JP2013206946A - 基板処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】リン酸水溶液中のシリコン濃度を精度よく測定することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、リン酸水溶液を貯留する処理槽１１と、リン酸水溶液を送る循環ポンプ１３と、リン酸水溶液を加熱する循環用ヒータ１５と、リン酸水溶液を濾過するフィルタ１７と、を含み、処理槽１１から排出されるリン酸水溶液を、循環ポンプ１３、循環用ヒータ１５、フィルタ１７の順に流すとともに、フィルタ１７から前記処理槽１１にリン酸水溶液を戻す循環ライン３と、循環用ヒータ１５とフィルタ１７との間で循環ライン３から分岐し、循環ライン３からリン酸水溶液を抽出する分岐管３１と、分岐管３１に連通接続され、リン酸水溶液中のシリコン濃度を電位差測定法によって測定する濃度測定部５１と、を備えている基板処理装置１である。
【選択図】図１

Description

本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）に対して処理を行う基板処理装置に係り、特に、リン酸水溶液中に基板を浸漬させて処理する技術に関する。
従来、この種の装置として、処理槽とポンプとヒータとフィルタとを備え、これらが循環ラインを構成するものがある。処理槽はリン酸水溶液を貯留し、リン酸水溶液中に基板を浸漬して基板に処理を施す。処理槽から排出されたリン酸水溶液は、ポンプ、ヒータ、フィルタを経由して、再び、処理槽に戻される。この循環ライン上には、シリコン濃度計が設けられている。シリコン濃度計は、リン酸水溶液を透過した光に基づいて、特定波長の吸光度を検出することによってシリコン濃度を測定する（例えば、特許文献１参照）。
このように構成された基板処理装置は、循環ラインを流れるリン酸水溶液中のシリコン濃度を測定できる。また、その測定結果に基づいてリン酸水溶液のシリコン濃度を調整することができる。
シリコン濃度の調整について、シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板に対して、シリコン酸化膜を残してシリコン窒化膜を選択的にエッチングする処理を例に採って説明する。シリコン濃度が高くなるほど、シリコン窒化膜のエッチング速度が低下し、リン酸水溶液中にパーティクルが増大し、リン酸水溶液の寿命が短くなる。他方、シリコン濃度が低くなるほど、シリコン酸化膜まで必要以上にエッチングされる（シリコン窒化膜に対するエッチング選択比が低下する）。このため、シリコン濃度は、シリコン窒化膜のエッチング速度の低下を抑制しつつ、エッチング選択比の低下を抑制できるような所定の範囲内に調整される。
特開２００８−１０３６７８号公報
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、リン酸水溶液の吸光度に基づいてシリコン濃度を推定するので、シリコン濃度の測定結果の精度があまり高くないという不都合がある。また、吸光度はリン酸水溶液の温度の影響を受け易いので、リン酸水溶液の温度変化が大きいほど測定結果の精度が不安定になるという不都合がある。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、リン酸水溶液中のシリコン濃度を精度よく測定することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記従来技術の問題点を解決すべく鋭意研究した結果、次のような知見を得た。
すなわち、電位差測定法によれば、リン酸水溶液中のシリコン濃度の測定精度を向上させることができることがわかった。
この電位差測定法は、リン酸水溶液に試薬を加え、その溶液に測定電極と参照電極をそれぞれ接触させ、測定電極と参照電極の電位差を測定することによって、リン酸水溶液中のシリコン濃度を測定する。ここで、試薬が加えられた溶液は、再び、循環ラインに戻すことはできない。よって、電位差測定法による濃度測定部を採用する場合、従来技術のように循環ライン上に濃度測定部を設けることができないことがわかった。また、電位差測定法による濃度測定部を採用する場合、循環ラインから抜き出したリン酸水溶液の温度が低下し、リン酸水溶液中にシリコン等が析出するおそれがあることがわかった。
以上の知見に基づき、本発明は次のような構成をとる。
すなわち、本発明は、リン酸水溶液を貯留する処理槽と、リン酸水溶液を送る循環ポンプと、リン酸水溶液を加熱する循環用ヒータと、リン酸水溶液を濾過するフィルタと、を含み、前記処理槽から排出されるリン酸水溶液を、前記循環ポンプ、前記循環用ヒータ、前記フィルタの順に流すとともに、前記フィルタから前記処理槽にリン酸水溶液を戻す循環ラインと、前記循環用ヒータと前記フィルタとの間で前記循環ラインから分岐し、前記循環ラインからリン酸水溶液を抽出する分岐管と、前記分岐管に連通接続され、リン酸水溶液中のシリコン濃度を電位差測定法によって測定する濃度測定部と、を備えている基板処理装置である。
［作用・効果］本発明に係る基板処理装置によれば、電位差測定法による濃度測定部を備えているので、リン酸水溶液中のシリコン濃度を精度よく測定することができる。また、分岐管を備えているので、循環ラインから濃度測定部に送られたリン酸水溶液は循環ラインに戻らない。このため、濃度測定部で使用される試薬等が循環ラインに混入するおそれがない。さらに、分岐管は、循環用ヒータとフィルタとの間で循環ラインから分岐しているので、循環ラインを流れるリン酸水溶液の一部を、比較的温度の高い状態で抜き出すことができる。よって、抽出されたリン酸水溶液中にシリコン等が析出することを抑制することができる。この結果、シリコン濃度の測定精度をさらに向上させることができる。
なお、「前記循環用ヒータと前記フィルタとの間」とは、循環用ヒータとフィルタを連通接続する管路のほか、循環用ヒータ自体、および、フィルタ自体を含む。よって、例えば、分岐管がフィルタに接合している態様等も、「前記循環用ヒータと前記フィルタとの間」に該当する。
上述した発明において、前記循環ラインから抽出されたリン酸水溶液を加熱するサンプリング用ヒータを備えていることが好ましい。サンプリング用ヒータを備えているので、循環ラインから抽出されたリン酸水溶液中にシリコン等が析出することを的確に抑制することができる。
また、本発明は、リン酸水溶液を貯留する処理槽と、リン酸水溶液を送る循環ポンプと、リン酸水溶液を加熱する循環用ヒータと、リン酸水溶液を濾過するフィルタと、を含み、前記処理槽から排出されるリン酸水溶液を、前記循環ポンプ、前記循環用ヒータ、前記フィルタの順に流すとともに、前記フィルタから前記処理槽にリン酸水溶液を戻す循環ラインと、前記循環ラインから分岐し、前記循環ラインからリン酸水溶液を抽出する分岐管と、前記分岐管に連通接続され、抽出されたリン酸水溶液中のシリコン濃度を電位差測定法によって測定する濃度測定部と、前記循環ラインから抜き出されたリン酸水溶液を加熱するサンプリング用ヒータと、を備えている基板処理装置である。
［作用・効果］本発明に係る基板処理装置によれば、電位差測定法による濃度測定部を備えているので、リン酸水溶液中のシリコン濃度を精度よく測定することができる。また、分岐管を備えているので、循環ラインから濃度測定部に送られたリン酸水溶液は循環ラインに戻らない。このため、濃度測定部で使用される試薬等が循環ラインに混入するおそれがない。さらに、サンプリング用ヒータを備えているので、抽出されたリン酸水溶液中にシリコン等が析出することを的確に抑制することができる。この結果、シリコン濃度の測定精度をさらに向上させることができる。
上述した発明において、前記サンプリング用ヒータは、前記分岐管に設けられ、前記分岐管内のリン酸水溶液を加熱することが好ましい。これによれば、分岐管を流れるリン酸水溶液を好適に加熱することができる。
上述した発明において、前記サンプリング用ヒータは、前記濃度測定部に設けられ、前記濃度測定部内のリン酸水溶液またはこれを含む溶液を加熱することが好ましい。これによれば、仮にリン酸水溶液中にシリコン等が析出し始めても、濃度測定部内においてシリコン等をリン酸水溶液または溶液に再溶解させることができる。よって、濃度測定部の測定精度が低下することを的確に防ぐことができる。
上述した発明において、前記分岐管に設けられ、所定量のリン酸水溶液を秤量する秤量部を備え、前記濃度測定部は、前記秤量部によって秤量されたリン酸水溶液中のシリコン濃度を測定し、前記サンプリング用ヒータは、前記秤量部に設けられ、前記秤量部内のリン酸水溶液を加熱することが好ましい。これによれば、秤量部で秤量（計量）されるリン酸水溶液中にシリコン等が析出することを抑制することができる。よって、リン酸水溶液を精度良く秤量（計量）することができる。秤量部は濃度測定部とは別個に設けられているので、濃度測定部においてリン酸水溶液の秤量を行うことを要しない。よって、濃度測定部がシリコン濃度の測定する時間を短縮することができる。
上述した発明において、前記分岐管に設けられ、所定量のリン酸水溶液を秤量する秤量部を備え、前記濃度測定部は、前記秤量部によって秤量されたリン酸水溶液についてシリコン濃度を測定することが好ましい。秤量部を濃度測定部とは別個に備えているので、濃度測定部においてリン酸水溶液の秤量を行うことを要しない。よって、濃度測定部がシリコン濃度の測定する時間を短縮することができる。
上述した発明において、前記秤量部は、所定量のリン酸水溶液を貯留する秤量容器を備えていることが好ましい。これによれば、秤量部は、好適にリン酸水溶液を秤量することができる。また、この発明において、サンプリング用ヒータは、秤量容器に設けられ、秤量容器内のリン酸水溶液を加熱することが好ましい。これによれば、秤量精度が低下することを的確に防ぐことができる。
上述した発明において、前記秤量部は、筒形状を有するシリンジと、前記シリンジ内を気密にスライド移動するプランジャと、前記プランジャを駆動して、所定量のリン酸水溶液を前記シリンジ内に吸引させ、かつ、前シリンジから排出させる駆動部と、を備えていることが好ましい。これによれば、秤量部は、好適にリン酸水溶液を秤量することができる。また、この発明において、サンプリング用ヒータは、シリンジに設けられ、シリンジ内のリン酸水溶液を加熱することが好ましい。これによれば、秤量精度が低下することを的確に防ぐことができる。
上述した発明において、前記処理槽は、リン酸水溶液を貯留し、基板を浸漬するための内槽と、前記内槽から溢れ出るリン酸水溶液を回収する外槽と、を備え、前記フィルタは、その入口部と出口部の間に設けられるフィルタエレメントを備え、前記循環ラインは、前記フィルタの出口部と前記内槽とを連通接続する第１配管と、前記フィルタの入口部と前記外槽とを連通接続する第２配管と、を含み、前記分岐管は前記第２配管から分岐されていることが好ましい。第２配管内の圧力は第１配管に比べて高い。この第２配管から分岐管が分岐しているので、循環ラインからリン酸水溶液の一部を容易に抜き出すことができる。また、第２配管内のリン酸水溶液は、フィルタエレメントを通過していないので、第１配管内のリン酸水溶液に比べて温度が高い。よって、より温度の高い状態でリン酸水溶液を抽出することができる。
なお、本明細書は、次のような発明も開示している。
（１）上述した発明において、前記サンプリング用ヒータによってリン酸水溶液を昇温させる温度は、前記循環用ヒータによってリン酸水溶液を昇温させる温度と略同じであることが好ましい。
前記（１）に記載の発明によれば、循環ラインと濃度測定部との間でリン酸水溶液の条件を略同じにすることができる。よって、循環ラインを流れるリン酸水溶液のシリコン濃度を、好適に把握することができる。
（２）上述した発明において、前記分岐管に設けられる開閉弁を備えていることが好ましい。
前記（２）に記載の発明によれば、循環ライン上に開閉弁が設けられていないので、循環ラインからリン酸水溶液を抽出するときであっても、循環ラインにリン酸水溶液を流し続けることができる。また、循環ラインの圧力損失が増加することを抑制することができる。
（３）上述した発明において、前記循環ラインと前記分岐管との接合部に設けられ、リン酸水溶液の流路を切り換える切換弁を備えていることが好ましい。
前記（３）に記載の発明によれば、循環ラインと分岐管との間でリン酸水溶液の流路を好適に切り換えることができる。
（４）上述した発明において、前記濃度測定部は、リン酸水溶液および試薬が供給される測定容器と、前記測定容器内の溶液と接触するように設けられている測定電極と、前記測定容器内の溶液と接触するように設けられている参照電極と、前記測定電極と前記参照電極との電位差を測定する電位差測定部と、を備えていることが好ましい。
前記（４）に記載の発明によれば、シリコン濃度を好適に測定することができる。
（５）上述した発明において、前記サンプリング用ヒータは、前記測定容器に設けられ、前記測定容器内の溶液を加熱することが好ましい。
前記（５）に記載の発明によれば、仮にリン酸水溶液中にシリコン等が析出し始めても、測定容器内においてシリコン等を再溶解させることができる。よって、濃度測定部の測定精度が低下することを的確に防ぐことができる。
（６）上述した発明において、前記濃度測定部は、さらに、前記測定容器に連通接続され、前記測定容器内の溶液を捨てるための排液管を備えていることが好ましい。
前記（６）に記載の発明によれば、濃度測定部で使用したリン酸水溶液等を好適に捨てることができる。
この発明に係る基板処理装置によれば、リン酸水溶液中のシリコン濃度を精度よく測定することができる。また、濃度測定部で使用される試薬等が循環ラインに混入するおそれがない。さらに、循環ラインから抽出したリン酸水溶液中にシリコン等が析出することを的確に抑制することができ、シリコン濃度の測定精度をさらに向上させることができる。
実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示すである。 実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示すである。 実施例３に係る基板処理装置の概略構成を示すである。 実施例４に係る基板処理装置の概略構成を示すである。
以下、図面を参照してこの発明の実施例１を説明する。
実施例１では、リン酸と純水を混合して得られるリン酸水溶液中に、シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板（例えば半導体ウエハ）を浸漬して、シリコン窒化膜を選択的にエッチング処理する装置を例にとって説明する。
図１は、実施例１に係る基板処理装置１の概略構成を示すである。基板処理装置１では、リン酸水溶液が循環する循環ライン３を備えている。循環ライン３は、処理槽１１と循環ポンプ１３と循環用ヒータ１５とフィルタ１７とを含む。処理槽１１はリン酸水溶液を貯留する。循環ポンプ１３はリン酸水溶液を圧送する。循環用ヒータ１５はリン酸水溶液を加熱する。フィルタ１７は、リン酸水溶液を濾過する。循環ライン３はさらに、処理槽１１、循環ポンプ１３、循環用ヒータ１５およびフィルタ１７を連通接続する管路１８を備えている。処理槽１１と循環ポンプ１３の間の管路１８には、開閉弁１９が設けられている。開閉弁１９も循環ライン３の一要素である。
このように構成される循環ライン３をリン酸水溶液が流れる。具体的には、リン酸水溶液は、処理槽１１、循環ポンプ１３、循環用ヒータ１５、フィルタ１７の順に流れ、フィルタ１７から処理槽１１に戻る。
処理槽１１は、内槽２１と外槽２３を備える。内槽２１はリン酸水溶液を貯留する。内槽２１内には、リン酸水溶液の温度を検出する温度センサ２５が設けられている。内槽２１の底部には、管路１８によってフィルタ１７の二次側と連通接続されている。外槽２３は、内槽２１の上縁の外側に設けられ、内槽２１から溢れ出たリン酸水溶液を回収する。外槽２３は、管路１８によって、循環ポンプ１３の一次側に連通接続されている。なお、「二次側」とは、リン酸水溶液が流れる方向の下流側と同義である。「一次側」は「二次側」の反対方向である。
基板処理装置１は、基板Ｗをリン酸水溶液中に浸漬させるためのリフタ２７を備えている。リフタ２７は、複数枚の基板Ｗを起立姿勢で保持し、内槽２１の内部にあたる「処理位置」（図１において実線で示す位置）と、内槽２１の上方にあたる「受け渡し位置」との間で基板Ｗを昇降させる。基板Ｗが処理位置にあるとき、基板Ｗは内槽２１内のリン酸水溶液中に浸漬される。基板Ｗが受け渡し位置にあるとき、リフタ２７は他の搬送機構との間で基板Ｗを受け渡すことができる。
基板処理装置１は、さらに、循環ライン３から分岐する分岐管３１と、この分岐管３１に設けられる秤量部４１および濃度測定部５１を備えている。リン酸水溶液は、循環ライン３と接合する分岐管３１の一端から他端に向かって流れる。
分岐管３１の一端は、循環用ヒータ１５とフィルタ１７との間の管路１８に連通接続されている。分岐管３１の他端は、秤量部４１に接続されている。分岐管３１の途中には開閉弁３２が設けられている。
秤量部４１は、所定量（体積、容積）のリン酸水溶液を秤量（計量）する。秤量部４１は、秤量容器４３とオーバーフロー管４５を備えている。秤量容器４３には、分岐管３１の二次側からリン酸水溶液が供給される。オーバーフロー管４５は、秤量容器４３内のリン酸水溶液の量を所定量に調整する。具体的には、オーバーフロー管４５は秤量容器４３を貫通するように設けられ、オーバーフロー管４５の一端側が秤量容器４３の内部に挿入されている。オーバーフロー管４５の一端側には、所定の高さ位置に開口４５ａが形成されている。秤量容器４３内のリン酸水溶液の液位が開口４５ａの高さ位置を越えると、リン酸水溶液は開口４５ａを通じてオーバーフロー管４５に流入し、秤量容器４３の外部に排出される（捨てられる）。この結果、秤量容器４３には、開口４５ａの高さ位置に応じた所定量のリン酸水溶液を超えて貯留されない。
秤量部４１と濃度測定部５１との間には、供給管３３が設けられている。供給管３３の一端は、秤量容器４３に連通接続されている。供給管３３の途中には開閉弁３４が設けられている。
濃度測定部５１は、リン酸水溶液中のシリコン濃度を電位差測定法によって測定する。シリコン濃度とはシロキサン等を含むシリコン化合物の濃度である。
濃度測定部５１は、測定容器５３と試薬供給部５４と測定電極５５と参照電極５６と電位差測定部５７とを備えている。測定容器５３には、供給管３３の他端からリン酸水溶液が供給されるとともに、試薬供給部５４から所定量の試薬が供給される。試薬供給部５４が供給する試薬の量（体積）および濃度は既知である。測定電極５５と参照電極５６はそれぞれ、測定容器５３内の溶液に接触するように設けられている。電位差測定部５７は、測定電極５５と参照電極５６の電位差を測定し、この測定結果に基づいてシリコン濃度を測定する。
上述した試薬等については適宜に選択することができる。例えば、試薬をフッ化物イオンとし、測定電極５５をフッ化物イオン選択性電極とすることが例示される。この場合、フッ化物イオンの濃度を直接的に測定できる。ここで、フッ化物イオンはシリコン化合物と反応し、それに応じてフッ化物イオンの濃度が低下する。すなわち、フッ化物イオンの濃度はシリコン濃度と好適に対応する。よって、フッ化物イオンの濃度に基づいて、リン酸水溶液中に存在していたシリコン濃度を精度よく測定できる（推定できる）。
測定容器５３には、シリコン濃度を測定した溶液を排液するための排液管３５が連通接続されている。排液管３５には開閉弁３６が設けられている。開閉弁３６を開放すると、測定容器５３内の溶液は排液管３５を通じて捨てられる。
基板処理装置１は、さらに、上述した各構成を統括的に制御する制御部６１を備えている。具体的には、制御部６１には、温度センサ２５の検出結果や濃度測定部５１の測定結果が入力される。制御部６１は、これらの検出結果等と、処理手順や処理条件を規定したレシピとに基づいて、循環ポンプ１３、循環用ヒータ１５、リフタ２７、開閉弁１９、３２、３４、３６、電位差測定部５７等を制御する。制御部６１は、各種処理を実行する中央演算処理装置（ＣＰＵ）や、演算処理の作業領域となるＲＡＭ（Random-Access Memory）や、レシピ等の各種情報を記憶する固定ディスク等の記憶媒体等を備えている。
次に、実施例１に係る基板処理装置１の動作例を説明する。ここでは、先ず基板処理を行い、その後に濃度測定を行う動作例を説明する。
１．基板処理
制御部６１は、開閉弁１９を開放させ、開閉弁３２、３４、３６を閉止させた状態で、循環ポンプ１３を駆動する。リン酸水溶液は循環ポンプ１３によって圧送され、循環ライン３を流れる。すなわち、リン酸水溶液は、処理槽１１（外槽２３）から排出された後、循環ポンプ１３、循環用ヒータ１５、フィルタ１７の順に流れ、フィルタ１７から処理槽１１（内槽２１）に再び戻る。リン酸水溶液中に含まれる異物やパーティクルは、フィルタ１７によって除去される。内槽２１内では、内槽２１の底部から上部へ向かうリン酸水溶液のアップフローが形成されている。内槽２１から溢れたリン酸水溶液は、外槽２３に流れる。
制御部６１は、温度センサ２５の検出結果に基づいて、内槽２１内のリン酸水溶液の温度が所定の目標温度（目標値）となるように循環用ヒータ１５を制御する。目標値としては、例えば１６０度が例示される。ただし、目標値は、これに限られず、その他の温度または温度域に適宜に選択変更することができる。内槽２１内のリン酸水溶液の温度が目標値で安定しているとき、循環用ヒータ１５がリン酸水溶液に与える熱量は、循環ライン３を１周する間にリン酸水溶液が放出する放熱量と略同等の熱量で足りる。循環ライン３におけるリン酸水溶液の温度分布は、循環用ヒータ１５の出口（二次側）で最も高く、循環用ヒータ１５の入口（一次側）で最も低い。
上述したようにリン酸水溶液が循環ライン３を流れている状態において、リフタ２７を降下させる。リフタ２７に保持される複数の基板Ｗは受け渡し位置から処理位置に降下し、内槽２１内のリン酸水溶液中に浸漬される。これにより、各基板Ｗに形成されたシリコン窒化膜のエッチング処理が始まる。所定時間が経過すると、リフタ２７を上昇させる。基板Ｗが処理位置から受け渡し位置に上昇し、リン酸水溶液から引き上げられる。これにより、複数の基板Wに対するエッチング処理が終了する。
２．濃度測定
続いて、循環ポンプ１３の駆動を継続した状態で、開閉弁３２を開放する。循環ライン３を流れるリン酸水溶液の一部は分岐管３１に流入する。分岐管３１に流入したリン酸水溶液は秤量容器４３に供給される。秤量容器４３に貯留されるリン酸水溶液が所定量を超えると、オーバーフロー管４５によって秤量容器４３の外部に排出される。この結果、秤量容器４３には秤量された所定量のリン酸水溶液が残る。
続いて、開閉弁３４を開放する。所定量のリン酸水溶液が、秤量容器４３から供給管３３を通じて測定容器５３に供給される。試薬供給部５４は所定量の試薬を測定容器５３に供給する。測定容器５３内では、リン酸水溶液と試薬とが混合される。電位差測定部５７は、測定電極５５と参照電極５６の電位差を測定し、この測定結果に基づいてシリコン濃度を測定する。測定が終了すると開閉弁３６を開放する。測定容器５３内の溶液は排液管３５を通じて排液される。
制御部６１は、濃度測定部５１による測定結果に基づいて、循環ライン３を流れているリン酸水溶液の状態を把握し、その後の処理内容を判断する。たとえば、シリコン濃度が予め設定された所定範囲内であれば、循環ライン３を流れているリン酸水溶液を使用して、引き続き、新たなエッチング処理を開始する。他方、シリコン濃度が所定範囲内でなければ、循環ライン３を流れるリン酸水溶液についてシリコン濃度を調整する、あるいは、循環ライン３を流れるリン酸水溶液を交換するなどの処置を行う。
このように、実施例１に係る基板処理装置１によれば、濃度測定部５１は電位差測定法によってシリコン濃度を測定するので、リン酸水溶液中のシリコン濃度を精度よく測定することができる。また、電位差測定法によるシリコン濃度の測定精度は、リン酸水溶液の温度の影響を受けにくいので、循環ライン３から抽出したリン酸水溶液であっても、適切にシリコン濃度を測定することができる。
また、濃度測定部５１は、測定容器５３、測定電極５５、参照電極５６および電位差測定部５７を備えているので、電位差測定法による測定を好適に行うことができる。
また、濃度測定部５１は排液管３５を備えているので、測定対象となったリン酸水溶液を好適に捨てることができる。これにより、測定対象となったリン酸水溶液や試薬が循環ライン３に戻ることを確実に防ぐことができる。
また、循環ライン３から分岐する分岐管３１を備えているので、循環ライン３を流れるリン酸水溶液の一部を好適に抜き出すことができる。また、濃度測定部５１は、分岐管３１によって抽出されたリン酸水溶液について濃度測定を行うので、濃度測定部５１で使用されたリン酸水溶液や試薬が循環ライン３に混入するおそれがない。
特に、分岐管３１は循環用ヒータ１５とフィルタ１７との間に設けられる管路１８に接合しているので、循環用ヒータ１５を通過した直後のリン酸水溶液を抽出することができる。すなわち、比較的温度の高い状態でリン酸水溶液を抽出することができる。よって、抽出されたリン酸水溶液中にシリコン等が析出することを好適に抑できる。この結果、濃度測定部５１の測定精度の低下を好適に抑制できる。また、比較的粘度が低い（流動性が高い）状態でリン酸水溶液を抽出することができるので、リン酸水溶液を容易に抽出できる。
また、分岐管３１に設けられる開閉弁３２を備えているので、循環ライン３にリン酸水溶液を流しつつ、循環ライン３を流れるリン酸水溶液の一部を好適に抜き出すことができる。また、循環ライン３にはリン酸水溶液を抽出するための弁類が設けられていないので、循環ライン３の圧力損失が増加することを抑制することができる。
また、濃度測定部５１とは別に秤量部４１を備えているので、リン酸水溶液の秤量とシリコン濃度の測定を互いに独立に実行することができる。よって、例えば、測定前にリン酸水溶液の秤量を完了させておく等によって、効率良くシリコン濃度を取得することができる。また、濃度測定部５１自体がリン酸水溶液を秤量しなくてもよいので、濃度測定部５１の機能・構成を簡素化することができる。
また、秤量部４１は秤量容器４３を備えているので、リン酸水溶液を好適に秤量することができる。
次に、本発明の実施例２を説明する。図２は、実施例２に係る基板処理装置１の概略構成を示す図である。なお、実施例１と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
本実施例２に係る基板処理装置１は、実施例１の秤量部４１に代えて、秤量部７１を備えている。秤量部７１は、分岐管３１から更に分岐する配管３７に連通接続されている。配管３７は、開閉弁３２の二次側の位置で分岐管３１から分岐している。配管３７の途中には、開閉弁３８が設けられている。分岐管３１には、さらに開閉弁３９が設けられている。開閉弁３９は、分岐管３１と配管３７の接合部の二次側に配置されている。開閉弁３９の二次側にあたる分岐管３１の他端は、濃度測定部５１に直接的に接続されている。
秤量部７１は、シリンジ７３とプランジャ７５と駆動部７７とを備えている。シリンジ７３は筒形状を有する。プランジャ７５は、シリンジ７３の内部に設けられている。プランジャ７５は、シリンジ７３に対して気密にスライド移動可能である（図２では、プランジャ７５が移動する方向Ｄ１、Ｄ２を模式的に示す）。プランジャ７５が方向Ｄ１に後退移動すると、シリンジ７３内にリン酸水溶液が吸引される。プランジャ７５が方向Ｄ２に前進移動すると、シリンジ７３からリン酸水溶液が排出される。駆動部７７は、プランジャ７５を進退移動させる。
また、基板処理装置１は、循環ライン３から抽出されたリン酸水溶液を加熱するサンプリング用ヒータ８１、８２、８３を備えている。サンプリング用ヒータ８１は、分岐管３１に設けられ、分岐管３１内のリン酸水溶液を加熱する。サンプリング用ヒータ８２は秤量部７１に設けられ、秤量部７１内のリン酸水溶液を加熱する。具体的には、サンプリング用ヒータ８２は、シリンジ７３に設けられ、シリンジ７３内のリン酸水溶液を加熱する。サンプリング用ヒータ８３は濃度測定部５１に設けられ、濃度測定部５１内のリン酸水溶液を加熱する。具体的には、サンプリング用ヒータ８３は、測定容器５３に設けられ、測定容器５３内の溶液を加熱する。
制御部６１は、さらに、上述した駆動部７７、開閉弁３８、３９、サンプリング用ヒータ８１乃至８３を制御する。サンプリング用ヒータ８１乃至８３の制御に関しては、制御部６１は、循環ライン３から抽出されたリン酸水溶液の温度が、循環ライン３を流れるリン酸水溶液の温度と略一致するように制御する。各サンプリング用ヒータ８１、８２、８３の目標値（リン酸水溶液の目標温度）はそれぞれ、循環用ヒータ１５の目標値と同じである。
次に、実施例２に係る基板処理装置１の動作例を説明する。基板処理に関しては、実施例１と同様であるので説明を省略し、濃度測定の動作例のみを説明する。
制御部６１は、開閉弁３２、３８を開放させ、開閉弁３６、３９を閉止させた状態で、駆動部７７を制御してプランジャ７５を所定位置まで後退移動させる（方向Ｄ１に移動させる）。循環ライン３を流れるリン酸水溶液の一部は、分岐管３１に流入する。サンプリング用ヒータ８１は、分岐管３１を流れるリン酸水溶液を加熱する。リン酸水溶液は、分岐管３１から配管３７を経由してシリンジ７３内に吸引される。シリンジ７３内には、プランジャ７５の移動量に応じた所定量のリン酸水溶液が貯留される。このように秤量されたシリンジ７３のリン酸水溶液は、サンプリング用ヒータ８２によって加熱される。
続いて、制御部６１は、開閉弁３２、３６を閉止させ、開放弁３８，３９を開放させた状態で、プランジャ７５を所定位置まで前進移動させる（方向Ｄ２に移動させる）。シリンジ７３から所定量のリン酸水溶液が排出される。排出されたリン酸水溶液は、配管３７および分岐管３１を通じて、濃度測定部５１に流れる。サンプリング用ヒータ８１は、分岐管３１を流れるリン酸水溶液を加熱する。
濃度測定部５１に供給されたリン酸水溶液と、試薬供給部５４から供給される試薬は、測定容器５３に貯留される。サンプリング用ヒータ８３は、測定容器５３内の溶液を加熱する。電位差測定部５７は、測定電極５５と参照電極５６の電位差を測定し、この測定結果に基づいてシリコン濃度を測定する。測定結果は制御部６１に出力される。その後、開閉弁３６を開放する。測定容器５３内の溶液は排液管３５を通じて排液される。
このように、実施例２に係る基板処理装置１によっても、実施例１と同様な効果が得られる。
また、実施例２に係る基板処理装置１では、循環ライン３から抽出されたリン酸水溶液を加熱するサンプリング用ヒータ８１乃至８３を備えているので、循環ライン３から抽出されたリン酸水溶液中にシリコン等が析出することを的確に抑制できる。よって、濃度測定部５１による測定精度が低下することを好適に防ぐことができる。
具体的には、サンプリング用ヒータ８１によって、分岐管３１を流れるリン酸水溶液を好適に加熱できる。これにより、リン酸水溶液の流動性が低下することを防ぎ、リン酸水溶液を分岐管３１に好適に流すことができる。
また、サンプリング用ヒータ８２によって、秤量部７１で秤量（計量）されるリン酸水溶液を加熱できる。これにより、シリコン等がリン酸水溶液中に析出することを抑制でき、秤量部７１はリン酸水溶液を精度良く秤量（計量）することができる。
また、サンプリング用ヒータ８３によって、測定容器５３内の溶液を加熱することができる。これにより、仮にシリコン等がリン酸水溶液中に析出した場合であっても、測定容器５３内においてシリコン等を再溶解させることができる。よって、濃度測定部５１の測定精度が低下することを的確に防ぐことができる。
また、サンプリング用ヒータ８１、８２、８３はそれぞれ、循環ライン３を流れるリン酸水溶液と同じ温度となるように、抽出されたリン酸水溶液を加熱するので、循環ライン３と濃度測定部５１との間でリン酸水溶液の条件を略同じにすることができる。よって、濃度測定部５１の測定結果に基づいて、制御部６１は循環ライン３を流れるリン酸水溶液のシリコン濃度を好適に把握することができる。
次に、本発明の実施例３を説明する。図３は、実施例３に係る基板処理装置１の概略構成を示す図である。なお、実施例１、２と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
本実施例３に係る基板処理装置１は、実施例１の分岐管３１に代えて、分岐管９１を備えている。分岐管９１は外槽２３において循環ライン３から分岐している。分岐管９１の一端は、外槽２３の底部と連通接続している。分岐管９１の他端は、秤量部４１に連通接続されている。
分岐管９１の途中には、リン酸水溶液を送るための第１ポンプ９２が設けられている。第１ポンプ９２の二次側であって、秤量部４１の一次側には、開閉弁９３が設けられている。
基板処理装置１はさらに、供給管３３に設けられる第２ポンプ９５を備えている。第２ポンプ９５は、秤量部４１から濃度測定部５１へリン酸水溶液を送る。
濃度測定部５１は、試薬をリン酸水溶液に滴定しつつ、測定電極５５と参照電極５６の電位差を監視し、電位差が所定値となったときを滴定終点とする。そして、滴定終点までに試薬を滴定した量に基づいてシリコン濃度を測定する。このように、実施例３における濃度測定部５１は、いわゆる電気滴定法によって試薬を滴定する。ちなみに、実施例１等では、一定量の試薬を供給するものであり、試薬の供給方法が異なっている。ただし、実施例３の濃度測定部５１もシリコン濃度を電位差測定法によって測定するものであり、この点では実施例１の濃度測定部５１と同じである。
このようなシリコン濃度の測定を行うため、試薬供給部５４は、試薬を滴下するとともに、滴下した試薬の量（体積）を秤量可能なビュレット５８を備えている。電位差測定部５７は、ビュレット５８を制御して、試薬を測定容器５３に供給させる（滴下させる）とともに、ビュレット５８が供給した試薬の量に基づいて、シリコン濃度を測定する。
制御部６１は、さらに、上述した第１、第２ポンプ９２、９５、開閉弁９３を制御する。
次に、実施例３に係る基板処理装置１の動作例を説明する。基板処理に関しては、実施例１と同様であるので説明を省略し、濃度測定の動作例のみを説明する。
制御部６１は、開閉弁９３を開放させ、開閉弁３４、３６を閉止させた状態で、第１ポンプ９２を駆動させる。循環ライン３を流れるリン酸水溶液の一部は、分岐管９１に流れる。分岐管９１に流入したリン酸水溶液は秤量部４１に供給される。秤量部４１は、所定量のリン酸水溶液を秤量する。その後、第１ポンプ９２を停止し、開閉弁９３を閉止する。
続いて、制御部６１は、開閉弁３４を開放させ、第２ポンプ９５を駆動させる。供給管３３を通じて、秤量部４１から濃度測定部５１（測定容器５３）に、所定量のリン酸水溶液が流れる。その後、制御部６１は第２ポンプ９５を停止し、開閉弁３４を閉止する。
濃度測定部５１に供給されたリン酸水溶液は、測定容器５３に貯留される。測定容器５３内の溶液は、サンプリング用ヒータ８３によって加熱されている。電位差測定部５７は、測定電極５５と参照電極５６との電位差を監視しつつビュレット５８を操作して、測定容器５３に試薬を滴下させる。そして、電位差が所定値になると、ビュレット５８による滴定を終了させる。電位差測定部５７は、試薬の滴定量に基づいてシリコン濃度を測定し、その測定結果を出力する。
このように、実施例３に係る基板処理装置１によっても、実施例１、２と同様な効果が得られる。
また、実施例３に係る基板処理装置１では、分岐管９１は外槽２３において循環ライン３から分岐されているので、循環ライン３を流れるリン酸水溶液の一部を抜き出しても、内槽６内におけるリン酸水溶液の流れに及ぼす影響が少ない。よって、リン酸水溶液をより適切に循環させながら、シリコン濃度を測定することができる。
また、第１ポンプ９２を備えているので、循環ライン３からリン酸水溶液を円滑に抽出することができる。よって、分岐管９１および秤量部４１の配置の自由度を増すことができる。
また、第２ポンプ９５を備えているので、秤量部４１から濃度測定部５１にリン酸水溶液を円滑に送ることができる。よって、秤量部４１、供給管３３および濃度測定部５１の配置の自由度を増すことができる。
また、試薬供給部５４はビュレット５８を含むので、電気滴定法によって試薬を滴定することができる。よって、試薬の消費量を適切に抑制できる。
次に、本発明の実施例４を説明する。図４は、実施例４に係る基板処理装置１の概略構成を示す図である。なお、実施例１乃至３と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。
本実施例４では、フィルタ１７と処理槽１１の間を並列的に接続するように設けられた２つの管路１８（第１配管１８ａと第２配管１８ｂ）を備えている。循環ライン３は、フィルタ１７と処理槽１１の区間のみ２つの経路を有している。以下、具体的に説明する。
フィルタ１７は、入口部１７ａと、出口部１７ｂと、これら入口部１７ａと出口部１７ｂとの間に設けられるフィルタエレメント１７ｆを有する。フィルタエレメント１７ｆは、異物を除去する濾材である。入口部１７ａは、このフィルタエレメント１７ｆを通過する前のリン酸水溶液を収容する。出口部１７ｂは、フィルタエレメント１７ｆを通過した後のリン酸水溶液を収容する。
出口部１７ｂは、第１配管１８ａによって内槽２１と連通接続されている。リン酸水溶液は、出口部１７ｂから内槽２１に向かって第１配管１８ａを流れる。
入口部１７ａには、排出部９７が設けられている。排出部９７は、入口部１７ａ内で発生した気体を外部に排出させる。排出部９７には、流路が絞られたオリフィスが形成されている。排出部９７は、第２配管１８ｂによって外槽２３と連通接続されている。リン酸水溶液は、入口部１７ａから外槽２３に向かって第２配管１８ｂを流れる。
また、本実施例４の基板処理装置１は、実施例１の分岐管３１に代えて、分岐管９８を備えている。分岐管９８は第２配管１８ｂにおいて循環ライン３から分岐している。分岐管９８の一端は、第２配管１８ｂと接合している。分岐管９８の他端は、秤量部４１に連通接続されている。分岐管９８の途中には開閉弁９９が設けられている。
制御部６１は、さらに、上述した開閉弁９９を制御する。
次に、実施例４に係る基板処理装置１の動作例を説明する。ここでは、循環ライン３または分岐管９８を流れるリン酸水溶液の様子を中心に説明する。
制御部６１は、開閉弁１９のみを開放させ、開閉弁３４、３６、９９を閉止させた状態で、循環ポンプ１３を駆動させる。フィルタ１７に流入するリン酸水溶液は、主として入口部１７ａ、フィルタエレメント１７ｆ、出口部１７ｂの順でフィルタ１７内を流れる。出口部１７ｂに至ったリン酸水溶液は、フィルタ１７から流出し、第１配管１８ａを通じて内槽２１内に流入する。
ただし、入口部１７ａ内のリン酸水溶液の一部は、排出部９７を通じて第２配管１８ｂに流出する。フィルタエレメント１７ｆ内に進入しにくい気泡や異物など（以下、単に「気泡等」という）が入口部１７ａに滞留していると、これら気泡等もリン酸水溶液とともに第２配管１８ｂに押し出される。
ここで、入口部１７ａ内は、フィルタエレメント１７ｆおよび排出部９７に形成されたオリフィスによって比較的に高い圧力に保たれている。よって、第２配管１８ｂ内のリン酸水溶液の圧力は、第１配管１８ａ内のリン酸水溶液の圧力に比べて高い。また、第２配管１８ｂ内のリン酸水溶液等の流量は、オリフィスによって抑制されており、第１配管１８ａ内のリン酸水溶液の流量に比べて非常に小さい。すなわち、フィルタ１７と処理槽１１との間については、リン酸水溶液は主として第１配管１８ａを通じて流れる。
ここで、制御部６１が循環ポンプ１３を駆動させたまま開閉弁９９を開放させると、第２配管１８ｂ（循環ライン３）から分岐管９８にリン酸水溶液が流入する。
このように実施例４に係る基板処理装置１によっても、実施例１と同様な効果が得られる。
また、実施例４に係る基板処理装置１では、第１配管１８ａに比べて圧力が高い第２配管１８ｂから分岐される分岐管９８を備えているので、循環ライン３からリン酸水溶液を容易に抽出することができる。
また、第２配管１８ｂ内のリン酸水溶液は、フィルタエレメント１７ｆを通過していない分だけ、第１配管１８ａ内のリン酸水溶液に比べて温度が高い。よって、より温度の高い状態でリン酸水溶液を循環ライン３から抽出することができる。
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
（１）上述した各実施例１乃至４では、秤量部４１、７１の構成を例示したが、これに限られない。例えば、リン酸水溶液を貯留する秤量容器と、秤量容器内のリン酸水溶液の液位を検出するレベルセンサとを備える秤量部に変更してもよい。この変形実施例によっても、リン酸水溶液を精度よく秤量（計量）することができる。
（２）上述した各実施例１乃至４では、濃度測定部５１とは別に秤量部４１、７１を備えていたが、これに限られない。すなわち、リン酸水溶液を秤量する機能を備える濃度測定部に変更し、秤量部４１等を省略してもよい。例えば、測定容器５３内のリン酸水溶液の量を所定量に調整するオーバーフロー管をさらに備えるように、濃度測定部を変更してもよい。あるいは、測定容器５３内のリン酸水溶液の液位を検出するレベルセンサをさらに備える用に、濃度測定部を変更してもよい。
（３）上述した実施例２では、サンプリング用ヒータ８１について特に説明しなかったが、分岐管３１内のリン酸水溶液を加熱するヒータであれば、任意の構成のヒータを採用することができる。例えば、分岐管３１の外面に配置されるヒータであってもよい。また、分岐管３１内（すなわち、リン酸水溶液の流路）に配置されるヒータであってもよい。あるいは、二重管構造の分岐管３１を採用し、環状の外管内をリン酸水溶液の流路とし、円形の内管内にヒータを配置してもよい。
（４）上述した実施例２では、サンプリング用ヒータ８１乃至８３を備えていたが、これに限られない。すなわち、循環ライン３から抽出したリン酸水溶液を加熱できれば、ヒータの設置場所は適宜に選択、変更することができる。例えば、循環ライン３から抽出したリン酸水溶液の流路の全部にわたってヒータを配置してもよいし、リン酸水溶液の流路の一部のみにヒータを配置してもよい。また、サンプリング用ヒータ８１乃至８３のうち、いずれか１または２を省略するように変更してもよい。具体的には、例えば、実施例１等において、秤量部４１（例えば、秤量容器４３）を加熱するサンプリング用ヒータを備えるように変更してもよい。
（５）上述した実施例３では、分岐管９１の一端は、外槽２３の底部に連通接続していたが、これに限られない。分岐管９１の一端の位置は外槽２３内の任意の位置に変更してもよい。例えば、分岐管９１の一端を比較的に高い位置に変更してもよい。これによれば、外槽２３内に貯留されるリン酸水溶液のうち、上層の（あるいは液面付近の）リン酸水溶液を汲み出すことができる。これによれば、より温度の高い状態でリン酸水溶液を抽出することができる。また、分岐管９１の一端を内槽２１の外壁面に比較的に近い位置に変更してもよい。これによれば、放熱の影響が比較的に少ない位置でリン酸水溶液を汲み出すことができるので、温度の高いリン酸水溶液を安定的に抽出することができる。
（６）上述した実施例３では、分岐管３１は外槽２３において循環ライン３から分岐しているが、これに限られない。すなわち、循環ライン３に含まれる任意の構成（１１、１３、１５、１７、１８など）において分岐する分岐管に変更してもよい。
（７）上述した各実施例１では、分岐管３１に開閉弁３２が設けられていたが、これに限られない。すなわち、分岐管３１と循環ライン３（管路１８）との接合部に、リン酸水溶液の流路を切り換える切換弁を備えるように変更してもよい。これによれば、循環ライン３と分岐管３１との間でリン酸水溶液の流路を好適に切り換えることができる。
（８）上述した各実施例１乃至４では、処理槽１１は内槽２１と外槽２３を備えていたが、これに限られない。例えば、外槽２３を省略してもよい。
（９）上述した各実施例および各変形実施例の各構成を適宜に組み合わせるように変更してもよい。
１ …基板処理装置
３ …循環ライン
１１ …処理槽
１３ …循環ポンプ
１５ …循環用ヒータ
１７ …フィルタ
１７ｆ …フィルタエレメント
１７ａ …入口部
１７ｂ …出口部
１８ …管路
１８ａ …第１配管
１８ｂ …第２配管
１９ …開閉弁
２１ …内槽
２３ …外槽
３１，９１、９８ …分岐管
３３ …供給管
３５ …排液管
４１、７１ …秤量部
４３ …秤量容器
４５ …オーバーフロー管
５１ …濃度測定部
５３ …測定容器
５４ …試薬供給部
５５ …測定電極
５６ …参照電極
５７ …電位差測定部
６１ …制御部
７３ …シリンジ
７５ …プランジャ
７７ …駆動部

Claims (10)

  1. リン酸水溶液を貯留する処理槽と、リン酸水溶液を送る循環ポンプと、リン酸水溶液を加熱する循環用ヒータと、リン酸水溶液を濾過するフィルタと、を含み、前記処理槽から排出されるリン酸水溶液を、前記循環ポンプ、前記循環用ヒータ、前記フィルタの順に流すとともに、前記フィルタから前記処理槽にリン酸水溶液を戻す循環ラインと、
    前記循環用ヒータと前記フィルタとの間で前記循環ラインから分岐し、前記循環ラインからリン酸水溶液を抽出する分岐管と、
    前記分岐管に連通接続され、リン酸水溶液中のシリコン濃度を電位差測定法によって測定する濃度測定部と、
    を備えている基板処理装置。
  2. 請求項１に記載の基板処理装置において、
    前記循環ラインから抽出されたリン酸水溶液を加熱するサンプリング用ヒータを備えている基板処理装置。
  3. リン酸水溶液を貯留する処理槽と、リン酸水溶液を送る循環ポンプと、リン酸水溶液を加熱する循環用ヒータと、リン酸水溶液を濾過するフィルタと、を含み、前記処理槽から排出されるリン酸水溶液を、前記循環ポンプ、前記循環用ヒータ、前記フィルタの順に流すとともに、前記フィルタから前記処理槽にリン酸水溶液を戻す循環ラインと、
    前記循環ラインから分岐し、前記循環ラインからリン酸水溶液を抽出する分岐管と、
    前記分岐管に連通接続され、抽出されたリン酸水溶液中のシリコン濃度を電位差測定法によって測定する濃度測定部と、
    前記循環ラインから抜き出されたリン酸水溶液を加熱するサンプリング用ヒータと、
    を備えている基板処理装置。
  4. 請求項２または請求項３に記載の基板処理装置において、
    前記サンプリング用ヒータは、前記分岐管に設けられ、前記分岐管内のリン酸水溶液を加熱する基板処理装置。
  5. 請求項２から４のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記サンプリング用ヒータは、前記濃度測定部に設けられ、前記濃度測定部内のリン酸水溶液またはこれを含む溶液を加熱する基板処理装置。
  6. 請求項２または５のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記分岐管に設けられ、所定量のリン酸水溶液を秤量する秤量部を備え、
    前記濃度測定部は、前記秤量部によって秤量されたリン酸水溶液中のシリコン濃度を測定し、
    前記サンプリング用ヒータは、前記秤量部に設けられ、前記秤量部内のリン酸水溶液を加熱する基板処理装置。
  7. 請求項１から５のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記分岐管に設けられ、所定量のリン酸水溶液を秤量する秤量部を備え、
    前記濃度測定部は、前記秤量部によって秤量されたリン酸水溶液についてシリコン濃度を測定する基板処理装置。
  8. 請求項６または７に記載の基板処理装置において、
    前記秤量部は、所定量のリン酸水溶液を貯留する秤量容器を備えている基板処理装置。
  9. 請求項６または７に記載の基板処理装置において、
    前記秤量部は、
    筒形状を有するシリンジと、
    前記シリンジ内を気密にスライド移動するプランジャと、
    前記プランジャを駆動して、所定量のリン酸水溶液を前記シリンジ内に吸引させ、かつ、前シリンジから排出させる駆動部と、
    を備えている基板処理装置。
  10. 請求項１から９のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記処理槽は、
    リン酸水溶液を貯留し、基板を浸漬するための内槽と、
    前記内槽から溢れ出るリン酸水溶液を回収する外槽と、
    を備え、
    前記フィルタは、その入口部と出口部の間に設けられるフィルタエレメントを備え、
    前記循環ラインは、
    前記フィルタの出口部と前記内槽とを連通接続する第１配管と、
    前記フィルタの入口部と前記外槽とを連通接続する第２配管と、
    を備え、
    前記分岐管は前記第２配管から分岐されている基板処理装置。
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