KR101967055B1 - 처리액 생성 장치 및 그것을 이용한 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 생성되는 처리액의 농도의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 처리액 생성 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
농도 조정이 이루어진 처리액을 생성하는 처리액 생성 장치로서, 상기 처리액의 농도를 조정하는 처리액 조정부(11a)와, 처리액을, 처리액 조정부(11a)에 흐르게 하는 제1 처리액로(P1)와, 처리액을, 처리액 조정부(11a)에 흐르게 하는 제2 처리액로(P2)와, 제1 처리액로(P1)를 흐르는 상기 처리액의 농도로서, 처리액 조정부(11a)에서의 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 제1 농도계(201a)와, 제2 처리액로(P2)를 흐르는 상기 처리액의 농도로서, 제1 농도계(101a)에 의해 농도 측정되어야 하며, 상기 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 제2 농도계(201b)와, 제1 처리액로(P1)의 개폐를 행하는 제1 밸브 기구(120a, 130a)와, 제2 처리액로(P2)의 개폐를 행하는 제2 밸브 기구(120b, 130b)를 갖는 구성으로 이루어진다.

Description

처리액 생성 장치 및 그것을 이용한 기판 처리 장치{TREATMENT LIQUID PRODUCTION APPARATUS AND SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS USING THE SAME}
본 발명은 반도체 웨이퍼의 처리 공정 등에 이용되는 처리액을 생성하는 처리액 생성 장치 및 그것을 이용한 기판 처리 장치에 관한 것이다.
종래, 특허문헌 1에 기재되는 유기물의 박리 장치(기판 처리 장치의 일례)가 알려져 있다. 이 유기물의 박리 장치는, 반도체 웨이퍼(기판의 일례)의 표면에 약액(박리 처리액)을 공급하여 그 반도체 웨이퍼의 제조 공정에서 형성된 포토레지스트나 폴리머 등의 유기물을 제거한다. 이 유기물의 박리 장치에서는, 약액을 구성하는 각 성분 및 순수의 농도를 농도계(유기 성분 농도계, 수분 농도계)로 측정하면서, 이들 각 성분을 순환조(약액조)에서 혼합하면서 순환시켜, 각 성분 및 순수의 측정 농도값이 소정의 범위로 유지되도록 각 성분 및 순수가 순환조에 추가된다. 이에 의해, 순환조 내에 있어서 소정의 농도 범위로 유지된 각 성분 및 수분에 의해 구성되는 약액(박리 처리액)이 생성된다(처리액 생성 장치로서의 기능). 그리고, 순환조에 있어서 생성되는 약액이, 박리액 공급관을 통하여 회전 스테이지에 지지되는 반도체 웨이퍼의 표면에 공급된다.
이러한 유기물의 박리 장치에 따르면, 순환조(약액조)에 모인 약액의 각 성분의 농도가 측정되어, 농도가 낮아진 성분만을 순환조에 추가하기 때문에, 순환조에 모인 약액의 각 성분의 농도를 각각 소정의 범위로 유지할 수 있다. 따라서, 약액의 박리 성능을 높게 유지할 수 있어, 순환조에 모인 약액을 반도체 웨이퍼에 형성된 유기물의 박리 처리에 반복해서 사용할 수 있다.
일본 특허 공개 제2005-347384호 공보
전술한 바와 같은 유기물의 박리 장치에 적용되는 처리액(약액) 생성 장치에서는, 약액(처리액)의 각 성분의 농도를 단일의 농도계로 측정하고 있기 때문에, 농도 측정의 신뢰성이 단일의 농도계에 의존하고 있다. 따라서, 생성되는 처리액의 농도의 신뢰성이 반드시 충분하다고는 할 수 없다. 본 발명은 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 생성되는 처리액의 농도의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 처리액 생성 장치를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명은 상기 처리액 생성 장치에 의해 생성되는 처리액에 의해 기판을 처리하는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 처리액 생성 장치는, 농도계로의 측정 농도에 기초하여 농도의 조정이 이루어진 처리액을 생성하는 처리액 생성 장치로서, 상기 처리액의 농도를 조정하는 처리액 조정부와, 처리액을, 상기 처리액 조정부에 흐르게 하는 제1 처리액로와, 처리액을, 상기 처리액 조정부에 흐르게 하는 제2 처리액로와, 상기 제1 처리액로를 흐르는 상기 처리액의 농도로서, 상기 처리액 조정부에서의 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 제1 농도계와, 상기 제2 처리액로를 흐르는 상기 처리액의 농도로서, 상기 제1 농도계에 의해 농도 측정되어야 하며, 상기 처리액 조정부에서의 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 제2 농도계와, 상기 제1 처리액로의 개폐를 행하는 제1 밸브 기구와, 상기 제2 처리액로의 개폐를 행하는 제2 밸브 기구를 갖는 구성으로 이루어진다.
이러한 구성에 따라, 제1 밸브 기구 및 제2 밸브 기구에 의해 제1 처리액로 및 제2 처리액로를 개방 상태로 하면, 처리액이 제1 처리액로를 흘러 처리액 조정부에 유입되며, 처리액이 제2 처리액로를 흘러 처리액 조정부에 유입된다. 이 상태에서는, 상기 처리액 조정부는, 상기 제1 처리액로를 흐르는 처리액의 농도로서, 그 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 상기 제1 농도계, 및 상기 제2 처리액로를 흐르는 처리액의 농도로서, 상기 제1 농도계에 의해 농도 측정되야 하며, 상기 농도 조정에 따른 성분의 농도를 계측하는 상기 제2 농도계 중 적어도 한쪽에서의 측정 농도에 기초하여 처리액의 농도 조정, 즉, 처리액 중의 상기 성분의 농도 조정을 행할 수 있다.
제1 밸브 기구에 의해 제1 처리액로를 개방 상태로 하며 제2 밸브 기구에 의해 제2 처리액로를 폐쇄 상태로 하면, 처리액이 제2 처리액로를 흐르지 않고, 처리액이 제1 처리액로를 흘러 처리액 조정부에 유입된다. 이 상태에서는, 상기 처리액 조정부는, 상기 제1 처리액로를 흐르는 처리액의 농도로서, 그 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 상기 제1 농도계로의 측정 농도에 기초하여 처리액의 농도 조정, 즉, 처리액 중의 상기 성분의 농도 조정을 행할 수 있다.
제1 밸브 기구에 의해 제1 처리액로를 폐쇄 상태로 하며 제2 밸브 기구에 의해 제2 처리액로를 개방 상태로 하면, 처리액이 제1 처리액로를 흐르지 않고 제1 농도계를 통과하는 일없이, 처리액이 제2 처리액로를 흘러 제2 농도계를 통과하여 처리액 조정부에 유입된다. 이 상태에서는, 상기 처리액 조정부는, 상기 제2 농도계로의 측정 농도에 기초하여 처리액의 농도 조정, 즉, 처리액 중의 농도 조정하여야 하는 성분의 농도 조정을 행할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는, 농도계로의 측정 농도에 기초하여 농도의 조정이 이루어진 처리액을 생성하는 처리액 생성 장치와, 기판을 유지하는 테이블과, 상기 테이블을 회전시키는 구동 기구와, 상기 테이블과 함께 회전하는 상기 기판의 표면에 상기 처리액 생성 장치에 의해 생성되는 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구를 가지고, 상기 처리액 생성 장치는, 상기 처리액의 농도를 조정하는 처리액 조정부와, 처리액을, 상기 처리액 조정부에 흐르게 하는 제1 처리액로와, 처리액을, 상기 처리액 조정부에 흐르게 하는 제2 처리액로와, 상기 제1 처리액로를 흐르는 상기 처리액의 농도로서, 상기 처리액 조정부에서의 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 제1 농도계와, 상기 제2 처리액로를 흐르는 상기 처리액의 농도로서, 상기 제1 농도계에 의해 농도 측정되어야 하며, 상기 처리액 조정부에서의 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 제2 농도계와, 상기 제1 처리액로의 개폐를 행하는 제1 밸브 기구와, 상기 제2 처리액로의 개폐를 행하는 제2 밸브 기구를 갖는 구성으로 이루어진다.
본 발명에 따른 처리액 생성 장치에 따르면, 생성되는 처리액의 농도의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 기판 처리 장치에 따르면, 상기 처리액 생성 장치로 생성되는 처리액에 의해 기판을 처리할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 처리액 생성 장치를 포함하는 기판 처리 장치를 도시한 도면이다.
도 2a는 도 1에 나타내는 처리액 생성 장치에 있어서의 상류측 제1 밸브군, 상류측 제2 밸브군, 하류측 제1 밸브군 및 하류측 제2 밸브군의 구성예를 나타내는 도면이다.
도 2b는 도 2a에 나타내는 제1 농도 계측부의 구성예를 나타내는 도면이다.
도 2c는 도 2a에 나타내는 제2 농도 계측부의 구성예를 나타내는 도면이다.
도 3은 도 1, 도 2a 내지 도 2c에 나타내는 처리액 생성 장치에 있어서의 각 밸브를 제어하는 제어계의 구성예를 나타내는 블록도이다.
도 4a는 도 3에 나타내는 제어계에 있어서의 제어 유닛의 처리 순서의 일례를 나타내는 흐름도(그 1)이다.
도 4b는 도 3에 나타내는 제어계에 있어서의 제어 유닛의 처리 순서의 일례를 나타내는 흐름도(그 2)이다.
도 5는 농도계의 교정 처리의 순서의 일례를 나타내는 흐름도이다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 도면을 이용하여 설명한다.
본 발명의 일실시형태에 따른 처리액 생성 장치를 포함하는 기판 처리 장치는, 도 1에 나타내는 바와 같이 구성된다.
도 1에 있어서, 이 기판 처리 장치는, 2개의 처리액 생성 장치와, 2계통의 처리액 공급(처리액 공급 기구)·회수계와, 스핀 장치(100)를 가지고 있다. 한쪽의 처리액 생성 장치는, 제1 공급 탱크(11a), 2개의 적산 유량계(14a, 15a), 2개의 조정 밸브(16a, 17a), 제1 펌프(18a), 개폐 밸브(19a), 생성 순환계의 2개의 삼방 밸브(21, 22), 상류측 제1 밸브군(12a), 상류측 제2 밸브군(12b), 제1 농도 계측부(20a), 제2 농도 계측부(20b), 하류측 제1 밸브군(13a) 및 하류측 제2 밸브군(13b)을 갖는 구성으로 되어 있다. 다른쪽의 처리액 생성 장치는, 생성 순환계의 2개의 삼방 밸브(21, 22), 상류측 제1 밸브군(12a), 상류측 제2 밸브군(12b), 제1 농도 계측부(20a), 제2 농도 계측부(20b), 하류측 제1 밸브군(13a) 및 하류측 제2 밸브군(13b)을 상기 한쪽의 처리액 생성 장치와 공용하는 것 외에, 제2 공급 탱크(11b), 2개의 적산 유량계(14b, 15b), 2개의 조정 밸브(16b, 17b), 제2 펌프(18b) 및 개폐 밸브(19b)를 갖는 구성으로 되어 있다. 한쪽의 계통의 처리액 공급·회수계는, 제1 공급 탱크(11a) 및 제1 펌프(18a)를 전술한 한쪽의 처리액 생성 장치와 공용하며, 삼방 밸브(23, 24) 및 회수 탱크(10)를 갖는 구성으로 되어 있다. 또한, 다른쪽의 계통의 처리액 공급·회수계는, 제2 공급 탱크(11b) 및 제2 펌프(18b)를 전술한 다른쪽의 처리액 생성 장치와 공용하며, 회수 탱크(10) 및 2개의 삼방 밸브(23, 24)를 전술한 한쪽의 계통의 처리액 공급·회수계와 공용하는 구성으로 되어 있다.
후술하는 바와 같이 제1 공급 탱크(11a) 내에서 농도 조정되어 생성되는 처리액은, 삼방 밸브(23)가 제1 공급 탱크(11a)측으로 전환되어, 제1 펌프(18a)가 동작함으로써, 제1 공급 탱크(11a)로부터 삼방 밸브(23)를 통하여 스핀 장치(100) 내의 노즐(111)에 공급되고, 그 노즐(111)로부터 처리액이 토출된다(처리액 공급 기구). 스핀 장치(100)에는, 모터 등의 구동 기구(112)에 의해 회전하는 지지 스테이지(110)(테이블)가 마련되고, 지지 스테이지(110)에 그 둘레 가장자리부가 지지된 반도체 웨이퍼(W)에 대향하도록 노즐(111)이 배치되어 있다. 지지 스테이지(110)의 측방으로부터 하방을 덮는 컵(115)이 마련되어 있다. 노즐(111)로부터 토출되는 처리액(예컨대, 에칭액)은, 지지 스테이지(110)와 함께 회전하는 반도체 웨이퍼(W)의 표면에 뿌려지고, 그 처리액에 의해 반도체 웨이퍼(W)의 표면이 처리(에칭 처리)된다. 회전하는 반도체 웨이퍼(W)의 표면으로부터 비산하는 사용 종료 처리액은, 컵(115) 내에 수용되고, 더욱, 배출 경로(도시 생략)를 통과하여 회수 탱크(10)에 회수된다. 그리고, 회수 탱크(10) 내의 사용 종료 처리액은, 제1 공급 탱크(11a)측으로 전환된 삼방 밸브(24)를 통과하여 제1 공급 탱크(11a)에 복귀된다.
한편, 2개의 삼방 밸브(23, 24)가 제2 공급 탱크(11b)측으로 전환되면, 제2 공급 탱크(11b) 내에서 농도 조정되어 생성되는 처리액은, 제2 펌프(18b)의 동작에 의해, 제2 공급 탱크(11b)로부터 삼방 밸브(23)를 통하여 스핀 장치(100)의 노즐(111)에 공급된다(처리액 공급 기구). 그리고, 전술한 바와 마찬가지로, 노즐(111)로부터 토출하여 스핀 장치(100) 내에서 회전하는 반도체 웨이퍼(W)의 표면에 뿌려져 사용 완료된 처리액은, 회수 탱크(10)에 회수되고, 더욱, 회수 탱크(10)로부터 삼방 밸브(24)를 통하여 제2 공급 탱크(11b)에 복귀된다.
전술한 제1 공급 탱크(11a)와 제2 공급 탱크(11b)에 의해 분리되는 2계통의 처리액 공급(처리액 공급 기구)·회수계의 각각은, 각 공급 탱크(11a, 11b) 내의 처리액의 상태(양, 농도, 불순물의 양 등)에 따라, 삼방 밸브(23, 24)에 의해 적절하게 전환된다. 그 결과, 스핀 장치(100)에 있어서, 적정한 상태(농도 등)의 처리액에 의한 반도체 웨이퍼(W)의 표면의 처리를 계속시킬 수 있다.
다음에, 처리액 생성 장치의 구체적인 구성에 대해서 설명한다. 또한, 2개의 처리액 생성 장치는, 상류측 제1 밸브군(12a), 상류측 제2 밸브군(12b), 하류측 제1 밸브군(13a), 하류측 제2 밸브군(13b), 제1 농도 계측부(20a), 제2 농도 계측부(20b) 및 2개의 삼방 밸브(21, 22)를 공용하는 것 외에, 복수의 동종의 구성 부품을 구비하며, 동일한 동작을 하기 때문에, 제1 공급 탱크(11a)를 포함하는 한쪽의 처리액 생성 장치에 대해서 설명한다.
적산 유량계(14a) 및 조정 밸브(16a)가 마련된 액로가 제1 공급 탱크(11a)에 접속되어 있고, 이 액로를 통하여 처리액(예컨대, 에칭액으로서의 인산 수용액)의 원액이 제1 공급 탱크(11a)에 공급되게 되어 있다. 적산 유량계(15a) 및 조정 밸브(17a)가 마련된 액로가 제1 공급 탱크(11a)에 접속되어 있고, 이 액로를 통하여 희석액(예컨대, 순수)이 제1 공급 탱크(11a)에 공급되게 되어 있다.
제1 공급 탱크(11a)로부터 나와서, 제1 펌프(18a) 및 개폐 밸브(19a)를 통해 제1 공급 탱크(11a)로 되돌아가는 순환액로가 형성되어 있다. 또한, 제1 공급 탱크(11a)로부터 나와서, 제1 펌프(18a), 삼방 밸브(21), 상류측 제1 밸브군(12a), 제1 농도 계측부(20a), 하류측 제1 밸브군(13a) 및 삼방 밸브(22)를 통해 제1 공급 탱크(11a)로 되돌아가는 액로(P1)가 형성되어 있다. 이 액로(P1)를, 이하, 제1 순환액로(P1)(제1 처리액로)라고 한다. 또한, 제1 공급 탱크(11a)로부터 나와서, 제1 펌프(18a), 삼방 밸브(21), 상류측 제2 밸브군(12b), 제2 농도 계측부(20b), 하류측 제2 밸브군(13b) 및 삼방 밸브(22)를 통해 제1 공급 탱크(11a)로 되돌아가는 액로(P2)가 형성되어 있다. 이 액로(P2)를, 이하, 제2 순환액로(P2)(제2 처리액로)라고 한다.
상류측 제1 밸브군(12a), 상류측 제2 밸브군(12b), 하류측 제1 밸브군(13a) 및 하류측 제2 밸브군(13b)은, 도 2a에 나타내는 바와 같이 구성되어 있다.
상류측 제1 밸브군(12a)은, 삼방 밸브(21)로부터 이어지는 제1 순환액로(P1)에 마련된 개폐 밸브(120a)를 포함하고, 상류측 제2 밸브군(12b)은, 삼방 밸브(21)로부터 이어지는 제2 순환액로(P2)에 마련된 개폐 밸브(120b)를 포함한다. 하류측 제1 밸브군(13a)은, 제1 농도 계측부(20a)를 통하여 삼방 밸브(22)를 향하여 연장되는 제1 순환액로(P1)에 마련된 개폐 밸브(130a)를 포함하고, 하류측 제2 밸브군(13b)은, 제2 농도 계측부(20b)를 통하여 삼방 밸브(22)를 향하여 연장되는 제2 순환액로(P2)에 마련된 개폐 밸브(130b)를 포함한다.
상류측 제1 밸브군(12a)에 포함되는 개폐 밸브(120a)와 하류측 제1 밸브군(13a)에 포함되는 개폐 밸브(130a)의 조는, 제1 순환액로(P1)(제1 처리액로)의 개폐를 행하는 제1 밸브 기구로서 구성된다. 또한, 상류측 제2 밸브군(12b)에 포함되는 개폐 밸브(120b)와 하류측 제2 밸브군(13b)에 포함되는 개폐 밸브(130b)의 조는, 제2 순환액로(P2)(제2 처리액로)의 개폐를 행하는 제2 밸브 기구로서 구성된다.
도 1에는 나타내고 있지 않지만, 상류측 제1 밸브군(12a), 상류측 제2 밸브군(12b), 하류측 제1 밸브군(13a) 및 하류측 제2 밸브군(13b)은, 다른 액로의 개폐를 행하는 복수의 개폐 밸브를 포함한다. 구체적으로는, 도 2a에 나타내는 바와 같이, 제1 순환액로(P1) 외에, 제1 농도 계측부(20a)를 통과하는 2개의 액로(Pc1, Pp1)가 형성되어 있고, 제2 순환액로(P2) 외에, 제2 농도 계측부(20b)를 통과하는 2개의 액로(Pc2, Pp2)가 형성되어 있다. 액로(Pc1)는, 제1 농도 계측부(20a)에 있어서의 농도계의 교정에 이용되는 교정액의 액원으로부터 제1 농도 계측부(20a)를 통과하여 배출부를 향하여 연장되는 액로로서, 제1 교정액로(Pc1)를 구성한다. 또한, 상기 교정액으로서, 처리액과 동성분의 액체를 이용할 수 있다. 제1 교정액로(Pc1)에는, 농도가 기지인 교정액이 공급된다. 또한, 적어도 농도계를 통과할 때의 교정액의 농도가 기지이면 좋고, 교정액의 액원으로부터 교정액이 그대로 공급되어도 좋고, 액원으로부터의 교정액이 소정 농도로 조정되고 나서 공급되는 것이어도 상관없다. 액로(Pc2)는, 동일한 교정액의 액원으로부터 제2 농도 계측부(20b)를 통과하여 배출부를 향하여 연장되는 액로로서, 이 액로(Pc2)를 흐르는 교정액도 제2 농도 계측부(20b)에 있어서의 농도계의 교정에 이용되며, 제2 교정액로(Pc2)를 구성한다. 액로(Pp1)는, 순수의 액원으로부터 제1 농도 계측부(20a)를 통과하여 배출부를 향하여 연장되는 액로로서, 제1 세정액로(Pp1)를 구성한다. 액로(Pp2)는, 동일한 순수의 액원으로부터 제2 농도 계측부(20b)를 통과하여 배출부를 향하여 연장되는 액로로서, 제2 세정액로(Pp2)를 구성한다.
상류측 제1 밸브군(12a)은, 제1 세정액로(Pp1)에 마련된 개폐 밸브(121a) 및 제1 교정액로(Pc1)에 마련된 개폐 밸브(122a)를 포함한다. 하류측 제1 밸브군(13a)도, 제1 세정액로(Pp1)에 마련된 개폐 밸브(131a) 및 제1 교정액로(Pc1)에 마련된 개폐 밸브(132a)를 포함한다. 또한, 상류측 제2 밸브군(12b)은, 제2 세정액로(Pp2)에 마련된 개폐 밸브(121b) 및 제2 교정액로(Pc2)에 마련된 개폐 밸브(122b)를 포함한다. 하류측 제2 밸브군(13b)도, 제2 세정액로(Pp2)에 마련된 개폐 밸브(131b) 및 제2 교정액로(Pc2)에 마련된 개폐 밸브(132b)를 포함한다.
상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(122a)와, 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(132a)의 조는, 제1 교정액로(Pc1)를 개폐하는 제3 밸브 기구로서 구성된다. 상류측 제2 밸브군(12b)의 개폐 밸브(122b)와, 하류측 제2 밸브군(13b)의 개폐 밸브(132b)의 조는, 제2 교정액로(Pc2)를 개폐하는 제4 밸브 기구로서 구성된다. 또한, 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(121a)와, 하류측 밸브군(13a)의 개폐 밸브(131a)의 조는, 제1 세정액로(Pp1)를 개폐하는 제5 밸브 기구로서 구성되고, 상류측 제2 밸브군(12b)의 개폐 밸브(121b)와, 하류측 제2 밸브군(13b)의 개폐 밸브군(131b)의 조는, 제2 세정액로(Pp2)를 개폐하는 제6 밸브 기구로서 구성된다.
제1 농도 계측부(20a)는, 예컨대, 도 2b에 나타내는 바와 같이 구성되어 있고, 또한, 제2 농도 계측부(20b)는, 예컨대, 도 2c에 나타내는 바와 같이 구성되어 있다.
도 2b에 나타내는 바와 같이, 제1 농도 계측부(20a)는, 제1 농도계(201a), 상류측 제1 전환 밸브(202a) 및 하류측 제1 전환 밸브(203a)를 가지고 있다. 전술한 바와 같이 상류측 제1 밸브군(12a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)이 마련된 제1 순환액로(P1), 제1 교정액로(Pc1) 및 제1 세정액로(Pp1)의 3개의 액로는, 제1 농도 계측부(20a) 내에 있어서, 상류측에서 상류측 제1 전환 밸브(202a)에 병렬적으로 접속하며, 하류측에서 하류측 제1 전환 밸브(203a)에 병렬적으로 접속함으로써, 이들 상류측 제1 전환 밸브(202a)와 하류측 제1 전환 밸브(203a)를 결합하는 1개의 액로(Pm1)에 통합되어 있다. 그리고, 액로(Pm1)의 부분에 제1 농도계(201a)가 마련되어 있다.
이러한 제1 농도 계측부(20a)에서는, 상류측 제1 전환 밸브(202a) 및 하류측 제1 전환 밸브(203a)의 전환 동작에 의해, 제1 순환액로(P1)에 액로(Pm1)가 연통되면, 제1 순환액로(P1)를 흐르는 처리액이 액로(Pm1)를 흐르게 된다. 이에 의해, 제1 농도계(201a)에 의해 액로(Pm1)를 흐르는 처리액의 농도, 즉 제1 순환액로(P1)를 흐르는 처리액의 농도를 계측할 수 있다. 또한, 상류측 제1 전환 밸브(202a) 및 하류측 제1 전환 밸브(203a)의 전환 동작에 의해, 제1 교정액로(Pc1)에 액로(Pm1)가 연통되면, 제1 교정액로(Pc1)를 흐르는 교정액이 액로(Pm1)를 흐르게 되어, 제1 농도계(201a)의 교정을 행할 수 있다. 또한, 상류측 제1 전환 밸브(201a) 및 하류측 제1 전환 밸브(203a)의 전환 동작에 의해, 제1 세정액로(Pp1)에 액로(Pm1)가 연통되면, 제1 세정액로(Pp1)를 흐르는 세정액이 액로(Pm1)를 흐르게 되어, 그 세정액에 의해 액로(Pm1) 및 제1 농도계(201a)를 세정할 수 있다.
또한, 도 2c에 나타내는 바와 같이, 제2 농도 계측부(20b)는, 제2 농도계(201b), 상류측 제2 전환 밸브(202b) 및 하류측 제2 전환 밸브(203b)를 가지고 있다. 전술한 바와 같이 상류측 제2 밸브군(12b) 및 하류측 제2 밸브군(13b)이 마련된 제2 순환액로(P2), 제2 교정액로(Pc2) 및 제2 세정액로(Pp2)의 3개의 액로는, 제2 농도 계측부(20b) 내에 있어서, 상류측에서 상류측 제2 전환 밸브(202b)에 병렬적으로 접속하며, 하류측에서 하류측 제2 전환 밸브(203b)에 병렬적으로 접속함으로써, 이들 상류측 제2 전환 밸브(202b)와 하류측 제2 전환 밸브(203b)를 결합하는 액로(Pm2)에 통합되어 있다. 그리고, 액로(Pm2)의 부분에 제2 농도계(201b)가 마련되어 있다.
이러한 제2 농도 계측부(20b)에서는, 상류측 제2 전환 밸브(202b) 및 하류측 제2 전환 밸브(203b)의 전환 동작에 의해, 제2 순환액로(P2)에 액로(Pm2)가 연통되면, 제2 순환액로(P2)를 흐르는 처리액이 액로(Pm2)를 흐르게 되어, 제2 농도계(201b)에 의해 액로(Pm2)를 흐르는 처리액의 농도, 즉, 제2 순환액로(P2)를 흐르는 처리액의 농도를 계측할 수 있다. 또한, 상류측 제2 전환 밸브(202b) 및 하류측 제2 전환 밸브(203b)의 전환 동작에 의해, 제2 교정액로(Pc2)에 액로(Pm2)가 연통되면, 제2 교정액로(Pc2)를 흐르는 교정액이 액로(Pm2)를 흐르게 되어, 제2 농도계(201a)의 교정을 행할 수 있다. 또한, 상류측 제2 전환 밸브(202b) 및 하류측 제2 전환 밸브(203b)의 전환 동작에 의해, 제2 세정액로(Pp2)에 액로(Pm2)가 연통되면, 제2 세정액로(Pp2)를 흐르는 세정액이 액로(Pm2)를 흐르게 되어, 그 세정액에 의해 액로(Pm2)및 제2 농도계(201b)를 세정할 수 있다.
제1 농도 계측부(20a)에 마련된 제1 농도계(201a)와 제2 농도 계측부(20b)에 마련된 제2 농도계(201b)는, 상이한 측정 원리에 따라 이들 농도 계측부(20a, 20b)를 흐르는 처리액(교정액)의 농도를 측정하고, 그 측정 농도에 대응한 측정 신호를 출력한다. 즉, 제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)는, 제1 순환액로(P1) 및 제2 순환액로(P2)의 각각을 흐르는 처리액[보다 상세하게는, 액로(Pm1 및 Pm2)의 각각을 흐르는 처리액]의 농도를 상이한 측정 원리에 따라 측정한다. 제1 농도계(201a)(도 2b 참조)로서, 예컨대, 대상이 되는 액체의 전기 전도율에 기초하여 농도를 측정하는 것을 이용할 수 있다. 제2 농도계(201b)로서, 예컨대, 도 2c에 나타내는 바와 같이, 액로(Pm2)의 투명부(TP)를 사이에 두고 마련된 레이저 광원과 수광부에 의해 구성되어, 대상이 되는 액체의 농도를 광학적으로 측정하는 것을 이용할 수 있다. 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b)의 각각으로서, 그 외에, 예컨대, 초음파를 이용하여 농도를 측정하는 것, 적외선을 이용하여 농도를 측정하는 것 등을 이용할 수 있다.
또한, 제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)는, 처리액 중의 제1 공급 탱크(11a) 또는 제2 공급 탱크(11b)(처리액 조정부에 포함됨)에서의 농도 조정에 따른 동일한 성분의 농도를 그 처리액의 농도로서 측정하는 것이다. 예컨대, 처리액이 인산 수용액인 에칭 처리액으로서, 그 에칭 처리액 중의 인산의 농도 조정이 그 처리액의 농도 조정으로서 행해지는 경우, 제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)는, 에칭 처리액 중의 인산의 농도를 그 처리액의 농도로서 측정한다. 또한, 일반적으로, 처리액이 복수의 성분을 함유하는 경우라도, 제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)는, 제1 공급 탱크(11a) 또는 제2 공급 탱크(11b)(처리액 조정부에 포함됨)에서의 농도 조정에 따른 동일한 성분에 대한 농도를 처리액의 농도로서 측정한다.
또한, 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b) 중 적어도 어느 한쪽이, 복수의 성분(예컨대, 인산의 농도와 수분 농도)의 농도 측정이 가능한 경우가 있을 수 있다. 한쪽의 농도계가 농도 조정에 따른 성분을 포함하는 복수의 성분의 농도 측정을 행하는 경우, 다른쪽의 농도계는, 적어도 상기 농도 조정에 따른 성분의 농도 측정을 행하면 좋다. 이에 의해, 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b)의 쌍방에 있어서, 적어도 상기 농도 조정에 따른 성분의 농도 측정이 가능해져, 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b) 중 적어도 한쪽에서의 측정 농도에 기초하여 처리액 중의 성분 농도의 조정이 가능해진다.
전술한 바와 같이 구성되는 처리액 생성 장치의 제어계는, 예컨대, 도 3에 나타내는 바와 같이 구성된다.
도 3에 있어서, 이 처리액 공급 장치는 제어 유닛(30)을 가지고 있다. 제어 유닛(30)은, 제1 농도 계측부(20a)(도 2b 참조)에 있어서 제1 순환액로(P1)에 액로(Pm1)가 연통되고, 제2 농도 계측부(20b)(도 2c 참조)에 있어서 제2 순환액로(P2)에 액로(Pm2)가 연통되도록, 제1 농도 계측부(20a)의 상류측 제1 전환 밸브(202a) 및 하류측 제1 전환 밸브(203a)를 구동 제어하여, 제2 농도 계측부(20b)의 상류측 제2 전환 밸브(202b) 및 하류측 제2 전환 밸브(203b)를 구동 제어한다. 이 상태로, 제어 유닛(30)은, 적산 유량계(14a)로부터의 처리액(예컨대, 인산 수용액인 에칭 처리액)의 유량 정보 및 적산 유량계(15a)로부터의 희석액(예컨대, 순수)의 유량 정보를 감시하면서, 제1 농도 계측부(20a)[제1 농도계(201a): 도 2b 참조] 및 제2 농도 계측부(20b)[제2 농도계(201b): 도 2c 참조]에서의 측정 농도(예컨대, 인산의 측정 농도)에 기초하여, 처리액 및 희석액을 제1 공급 탱크(11a)에 공급하는 2개의 액로에 마련된 조정 밸브(16a, 17a)를 구동하는 구동 회로(31a)를 제어한다. 이에 의해, 제1 공급 탱크(11a) 내에서 생성되는 처리액의 농도(예컨대, 인산의 농도)가 조정된다. 또한, 제어 유닛(30)은, 적산 유량계(14b)로부터의 처리액의 유량 정보 및 적산 유량계(15b)로부터의 희석액의 유량 정보를 감시하면서, 제1 농도 계측부(20a) 및 제2 농도 계측부(20b)에서의 측정값에 기초하여, 처리액 및 희석액을 제2 공급 탱크(11b)에 공급하는 2개의 액로에 마련된 조정 밸브(16b, 17b)를 구동하는 구동 회로(31b)를 제어한다. 이에 의해, 제2 공급 탱크(11b) 내에서 생성되는 처리액의 농도가 조정된다. 또한, 이 농도 조정의 상세에 대해서는, 후술한다.
제어 유닛(30)은, 스핀 장치(100)[노즐(111)]에 대한 처리액의 공급원을 제1 공급 탱크(11a) 및 제2 공급 탱크(11b) 중 어느 하나로 전환하기 위해, 처리액 공급·회수계의 삼방 밸브(23)를 전환하여 구동하는 구동 회로(34a)를 제어한다. 또한, 제어 유닛(30)은, 스핀 장치(100)로부터 회수 탱크(10)에 복귀된 사용 완료된 처리액의 이송처를 제1 공급 탱크(11a) 및 제2 공급 탱크(11b) 중 어느 하나로 전환하기 위해, 처리액 공급·회수계의 삼방 밸브(24)를 전환하여 구동하는 구동 회로(34a)를 제어한다.
제어 유닛(30)은, 제1 농도 계측부(20a) 및 제2 농도 계측부(20b)를 통하여 순환시켜 농도 조정하여야 하는 처리액의 저류원을 제1 공급 탱크(11a) 및 제2 공급 탱크(11b) 중 어느 하나로 전환하기 위해, 생성 순환계의 삼방 밸브(21, 22)를 전환 제어하는 구동 회로(34b)를 제어한다. 그 농도 조정에 있어서, 제어 유닛(30)은, 제1 순환액로(P1)(도 2a 참조)에 마련된 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(120a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(130a)의 개폐 구동을 행하는 구동 회로(33a)를 제어한다. 또한, 그때, 제어 유닛(30)은, 제2 순환액로(P2)(도 2a 참조)에 마련된 상류측 제2 밸브군(12b)의 개폐 밸브(120b) 및 하류측 제2 밸브군(13b)의 개폐 밸브(130b)의 개폐 구동을 행하는 구동 회로(33b)를 제어한다.
또한, 제어 유닛(30)은, 제1 농도 계측부(20a)의 제1 농도계(201a)의 교정에 있어서, 제1 교정액로(Pc1)(도 2 참조)에 마련된 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(122a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(132a)의 개폐 구동과, 제1 세정액로(Pp1)(도 2 참조)에 마련된 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(121a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(131a)의 개폐 구동을 행하는 구동 회로(33a)를 제어한다. 그때, 제어 유닛(30)은, 제1 농도 계측부(20a)(도 2b 참조)에 있어서, 제1 교정액로(Pc1)에 액로(Pm1)가 연통되는 상태와, 제1 세정액로(Pp1)에 액로(Pm1)가 연통되는 상태를 전환하도록, 상류측 제1 전환 밸브(202a) 및 하류측 제1 전환 밸브(203b)의 전환 제어를 행한다. 또한, 또한, 제어 유닛(30)은, 제2 농도 계측부(20b)의 제2 농도계(201b)의 교정에 있어서, 제2 교정액로(Pc2)(도 2 참조)에 마련된 상류측 제2 밸브군(12b)의 개폐 밸브(122b) 및 하류측 제2 밸브군(13b)의 개폐 밸브(132b)의 개폐 구동과, 제2 세정액로(Pp2)(도 2a 참조)에 마련된 상류측 제2 밸브군(12b)의 개폐 밸브(121b) 및 하류측 제2 밸브군(13b)의 개폐 밸브(131b)의 개폐 구동을 행하는 구동 회로(33b)를 제어한다. 그때, 제어 유닛(30)은, 제2 농도 계측부(20b)(도 2c 참조)에 있어서, 제2 교정액로(Pc2)에 액로(Pm2)가 연통되는 상태와, 제2 세정액로(Pp2)에 액로(Pm2)가 연통되는 상태를 전환하도록, 상류측 제2 전환 밸브(202b) 및 하류측 제2 전환 밸브(203b)의 전환 제어를 행한다. 또한, 제어 유닛(30)은, 제1 펌프(18a)를 구동시키는 구동 회로(35a) 및 제2 펌프(18b)를 구동시키는 구동 회로(35b)를 제어한다. 또한, 제어 유닛(30)은, 개폐 밸브(19a)의 개폐 구동을 행하는 구동 회로(32a) 및 개폐 밸브(19b)의 개폐 구동을 행하는 구동 회로(32b)를 제어한다.
제어 유닛(30)은, 도 4a 및 도 4b에 나타내는 순서에 따라, 제1 공급 탱크(11a) 및 제2 공급 탱크(11b)에서 생성되는 처리액(예컨대, 에칭 처리액으로서의 인산 수용액)의 농도 조정에 따른 처리를 행한다. 또한, 이하, 제1 공급 탱크(11a)에서 생성되는 처리액의 농도 조정에 따른 처리에 대해서 설명하지만, 제2 공급 탱크(11b)에서 생성되는 처리액의 농도 조정에 따른 처리에 대해서도 동일한 순서로 행해진다.
제어 유닛(30)은, 적산 유량계(14a, 15a)로부터의 유량 정보를 감시하면서, 조정 밸브(16a, 17a)를 개방 상태로 하여, 소정량의 처리액(원액) 및 희석액이 제1 공급 탱크(11a)에 모이면, 조정 밸브(16a, 17a)를 폐쇄 상태로 한다. 그 후, 제어 유닛(30)은, 개폐 밸브(19a)를 개방 상태로 하여, 삼방 밸브(21, 23)의 제1 공급 탱크(11a)측을 폐쇄한 상태로, 제1 펌프(18a)를 구동시킨다. 이에 의해, 제1 공급 탱크(11a)로부터 나오는 처리액 및 희석액이 개폐 밸브(19a)가 마련된 순환액로를 통과하여 제1 공급 탱크(11a)로 되돌아가서, 순환한다. 그 과정에서, 처리액과 희석액이 혼합되어 희석화된 처리액이 제1 공급 탱크(11a) 내에서 생성된다. 제1 공급 탱크(11a) 내에 있어서 처리액과 희석액을 혼합시켜 처리액의 농도(예컨대, 에칭액 중의 인산 농도)를 조정하는 구조 전체가, 즉, 제1 공급 탱크(11a) 내에 있어서 처리액을 생성할 때에 관련된 구성이, 처리액 조정부로서 기능한다.
그 후, 제어 유닛(30)은, 개폐 밸브(19a)를 폐쇄 상태로 전환하며, 순환계의 삼방 밸브(21, 22)를 제1 공급 탱크(11a)측으로 전환한다. 또한, 이때, 제어 유닛(30)은, 제1 순환액로(P1)에 마련된 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(120a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(130a)(제1 밸브 기구: 도 2a 참조)를 개방 상태로 하며, 제2 순환액로(P2)에 마련된 상류측 제2 밸브군(12b)의 개폐 밸브(120b) 및 하류측 제2 밸브군(13b)의 개폐 밸브(130b)(제2 밸브 기구: 도 2a 참조)를 개방 상태로 한다. 이 상태로, 제1 공급 탱크(11a)로부터 나오는 처리액이 제1 순환액로(P1) 및 제2 순환액로(P2)를 병렬적으로 통과하여 제1 공급 탱크(11a)로 되돌아가서, 순환한다.
이와 같이 하여, 처리액의 제1 순환액로(P1) 및 제2 순환액로(P2)를 통한 순환이 개시되면, 제어 유닛(30)은, 도 4a 및 도 4b에 나타내는 순서에 따라 처리를 개시한다.
도 4a에 있어서, 제어 유닛(30)은, 제1 농도 계측부(20a)[제1 농도계(201a): 도 2b 참조] 및 제2 농도 계측부(20b)[제2 농도계(201b): 도 2c 참조]가 교정 중인지의 여부를 확인하고(S11, S12), 제1 농도 계측부(20a) 및 제2 농도 계측부(20b)의 쌍방이 교정 중이 아니면(S11에서 아니오(NO), S12에서 아니오), 제1 농도계(201a)[제1 농도 계측부(20a)]로부터의 측정 신호에 기초한 농도(C1)와, 제2 농도계(201b)[제2 농도 계측부(20b)]로부터의 측정 신호에 기초한 농도(C2)를 취득한다(S13, S14). 그리고, 제어 유닛(30)은, 이들 2개의 측정 농도(C1, C2)에 기초하여, 제2 농도계(201b)가 정상인지의 여부[S15: 제2 판정부(처리액용 밸브 제어부)] 및 제1 농도계(201a)가 정상인지의 여부[S16: 제1 판정부(처리액용 밸브 제어부)]를 판정한다.
제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)는, 동일한 처리액의 농도(구체적으로는, 에칭 처리액 중의 인산의 농도)를 측정하고 있기 때문에, 측정 농도는, 본래 동일해진다. 이 때문에, 제1 농도계(201a)에서의 측정 농도(C1)와 제2 농도계(201b)에서의 측정 농도(C2)의 차가, 미리 설정된 소정 범위 내이면, 제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)는 정상이라고 판정할 수 있다. 한편, 순환하는 처리액의 농도가 급격히 변동할 가능성은 낮다. 그리고, 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b)의 쌍방이 동시에 고장날 가능성도 낮다. 특히, 제1 농도계(201a)의 농도 측정 원리와 제2 농도계(201b)의 농도 측정 원리가 상이하기 때문에, 동일한 환경에서 사용되는 제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)가 동시에 고장날 가능성은 더욱 낮다. 따라서, 한쪽의 농도계에서의 측정 농도의 추이가 안정되어 있는 상태에 있어서, 다른쪽의 농도계에서의 측정 농도가 급격히 변동한 경우(예컨대, 한쪽의 농도계와 다른쪽의 농도계로부터 각각 얻어진 측정 농도의 차가, 미리 설정된 소정범위를 넘고, 더구나, 다른쪽의 농도계에서 측정되는 농도의 단위 시간당의 변동폭이 미리 설정한 허용값을 넘은 경우, 혹은 다른쪽의 농도계에 의한 측정 농도의 단위 시간당의 변동폭이 미리 설정한 허용값을 넘은 경우), 그 다른쪽의 농도계가 정상이 아니라고 판정할 수 있다. 즉, 본 실시형태에 있어서는, 농도계에 관해서, 자기 진단 기능을 가지고 있다. 또한, 제1 농도계(201a)에서의 측정 농도(C1)와 제2 농도계(201b)에서의 측정 농도(C2)가 모두 급격하게 변동한 경우로, 측정 농도(C1과 C2)의 차가 미리 설정된 허용 범위 내이면, 제1 농도계(201a), 제2의 농도계(201b)는 모두 정상이며, 제1 공급 탱크(11a)에서의 처리액의 농도 조정에 문제점이 있다고 판정할 수 있다.
제2 농도계(201b) 및 제1 농도계(201a)의 쌍방이 정상이라고 판정되면(S15에서 예(YES), S16에서 예), 제어 유닛(30)은, 제1 농도계(201a)로부터의 측정 농도(C1)에 기초하여 처리액의 농도 조정 처리를 행한다(S17). 구체적으로는, 제어 유닛(30)은, 측정 농도(C1)가 목표 농도가 되도록, 적산 유량계(14a, 15b)에서의 유량 정보를 감시하면서, 조정 밸브(16a, 17a)의 개폐 상태를 조정한다. 그 후, 제어 유닛(30)은, 처리액의 농도 조정을 위해 순환을 종료시키기 위한 조건, 예컨대, 소정 시간이 경과한 것, 혹은, 측정 농도(C1)가 목표 농도를 중심으로 한 소정 농도범위에 달한 것 등의 조건이 만족되었는지 여부를 판정한다(S18). 처리액의 농도 조정을 위한 순환을 종료시키는 조건이 만족되어 있지 않다고 판정되면(S18에서 아니오), 제어 유닛(30)은, 전술한 순서와 동일한 순서(S11∼S18)에 따라 처리를 실행한다. 그리고, 제어 유닛(30)은, 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b)가 정상인 상황에 있어서, 동일한 순서(S11∼S18)에 따라 그 처리를 반복해서 실행한다. 그 결과, 제1 농도계(201a)에서의 측정 농도(C1)에 기초하여 제1 공급 탱크(11a)(처리액 조정부) 내에 있어서 처리액의 농도 조정(구체적으로는, 에칭 처리액 중의 인산의 농도 조정)이 행해지고, 미리 설정된 목표 농도로 조정된 처리액(구체적으로는, 인산의 농도가 목표 농도로 조정된 에칭 처리액)이 생성된다. 그리고, 처리액의 농도 조정을 위한 순환이 개시되고 나서 소정 시간이 경과한 것, 혹은, 측정 목표(C1)가 목표 농도를 중심으로 한 소정 농도 범위에 달한 것 등의 처리액의 농도 조정을 위한 순환을 종료시키기 위한 조건이 만족되면(S18에서 예), 제어 유닛(30)은, 제1 펌프(18a)를 정지시켜, 제1 순환액로(P1)에 마련된 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(120a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(130a)(제1 밸브 기구: 도 2a 참조)를 폐쇄 상태로 전환하며, 제2 순환액로(P2)에 마련한 상류측 제2 밸브군(12b)의 개폐 밸브(120b) 및 하류측 제2 밸브군(13b)의 개폐 밸브(130b)(제2 밸브 기구: 도 2a 참조)를 폐쇄 상태로 전환한다. 이에 의해, 제1 공급 탱크(11a) 내에 있어서의 처리액의 농도 조정을 위한 순환이 정지한다.
전술한 처리의 과정에서, 제어 유닛(30)은, 제2 농도계(201b)에서의 측정 농도(C2)가 안정된 상태에 있어서 제1 농도계(201a)에서의 측정 농도(C1)가 급격하게 변동하는 상황[예컨대, 제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)로부터 각각 얻어진 측정 농도의 차가, 미리 설정된 소정 범위를 넘고, 더구나, 제1 농도계(201a)에서 검출되는 농도(C1)의 단위 시간당의 변동폭이 미리 설정한 허용값을 넘는 상황]이 되는 등에 의해, 제1 농도계(201a)가 정상이 아니라고 판정되면(S16에서 아니오), 제1 순환 액로(P1)에 마련된 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(120a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(130a)(제1 밸브 기구: 도 2a 참조)를 폐쇄 상태로 전환한 [제1 밸브 제어부(처리액용 밸브 제어부)로서의 기능] 후, 병행하여 제1 농도계(201a)의 교정 처리를 개시한다(S20). 이 상태에서, 전술한 제1 농도 계측부(20a)(도 2b 참조)에 있어서의 상류측 제1 전환 밸브(202a) 및 하류측 제1 전환 밸브(203a)의 전환 동작에 의해, 제1 농도계(201a)[액로(Pm1)]에 처리액이 공급되는 일없이, 제1 농도계(201a)의 교정 처리가 행해진다. 또한, 교정 처리에 대해서는 후술한다. 그 후, 제어 유닛(30)은, 처리액의 농도 조정을 위한 순환을 종료시키는 조건이 만족되어 있지 않다고 판정되면(S18에서 아니오), 더욱, 제1 농도계(201a)가 교정 중인지의 여부를 판정한다(S11).
제1 농도계(201a)의 교정 처리가 개시되어 있기 때문에, 제어 유닛(30)은, 제1 농도계(201a)가 교정 중이라고 판정되면(S11에서 예), 도 4b에 나타내는 순서로 이행하여, 제2 농도계(201b)[제2 농도 계측부(20b): 도 2c 참조]가 교정 중인지의 여부를 판정한다(S21). 제2 농도계(201b)가 교정 중이 아니면(S21에서 아니오), 제어 유닛(30)은, 제2 농도계(201b)에서의 측정 농도(C2)가 안정된 상태를 유지하고 있는지의 여부[예컨대, 제2 농도계(201b)에서 검출되는 농도(C2)의 단위 시간당의 변동폭이 미리 설정한 허용값을 넘지 않는지의 여부]에 기초하여 제2 농도계(201b)가 정상인지의 여부를 판정한다(S22). 제2 농도계(201b)가 정상이라고 판정되면(S22에서 예), 제어 유닛(30)은, 제2 농도계(201b)로부터 측정 신호에 기초한 농도(C2)를 취득하고(S23), 그 측정 농도(C2)에 기초하여 처리액의 농도 조정 처리를 행한다(S24). 구체적으로는, 제어 유닛(30)은, 측정 농도(C2)가 목표 농도가 되도록, 적산 유량계(14a, 15a)에서의 유량 정보를 감시하면서, 조정 밸브(16a, 17a)의 개폐 상태를 조정한다. 그 후, 제어 유닛(30)은, 도 4a의 순서로 되돌아가서, 처리액의 농도 조정을 위해 순환을 종료시키기 위한 조건이 만족되었는지의 여부를 판정하고(S18), 처리액의 농도 조정을 위한 순환을 종료시키는 조건이 만족되어 있지 않으면(S18에서 아니오), 제어 유닛(30)은, 전술한 순서와 동일한 순서에 따라 처리를 실행한다. 이 경우, 제1 농도계(201a)가 교정 중이기 때문에, 제2 농도계(201b)에서의 측정 농도(C2)에 기초하여 제1 공급 탱크(11a)(처리액 조정부) 내에 있어서 처리액의 농도 조정이 행해지고, 그 조정된 농도의 처리액(구체적으로는, 조정된 농도의 인산을 함유하는 에칭 처리액)이 생성된다. 그리고, 측정 농도(C2)가 목표 농도를 중심으로 한 소정 농도 범위에 달한 것 등의 처리액의 농도 조정을 위한 순환을 종료시키기 위한 조건이 만족되면(S18으로 예), 제어 유닛(30)은, 마찬가지로, 제1 펌프(18a)를 정지시키는 등에 의해, 처리액의 농도 조정을 위한 순환을 종료시킨다(S19).
또한, 전술한 바와 같이 제2 농도계(201b)에서의 측정 농도(C2)에 기초하여 제1 공급 탱크(11a) 내에 있어서 처리액의 농도 조정(구체적으로는, 에칭 처리액 중의 인산의 농도 조정)이 행해지고 있는 상황에 있어서, 제1 농도계(201a)의 교정 처리가 종료하면, 제어 유닛(30)은, 제1 농도계(201a)[제1 농도 계측부(20a)] 및 제2 농도계(201b)[제2 농도 계측부(20b)] 쌍방이 교정 중이 아니라고(S11에서 아니오, S12에서 아니오) 판정하기 때문에, 폐쇄 상태였던 제1 순환액로(P1)에 마련된 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(120a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(130a)(제1 밸브 기구: 도 2a 참조)를 개방 상태로 전환한 후, 전술한 처리의 순서와 동일한 순서(S11∼S18)를 반복 실행한다. 그 결과, 재차, 제1 농도계(201a)에서의 측정 농도(C1)에 기초하여 제1 공급 탱크(11) 내에 있어서 처리액의 농도 조정이 행해지게 된다.
또한, 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b)의 쌍방이 정상으로서, 제1 농도계(201a)에서의 측정 농도(C1)에 기초하여 농도 조정 처리가 이루어지고 있는 과정(S11∼S18)에 있어서, 예컨대, 그 측정 농도(C1)의 안정이 유지된 상태에서, 측정 농도(C2)가 급격하게 변동함[이것은 예컨대, 제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)로부터 각각 얻어진 농도의 차가, 미리 설정된 소정 범위를 넘고, 더구나, 제2 농도계(201b)에서 검출되는 농도(C2)의 단위 시간당의 변동폭이 미리 설정한 허용값을 넘음]으로써, 제2 농도계(201b)가 정상이 아니라고 판정되면(S15에서 아니오), 제어 유닛(30)은, 제2 순환액로(P2)에 마련된 상류측 제2 밸브군(12b)의 개폐 밸브(120b) 및 하류측 제2 밸브군(13b)의 개폐 밸브(130b)(제2 밸브 기구: 도 2a 참조)를 폐쇄 상태로 전환한[제2 밸브 제어부(처리액용 밸브 제어부)로서의 기능] 후, 전술한 제2 농도 계측부(20b)(도 2c 참조)에 있어서의 상류측 제2 전환 밸브(202b) 및 하류측 제2 전환 밸브(203b)의 전환 동작을 행하여, 제2 농도계(201b)의 교정 처리를 병행하여 개시한다(S25). 이후, 제어 유닛(30)은, 제1 농도계(201a)가 교정 중이 아니며, 제2 농도계(201b)가 교정 중인 것을 확인하면서(S11에서 아니오, S12에서 예), 제1 농도계(201a)로부터의 측정 신호에 기초한 농도(C1)를 취득하고(S26), 그 측정 농도(C1)가 안정된 상태를 유지하고 있는 것[이 경우는, 예컨대, 제1 농도계(201a)에서 검출되는 농도(C1)의 단위 시간당의 변동폭이 미리 설정한 허용값을 넘고 않는 것], 즉, 제1 농도계(201a)가 정상인 것을 확인하면서(S16에서 예), 측정 농도(C1)에 기초하여 제1 공급 탱크(11a)에 있어서의 처리액의 농도 조정 처리(구체적으로는, 에칭 처리액 중의 인산의 농도 조정 처리)를 행한다(S17).
또한, 제1 농도계(201a)가 교정 중으로서, 측정 농도(C2)가 안정되어 있던 제2 농도계(201b)의 그 측정 농도(C2)가 급격하게 변동[예컨대, 제2 농도계(201b)에서 검출되는 농도(C2)의 단위 시간당의 변동폭이 미리 설정한 허용값을 넘는 등]하여, 제2 농도계(201b)가 정상이 아니라고 판정되면(도 4b의 S22에서 아니오), 제어 유닛(30)은, 더욱, 제2 순환액로(P2)에 마련된 상류측 제2 밸브군(12b)의 개폐 밸브(120b) 및 하류측 제2 밸브군(13b)의 개폐 밸브(130b)(제2 밸브 기구: 도 2a 참조)를 폐쇄 상태로 전환한 후, 병행하여 제2 농도계(201b)의 교정 처리를 개시한다(S27). 이 상황에서는, 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b)의 쌍방이 교정 증이기 때문에, 제어 유닛(30)은, 제1 펌프(18a)를 정지시키는 등에 의해, 처리액의 농도 조정을 위한 순환을 종료시킨다(S19). 또한, 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b)의 쌍방이 교정 중이라고 판정되면(도 4a의 S11에서 예, 도 4b의 S21에서 예), 이 경우도, 제어 유닛(30)은, 제1 펌프(18a)를 정지시키는 등에 의해, 처리액의 농도 조정을 위한 순환을 종료시킨다(S19).
전술한 바와 같은 순서에 따라 농도를 조정하여 처리액을 생성하는 장치(처리액 생성 장치)에서는, 제1 농도계(201a)가 정상이 아니라고 판정되어도, 정상이라고 판정된 제2 농도계(201b)에서의 측정 농도(C2)에 기초하여 처리액의 농도 조정(구체적으로는, 에칭 처리액 중의 인산의 농도 조정)의 처리가 계속되기 때문에, 정상이 아닌 농도계에서의 측정 농도에 기초한 처리액의 농도 조정이 계속적으로 이루어지는 것이 방지되어, 그 생성되는 처리액의 농도의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
또한, 하나의 농도계가 교정 중인 때라도, 다른 농도계를 사용하여 정확한 농도를 계측할 수 있기 때문에, 처리액의 농도 조정을 중단시키는 일없이, 계속해서 행할 수 있다.
또한, 한쪽의 농도계가 고장나도, 다른쪽의 농도계에서의 측정 농도에 기초하여 농도 조정의 처리가 계속되기 때문에, 처리액의 농도 조정에 따른 처리의 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 전술한 처리에서는, 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b)의 쌍방이 정상적인 경우, 제1 농도계(201a)에서의 측정 농도(C1)에 기초하여 농도 조정의 처리가 이루어졌지만(S17 참조), 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b)의 쌍방에서의 측정 농도(C1, C2)에 기초하여, 예컨대, 이들의 평균값에 기초하여 농도 조정의 처리를 행할 수도 있다.
전술한 교정 처리는, 도 5에 나타내는 순서에 따라 행해진다. 또한, 제1 농도 계측부(20a)(도 2b 참조)의 제1 농도계(201a) 및 제2 농도 계측부(20b)(도 2c 참조)의 제2 농도계(201b)의 쌍방에서 교정 처리는 행해지지만, 이들 교정 처리는 동일하기 때문에, 이하, 제1 농도 계측부(20a)(도 2b 참조)의 제1 농도계(20a)의 교정 처리를 예로 설명한다.
제어 유닛(30)은, 제1 순환액로(P1)에 마련된 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(120a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(130a)(제1 밸브 기구: 도 2 참조)를 폐쇄 상태로 전환한 후, 도 5에 나타내는 순서에 따라 처리를 실행한다. 도 5에 있어서, 제어 유닛(30)은, 제1 세정액로(Pp1)에 마련된 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(121a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(131a)(제5 밸브 기구: 도 2 참조)를 개방 상태로 하며, 제1 세정액로(Pp1)에 제1 농도 계측부(20a)에 있어서의 액로(Pm1)가 연통되도록, 상류측 제1 전환 밸브(202a) 및 하류측 제1 전환 밸브(203a)를 동작시킨다. 그리고, 그 제1 세정액로(Pp1)에 세정액(예컨대, 순수)을 소정 시간 흐르게 한 후에 개폐 밸브(121a, 131a)(제5 밸브 기구)를 폐쇄 상태로 전환한다[S31(1)]. 이에 의해, 제1 세정액로(Pp1)를 통과하는 세정액이 제1 농도 계측부(20a)의 제1 농도계(201a)가 마련된 액로(Pm1)를 흘러, 그 액로(Pm1)와 함께 제1 농도계(201a)(농도 검출부)가 세정된다.
그 후, 제어 유닛(30)은, 제1 세정액로(Pp1)에 마련된 상기 개폐 밸브(121a 및 131a)를 폐쇄 상태로 전환한 후, 제1 교정액로(Pc1)에 마련된 상류측 제1 밸브군(12a)의 개폐 밸브(122a) 및 하류측 제1 밸브군(13a)의 개폐 밸브(132a)(제3 밸브 기구: 도 2a 참조)를 개방 상태로 하며[제1 교정액용 밸브 제어부(제2 교정액용 밸브 제어부에 상당)로서의 기능], 제1 농도계(201a)가 마련된 액로(Pm1)가 제1 교정액로(Pc1)에 연통되도록, 상류측 제1 전환 밸브(202a) 및 하류측 제1 전환 밸브(203a)를 동작시킨다. 그리고, 그 제1 교정액로(Pc1)에 농도가 기지로 되는 제1 교정액(Lc1)을 흐르게 한다[S32(1)]. 이에 의해, 제1 교정액로(Pc1)를 통과하는 제1 교정액(Lc1)이 제1 농도 계측부(20a)의 제1 농도계(201a)(농도 검출부)가 마련된 액로(Pm1)를 흐른다. 이 상태에서, 제어 유닛(30)은, 제1 농도계(201a)로부터 출력되는 측정 신호의 값(예컨대, 레벨값)을 취득한다[S33(1)]. 그 후, 제어 유닛(30)은, 제1 교정액(Lc1)의 공급을 정지시킨다[S34(1)].
이후, 농도가 상이한 교정액을 순차 전환하면서, n번째의 교정액(Lcn)까지, 동일한 처리[S31(n)∼S34(n)]를 반복해서 실행한다. 그리고, 제어 유닛(30)은, 각 교정액(Lc1∼Lcn)의 농도와 대응하는 측정 신호의 값의 관계(상관 관계)에 기초하여, 측정 신호값과 농도의 대응 정보를 생성한다[S35: 제1 교정 처리부(제2 교정 처리부에 상당)]. 그리고, 제어 유닛(30)은, 그 대응 정보에 기초하여 제1 농도계(201a)에 대하여 기억하고 있는 측정 신호값과 농도의 대응 테이블을 갱신한다. 이와 같이, 본 실시형태에 있어서는, 정상이 아니라고 판정된 농도계에 관해서, 자기 교정 기능을 가지고 있다. 이러한 교정 처리가 종료한 제어 유닛(30)은, 그 대응 테이블을 참조하여 제1 농도계(201a)로부터의 측정 신호에 기초한 농도(C1)를 취득한다.
또한, 본 실시형태에서는, 농도계의 자기 교정 기능에 대해서, 농도가 상이한 교정액을 순차 이용하여, 각 측정 신호값과 농도의 대응 테이블을 갱신하는 예를 설명하였다. 그러나, 교정 기능은, 예컨대, 농도가 기지인 특정 농도의 교정액만을 이용하여 달성되는 것이어도 좋다. 예컨대, 제1 세정액로(Pp1)가 액로(Pm1)에 연통하는 상태에서, 미리 설정된 소정 시간, 세정액을 흐르게 한 후, 제1 교정액로(Pc1)를 액로(Pm1)에 연통시켜, 액로(Pm1)에 특정 농도의 교정액을 흐르게 한다. 이 상태에서 제어 유닛(30)은, 제1 농도계(201a)로부터 출력되는 측정 신호의 값을 취득한다. 그리고, 제1 농도계(201a)가 측정한 농도(C1)가, 액로(Pm1)에 흐르게 한 특정 농도와 일치하면, 농도계의 전극이나, 농도계가 마련된 액로 내면에 부착하고 있던 오물 등의 제거가 행해져, 정상적으로 교정되었다고 판단할 수 있다. 이러한 처리 기능을 교정 기능으로 하여도 좋다. 또한, 제1 농도계(201a)가 측정한 농도(C1)가, 액로(Pm1)에 흐르게 한 특정 농도에 일치하지 않은 경우에는, 액로(Pm1)에의 세정액의 공급과, 교정액의 공급을, 미리 설정된 횟수를 상한으로, 반복하도록 하여도 좋다.
전술한 바와 같은 교정 처리가 종료하면, 제어 유닛(30)은, 제1 교정액로(Pc1)에 마련된 개폐 밸브(122a 및 132a)를 폐쇄 상태로 전환한 후, 제1 순환액로(P1)에 마련된 개폐 밸브(120a, 130a)를 개방 상태로 전환한다[제1 밸브 복귀 제어 수단(제2 밸브 복귀 제어 수단에 상당)]. 이에 의해, 제1 농도 계측부(20a)의 제1 농도계(201a)를 처리액의 농도 조정에 복귀시킬 수 있게 된다.
도 1에 나타내는 기판 처리 장치에서는, 전술한 바와 같이 하여 제1 공급 탱크(11a)에서의 처리액의 농도 조정(구체적으로는, 에칭 처리액 중의 인산의 농도 조정)이 종료하면, 삼방 밸브(21, 22)가 제2 공급 탱크(11b)(처리액 조정부)측으로 전환되며, 삼방 밸브(23, 24)가 제1 공급 탱크(11a)측으로 전환된다. 이 상태에서, 제1 펌프(18a)의 동작에 의해, 제1 공급 탱크(11a) 내에서 농도 조정이 이루어져 생성된 처리액(구체적으로는, 에칭 처리액)이 그 제1 공급 탱크(11a)로부터 스핀 장치(100)[노즐(111)]에 공급되어, 스핀 장치(100) 내에서 제1 공급 탱크(11a)로부터 공급되는 처리액에 의해 반도체 웨이퍼(W)의 표면의 처리(에칭 처리)가 행해진다. 그리고, 스핀 장치(100)로부터 회수되는 사용 종료 처리액이 회수 탱크(10)를 통해 제1 공급 탱크(11a)에 복귀된다.
이와 같이 제1 공급 탱크(11a)로부터 스핀 장치(100)에 처리액이 공급되어 있는 상태에서, 제2 공급 탱크(11b)에서는, 전술한 순서(도 4a, 도 4b 등 참조)에 따라, 처리액의 농도 조정에 따른 처리가 행해져, 소정의 농도가 되는 처리액이 생성된다. 그 후, 제1 공급 탱크(11a) 및 제2 공급 탱크(11b)에서의 처리액의 농도 조정과 스핀 장치(100)에의 처리액의 공급이 서로 전환되면서 계속적으로 행해진다.
전술한 바와 같은 순서에 따라 교정 처리를 행하는 장치(처리액 생성 장치)에서는, 정상이 아니라고 판정된 농도계라도, 자기 교정 기능을 활용하여, 자기 복귀시킬 수 있어, 처리액의 농도의 신뢰성을 높일 수 있다. 더구나, 앞서 서술한 자기 진단 기능도 구비하고 있기 때문에, 처리액의 신뢰성을 항상 높일 수 있다.
또한, 농도계 자체, 또는 농도계가 마련된 액로 내면을 세정할 때에 사용되는 세정액로를 개별로 구비하고 있기 때문에, 농도계의 교정 중에 있어서, 그 농도계를 세정하였을 때에 그 농도계의 전도판(전극) 및 액로 내면에 부착하고 있던 오물이, 처리액이 흐르는 순환액로나 교정액이 흐르는 교정액로에 혼입하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기 실시형태에 있어서는, 제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)는, 상이한 측정 원리에 따라 처리액의 농도를 측정하는 것을 이용하였다. 그러나, 2개의 농도계가 동시에 정상이 아니게 될 확률이 낮은 것을 생각하면, 동일한 원리의 농도계로 하여도 좋다.
또한, 도 2a에 있어서는, 제1 순환액로(P1), 제1 교정액로(Pc1), 제1 세정액로(Pp1)를 개별로 마련하였지만, 삼방 밸브를 갖는 단일 배관으로 하여, 제1 농도 계측부(20a)에 대하여, 처리액, 교정액, 순수를 교대로 흐르게 하도록 하여도 좋다. 제2 농도계(20b)에 대하여 개별로 마련된 제2 순환액로(P2), 제2 교정액로(Pc2), 제2 세정액로(Pp2)에 대해서도 동일하다.
또한, 상기 실시형태에 있어서, 제1 농도계(201a)(도 2b 참조)의 예로서, 전기 전도율에 기초한 농도계를, 제2 농도계(201b)(도 2c 참조)의 예로서, 레이저 광을 이용한 예를 설명하였다. 이 경우, 세정액에 의한 농도계의 세정에 대해서 보면, 제1 농도계(201a)에 관해서는, 예컨대 제1 농도계(201a)가 갖는 전도판(전극)의 세정 등이 행해지고, 제2 농도계(201b)에 관해서는, 세정액에 의한 액로 내면이 세정되게 된다.
또한, 상기 실시형태에 있어서는, 처리액으로서 에칭액(예컨대, 인산 수용액)을 예로 하였지만, 농도를 검지하면서 처리를 행하는 처리액이면, 레지스트 박리액 등 다른 처리액에도 적용할 수 있다. 또한, 처리액은, 순수 이외의 복수의 성분을 포함하는 것이어도 좋다. 이 경우, 각 농도계는, 모든 성분의 농도를 측정하는 것이어도, 1개 또는 복수의 부분적인 성분의 각각의 농도를 측정하는 것이어도 좋다.
전술한 장치에서는, 제1 농도계(201a)와 제2 농도계(201b)의 2개의 농도계가 이용되었지만, 3개 이상의 농도계를 이용할 수도 있다. 이 경우, 이들 3개 이상의 농도계 중 어느 하나를 제1 농도계로 하며, 다른 하나를 제2 농도계로 할 수 있고, 또한, 어느 1개를 제1 농도계 또는 제2 농도계로 하며, 나머지의 농도계의 조를 제2 농도계 또는 제1 농도계로 할 수도 있다.
전술한 장치에서는, 각 개폐 밸브, 삼방 밸브, 조정 밸브는, 제어 유닛(30)으로 제어되는 구동 회로에 의해 행해졌지만, 이들의 밸브는 수동으로 전환되는 것이어도 좋다. 이 경우, 조작자는, 제1 농도계(201a) 및 제2 농도계(201b)에서의 측정 농도를 관찰하면서, 전술한 순서와 동일한 순서에 따라, 각 밸브를 전환한다.
또한, 전술한 장치에서는, 농도 조정의 종료한 처리액이 공급 탱크[11a(11b)]로부터 스핀 장치(100)에 공급되면, 사용 종료 처리액이 회수액으로서, 공급 탱크[11a(11b)]에 복귀되는 구성으로 되어 있다. 이러한 구성에서는, 공급 탱크[11a(11b)]로부터 스핀 장치(100)에 처리액을 공급하고 있을 때도, 공급 탱크[11a(11b)] 내의 처리액의 농도 조정을 행하도록 하는 것이 바람직하다. 이 경우, 예컨대, 삼방 밸브(23, 24)를 제1 공급 탱크(11a)측으로 전환하여 제1 공급 탱크(11a) 내의 처리액을 스핀 장치(100)에 공급하고 있을 때, 삼방 밸브(21, 22)도 제1 공급 탱크(11a)측으로 전환한다. 삼방 밸브(21, 22)를 제1 공급 탱크(11a)측으로 전환한 후의, 제1 공급 탱크(11a) 내의 처리액의 농도 조정, 농도계의 자기 교정 기능은, 도 4a, 도 4b, 도 5를 이용하여 설명한 동작과 동일하다. 또한, 제2 공급 탱크(11b)로부터 스핀 장치(100)에 처리액을 공급할 때도 동일하다. 이와 같이 구성하면, 스핀 장치(100)에의 처리액의 공급 개시 시뿐만 아니라, 공급 중에 있어서도 농도 관리를 행하게 되어, 기판 처리를 계속적으로 농도 관리된 처리액으로 적절하게 처리할 수 있다. 또한, 2개의 농도계(201a, 201b) 중 적어도 한쪽이 정상이면, 스핀 장치(100)에의 처리액의 공급을 계속할 수 있고, 더구나 그 동안에, 정상이 아니라고 판단된 농도계의 교정도 실시할 수 있어, 수율 향상에도 기여한다.
이상, 본 발명의 몇 가지의 실시형태 및 각 부의 변형예를 설명하였지만, 이 실시형태나 각 부의 변형예는, 일례로서 제시한 것이며, 발명의 범위를 한정하는 것은 의도하지 않는다. 전술한 이들 신규의 실시형태는, 그 외의 여러 가지 형태로 실시되는 것이 가능하고, 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서, 여러 가지의 생략, 치환, 변경을 행할 수 있다. 이들 실시형태나 그 변형은, 발명의 범위나 요지에 포함되며, 특허 청구범위에 기재된 발명에 포함된다.
10 회수 탱크
11a 제1 공급 탱크
11b 제2 공급 탱크
12a 상류측 제1 밸브군
12b 상류측 제2 밸브군
13a 하류측 제1 밸브군
13b 하류측 제2 밸브군
14a, 14b, 15a, 15b 적산 유량계
16a, 16b, 17a, 17b 조정 밸브
18a 제1 펌프
18b 제2 펌프
19a, 19b 개폐 밸브
20a 제1 농도 계측부
20b 제2 농도 계측부
21, 22, 23, 24 3방밸브
30 제어 유닛
31a, 31b, 32a, 32b, 33a, 33b, 34a, 34b, 35a, 35b 구동 회로
100 스핀 장치
120a, 130a 제1 밸브 기구
120b, 130b 제2 밸브 기구
122a, 132a 제3 밸브 기구
122b, 132b 제4 밸브 기구
201a 제1 농도계
201b 제2 농도계
P1 제1 처리액로(제1 순환액로)
P2 제2 처리액로(제2 순환액로)
Pc1 제1 교정액로
Pc2 제2 교정액로

Claims (12)

  1. 농도계로의 측정 농도에 기초하여 농도의 조정이 이루어진 처리액을 생성하는 처리액 생성 장치에 있어서,
    상기 처리액의 농도를 조정하는 처리액 조정부와,
    처리액을, 상기 처리액 조정부에 흐르게 하는 제1 처리액로와,
    상기 제1 처리액로를 흐르는 처리액과 동일한 농도의 처리액을, 상기 처리액 조정부에 흐르게 하는 제2 처리액로와,
    상기 제1 처리액로를 흐르는 상기 처리액의 농도로서, 상기 처리액 조정부에서의 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 제1 농도계와,
    상기 제2 처리액로를 흐르는 상기 처리액의 농도로서, 상기 제1 농도계에 의해 농도 측정되어야 하며, 상기 처리액 조정부에서의 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 제2 농도계와,
    상기 제1 처리액로의 개폐를 행하는 제1 밸브 기구와,
    상기 제2 처리액로의 개폐를 행하는 제2 밸브 기구
    를 포함하는 처리액 생성 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 처리액로는, 상기 처리액을, 상기 처리액 조정부로부터 상기 제1 농도계를 통과하여 상기 처리액 조정부에 복귀시키는 제1 순환액로를 포함하고,
    상기 제2 처리액로는, 상기 처리액을, 상기 처리액 조정부로부터 상기 제2 농도계를 통과하여 상기 처리액 조정부에 복귀시키는 제2 순환액로를 포함하는 것인 처리액 생성 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 농도계와 상기 제2 농도계는, 상이한 측정 원리에 의해 상기 처리액의 농도를 측정하는 것인 처리액 생성 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 제1 농도계에 농도가 기지(旣知)인 교정액을 흐르게 하는 제1 교정액로와,
    상기 제2 농도계에 농도가 기지인 교정액을 흐르게 하는 제2 교정액로와,
    상기 제1 교정액로를 개폐하는 제3 밸브 기구와,
    상기 제2 교정액로를 개폐하는 제4 밸브 기구
    를 포함하는 처리액 생성 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제1 농도계로부터 얻어진 제1 측정 농도와 상기 제2 농도계로부터 얻어진 제2 측정 농도에 기초하여 상기 제1 밸브 기구 및 상기 제2 밸브 기구의 동작을 제어하는 처리액용 밸브 제어부를 포함하는 처리액 생성 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 처리액용 밸브 제어부는,
    상기 제1 측정 농도 및 상기 제2 측정 농도 중 적어도 제1 측정 농도에 기초하여, 상기 제1 농도계가 정상인지의 여부를 판정하는 제1 판정부와,
    상기 제1 판정부에 의해 상기 제1 농도계가 정상이 아니라고 판정되었을 때에, 상기 제1 밸브 기구를 상기 제1 처리액로가 폐쇄 상태가 되도록 제어하는 제1 밸브 제어부
    를 포함하는 것인 처리액 생성 장치.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 처리액용 밸브 제어부는,
    상기 제1 측정 농도 및 상기 제2 측정 농도 중 적어도 제2 측정 농도에 기초하여, 상기 제2 농도계가 정상인지의 여부를 판정하는 제2 판정부와,
    상기 제2 판정부에 의해 상기 제2 농도계가 정상이 아니라고 판정되었을 때에, 상기 제2 밸브 기구를 상기 제2 처리액로가 폐쇄 상태가 되도록 제어하는 제2 밸브 제어부
    를 포함하는 것인 처리액 생성 장치.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 제1 농도계에 농도가 기지인 교정액을 흐르게 하는 제1 교정액로와,
    상기 제1 교정액로를 개폐하는 제3 밸브 기구와,
    상기 제1 판정부에 의해 상기 제1 농도계가 정상이 아니라고 판정되었을 때에, 상기 제3 밸브 기구를, 상기 제1 교정액로가 개방 상태가 되도록 제어하는 제1 교정액용 밸브 제어부와,
    상기 제1 교정액로를 흐르는 교정액이 상기 제1 농도계를 통과할 때의 상기 제1 농도계의 출력값에 기초하여 상기 제1 농도계의 교정을 행하는 제1 교정 처리부
    를 포함하는 처리액 생성 장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 제2 농도계에 농도가 기지인 교정액을 흐르게 하는 제2 교정액로와,
    상기 제2 교정액로를 개폐하는 제4 밸브 기구와,
    상기 제2 판정부에 의해 상기 제2 농도계가 정상이 아니라고 판정되었을 때에, 상기 제4 밸브 기구를, 상기 제2 교정액로가 개방 상태에 있도록 제어하는 제2 교정액용 밸브 제어부와,
    상기 제2 교정액로를 흐르는 교정액이 상기 제2 농도계를 통과할 때의 상기 제2 농도계의 출력값에 기초하여 상기 제2 농도계의 교정을 행하는 제2 교정 처리부
    를 포함하는 처리액 생성 장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제1 교정 처리부에 의한 상기 제1 농도계의 교정이 종료한 후에, 상기 제1 처리액로를 개방 상태로 복귀시키는 제1 밸브 복귀 제어 수단을 포함하는 처리액 생성 장치.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 제2 교정 처리부에 의한 상기 제2 농도계의 교정이 종료한 후에, 상기 제2 처리액로를 개방 상태로 복귀시키는 제2 밸브 복귀 제어 수단을 포함하는 처리액 생성 장치.
  12. 기판 처리 장치에 있어서,
    농도계로의 측정 농도에 기초하여 농도의 조정이 이루어진 처리액을 생성하는 처리액 생성 장치와,
    기판을 유지하는 테이블과,
    상기 테이블을 회전시키는 구동 기구와,
    상기 테이블과 동시에 회전하는 상기 기판의 표면에 상기 처리액 생성 장치에 의해 생성되는 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구
    를 포함하고,
    상기 처리액 생성 장치는,
    상기 처리액의 농도를 조정하는 처리액 조정부와,
    처리액을, 상기 처리액 조정부에 흐르게 하는 제1 처리액로와,
    상기 제1 처리액로를 흐르는 처리액과 동일한 농도의 처리액을, 상기 처리액 조정부에 흐르게 하는 제2 처리액로와,
    상기 제1 처리액로를 흐르는 상기 처리액의 농도로서, 상기 처리액 조정부에서의 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 제1 농도계와,
    상기 제2 처리액로를 흐르는 상기 처리액의 농도로서, 상기 제1 농도계에 의해 농도 측정되어야 하며, 상기 처리액 조정부에서의 농도 조정에 따른 성분의 농도를 측정하는 제2 농도계와,
    상기 제1 처리액로의 개폐를 행하는 제1 밸브 기구와,
    상기 제2 처리액로의 개폐를 행하는 제2 밸브 기구
    를 포함하는 것인 기판 처리 장치.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7304692B2 (ja) * 2018-12-13 2023-07-07 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法および基板処理装置
JP7264729B2 (ja) * 2019-05-31 2023-04-25 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
KR102374423B1 (ko) * 2019-06-28 2022-03-15 홍석진 다중 농도 측정 장치를 구비한 현상액 농도 관리 장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100837673B1 (ko) * 2001-12-05 2008-06-13 후지쯔 가부시끼가이샤 약액 공급 장치 및 슬러리의 조합 방법
JP2013197360A (ja) * 2012-03-21 2013-09-30 Shibaura Mechatronics Corp 基板処理方法及び基板処理システム

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5924794A (en) * 1995-02-21 1999-07-20 Fsi International, Inc. Chemical blending system with titrator control
US7344298B2 (en) * 2002-07-19 2008-03-18 Celerity, Inc. Method and apparatus for blending process materials
JP2005347384A (ja) * 2004-06-01 2005-12-15 Seiko Epson Corp 有機物の剥離装置及び有機物の剥離方法
JP2007005472A (ja) * 2005-06-22 2007-01-11 Sumitomo Electric Ind Ltd 基板の表面処理方法およびiii−v族化合物半導体の製造方法
KR20080011910A (ko) * 2006-08-01 2008-02-11 세메스 주식회사 약액 혼합 장치 및 방법
JP2008103678A (ja) * 2006-09-20 2008-05-01 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
KR20140071353A (ko) * 2011-08-01 2014-06-11 바스프 에스이 pH 값이 3.0 내지 5.5 인 화학적 기계적 연마 조성물의 존재시의 원소 게르마늄 및/또는 Si₁­xGex 재료의 화학적 기계적 연마를 포함하는 반도체 디바이스들의 제조 방법

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100837673B1 (ko) * 2001-12-05 2008-06-13 후지쯔 가부시끼가이샤 약액 공급 장치 및 슬러리의 조합 방법
JP2013197360A (ja) * 2012-03-21 2013-09-30 Shibaura Mechatronics Corp 基板処理方法及び基板処理システム

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