を排出し、第1の薬液タンク2に新たに薬液を貯留し、第1の薬液タンク2に貯留された薬液を往復流路4を介して循環させて撹拌及び調温するようにしている(第1薬液タンク撹拌調温ステップS7)。これにより、第1実施例と同様に、図13に示すように、第1薬液タンク撹拌調温流路Fを形成する。なお、この第1薬液タンク撹拌調温ステップS7は、薬液切替継続ステップS5の実行後であれば、第2薬液タンク供給ステップS6よりも前に実行してもよく、また、第2薬液タンク供給ステップS6や薬液供給開始ステップS8や第2薬液タンク回収ステップS11と同時に実行してもよく、次に第2の薬液タンク3から第1の薬液タンク2に切替える前までに実行するようにすればよい。
最後に、薬液供給プログラム64では、第1実施例と同様に、第1及び第2の薬液処理部12、13への薬液の供給を開始する(薬液供給開始ステップS8)。これにより、第1実施例と同様に、図14に示すように、薬液供給開始流路Gを形成する。
このときに、薬液供給プログラム64では、第1及び第2の薬液処理部12,13で使用した薬液を供給元の第2の薬液タンク3に回収する(第2薬液タンク回収ステップS11)。
具体的には、制御部22がポンプ60を駆動するとともに、第2薬液タンク回収流路58の開閉弁62を開弁状態とし、第1薬液タンク回収流路57の開閉弁61と廃棄流路59の開閉弁63を閉弁状態として、図14に示すように、第1及び第2の薬液処理部12,13→回収流路56→第2薬液タンク回収流路58→第2の薬液タンク3の順で薬液を回収する第2薬液タンク回収流路Jを形成する。
以上に説明したように、上記薬液処理装置51では、薬液を用いて被処理体を処理する第1及び第2の薬液処理部12,13に第1又は第2の薬液タンク2,3から循環流路10を介して薬液を供給するとともに、薬液を供給した第1又は第2の薬液タンク2,3に薬液回収流路52を介して薬液を回収するように構成し、第1の薬液タンク2から第2の薬液タンク3に切替えるときに、第2の薬液タンク3から供給される薬液を循環流路10を介して第1の薬液タンク2に一時的に送るとともに、第1及び第2の薬液処理部12,13から回収した薬液を薬液回収流路52の途中で一時的に廃棄することにしているために、循環流路10の内部だけでなく第1及び第2の薬液処理部12,13に残留している第1の薬液タンク2から供給された旧薬液と第2の薬液タンク3に貯留される新薬液とが混合することがなくなり、新薬液に旧薬液が混入することによる薬液の濃度変化や劣化を未然に防止することができるとともに、従来よりも短時間で薬液タンクの切替えを行うことができ、薬液処理のスループットを向上させることができる。
なお、以上の説明では、第1の薬液タンク2から第2の薬液タンク3に切替える場合について説明しているが、第2の薬液タンク3から第1の薬液タンク2に切替える場合も同様にして行うことができ、この場合には、第1の薬液タンク2から供給される薬液を循環流路10を介して第2の薬液タンク3に送るとともに、第1及び第2の薬液処理部12,13から回収した薬液を薬液回収流路52の途中で廃棄するようにすればよい。
第1実施例に係る薬液処理装置を示す説明図。 第1実施例に係る薬液供給プログラムのフローチャート。 第1実施例に係る薬液処理装置の動作説明図。 第1実施例に係る薬液処理装置の動作説明図。 第1実施例に係る薬液処理装置の動作説明図。 第1実施例に係る薬液処理装置の動作説明図。 第1実施例に係る薬液処理装置の動作説明図。 第2実施例に係る薬液処理装置を示す説明図。 第2実施例に係る薬液供給プログラムのフローチャート。 第2実施例に係る薬液処理装置の動作説明図。 第2実施例に係る薬液処理装置の動作説明図。 第2実施例に係る薬液処理装置の動作説明図。 第2実施例に係る薬液処理装置の動作説明図。 第2実施例に係る薬液処理装置の動作説明図。
符号の説明
1 薬液処理装置 2 第1の薬液タンク
3 第2の薬液タンク 4,5 往復流路
6,7 流出流路 8,9 流入流路
10 循環流路 11 ウエハ
12 第1の薬液処理部 13 第2の薬液処理部
14 純水源 15 薬液源
16 純水供給流路 17 薬液供給流路
18,19,20,21 開閉弁 22 制御部
23,24 排出流路 25 排出タンク
26 廃棄流路 27,28 開閉弁
29,30 往路側流路 31,32 復路側流路
33,34 ヒータ 35,36 ポンプ
37,38,41,42,43,44 開閉弁 39a,40a 開閉弁
39b,40b ニードルバルブ 45 濃度センサ
46,47 供給流路 48,49 開閉弁
50 薬液供給プログラム 51 薬液処理装置
52 薬液回収流路 53 回収タンク
54,55 接続流路 56 回収流路
57 第1薬液タンク回収流路 58 第2薬液タンク回収流路
59 廃棄流路 60 ポンプ
61,62,63 開閉弁 64 薬液供給プログラム
A 第1薬液タンク供給流路 B 第2薬液タンク撹拌調温流路
C 薬液供給停止流路 D 薬液切替流路
E 第2薬液タンク供給流路 F 第1薬液タンク撹拌調温流路
G 薬液供給開始流路 H 第1薬液タンク回収流路
I 薬液廃棄流路 J 第2薬液タンク回収流路

Claims (9)

  1. 薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に循環流路を介して第1及び第2の薬液タンクを連通し、制御部で第1又は第2の薬液タンクを切替えて薬液処理部に薬液を供給するように構成した薬液処理装置において、
    制御部は、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに送る薬液切替流路を一時的に形成することを特徴とする薬液処理装置。
  2. 前記制御部は、所定時間経過するまで前記薬液切替流路を形成することを特徴とする請求項1に記載の薬液処理装置。
  3. 前記制御部は、薬液が所定濃度範囲内となるまで前記薬液切替流路を形成することを特徴とする請求項1に記載の薬液処理装置。
  4. 前記制御部は、循環流路の終端部に設けた濃度センサで薬液濃度を検出することを特徴とする請求項3に記載の薬液処理装置。
  5. 薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に循環流路を介して第1及び第2の薬液タンクを連通するとともに、前記薬液処理部と前記第1及び第2の薬液タンクとの間に前記薬液処理部で使用した薬液を回収するための薬液回収流路を設け、制御部で第1又は第2の薬液タンクを切替えて薬液処理部に薬液を供給するとともに、薬液を供給した第1又は第2の薬液タンクに薬液を回収するように構成した薬液処理装置において、
    制御部は、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに送る薬液切替流路を一時的に形成するとともに、前記薬液処理部から回収した薬液を前記薬液回収流路の途中で廃棄する薬液廃棄流路を一時的に形成することを特徴とする薬液処理装置。
  6. 薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に第1又は第2の薬液タンクから循環流路を介して薬液を供給する薬液供給方法において、
    第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに一時的に送ることを特徴とする薬液供給方法。
  7. 薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に第1又は第2の薬液タンクから循環流路を介して薬液を供給するとともに、薬液を供給した第1又は第2の薬液タンクに薬液回収流路を介して薬液を回収する薬液供給方法において、
    第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに一時的に送るとともに、前記薬液処理部から回収した薬液を前記薬液回収流路の途中で一時的に廃棄することを特徴とする薬液供給方法。
  8. 薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に循環流路を介して第1及び第2の薬液タンクを連通し、制御部で第1又は第2の薬液タンクを切替えて薬液処理部に薬液を供給するように構成した薬液処理装置に薬液の供給動作を実行させるための薬液供給プログラムにおいて、
    前記制御部に、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに一時的に送る薬液切替ステップを実行させることを特徴とする薬液供給プログラム。
  9. 薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部に循環流路を介して第1及び第2の薬液タンクを連通するとともに、前記薬液処理部と前記第1及び第2の薬液タンクとの間に前記薬液処理部で使用した薬液を回収するための薬液回収流路を設け、制御部で第1又は第2の薬液タンクを切替えて薬液処理部に薬液を供給するとともに、薬液を供給した第1又は第2の薬液タンクに薬液を回収するように構成した薬液処理装置に薬液の供給動作を実行させるための薬液供給プログラムにおいて、
    前記制御部に、第1の薬液タンクから第2の薬液タンクに切替えるときに、第2の薬液タンクから供給される薬液を循環流路を介して第1の薬液タンクに一時的に送る薬液切替ステップと、前記薬液処理部から回収した薬液を前記薬液回収流路の途中で一時的に廃棄する薬液廃棄ステップとを実行させることを特徴とする薬液供給プログラム。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4869965B2 (ja) * 2007-01-30 2012-02-08 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理方法および基板処理装置
JP6529625B2 (ja) * 2013-03-29 2019-06-12 芝浦メカトロニクス株式会社 ウェットエッチング装置
JP6324775B2 (ja) * 2014-03-17 2018-05-16 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板処理装置を用いた基板処理方法
TWI630652B (zh) 2014-03-17 2018-07-21 斯克林集團公司 基板處理裝置及使用基板處理裝置之基板處理方法
KR101582567B1 (ko) * 2014-04-30 2016-01-08 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법
JP6359925B2 (ja) 2014-09-18 2018-07-18 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP6499414B2 (ja) 2014-09-30 2019-04-10 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP6563351B2 (ja) * 2016-03-03 2019-08-21 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体
JP7190892B2 (ja) * 2018-12-12 2022-12-16 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置および処理液濃縮方法
JP2023141806A (ja) * 2022-03-24 2023-10-05 株式会社Screenホールディングス 循環装置、循環装置の制御方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06120195A (ja) * 1992-10-07 1994-04-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 化学反応装置とその反応制御方法、薬液廃棄方法、および薬液供給方法
JP2002075946A (ja) * 2000-08-30 2002-03-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2002353186A (ja) * 2001-05-30 2002-12-06 Ses Co Ltd 枚葉式基板洗浄装置の薬液リサイクルシステムおよび枚葉式基板洗浄装置
JP2004273838A (ja) * 2003-03-10 2004-09-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06120195A (ja) * 1992-10-07 1994-04-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 化学反応装置とその反応制御方法、薬液廃棄方法、および薬液供給方法
JP2002075946A (ja) * 2000-08-30 2002-03-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2002353186A (ja) * 2001-05-30 2002-12-06 Ses Co Ltd 枚葉式基板洗浄装置の薬液リサイクルシステムおよび枚葉式基板洗浄装置
JP2004273838A (ja) * 2003-03-10 2004-09-30 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法

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