JP2012028580A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 薬液と希釈液を混合してなる処理液中に基板を浸漬して処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽1と、処理液を加熱する加熱手段2,3と、処理液の温度を検出する温度検出手段4と、検出温度が設定温度に近づくように前記加熱手段2,3を操作する温度制御手段5と、処理液に希釈液を補充する補充手段6と、処理液の吸光特性を測定することで処理液の濃度を検出する濃度検出手段7と、検出濃度が設定濃度に近づくように前記補充手段6を操作する濃度制御手段8と、を備える。
【選択図】 図1
Description
すなわち、本発明の基板処理装置は、薬液と希釈液を混合してなる処理液を加熱し、この処理液中に基板を浸漬して処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、処理液を加熱する加熱手段と、処理液の温度を検出する温度検出手段と、その温度検出手段による検出温度が設定温度に近づくように前記加熱手段を操作する温度制御手段と、処理液に希釈液を補充する補充手段と、処理液の吸光特性を測定することで処理液の濃度を検出する濃度検出手段と、その濃度検出手段による検出濃度が設定濃度に近づくように前記補充手段を操作する濃度制御手段と、を備えたことを特徴とする。
さらに、検量線式を特定のセルを用いて作成するのではなく、使用する光透過部に導入して作成することにより、光透過部に固有の性状に関する情報を検量線に組み込む事が可能になり、処理液の循環経路あるいはその分岐経路において直接濃度を測定して、時間差や温度差を生じることなく、連続的に処理液の濃度を検出することが可能となる。
本発明は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、以下のように実施形態を変更することが可能である。
(6)前記の実施形態では、温度検出手段が、熱電対を用いた温度センサによって行う場合の例を示したが、温度検出手段として処理液の吸光特性を利用することも可能である。その場合、処理液の吸光特性を測定することで処理液の温度を検出する温度検出手段を別に設けてもよいが、濃度検出手段によって、温度検出手段を兼用することが好ましい。その場合には、あらかじめ温度の異なる既知の濃度の処理液の吸光度を測定して検量線に加えておき、処理液の濃度と温度の両方を算出するようにすればよい。
1b 循環配管
1d 光透過部
2 ヒーター(加熱手段)
3 ヒーター(加熱手段)
4 温度検出手段
5 温度制御手段
6 補充手段
7 濃度検出手段
8 濃度制御手段
9 循環ポンプ
10 フィルタ
すなわち、本発明の基板処理装置は、薬液としての燐酸と希釈液としての水とを含有する処理液を加熱し、この処理液中に基板を浸漬して処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、処理液を加熱する加熱手段と、処理液の温度を検出する温度検出手段と、その温度検出手段による検出温度が設定温度に近づくように前記加熱手段を操作する温度制御手段と、処理液に希釈液を補充する補充手段と、水の吸収バンドを含む複数の波長における処理液の吸光特性を測定することで、処理液の温度による誤差変動を除去した処理液の濃度を検出する濃度検出手段と、その濃度検出手段による検出濃度が設定濃度に近づくように前記補充手段を操作する濃度制御手段と、を備えたことを特徴とする。
Claims (5)
- 薬液と希釈液を混合してなる処理液を加熱し、この処理液中に基板を浸漬して処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留する処理槽と、
処理液を加熱する加熱手段と、
処理液の温度を検出する温度検出手段と、
その温度検出手段による検出温度が設定温度に近づくように前記加熱手段を操作する温度制御手段と、
処理液に希釈液を補充する補充手段と、
処理液の吸光特性を測定することで処理液の濃度を検出する濃度検出手段と、
その濃度検出手段による検出濃度が設定濃度に近づくように前記補充手段を操作する濃度制御手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記濃度検出手段は、複数の波長における吸光特性を測定することで、処理液の温度による誤差変動を除去した濃度を検出する請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記濃度検出手段の測定部は、前記処理槽に接続された循環配管又はその循環配管から分岐された分岐配管の光透過部に設置されている請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 前記濃度検出手段は、複数の波長における吸光特性を測定することで、前記測定部が設置される光透過部の性状による誤差変動を除去した濃度を検出する請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記処理液は、薬液としての燐酸と希釈液としての水とを含有する燐酸溶液である請求項1〜4いずれかに記載の基板処理装置。
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