TWI653661B - Processing liquid generating device and substrate processing device using the same - Google Patents

Abstract

提供一種可使生成之處理液的濃度的信賴性提高的處理液生成 裝置。

一種處理液生成裝置，是用以生成經過濃度調整之處理 液的處理液生成裝置，構成為具有：處理液調整部，用以調整前述處理液的濃度；第1處理液路，使處理液流向處理液調整部；第2處理液路，使處理液流向處理液調整部；第1濃度計，是用以測定在第1處理液路流動之前述處理液的濃度，前述濃度是在處理液調整部的濃度調整相關之成分的濃度；第2濃度計，是測定在第2處理液路流動之前述處理液的濃度，且前述濃度是應由第1濃度計測定濃度且前述濃度調整相關之成分的濃度；第1閥機構，用以進行第1處理液路的開閉；及第2閥機構，用以進行第2處理液路的開閉。

Description

處理液生成裝置及使用該裝置的基板處理裝置 發明領域

本發明是有關於一種生成用於半導體晶圓之處理程序等之處理液的處理液生成裝置及使用其之基板處理裝置。

發明背景

迄今，已知的是專利文獻1所記載的有機物之剝離裝置(基板處理裝置之一例)。該有機物之剝離裝置將藥液(剝離處理液)供給至半導體晶圓(基板之一例)的表面，除去在該半導體晶圓之製造程序所形成之光阻劑或聚合物等之有機物。該有機物之剝離裝置中，是以濃度計(有機成分濃度計、水分濃度計)測定構成藥液之各成分及純水的濃度，並且在循環槽(藥液槽)將該等各成分混合，使之循環，並在循環槽追加各成分及純水，以使各成分及純水的測定濃度值保持在預定範圍。藉此，在循環槽內生成由保持在預定濃度範圍之各成分及水分構成的藥液(剝離處理液)(作為處理液生成裝置的功能)。而且，在循環槽中生成的藥液通過剝離液供給管而供給到支撐在旋轉台之半導體晶圓的表面。

根據如此的有機物之剝離裝置，由於是測定 貯存於循環槽(藥液槽)之藥液之各成分的濃度，並且僅將濃度變低的成分追加到循環槽，因此可將貯存於循環槽之藥液之各成分的濃度分別保持在預定範圍內。因此，可高度地維持藥液的剝離性能，並且可將貯存於循環槽的藥液重複地使用於在半導體晶圓形成之有機物的剝離處理。

[先行技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開第2005-347384號公報

發明概要

適用於如上述之有機物之剝離裝置的處理液(藥液)生成裝置中，由於是以單一的濃度計來測定藥液(處理液)之各成分的濃度，故濃度測定之信賴性依賴單一的濃度計。因此，生成之處理液之濃度的信賴性未必可說是足夠的。本發明是有鑒於如此的情況而做成者，因此提供一種可提高生成之處理液之濃度的信賴性之處理液生成裝置。

又，本發明是提供一種藉由上述處理液生成裝置所生成之處理液來處理基板的基板處理裝置。

本發明之處理液生成裝置是根據濃度計的測定濃度而生成經過濃度調整的處理液的處理液生成裝置，具有： 處理液調整部，用以調整前述處理液的濃度；第1處理液路，使處理液流向前述處理液調整部；第2處理液路，使處理液流向前述處理液調整部；第1濃度計，用以測定在前述第1處理液路流動之前述處理液的濃度，且前述濃度是在前述處理液調整部之濃度調整相關之成分的濃度；第2濃度計，用以測定在前述第2處理液路流動之前述處理液的濃度，且前述濃度是應由前述第1濃度計測定濃度測定，且在前述處理液調整部之濃度調整相關的成分之濃度；第1閥機構，用以進行前述第1處理液路的開閉；及第2閥機構，用以進行前述第2處理液路的開閉。

根據如此的構成，藉由第1閥機構及第2閥機構，令第1處理液路及第2處理液路為開狀態時，處理液會在第1處理液路內流動而流入處理液調整部，並且處理液會在第2處理液路流動而流入處理液調整部。在此狀態下，前述處理液調整部可根據在前述第1濃度計、及前述第2濃度計之至少一者的測定濃度，進行處理液的濃度調整，即，進行處理液中之前述成分的濃度調整，前述第1濃度計是用以測定在前述第1處理液路流動之處理液的濃度，且前述濃度是其濃度調整相關之成分的濃度，前述第2濃度計是用以測定在前述第2處理液路流動之處理液的濃度，且前述濃度是應由前述第1濃度計濃度測定且前述濃度調整相關之成分的濃度。

藉由第1閥機構，令第1處理液路為開狀態，並且藉由第2閥機構，令第2處理液路為閉狀態時，處理液 不在第2處理液路流動，處理液在第1處理液路流動後流入處理液調整部。在該狀態下，前述處理液調整部可根據在用以測定為在前述第1處理液路流動之處理液的濃度，且其濃度調整相關之成分的濃度之前述第1濃度計的測定濃度，進行處理液之濃度調整，即，進行處理液中之前述成分的濃度調整。

藉由第1閥機構令第1處理液路為閉狀態，並且藉由第2閥機構令第2處理液路為開狀態時，處理液不在第1處理液路流動而不會通過第1濃度計，處理液會在第2處理液路流動且通過第2濃度計流入處理液調整部。在此狀態下，前述處理液調整部可根據在前述第2濃度計之測定濃度進行處理液的濃度調整，即，進行處理液中之應濃度調整之成分的濃度調整。

又，本發明之基板處理裝置，具有：處理液生成裝置，是用以生成根據在濃度計之測定濃度而經過濃度調整的處理液；工作台，用以保持基板；驅動機構，用以使前述工作台旋轉；及處理液供給機構，將藉由前述處理液生成裝置生成之處理液供給到與前述工作台一起旋轉之前述基板的表面，前述處理液生成裝置具有：處理液調整部，用以調整前述處理液的濃度；第1處理液路，使處理液流向前述處理液調整部；第2處理液路，使處理液流向前述處理液調整部；第1濃度計，用以測定在前述第1處理液路流動之前述處理液的濃度，且前述濃度是在前述處理液調整部之濃度調整相關成分的濃度；第2濃度計，用 以測定在前述第2處理液路流動之前述處理液的濃度，且前述濃度是應由前述第1濃度計測定濃度且在前述處理液調整部之濃度調整相關的成分之濃度；第1閥機構，用以進行前述第1處理液路的開閉；及第2閥機構，用以進行前述第2處理液路的開閉。

根據本發明之處理液生成裝置，可提升生成之處理液之濃度的信賴性。

又，根據本發明之基板處理裝置，可藉由以上述處理液生成裝置生成之處理液來處理基板。

10‧‧‧回收槽

11a‧‧‧第1供給槽

11b‧‧‧第2供給槽

12a‧‧‧上游側第1閥群

12b‧‧‧上游側第2閥群

13a‧‧‧下游側第1閥群

13b‧‧‧下游側第2閥群

14a、14b、15a、15b‧‧‧積分流量計

16a、16b、17a、17b‧‧‧調整閥

18a‧‧‧第1泵

18b‧‧‧第2泵

19a、19b‧‧‧開閉閥

20a‧‧‧第1濃度計測部

20b‧‧‧第2濃度計測部

21、22、23、24‧‧‧三向閥

30‧‧‧控制單元

31a、31b、32a、32b、33a、33b、34a、34b、35a、35b‧‧‧驅動電路

100‧‧‧旋轉裝置

110‧‧‧支撐台

111‧‧‧噴嘴

115‧‧‧杯部

120a、130a‧‧‧開閉閥/第1閥機構

120b、130b‧‧‧開閉閥/第2閥機構

121a、131a‧‧‧開閉閥/第5閥機構

121b、131b‧‧‧開閉閥/第6閥機構

122a、132a‧‧‧開閉閥/第3閥機構

122b、132b‧‧‧開閉閥/第4閥機構

201a‧‧‧第1濃度計

201b‧‧‧第2濃度計

202a‧‧‧上游側第1切換閥

202b‧‧‧上游側第2切換閥

203a‧‧‧下游側第1切換閥

203b‧‧‧下游側第2切換閥

P1‧‧‧第1處理液路(第1循環液路)

P2‧‧‧第2處理液路(第2循環液路)

Pc1‧‧‧第1校正液路

Pc2‧‧‧第2校正液路

Pm1、Pm2‧‧‧液路

Pp1‧‧‧第1洗淨液路

Pp2‧‧‧第2洗淨液路

TP‧‧‧透明部

W‧‧‧晶圓

圖1是顯示包含本發明之實施形態之處理液生成裝置的基板處理裝置的圖。

圖2A是顯示圖1所示之處理液生成裝置中之上游側第1閥群、上游側第2閥群、下游側第1閥群、及下游側第2閥群之構成例的圖。

圖2B是顯示圖2A所示之第1濃度計測部之構成例的圖。

圖2C是顯示圖2A所示之第2濃度計測部之構成例的圖。

圖3是顯示圖1、圖2A至圖2C所示之處理液生成裝置中之控制各閥之控制系統的構成例的區塊圖。

圖4A是顯示圖3所示之控制系統中之控制單元之處理步驟的一例的流程圖(其1)。

圖4B是顯示圖3所示之控制系統中之控制單元之處理步驟的一例的流程圖(其2)。

圖5是顯示濃度計之校正處理之步驟的一例的流程圖。

較佳實施例之詳細說明

以下，就本發明之實施形態，使用圖面進行說明。

包含本發明之實施之一形態之處理液生成裝置的基板處理裝置是如圖1所示般構成。

圖1中，該基板處理裝置具有：2個處理液生成裝置、2系統之處理液供給(處理液供給機構)/回收系統、及旋轉裝置100。其中一個處理液生成裝置是構成為具有：第1供給槽11a、2個積分流量計14a、15a、2個調整閥16a、17a、第1泵18a、開閉閥19a、生成循環系統之2個三向閥21、22、上游側第1閥群12a、上游側第2閥群12b、第1濃度計測部20a、第2濃度計測部20b、下游側第1閥群13a、及下游側第2閥群13b。另一個處理液生成裝置構成為與前述其中一個處理液生成裝置共用生成循環系統之2個三向閥21、22、上游側第1閥群12a、上游側第2閥群12b；第1濃度計測部20a、第2濃度計測部20b、下游側第1閥群13a、及下游側第2閥群13b，除此之外具有：第2供給槽11b、2個積分流量計14b、15b、2個調整閥16b、17b、及第2泵18b及開閉閥19b。其中一個系統的處理液供給/回收系統是構成為：與前述之其中一個處理液生成裝置共 用第1供給槽11a及第1泵18a，並且具有三向閥23、24及回收槽10。又，另一個系統的處理液供給/回收系統構成為與前述之另一個處理液生成裝置共用第2供給槽11b及第2泵18b，並且與前述之其中一個系統的處理液供給/回收系統共用回收槽10及2個三向閥23、24。

如後述，在第1供給槽11a內經過濃度調整而生成的處理液是藉由三向閥23切換到第1供給槽11a側，且第1泵18a動作，而從第1供給槽11a通過三向閥23供給到旋轉裝置100內的噴嘴111，並從該噴嘴111吐出處理液(處理液供給機構)。在旋轉裝置100，設置有藉由馬達等之驅動機構112旋轉的支撐台110(工作台)，且噴嘴111是配置成與其周緣部受支撐於支撐台110之半導體晶圓W對向。設置有從支撐台110之側方覆蓋下方的杯部115。從噴嘴111吐出之處理液(例如蝕刻液)施加於與支撐台110一起旋轉之半導體晶圓W的表面，藉由該處理液，處理(蝕刻處理)半導體晶圓W的表面。從旋轉之半導體晶圓W的表面飛散之使用過的處理液收容於杯部115內，進而，通過排出路徑(圖示略)而回收到回收槽10。接著，回收槽10內之使用過的處理液通過切換到第1供給槽11a側之三向閥24而返回到第1供給槽11a。

另一方面，當2個三向閥23、24切換到第2供給槽11b側時，在第2供給槽11b內經過濃度調整而生成的處理液，藉由第2泵18b的動作，從第2供給槽11b通過三向閥23而供給到旋轉裝置100的噴嘴111(處理液供給機 構)。而且，與前述同樣，從噴嘴111吐出而施加到在旋轉裝置100內旋轉之半導體晶圓W的表面，成為使用過的處理液回收到回收槽10，進而，從回收槽10通過三向閥24而回到第2供給槽11b。

分成前述之第1供給槽11a與第2供給槽11b的2系統之處理液供給(處理液供給機構)/回收系統分別因應於各供給槽11a、11b內之處理液的狀態(量、濃度、雜質之量等)，藉由三向閥23、24而適宜地切換。其結果是，旋轉裝置100中，可使適當狀態(濃度等)之處理液所進行之半導體晶圓W的表面處理繼續。

其次，說明處理液生成裝置之具體構成。再者，2個處理液生成裝置除了共用上游側第1閥群12a、上游側第2閥群12b、下游側第1閥群13a、下游側第2閥群13b、第1濃度計測部20a、第2濃度計測部20b及2個三向閥21、22之外，具有複數個同類的構成零件，進行相同動作，因此說明包含第1供給槽11a的其中一個處理液生成裝置。

設置有積分流量計14a及調整閥16a的液路連接於第1供給槽11a，處理液(例如，作為蝕刻液之磷酸水溶液)的原液通過該液路而供給到第1供給槽11a。設置有積分流量計15a及調整閥17a之液路連接於第1供給槽11a，稀釋液(例如純水)通過該液路而供給到第1供給槽11a。

形成有出自第1供給槽11a、通過第1泵18a 及開閉閥19a而返回到第1供給槽11a的循環液路。又，形成有出自第1供給槽11a、經由第1泵18a、三向閥21、上游側第1閥群12a、第1濃度計測部20a、下游側第1閥群13a、及三向閥22而返回到第1供給槽11a的液路P1。以下，將該液路P1稱為第1循環液路P1(第1處理液路)。進而，形成有出自第1供給槽11a，經由第1泵18a、三向閥21、上游側第2閥群12b、第2濃度計測部20b、下游側第2閥群13b、及三向閥22而返回到第1供給槽11a的液路P2。以下，將該液路P2稱為第2循環液路P2(第2處理液路)。

上游側第1閥群12a、上游側第2閥群12b、下游側第1閥群13a及下游側第2閥群13b是如圖2A所示般構成。

上游側第1閥群12a包含設置於從三向閥21延續之第1循環液路P1的開閉閥120a，上游側第2閥群12b包含設置於從三向閥21延續之第2循環液路P2的開閉閥120b。下游側第1閥群13a包含設置於第1循環液路P1的開閉閥130a，第1循環液路P1是通過第1濃度計測部20a而朝三向閥22延伸，下游側第2閥群13b包含設置於第2循環液路P2的開閉閥130b，第2循環液路P2通過第2濃度計測部20b而朝三向閥22延伸。

上游側第1閥群12a所包含的開閉閥120a與下游側第1閥群13a所包含的開閉閥130a之組，構成為進行第1循環液路P1(第1處理液路)之開閉的第1閥機構。又，上游側第2閥群12b所包含的開閉閥120b與下游側第2閥群 13b所包含的開閉閥130b之組，構成為進行第2循環液路P2(第2處理液路)之開閉的第2閥機構。

雖然在圖1沒有顯示，但上游側第1閥群12a、上游側第2閥群12b、下游側第1閥群13a及下游側第2閥群13b包含進行其他液路之開閉的複數個開閉閥。具體而言，如圖2A所示，除了第1循環液路P1之外，形成有通過第1濃度計測部20a的2個液路Pc1、Pp1，除了第2循環液路P2之外，形成有通過第2濃度計測部20b的2個液路Pc2、Pp2。液路Pc1是從利用於第1濃度計測部20a之濃度計之校正的校正液之液源，通過第1濃度計測部20a而朝排出部延伸的液路，且構成第1校正液路Pc1。再者，上述校正液可使用與處理液同成分的液體。第1校正液路Pc1供給濃度已知的校正液。再者，只要至少通過濃度計時之校正液的濃度為已知即可，校正液可從校正液之液源直接供給，來自液源的校正液也可以是調整為預定濃度後才供給。液路Pc2是從同樣的校正液的液源通過第2濃度計測部20b而向排出部延伸的液路，且流經該液路Pc2之校正液也使用於第2濃度計測部20b中之濃度計的校正，構成第2校正液路Pc2。液路Pp1是從純水的液源通過第1濃度計測部20a而向排出部延伸的液路，且構成第1洗淨液路Pp1。液路Pp2是從同樣之純水液源通過第2濃度計測部20b而向排出部延伸的液路，且構成第2洗淨液路Pp2。

上游側第1閥群12a包含：設置於第1洗淨液路Pp1的開閉閥121a、及設置於第1校正液路Pc1的開閉閥 122a。下游側第1閥群13a也包含：設置於第1洗淨液路Pp1的開閉閥131a、及設置於第1校正液路Pc1的開閉閥132a。又，上游側第2閥群12b包含：設置於第2洗淨液路Pp2的開閉閥121b、及設置於第2校正液路Pc2的開閉閥122b。下游側第2閥群13b也包含：設置於第2洗淨液路Pp2的開閉閥131b、及設置於第2校正液路Pc2的開閉閥132b。

上游側第1閥群12a之開閉閥122a、與下游側第1閥群13a之開閉閥132a的組構成為用以開閉第1校正液路Pc1的第3閥機構。上游側第2閥群12b之開閉閥122b、與下游側第2閥群13b之開閉閥132b的組是構成為用以開閉第2校正液路Pc2的第4閥機構。又，上游側第1閥群12a之開閉閥121a、與下游側閥群13a之開閉閥131a的組構成為用以開閉第1洗淨液路Pp1的第5閥機構，上游側第2閥群12b之開閉閥121b、與下游側第2閥群13b之開閉閥群131b的組構成為用以開閉第2洗淨液路Pp2的第6閥機構。

第1濃度計測部20a是如圖2B所示般構成，又，第2濃度計測部20b是如圖2C所示般構成。

如圖2B所示，第1濃度計測部20a具有：第1濃度計201a、上游側第1切換閥202a、及下游側第1切換閥203a。如前述，設有上游側第1閥群12a及下游側第1閥群13a的第1循環液路P1、第1校正液路Pc1及第1洗淨液路Pp1之3個液路在第1濃度計測部20a內，在上游側並列地連接於上游側第1切換閥202a，並且在下游側並列地連接於下游側第1切換閥203a，藉此集合成將上游側第1切換閥 202a與下游側第1切換閥203a結合的1個液路Pm1。而且，在液路Pm1之部分設置有第1濃度計201a。

在如此之第1濃度計測部20a中，藉由上游側第1切換閥202a及下游側第1切換閥203a的切換動作，液路Pm1連通到第1循環液路P1時，在第1循環液路P1流動之處理液成為在液路Pm1流動。藉此，可藉由第1濃度計201a測量在液路Pm1流動之處理液的濃度，也就是測量在第1循環液路P1流動之處理液的濃度。又，藉由上游側第1切換閥202a及下游側第1切換閥203a的切換動作，當液路Pm1連通至第1校正液路Pc1時，在第1校正液路Pc1流動的校正液會在液路Pm1內流動，可進行第1濃度計201a的校正。進而，藉由上游側第1切換閥201a及下游側第1切換閥203a的切換動作，當液路Pm1連通到第1洗淨液路Pp1時，在第1洗淨液路Pp1流動的洗淨液成為在液路Pm1流動，藉由該洗淨液，可洗淨液路Pm1及第1濃度計201a。

又，如圖2C所示，第2濃度計測部20b具有：第2濃度計201b、上游側第2切換閥202b、及下游側第2切換閥203b。如前述，設置有上游側第2閥群12b及下游側第2閥群13b的第2循環液路P2、第2校正液路Pc2及第2洗淨液路Pp2的3個液路在第2濃度計測部20b內，於上游側並列地連接於上游側第2切換閥202b，並且於下游側並列地連接於下游側第2切換閥203b，集合成將該等上游側第2切換閥202b與下游側第2切換閥203b結合的液路Pm2。而且，在液路Pm2之部分設置有第2濃度計201b。

在如此的第2濃度計測部20b中，藉由上游側第2切換閥202b及下游側第2切換閥203b的切換動作，當液路Pm2連通到第2循環液路P2時，在第2循環液路P2流動的處理液成為在液路Pm2流動，可藉由第2濃度計201b測量在液路Pm2流動之處理液的濃度，即，在第2循環液路P2流動之處理液的濃度。又，藉由上游側第2切換閥202b及下游側第2切換閥203b的切換動作，當液路Pm2連通到第2校正液路Pc2時，在第2校正液路Pc2流動的校正液成為在液路Pm2流動，可進行第2濃度計201b的校正。進而，藉由上游側第2切換閥202b及下游側第2切換閥203b的切換動作，當液路Pm2連通到第2洗淨液路Pp2時，在第2洗淨液路Pp2流動的洗淨液成為在液路Pm2流動，可藉由該洗淨液，洗淨液路Pm2及第2濃度計201b。

設置於第1濃度計測部20a的第1濃度計201a與設置於第2濃度計測部20b的第2濃度計201b是藉由不同的測定原理，測定在該等濃度計測部20a、20b流動之處理液(校正液)的濃度，並輸出對應於其測定濃度的測定信號。也就是說，第1濃度計201a與第2濃度計201b是根據使各自在第1循環液路P1及第2循環液路P2流動的處理液(更詳而言之是分別在液路Pm1及Pm2的處理液)之濃度不同的測定原理而測定。第1濃度計201a(參照圖2B)可使用例如、根據作為對象之液體的電導率測定濃度者。第2濃度計201b是如圖2C所示，由隔著液路Pm2之透明部TP設置之雷射光源與受光部構成，可使用以光學方式測定作為對 象之液體的濃度者。第1濃度計201a及第2濃度計201b分別可使用其他如利用超音波測定濃度者、利用紅外線測定濃度者等。

又，第1濃度計201a與第2濃度計201b是測定在處理液中之第1供給槽11a或第2供給槽11b(包含於處理液調整部)之調整濃度相關的相同成分之濃度作為該處理液的濃度者。例如，若處理液為磷酸水溶液的蝕刻處理液，該蝕刻處理液中之磷酸濃度調整作為該處理液之濃度調整進行時，第1濃度計201a與第2濃度計201b測定蝕刻處理液中之磷酸濃度作為該處理液的濃度。又，一般而言，即使處理液含有複數個成分，第1濃度計201a與第2濃度計201b測定在第1供給槽11a或第2供給槽11b(包含於處理液調整部)之調整濃度相關的相同成分之濃度作為處理液的濃度。

又，第1濃度計201a及第2濃度計201b之至少任一者是可測定複數個成分(例如，磷酸濃度與水分濃度)的濃度。若其中一個濃度計進行包含濃度調整有關的成分之複數個成分的濃度測定，另一個濃度計只要進行至少前述濃度調整有關之成分的濃度測定。藉此，第1濃度計201a及第2濃度計201b之雙方中，至少可測定前述濃度調整有關的成分之濃度測定，根據第1濃度計201a及第2濃度計201b之至少一者的測定濃度，可調整處理液中的成分濃度。

如前述，構成之處理液生成裝置的控制系統 是如圖3所示般構成。

圖3中，該處理液供給裝置具有控制單元30。控制單元30是驅動控制在第1濃度計測部20a(參照圖2B)中，第1濃度計測部20a之上游側第1切換閥202a及下游側第1切換閥203a，使液路Pm1連通到第1循環液路P1，在第2濃度計測部20b(參照圖2C)中，液路Pm2連通到第2循環液路P2，並且驅動控制第2濃度計測部20b之上游側第2切換閥202b及下游側第2切換閥203b。在該狀態下，控制單元30監視來自積分流量計14a的處理液(例如，為磷酸水溶液的蝕刻處理液)之流量資訊及來自積分流量計15a之稀釋液(例如純水)的流量資訊，並且根據在第1濃度計測部20a(第1濃度計201a：參照圖2B)及第2濃度計測部20b(第2濃度計201b：參照圖2C)的測定濃度(例如，磷酸的測定濃度)，控制用以驅動調整閥16a、17a的驅動電路31a，前述調整閥16a、17a是設置於用以將處理液及稀釋液供給到第1供給槽11a的2個液路。藉此，調整在第1供給槽11a內生成之處理液的濃度(例如，磷酸濃度)。又，控制單元30監視來自積分流量計14b之處理液的流量資訊及來自積分流量計15b之稀釋液的流量資訊，並且根據在第1濃度計測部20a及第2濃度計測部20b之測定值，控制用以驅動調整閥16b、17b的驅動電路31b，前述調整閥16b、17b是設置於用以將處理液及稀釋液供給到第2供給槽11b的2個液路。藉此，調整在第2供給槽11b內生成之處理液的濃度。再者，關於該濃度調整之詳情於後敘述。

控制單元30控制用以切換驅動處理液供給/回收系統之三向閥23的驅動電路34a，以將處理液對旋轉裝置100(噴嘴111)的供給源切換成第1供給槽11a及第2供給槽11b之任一者。又，控制單元30控制用以切換驅動處理液供給/回收系統之三向閥24的驅動電路34a，以將從旋轉裝置100返回到回收槽10之使用過的處理液之傳送目的地切換成第1供給槽11a及第2供給槽11b之任一者。

控制單元30控制用以進行生成循環系統之三向閥21、22之切換控制的驅動電路34b，以將通過第1濃度計測部20a及第2濃度計測部20b且循環而應濃度調整的處理液的貯留源切換成第1供給槽11a及第2供給槽11b之任一者。在其濃度調整時，控制單元30控制驅動電路33a，驅動電路33a是進行設置於第1循環液路P1(參照圖2A)之上游側第1閥群12a之開閉閥120a及下游側第1閥群13a之開閉閥130a的開閉驅動。又，此時，控制單元30控制驅動電路33b，驅動電路33b進行設置於第2循環液路P2(參照圖2A)之上游側第2閥群12b之開閉閥120b及下游側第2閥群13b之開閉閥130b的開閉驅動。

進而，控制單元30在第1濃度計測部20a之第1濃度計201a之校正時，控制驅動電路33a，驅動電路33a是進行設置於第1校正液路Pc1(參照圖2)之上游側第1閥群12a之開閉閥122a及下游側第1閥群13a之開閉閥132a的開閉驅動、及設置於第1洗淨液路Pp1(參照圖2)之上游側第1閥群12a之開閉閥121a及下游側第1閥群13a之開閉 閥131a的開閉驅動。此時，控制單元30在第1濃度計測部20a(參照圖2B)中，進行上游側第1切換閥202a及下游側第1切換閥203a的切換控制，以切換液路Pm1連通至第1校正液路Pc1的狀態、及液路Pm1連通至第1洗淨液路Pp1的狀態。進而，又，控制單元30在第2濃度計測部20b之第2濃度計201b之校正時，控制驅動電路33b，進行設置於第2校正液路Pc2(參照圖2)之上游側第2閥群12b之開閉閥122b及下游側第2閥群13b之開閉閥132b的開閉驅動、及設置於第2洗淨液路Pp2(參照圖2A)之上游側第2閥群12b之開閉閥121b及下游側第2閥群13b之開閉閥131b的開閉驅動。此時，控制單元30在第2濃度計測部20b(參照圖2C)中，進行上游側第2切換閥202b及下游側第2切換閥203b的切換控制，切換液路Pm2連通到第2校正液路Pc2的狀態、及液路Pm2連通到第2洗淨液路Pp2的狀態。又，控制單元30控制使第1泵18a驅動的驅動電路35a及使第2泵18b驅動的驅動電路35b。又，控制單元30控制用以進行開閉閥19a之開閉驅動的驅動電路32a及用以進行開閉閥19b之開閉驅動的驅動電路32b。

控制單元30隨著圖4A及圖4B所示之順序，進行在第1供給槽11a及第2供給槽11b生成之處理液(例如，作為蝕刻處理液之磷酸水溶液)之濃度調整相關的處理。再者，以下，是就在第1供給槽11a生成之處理液之濃度調整相關的處理進行說明，但就在第2供給槽11b生成之處理液之濃度調整相關的處理以同樣的順序進行。

控制單元30監視來自積分流量計14a、15a的流量資訊，令調整閥16a、17a為開狀態，預定量之處理液(原液)及稀釋液貯存於第1供給槽11a時，令調整閥16a、17a為閉狀態。然後，控制單元30令開閉閥19a為開狀態，且令三向閥21、23之第1供給槽11a側為關閉之狀態，使第1泵18a驅動。藉此，出自第1供給槽11a的處理液及稀釋液通過設置有開閉閥19a的循環液路而回到第1供給槽11a並循環。在其過程中，在第1供給槽11a內生成經過處理液與稀釋液混合且稀釋化的處理液。在第1供給槽11a內，使處理液與稀釋液混合後而調整處理液之濃度(例如，蝕刻液中之磷酸濃度)的機制整體、也就是說在第1供給槽11a內生成處理液時相關的構成發揮處理液調整部的功能。

然後，控制單元30將開閉閥19a切換成閉狀態，並且將循環系統之三向閥21、22切換成第1供給槽11a側。又，此時，控制單元30令設置於第1循環液路P1的上游側第1閥群12a之開閉閥120a及下游側第1閥群13a之開閉閥130a(第1閥機構：參照圖2A)為開狀態，並且令設置於第2循環液路P2的上游側第2閥群12b之開閉閥120b及下游側第2閥群13b之開閉閥130b(第2閥機構：參照圖2A)為開狀態。在該狀態下，出自第1供給槽11a的處理液並列地通過第1循環液路P1及第2循環液路P2返回到第1供給槽11a並且循環。

如此，當處理液通過第1循環液路P1及第2 循環液路P2的循環開始時，控制單元30依照圖4A及圖4B所示之順序而開始處理。

圖4A中，控制單元30確認第1濃度計測部20a(第1濃度計201a：參照圖2B)及第2濃度計測部20b(第2濃度計201b：參照圖2C)是否在校正中(S11、S12)，若第1濃度計測部20a及第2濃度計測部20b之雙方不是在校正中(在S11為NO，在S12為NO)，則取得根據來自第1濃度計201a(第1濃度計測部20a)之測定信號的濃度C1、及取得根據來自第2濃度計201b(第2濃度計測部20b)之測定信號的濃度C2(S13、S14)。而且，控制單元30根據該等2個測定濃度C1、C2，判定第2濃度計201b是否正常(S15：第2判定部(處理液用閥控制部))、及第1濃度計201a是否正常(S16：第1判定部(處理液用閥控制部))。

第1濃度計201a與第2濃度計201b測定了相同處理液之濃度(具體而言，蝕刻處理液中之磷酸濃度)，測定濃度本來相同。因此，在第1濃度計201a之測定濃度C1與在第2濃度計201b之測定濃度C2的差若在預先設定的預定範圍內，可判定為第1濃度計201a與第2濃度計201b為正常。另一方面，循環之處理液的濃度急遽地變動的可能性較低。而且，第1濃度計201a及第2濃度計201b之雙方同時故障的可能性也較低。特別是，第1濃度計201a之濃度測定原理與第2濃度計201b之濃度測定原理不同，所以在相同環境下使用的第1濃度計201a與第2濃度計201b同時故障的可能性更低。因此，在其中一個濃度計之測定濃 度的推移已穩定的狀態下，若在另一個濃度計之測定濃度急遽地變動(例如，從其中一個濃度計與另一個濃度計分別得到之測定濃度的差超出預先設定的預定範圍，而且若另一個濃度計測定之濃度每隔單位時間的變動幅度超過預先設定之容許值時，或者由另一個濃度計進行測定濃度每隔單位時間的變動幅度超出預先設定之容許值時)，可判定為其另一個濃度計不正常。也就是說，本實施形態中，關於濃度計具有自我診斷功能。再者，若第1濃度計201a之測定濃度C1與第2濃度計201b之測定濃度C2皆急遽地變動時，若測定濃度C1與C2之差在預先設定之容許範圍內，第1濃度計201a、第2濃度計201b皆正常，可判定在第1供給槽11a之處理液的濃度調整有狀況。

當判定第2濃度計201b及第1濃度計201a雙方為正常時(在S15為YES，在S16為YES)，控制單元30根據來自第1濃度計201a的測定濃度C1進行處理液的濃度調整處理(S17)。具體而言，控制單元30一面監視在積分流量計14a、15b的流量資訊，一面調整調整閥16a、17a的開閉狀態，以使測定濃度C1成為目標濃度。然後，控制單元30判定是否滿足用以調整處理液之濃度的循環結束的條件，例如，是否滿足在經過預定時間、或者測定濃度C1到達以目標濃度為中心之預定濃度範圍等的條件(S18)。若判定為不滿足使用以調整處理液濃度的循環結束的條件時(在S18為NO)，控制單元30隨著與上述之順序相同的順序(S11~S18)而執行處理。而且，控制單元30 在第1濃度計201a及第2濃度計201b為正常的狀況中，依照同樣的順序(S11~S18)重複執行其處理。其結果是，根據在第1濃度計201a之測定濃度C1，在第1供給槽11a(處理液調整部)內，進行處理液的濃度調整(具體而言，調整蝕刻處理液中的磷酸濃度)，生成調整成預先設定之目標濃度的處理液(具體而言，磷酸濃度調整成目標濃度的蝕刻處理液)。而且，當如下條件：在用以調整處理液濃度之循環開始後經過預定時間、或者測定目標C1達到以目標濃度為中心之預定濃度範圍等用以調整處理液濃度之循環的條件滿足時(在S18為YES)，控制單元30使第1泵18a停止，將設置在第1循環液路P1之上游側第1閥群12a的開閉閥120a及下游側第1閥群13a的開閉閥130a(第1閥機構：參照圖2A)切換為閉狀態，並且將設置於第2循環液路P2之上游側第2閥群12b的開閉閥120b及下游側第2閥群13b的開閉閥130b(第2閥機構：參照圖2A)切換為閉狀態。藉此，停止用以調整第1供給槽11a內之處理液濃度的循環。

在上述之處理過程，控制單元30根據在第2濃度計201b之測定濃度C2已經穩定的狀態下，在第1濃度計201a之測定濃度C1成為急遽地變動的狀況(例如，分別從第1濃度計201a與第2濃度計201b得到之測定濃度差超出預先設定之預定範圍，而且在第1濃度計201a檢測之濃度C1每隔單位時間的變動幅度超出預先設定之容許值的狀況)等，則判定為第1濃度計201a不正常(在S16為NO)時，設置於第1循環液路P1之上游側第1閥群12a的開閉閥 120a及下游側第1閥群13a的開閉閥130a(第1閥機構：參照圖2A)切換成閉狀態(做為第1閥控制部(處理液用閥控制部)的功能)後，並行開始第1濃度計201a的校正處理(S20)。在該狀態下，藉由前述之第1濃度計測部20a(參照圖2B)中之上游側第1切換閥202a及下游側第1切換閥203a的切換動作，不對第1濃度計201a(液路Pm1)供給處理液，而是進行第1濃度計201a的校正處理。再者，關於校正處理於後敘述。然後，控制單元30判定為並未滿足使用以調整處理液濃度的循環結束之條件時(在S18為NO)，則進而判定第1濃度計201a是否為校正中(S11)。

由於第1濃度計201a之校正處理已經開始，因此控制單元30判定為第1濃度計201a為校正中時(在S11為YES)，移行到圖4B所示之順序，判定第2濃度計201b(第2濃度計測部20b：參照圖2C)是否為校正中(S21)。第2濃度計201b若不是校正中(在S21為NO)，控制單元30根據在第2濃度計201b之測定濃度C2是否維持已經穩定的狀態(例如，在第2濃度計201b檢測之濃度C2每隔單位時間的變動幅度是否超出予先設定之容許值)，判定第2濃度計201b是否正常(S22)。當判定第2濃度計201b為正常時(在S22為YES)，控制單元30從第2濃度計201b取得根據測定信號的濃度C2(S23)，根據其測定濃度C2進行處理液的濃度調整處理(S24)。具體而言，控制單元30一面監視在積分流量計14a、15a之流量資訊，一面調整調整閥16a、17a的開閉狀態，以使測定濃度C2為目標濃度。然後，控制單元30 回到圖4A之步驟，判定是否滿足使處理液用以調整濃度的循環結束的條件(S18)，當未滿足使用以調整處理液濃度的循環結束的條件時(在S18為NO)，控制單元30依據與上述步驟同樣的步驟執行處理。在這種情況下，由於第1濃度計201a為校正中，因此根據在第2濃度計201b之測定濃度C2，在第1供給槽11a(處理液調整部)內，進行處理液的濃度調整，生成其調整後之濃度的處理液(具體而言，含有經過調整之濃度之磷酸的蝕刻處理液)。接著，當測定濃度C2達到以目標濃度為中心之預定濃度範圍等、滿足用以使調整處理液濃度的循環結束之條件時(在S18為YES)，控制單元30同樣使第1泵18a停止等，使用以調整處理液濃度的循環結束(S19)

再者，如上所述，根據在第2濃度計201b之測定濃度C2，在第1供給槽11a內進行處理液之濃度調整(具體而言，蝕刻處理液中之磷酸濃度調整)的狀況下，當第1濃度計201a之校正處理結束時，由於控制單元30判定為第1濃度計201a(第1濃度計測部20a)及第2濃度計201b(第2濃度計測部20b)雙方不在校正中(在S11為NO，在S12為NO)，因此設置於為閉狀態之第1循環液路P1之上游側第1閥群12a之開閉閥120a及下游側第1閥群13a之開閉閥130a(第1閥機構：參照圖2A)切換成開狀態後，反覆執行與前述處理步驟同樣的步驟(S11~S18)。其結果是，再次根據在第1濃度計201a之測定濃度C1，在第1供給槽11a內進行處理液的濃度調整。

進而，在第1濃度計201a及第2濃度計201b之雙方是正常的，且根據在第1濃度計201a之測定濃度C1進行濃度調整處理的過程(S11~S18)中，例如，在其測定濃度C1維持穩定的狀態下，測定濃度C2急遽地變動(這是例如分別從第1濃度計201a與第2濃度計201b得到之濃度差超出預先設定之預定範圍，而且在第2濃度計201b檢測之濃度C2每隔單位時間的變動幅度超出預先設定之容許值)，據此，判定為第2濃度計201b不正常時(在S15為NO)，控制單元30在將設置於第2循環液路P2之上游側第2閥群12b之開閉閥120b及下游側第2閥群13b之開閉閥130b(第2閥機構：參照圖2A)切換成閉狀態(作為第2閥控制部(處理液用閥控制部)的功能)後，進行前述之第2濃度計測部20b(參照圖2C)中之上游側第2切換閥202b及下游側第2切換閥203b的切換動作，並行開始第2濃度計201b的校正處理(S25)。以後，控制單元30確認第1濃度計201a並非在校正中，且第2濃度計201b在校正中的情況(在S11為NO，在S12為YES)，取得來自第1濃度計201a之測定信號的濃度C1(S26)，維持其測定濃度C1穩定之狀態(此情況是例如在第1濃度計201a檢測之濃度C1每隔單位時間的變動幅度不超出預先設定之容許值)，即，確認第1濃度計201a是正常的(在S16為YES)，根據測定濃度C1進行第1供給槽11a中之處理液的濃度調整處理(具體而言，蝕刻處理液中之磷酸濃度調整處理)(S17)。

再者，判定為第1濃度計201a在校正中，且 測定濃度C2已經穩定之第2濃度計201b的該測定濃度C2急遽地變動(例如，在第2濃度計201b檢測之濃度C2每隔單位時間的變動幅度超出預先設定之容許值等)，而第2濃度計201b不正常時(在圖4B的S22為NO)，控制單元30進而將設置於第2循環液路P2之上游側第2閥群12b的開閉閥120b及下游側第2閥群13b的開閉閥130b(第2閥機構：參照圖2A)切換為閉狀態後，並行開始第2濃度計201b的校正處理(S27)。在該狀況下，由於第1濃度計201a及第2濃度計201b之雙方在校正中，因此控制單元30使第1泵18a停止等，而使用以調整處理液濃度的循環結束(S19)。又，當判定為第1濃度計201a及第2濃度計201b之雙方為校正中時(在圖4A的S11為YES，在圖4B的S21為YES)，該情況也是控制單元30使第1泵18a停止等，而使用以調整處理液之濃度的循環結束(S19)

依據上述步驟調整濃度而生成處理液的裝置(處理液生成裝置)中，即使判定為第1濃度計201a不正常，也會根據在判定為正常之第2濃度計201b的測定濃度C2，繼續處理液之濃度調整(具體而言，蝕刻處理液中之磷酸濃度調整)的處理，因此可以防止根據不正常之濃度計的測定濃度而繼續調整處理液濃度，可提高其生成之處理液濃度的信賴性。

又，由於1個濃度計在校正時，仍可使用其他濃度計測量正確濃度，因此不使處理液的濃度調整中斷，而可繼續進行。

又，即使其中一個濃度計故障，也可以根據另一個濃度計的測定濃度而繼續濃度調整的處理，因此可使處理液之濃度調整相關的處理效率提高。

再者，在前述之處理中，若第1濃度計201a及第2濃度計201b之雙方正常，則根據在第1濃度計201a之測定濃度C1進行濃度調整的處理(參照S17)，但亦可根據在第1濃度計201a及第2濃度計201b之雙方之測定濃度C1、C2，例如該等之平均值而進行濃度調整之處理。

上述校正處理是依據圖5所示之步驟進行。再者，校正處理是以第1濃度計測部20a(圖2B參照)之第1濃度計201a及第2濃度計測部20b(圖2C參照)之第2濃度計201b之雙方進行，但該等校正處理相同，因此，以下，以第1濃度計測部20a(參照圖2B)之第1濃度計201a的校正處理為例進行說明。

控制單元30將設置於第1循環液路P1之上游側第1閥群12a之開閉閥120a及下游側第1閥群13a之開閉閥130a(第1閥機構：參照圖2)切換成閉狀態後，依據圖5所示之步驟執行處理。圖5中，控制單元30是令設置於第1洗淨液路Pp1之上游側第1閥群12a的開閉閥121a及下游側第1閥群13a的開閉閥131a(第5閥機構：參照圖2)為開狀態，並且使上游側第1切換閥202a及下游側第1切換閥203a動作，以使第1濃度計測部20a中之液路Pm1連通於第1洗淨液路Pp1。接著，將洗淨液(例如，純水)流動至其第1洗淨液路Pp1預定時間後，將開閉閥121a、131a(第5閥機構) 切換成閉狀態(S31(1))。藉此，通過第1洗淨液路Pp1之洗淨液在設置有第1濃度計測部20a之第1濃度計201a的Pm1流動，第1濃度計201a(濃度檢測部)與其液路Pm1一起洗淨。

然後，控制單元30將設置於第1洗淨液路Pp1之前述開閉閥121a及131a切換到閉狀態後，令設置於第1校正液路Pc1之上游側第1閥群12a的開閉閥122a及下游側第1閥群13a的開閉閥132a(第3閥機構：參照圖2A)為開狀態(作為第1校正液用閥控制部(相當於第2校正液用閥控制部)的功能)，並且使上游側第1切換閥202a及下游側第1切換閥203a動作，以使設有第1濃度計201a之液路Pm1連通於第1校正液路Pc1。接著，濃度為既知之第1校正液Lc1在其第1校正液路Pc1流動(S32(1))。藉此，通過第1校正液路Pc1之第1校正液Lc1在設置有第1濃度計測部20a之第1濃度計201a(濃度檢測部)的液路Pm1流動。在該狀態下，控制單元30取得由第1濃度計201a輸出之測定信號之值(例如，級值)(S33(1))。然後，控制單元30使第1校正液Lc1的供給停止(S34(1))。

之後，依序切換濃度不同的校正液，重複執行同樣的處理(S31(n)~S34(n))直到第n次的校正液Lcn。接著，控制單元30根據與各校正液Lc1~Lcn之濃度對應之測定信號之值的關係(相關關係)，生成測定信號值與濃度的對應資訊(S35：第1校正處理部(相當於第2校正處理部))。接著，控制單元30根據其對應資訊而更新記憶 於第1濃度計201a之測定信號值與濃度的對應表。如此，本實施形態中，關於判定為不正常的濃度計，具有自我校正功能。如此校正處理已經結束的控制單元30參照其對應表而取得根據來自第1濃度計201a之測定信號的濃度C1。

再者，本實施形態中，已經就濃度計之自我校正功能，說明依序使用濃度不同的校正液，並且更新各測定信號值與濃度的對應表之例。然而，校正功能亦可僅使用例如濃度為既知之特定濃度的校正液達成。例如，在第1洗淨液路Pp1連通於液路Pm1的狀態下，洗淨液流動預先設定之預定時間後，使第1校正液路Pc1連通於液路Pm1，並且特定濃度之校正液流動至液路Pm1。在該狀態下，控制單元30取得從第1濃度計201a輸出之測定信號值。接著，第1濃度計201a測定之濃度C1若與流動至液路Pm1的特定濃度一致，進行附著於濃度計之電極、或附著於濃度計設置之液路內面的髒汙等的除去，可判斷為正常地校正。亦可將如此之處理功能作為校正功能。進而，第1濃度計201a測定出之濃度C1若與流動至液路Pm1之特定濃度不一致時，則亦可將洗淨液往液路Pm1的供給、校正液的供給重複預先設定之次數到上限。

當如上述之校正處理結束時，控制單元30將設置於第1校正液路Pc1的開閉閥122a及132a切換成閉狀態後，將設置於第1循環液路P1之開閉閥120a、130a切換成開狀態(第1閥恢復控制設備(相當於第2閥恢復控制設備))。藉此，可使第1濃度計測部20a之第1濃度計201a恢 復成處理液的濃度調整。

在圖1所示之基板處理裝置中，如上所述，當在第1供給槽11a之處理液的濃度調整(具體而言，蝕刻處理液中之磷酸濃度調整)結束時，三向閥21、22切換到第2供給槽11b(處理液調整部)側，並且三向閥23、24切換到第1供給槽11a側。在此狀態下，藉由第1泵18a的動作，在第1供給槽11a內經過濃度調整而生成之處理液(具體而言，蝕刻處理液)由其第1供給槽11a供給到旋轉裝置100(噴嘴111)，在旋轉裝置100內藉由第1供給槽11a供給之處理液進行半導體晶圓W之表面的處理(蝕刻處理)。而且，從旋轉裝置100回收之使用過的處理液透過回收槽10返回第1供給槽11a。

如此，在處理液從第1供給槽11a供給到旋轉裝置100的狀態下，第2供給槽11b中，隨著上述步驟(參照圖4A、圖4B等)，進行處理液之濃度調整相關的處理，並且生成為預定濃度的處理液。然後，在第1供給槽11a及第2供給槽11b之處理液的濃度調整與處理液往旋轉裝置100之供給可相互切換繼續進行。

根據上述之步驟進行校正處理的裝置(處理液生成裝置)中，即使是判定為不正常的濃度計，可活用自我校正功能，使之自己恢復，並可提高處理液濃度的信賴性。而且，由於也具備先前所述之自我診斷功能，因此可經常提高處理液的信賴性。

又，由於個別具有洗淨濃度計本身、或洗淨 設置有濃度計之液路內面時所使用之洗淨液路，因此在濃度計之校正中，在洗淨該濃度計時，可防止附著於該濃度計之電導板(電極)及液路內面的髒汙混入到處理液流動之循環液路或校正液流動之校正液路。

再者，上述實施形態中，第1濃度計201a與第2濃度計201b是利用不同的測定原理來測定處理液濃度。然而，考量到2個濃度計同時會變不正常的機率較低，亦可為相同原理的濃度計。

又，圖2A中，個別地設置有第1循環液路P1、第1校正液路Pc1、及第1洗淨液路Pp1，但亦可為具有三向閥之單一配管，使處理液、校正液、純水交互地流動至第1濃度計測部20a。個別地設置於第2濃度計201b之第2循環液路P2、第2校正液路Pc2、第2洗淨液路Pp2也同樣。

又，上述實施形態中，第1濃度計201a(圖2B參照)之例是使用根據電導率的濃度計，第2濃度計201b(參照圖2C)之例是使用雷射光之例在說明。在此情況下，就洗淨液進行濃度計之洗淨來看，關於第1濃度計201a是進行例如第1濃度計201a具有之電導板(電極)的洗淨等，關於第2濃度計201b，是利用洗淨液洗淨液路內面。

又，上述實施形態中，作為處理液，是以蝕刻液(例如，磷酸水溶液)為例，但若為檢測濃度且進行處理之處理液，液可適用於光阻劑剝離液等其他處理液。又，處理液亦可為含有純水以外之複數個成分。在此情況下， 各濃度計亦可為測定全部成分之濃度，亦可為測定一或複數個部分成分之各個濃度。

在上述之裝置中，使用了第1濃度計201a與第2濃度計201b的2個濃度計，但亦可使用3個以上之濃度計。在此情況下，可將該等3個以上濃度計中之任一個作為第1濃度計，將另一個作為第2濃度計，又，可將任一個作為第1濃度計或第2濃度計，亦可將剩餘之濃度計之組別作為第2濃度計或第1濃度計。

上述之裝置中，各開閉閥、三向閥、調整閥是藉由受控制單元30控制之驅動電路進行，但該等閥亦可以手動進行切換。在此情況下，操作者觀察在第1濃度計201a及第2濃度計201b之測定濃度，並且隨著與上述步驟同樣的步驟，切換各閥。

又，上述之裝置中，構成為濃度調整結束後之處理液從供給槽11a(11b)供給到旋轉裝置100時，使用完之處理液作為回收液，回到供給槽11a(11b)。在如此之構成中，將處理液從供給槽11a(11b)供給到旋轉裝置100時，也可進行供給槽11a(11b)內之處理液的濃度調整。在此情況下，例如，將三向閥23、24切換到第1供給槽11a.側而將第1供給槽11a內之處理液供給到旋轉裝置100時，三向閥21、22也切換到第1供給槽11a側。將三向閥21、22切換到第1供給槽11a側後之第1供給槽11a內之處理液的濃度調整、濃度計之自我校正功能與使用圖4A、4B、圖5所說明的動作同樣。又，從第2供給槽11b將處理液供 給到旋轉裝置100時也同樣。根據如此構成，不僅是處理液開始往旋轉裝置100供給時，在供給中也可進行濃度管理，可以經過濃度管理之處理液繼續適切地處理基板處理。又，若2個濃度計201a、201b之至少一者是正常的，則可繼續往旋轉裝置100供給處理液，而且在此期間內，亦可實施判斷為不正常之濃度計的校正，也有助於提升生產率。

以上，以說明本發明之幾個實施形態及各部的變形例，但該實施形態或各部的變形例是提示為一例，意不在於用以限定發明範圍。上述之該等新穎的實施形態可以其他各種形態實施，可在不脫離發明要旨的範圍內，進行各種省略、置換、變更。該等實施形態或其變形也包含在發明範圍或要旨內，並且包含在申請專利範圍所記載之發明。

Claims (12)

1. 一種處理液生成裝置，是根據濃度計的測定濃度而生成經過濃度調整的處理液，具有：處理液調整部，用以調整前述處理液的濃度；第1處理液路，使處理液流向前述處理液調整部；第2處理液路，使處理液流向前述處理液調整部；第1濃度計，用以測定在前述第1處理液路流動之前述處理液的濃度，且前述濃度是在前述處理液調整部之濃度調整相關之成分的濃度；第2濃度計，用以測定在前述第2處理液路流動之前述處理液的濃度，且前述濃度是應由前述第1濃度計測定濃度，且在前述處理液調整部之濃度調整相關的成分之濃度；第1閥機構，用以進行前述第1處理液路的開閉；及第2閥機構，用以進行前述第2處理液路的開閉。
2. 如請求項1之處理液生成裝置，其中前述第1處理液路包含使前述處理液從前述處理液調整部通過前述第1濃度計而回到該處理液調整部的第1循環液路，前述第2處理液路包含使前述處理液從前述處理液調整部通過前述第2濃度計而回到該處理液調整部的第2循環液路。
3. 如請求項1或2之處理液生成裝置，其中前述第1濃度計與前述第2濃度計是利用不同的測定原理測定前述處理液的濃度。
4. 如請求項1之處理液生成裝置，具有：第1校正液路，使濃度為既知之校正液流向前述第1濃度計；第2校正液路，使濃度為既知之校正液流向前述第2濃度計；第3閥機構，用以開閉前述第1校正液路；及第4閥機構，用以開閉前述第2校正液路。
5. 如請求項1之處理液生成裝置，其具有處理液用閥控制部，前述處理液用閥控制部是根據由前述第1濃度計所得之第1測定濃度與由前述第2濃度計所得之第2測定濃度，控制前述第1閥機構及前述第2閥機構的動作。
6. 如請求項5之處理液生成裝置，其中前述處理液用閥控制部具有：第1判定部，根據前述第1測定濃度及前述第2測定濃度中之至少第1測定濃度，判定前述第1濃度計是否正常；及第1閥控制部，當根據該第1判定部判定為前述第1濃度計不正常時，將前述第1閥機構控制成前述第1處理液路為閉狀態。
7. 如請求項5或6之處理液生成裝置，其中前述處理液用閥控制部具有：第2判定部，根據前述第1測定濃度及前述第2測定濃度中之至少第2測定濃度，判定前述第2濃度計是否正常；及第2閥控制部，當根據該第2判定部判定為前述第2濃度計不正常時，將前述第2閥機構控制成前述第2處理液路為閉狀態。
8. 如請求項6之處理液生成裝置，具有：第1校正液路，使濃度為既知之校正液流向前述第1濃度計；第3閥機構，用以開閉前述第1校正液路；第1校正液用閥控制部，當根據前述第1判定部判定為前述第1濃度計不正常時，將前述第3閥機構控制成前述第1校正液路為開狀態；及第1校正處理部，當在前述第1校正液路流動之校正液通過前述第1濃度計時，根據該第1濃度計之輸出值進行該第1濃度計的校正。
9. 如請求項7之處理液生成裝置，具有：第2校正液路，使濃度為既知之校正液流向前述第2濃度計；第4閥機構，用以開閉前述第2校正液路；第2校正液用閥控制部，當根據前述第2判定部判定為前述第2濃度計不正常時，將前述第4閥機構控制成前述第2校正液路為開狀態；及第2校正處理部，當在前述第2校正液路流動之校正液通過前述第2濃度計時，根據該第2濃度計之輸出值進行前述第2濃度計的校正。
10. 如請求項8之處理液生成裝置，具有第1閥恢復控制設備，該第1閥恢復控制設備是在前述第1校正處理部進行之前述第1濃度計的校正結束後，使前述第1處理液路恢復為開狀態。
11. 如請求項9之處理液生成裝置，具有第2閥恢復控制設備，該第2閥恢復控制設備是在前述第2校正處理部進行之前述第2濃度計的校正結束後，使前述第2處理液路恢復為開狀態。
12. 一種基板處理裝置，具有：處理液生成裝置，是用以生成根據在濃度計之測定濃度而經過濃度調整的處理液；工作台，用以保持基板；驅動機構，用以使前述工作台旋轉；及處理液供給機構，將藉由前述處理液生成裝置生成之處理液供給到與前述工作台一起旋轉之前述基板的表面，前述處理液生成裝置具有：處理液調整部，用以調整前述處理液的濃度；第1處理液路，使處理液流向前述處理液調整部；第2處理液路，使處理液流向前述處理液調整部；第1濃度計，用以測定在前述第1處理液路流動之前述處理液的濃度，且前述濃度是在前述處理液調整部之濃度調整相關成分的濃度；第2濃度計，用以測定在前述第2處理液路流動之前述處理液的濃度，且前述濃度是應由前述第1濃度計測定濃度，且在前述處理液調整部之濃度調整相關的成分之濃度；第1閥機構，用以進行前述第1處理液路的開閉；及第2閥機構，用以進行前述第2處理液路的開閉。