KR20200073311A - 세정액 순환 필터링 장치 - Google Patents
세정액 순환 필터링 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20200073311A KR20200073311A KR1020180160593A KR20180160593A KR20200073311A KR 20200073311 A KR20200073311 A KR 20200073311A KR 1020180160593 A KR1020180160593 A KR 1020180160593A KR 20180160593 A KR20180160593 A KR 20180160593A KR 20200073311 A KR20200073311 A KR 20200073311A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- cleaning liquid
- valve
- circulation
- circulation line
- acidity
- Prior art date
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 159
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 105
- 238000001914 filtration Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims abstract description 59
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 16
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 claims description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract description 21
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 11
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
- B01D35/02—Filters adapted for location in special places, e.g. pipe-lines, pumps, stop-cocks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
- B01D35/14—Safety devices specially adapted for filtration; Devices for indicating clogging
- B01D35/157—Flow control valves: Damping or calibrated passages
- B01D35/1573—Flow control valves
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
본 발명의 일 측면에 따르면, 산세 설비로부터 배출되는 세정액을 순환시키는 제1 순환 라인, 제1 순환 라인에 배치되어 세정액에 잔존하는 오염물을 필터링하는 필터 유닛, 필터 유닛에 배치되어 필터링된 세정액을 산세 설비에 재공급하는 제2 순환 라인, 필터 유닛을 거친 세정액의 산성도를 측정하는 산성도 측정 유닛, 및 세정액을 순환시키는 동력을 제공하는 펌프를 포함하는 세정액 순환 필터링 장치가 제공된다.
Description
본 발명은 세정액 순환 필터링 장치에 관한 것이다.
반도체 제조 공정에 사용되는 장비의 부품은 주로 세라믹스가 사용되며, 주요 소재는 석영, 탄화규소, 알루미나, 질화 알루미늄 등이 사용되고 있다. 각 부품은 공정 전후에 불산, 질산, 염산 등 각종 약액을 이용하여 표면 식각 또는 불순물을 제거하는 산세 공정을 거치게 된다.
반도체용 장비 부품의 기계 가공, 연삭, 연마 등의 공정에서 발생한 오염물은 산세 공정을 통하여 세정액에 의해 씻겨질 수 있고, 산세 공정을 거친 세정액에는 오염물이 잔존하게 된다. 세정액은 산세 공정을 거치며 세정액에 잔존한 오염물에 의해 산세 효과가 낮아질 수 있으며, 산세 효과가 낮아진 세정액은 추가적으로 세정액을 보충하여 사용되거나 폐기될 수 있다.
산세 공정에 사용된 세정액은 폐기 과정에서 환경 오염이 발생할 수 있으며, 사용된 세정액의 폐기 및 새로운 세정액의 공급에 많은 비용이 발생할 수 있다. 이와 같은 문제점을 해결하기 위해, 세정액의 폐기 및 오염물 여과에 대한 연구가 진행되고 있다.
본 발명은 산세 공정에 사용된 세정액을 필터링하여 세정액에 잔존하는 오염물을 제거하며, 필터링을 거친 세정액의 산성도를 측정하여 세정액의 산세 효과를 확인하여 산세 설비로 세정액을 재공급하는 세정액 순환 필터링 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 산세 설비로부터 배출되는 세정액을 순환시키는 제1 순환 라인, 제1 순환 라인에 배치되어 세정액에 잔존하는 오염물을 필터링하는 필터 유닛, 필터 유닛에 배치되어 필터링된 세정액을 산세 설비에 재공급하는 제2 순환 라인, 필터 유닛을 거친 세정액의 산성도를 측정하는 산성도 측정 유닛, 및 세정액을 순환시키는 동력을 제공하는 펌프를 포함하는 세정액 순환 필터링 장치가 제공된다.
세정액 순환 필터링 장치는, 산세 설비로부터 세정액 배출 여부를 조절하는 제1 밸브, 제1 순환 라인으로부터 필터 유닛으로 세정액의 유동 여부를 조절하는 제2 밸브, 및 필터 유닛으로부터 제2 순환 라인을 통해 산세 설비로 세정액의 유동 여부를 조절하는 제3 밸브를 더 포함할 수 있다.
세정액 순환 필터링 장치는, 양단이 제2 순환 라인에 연결되며, 산성도 측정 유닛이 배치되는 산성도 측정 라인, 및 필터 유닛으로부터 산성도 측정 라인으로 세정액의 유동 여부를 조절하는 제4 밸브를 더 포함할 수 있다.
세정액 순환 필터링 장치는, 제1 순환 라인에 연결되어, 산세 설비로부터 배출되는 세정액을 회수하고, 제1 순환 라인에 세정액을 공급하는 회수공급 라인, 및 제1 순환 라인으로부터 회수공급 라인으로 세정액의 유동 여부를 조절하는 제5 밸브를 더 포함할 수 있다.
세정액 순환 필터링 장치는, 제1 밸브 내지 제5 밸브의 개폐를 제어하는 제어 유닛을 더 포함할 수 있다.
제어 유닛은 제1 밸브 내지 제3 밸브를 오픈하고, 제5 밸브를 클로즈하여 세정액을 필터링하여 순환시킬 수 있다.
제어 유닛은, 제1 밸브, 제2 밸브 및 제 4 밸브를 오픈하고, 제5 밸브를 클로즈하여 필터링된 세정액의 산성도를 측정할 수 있다.
제어 유닛은, 제1 밸브 및 제5 밸브를 오픈하고, 제2 밸브를 클로즈하여 세정액을 회수 및 공급할 수 있다.
제4 밸브는 체크밸브로 이루어질 수 있다.
세정액 순환 필터링 장치는, 제1 순환 라인 및 제2 순환 라인에 각각 설치되어 압력을 측정하는 복수 개의 압력 측정 유닛을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 산세 공정에 사용된 세정액을 필터링하여 세정액에 잔존하는 오염물을 제거할 수 있으며, 필터링을 거친 세정액의 산성도를 측정하여 세정액의 산세 효과를 확인하여 세정액을 산세 설비로 재공급할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 순환 필터링 장치를 나타낸 개략도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 필터링 순환 과정을 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 산성도 측정 과정을 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 회수 과정을 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 공급 과정을 나타낸 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 필터링 순환 과정을 나타낸 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 산성도 측정 과정을 나타낸 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 회수 과정을 나타낸 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 공급 과정을 나타낸 도면.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
또한, 이하 사용되는 제1, 제2 등과 같은 용어는 동일 또는 상응하는 구성 요소들을 구별하기 위한 식별 기호에 불과하며, 동일 또는 상응하는 구성 요소들이 제1, 제2 등의 용어에 의하여 한정되는 것은 아니다.
이하, 본 발명에 따른 세정액 순환 필터링 장치(100)의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 산세 설비(10)로부터 배출되는 세정액을 순환시키는 제1 순환 라인(110), 제1 순환 라인(110)에 배치되어 세정액에 잔존하는 오염물을 필터링하는 필터 유닛(120), 필터 유닛(120)에 배치되어 필터링된 세정액을 산세 설비(10)에 재공급하는 제2 순환 라인(130), 필터 유닛(120)을 거친 세정액의 산성도를 측정하는 산성도 측정 유닛(142), 및 세정액을 순환시키는 동력을 제공하는 펌프(150)를 포함하는 세정액 순환 필터링 장치(100)가 제공된다.
본 발명의 일 실시예는 산세 설비(10)를 이용한 산세 공정에 사용된 세정액을 필터링하여 세정액에 잔존하는 오염물을 제거할 수 있으며, 필터링을 거친 세정액의 산성도를 측정함으로써 세정액의 산세 효과를 확인하고 산세 설비(10)로 세정액을 재공급할 수 있다.
또한, 본 실시예는 필터링 과정에서 세정액의 산성도를 측정하므로, 기존과 같은 별도의 샘플을 채취하여 산성도를 측정하는 과정을 대체할 수 있다.
이하, 도 1을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 순환 필터링 장치(100)의 각 구성에 대해 설명한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 산세 설비(10)는 본 실시예의 세정액 순환 필터링 장치(100)와 연결되어 사용된 세정액을 세정액 순환 필터링 장치(100)로 배출할 수 있으며, 필터링을 거치거나 새로운 세정액을 재공급받을 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 제1 순환 라인(110)은 산세 설비(10)로부터 배출되는 세정액을 순환시킬 수 있다. 구체적으로, 제1 순환 라인(110)은 산세 설비(10)와 필터 유닛(120)을 연결하여 산세 설비(10)에서 배출되는 세정액을 필터 유닛(120)으로 이송할 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 필터 유닛(120)은 제1 순환 라인(110)에 배치되어 세정액에 잔존하는 오염물을 필터링할 수 있다. 다시 말하면, 필터 유닛(120)은 제1 순환 라인(110)에 배치되어 산세 설비(10)에서 배출되어 제1 순환 라인(110)을 통해 이송된 세정액에 잔존하는 오염물을 필터링할 수 있다.
구체적으로, 필터 유닛(120)은 세정액에 잔존하는 오염물을 필터링하는 제1 필터 유닛(122), 및 제1 필터 유닛(122)보다 작은 입자의 오염물을 필터링하는 제2 필터 유닛(124)을 포함할 수 있다. 일례로, 제1 필터 유닛(122)는 10㎛의 오염물을 필터링할 수 있으며, 제2 필터 유닛(124)은 제1 필터 유닛(122)보다 작은 5㎛의 오염물을 필터링할 수 있다.
제1 필터 유닛(122) 및 제2 필터 유닛(124)은 오염물 필터링 과정에서 오염물이 쌓일 수 있으며, 쌓인 오염물에 의해 세정액의 순환이 방해되면 필터링 부품을 교체할 필요가 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 제2 순환 라인(130)은 필터 유닛(120)에 배치되어 필터 유닛(120)을 거쳐 필터링된 세정액을 산세 설비(10)에 재공급할 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 산성도 측정 유닛(142)은 필터 유닛(120)을 거친 세정액의 산성도를 측정할 수 있다. 다시 말하면, 산성도 측정 유닛(142)은 필터 유닛(120)을 거친 세정액의 산성도를 측정하므로, 순환 과정에서 필터 유닛(120) 이후에 배치되는 제2 순환 라인(130), 산성도 측정 라인(140)에 설치될 수 있으며, 세정액의 산성도에 따라 세정액의 산세 효과를 평가할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서 산성도 측정 유닛(142)은 산성도 측정 라인(140)에 배치되어 필터 유닛(120)을 거친 세정액의 산성도를 측정할 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 산성도 측정 라인(140)은 양단이 제2 순환 라인(130)에 연결되며, 산성도 측정 유닛(142)이 배치될 수 있다. 자세하게, 산성도 측정 라인(140)은 제2 순환 라인(130)에 연결되며, 필터 유닛(120)에서 필터링이 진행된 세정액을 산성도 측정 유닛(142)으로 이송하여 필터링된 세정액의 산성도를 측정할 수 있다.
또한, 산성도 측정 라인(140)은 제2 순환 라인(130)보다 작은 직경을 가질 수 있다. 보다 구체적으로, 산성도 측정 라인(140)에 배치되는 산성도 측정 유닛(142)은 세정액의 산성도만 측정하면 되므로, 많은 양의 세정액을 필요로 하지 않으므로, 산성도 측정 라인(140)은 제2 순환 라인(130) 보다 작은 직경을 가져 소량의 세정액을 유동시킬 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 펌프(150)는 세정액을 순환시키는 동력을 제공할 수 있다. 다시 말하면, 펌프(150)는 제1 순환 라인(110), 보다 자세하게는 회수공급 라인(160)과 제1 순환 라인(110)의 연결 부분 이전에 배치되어 산세 설비(10)로부터 배출되는 세정액이 본 실시예의 세정액 순환 필터링 장치(100)를 순환할 수 있는 동력을 제공할 수 있다.
펌프(150)는 양방향으로 세정액을 순환시킬 수 있으며, 후술할 세정액의 공급 단계에서 보관 탱크(164)로부터 산세 설비(10)로 세정액을 이송시킬 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 회수공급 라인(160)은 제1 순환 라인(110)에 연결되어, 산세 설비(10)로부터 배출되는 세정액을 회수하고, 제1 순환 라인(110)에 세정액을 공급할 수 있다.
보다 구체적으로, 산세 설비(10)로부터 배출되는 세정액을 회수공급 라인(160)을 통해 후술할 보관 탱크(164)로 회수하여 폐기할 수 있으며, 사용 전의 세정액을 보관 탱크(164)에 보관하여 회수공급 라인(160)을 통해 산세 설비(10)로 공급할 수 있다. 회수 과정 및 공급 과정에서 세정액의 유동은 펌프(150)에 의해 이루어질 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 보관 탱크(164)는 회수공급 라인(160)에 연결되어 세정액을 보관할 수 있다. 다시 말하면, 보관 탱크(164)는 산세 설비(10)에서 배출되는 세정액 또는 산세 설비(10)에 공급하는 세정액을 보관할 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 압력 측정 유닛(170)은 제1 순환 라인(110) 및 제2 순환 라인(130)에 복수 개가 각각 설치되어 제1 순환 라인(110) 및 제2 순환 라인(130)에서 세정액의 압력을 각각 측정할 수 있다.
알람 유닛(도면 미도시)은 제1 순환 라인(110)과 제2 순환 라인(130)의 압력 편차가 기설정된 압력 편차보다 큰 경우 작업자에게 신호를 전달할 수 있다.
제1 순환 라인(110)과 제2 순환 라인(130)의 압력 편차가 크게 형성되는 경우, 필터 유닛(120)이 세정액의 순환을 방해하는 것으로 볼 수 있으며, 이는 구체적으로, 필터 유닛(120)에 쌓인 오염물이 세정액의 순환을 방해하는 것으로 볼 수 있다.
따라서, 알람 유닛은 제1 순환 라인(110)과 제2 순환 라인(130)의 압력 편차가 기설정된 압력 편차보다 큰 경우, 작업자에게 신호를 전달하여 필터 유닛(120) 내 부품의 교체 주기를 알릴 수 있다.
휠 유닛(도면 미도시)은 본 실시예의 세정액 순환 필터링 장치(100)를 이동시킬 수 있다. 보다 자세하게, 휠 유닛은 고정된 산세 설비(10)로 세정액 순환 필터링 장치(100)를 이동시켜 사용할 수 있도록 세정액 순환 필터링 장치(100)에 설치될 수 있다.
따라서 본 실시예의 세정액 순환 필터링 장치(100) 1대를 사용하여 복수의 산세 설비(10)의 필터링이 가능하다.
도 1에 도시된 바와 같이, 제1 밸브(112)는 제1 순환 라인(110)에 배치되어 산세 설비(10)로부터 세정액 배출 여부를 조절할 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 제2 밸브(114)는 제1 순환 라인(110)에 배치되어 제1 순환 라인(110)으로부터 필터 유닛(120)으로 세정액의 유동 여부를 조절할 수 있다. 구체적으로, 제2 밸브(114)는 제1 밸브(112)보다 필터 유닛(120)에 가까운 위치에 배치될 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 제3 밸브(132)는 제2 순환 라인(130)에 배치되어 필터 유닛(120)으로부터 제2 순환 라인(130)을 통해 산세 설비(10)로 세정액의 유동 여부를 조절할 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 제4 밸브(144)는 산성도 측정 라인(140)에 배치되어 필터 유닛(120)으로부터 산성도 측정 라인(140)으로 세정액의 유동 여부를 조절할 수 있다.
또한, 제4 밸브(144)는 체크밸브로 이루어질 수 있다. 자세하게, 제4 밸브(144)는 산성도 측정 라인(140)에 배치되며, 산성도 측정 라인(140)의 양단은 제2 순환 라인(130)에 연결되므로, 제4 밸브(144)는 산성도 측정라인과 제2 순환 라인(130) 사이에 역류의 발생을 방지하도록 체크밸브로 이루어질 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 제5 밸브(162)는 회수공급 라인(160)에 배치되어 제1 순환 라인(110)으로부터 회수공급 라인(160)으로 세정액의 유동 여부를 조절할 수 있다.
제어 유닛(180)은 제1 밸브(112) 내지 제5 밸브(162)의 개폐를 제어하여 본 실시예의 세정액 순환 필터링 장치(100)의 작동을 제어할 수 있다. 또한, 제어 유닛(180)은 펌프(150)의 작동을 제어하여 펌프(150)의 온오프 및 세정액의 순환 방향을 제어할 수 있다.
다음으로, 도 2 내지 도 5를 참조하여 제어 유닛(180)을 이용한 세정액 순환 필터링 장치(100)의 작동 메커니즘을 설명하고, 각 작동 메커니즘에서 세정액 순환 필터링 장치(100)의 기능에 대해 설명한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제어 유닛(180)은 제1 밸브(112) 내지 제3 밸브(132)를 오픈하고, 제5 밸브(162)를 클로즈하여 세정액을 필터링하여 순환시킬 수 있다.
구체적으로, 제어 유닛(180)은 펌프(150)를 세정액이 제1 밸브(112)로부터 제2 밸브(114)로 이동하는 방향(이하 '정방향'이라 하며, '정방향'의 반대 방향을 '역방향'이라 한다.)으로 작동시키고, 제1 밸브(112) 내지 제3 밸브(132)를 오픈하고 제5 밸브(162)를 클로즈하여, 세정액을 산세 설비(10)-제1 순환 라인(110)-필터 유닛(120)-제2 순환 라인(130)-산세 설비(10) 순으로 순환시킬 수 있다.
여기서, 제4 밸브(144)의 개폐는 세정액의 순환에 영향을 주지 않는다.
도 3에 도시된 바와 같이, 제어 유닛(180)은 제1 밸브(112), 제2 밸브(114) 및 제 4 밸브를 오픈하고, 제5 밸브(162)를 클로즈하여 필터링된 세정액의 산성도를 측정할 수 있다.
구체적으로, 제어 유닛(180)은 펌프(150)를 정방향으로 작동시키고, 제1 밸브(112), 제2 밸브(114) 및 제4 밸브(144)를 오픈하고, 제5 밸브(162)를 클로즈하여, 세정액을 산세 설비(10)-제1 순환 라인(110)-필터 유닛(120)-산성도 측정 라인(140)-산세 설비(10) 순으로 순환시켜 산성도 측정 라인(140)에 배치된 산성도 측정 유닛(142)을 이용하여 세정액의 산성도를 측정시킬 수 있다.
여기서, 제 3 밸브의 개폐는 세정액의 산성도 측정에 영향을 주지 않으며, 제어 유닛(180)은 제1 밸브(112) 내지 제4 밸브(144)를 오픈하고, 제5 밸브(162)를 클로즈하여, 세정액의 순환과 산성도 측정을 동시에 진행할 수 있다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 제어 유닛(180)은 제1 밸브(112) 및 제5 밸브(162)를 오픈하고, 제2 밸브(114)를 클로즈하여 세정액을 회수 및 공급할 수 있다. 다시 말하면, 제어 유닛(180)은 제1 밸브(112) 및 제5 밸브(162)를 오픈하고, 제2 밸브(114)를 클로즈하며, 펌프(150)의 작동 방향을 제어하여 세정액의 회수 과정 및 공급 과정을 진행할 수 있다.
구체적으로 도 4에 도시된 바와 같이, 제어 유닛(180)은 펌프(150)를 정방향으로 작동시키고, 제1 밸브(112) 및 제5 밸브(162)를 오픈하고, 제2 밸브(114)를 클로즈하여, 세정액을 산세 설비(10)-제1 순환 라인(110)-회수공급라인-보관 탱크(164) 순으로 이송시켜 세정액을 보관 탱크(164)로 회수할 수 있다. 여기서 보관 탱크(164)에 회수된 세정액은 폐기될 수 있다.
또한 도 5에 도시된 바와 같이, 제어 유닛(180)은 펌프(150)를 역방향으로 작동시키고, 제1 밸브(112) 및 제5 밸브(162)를 오픈하고, 제2 밸브(114)를 클로즈하여, 세정액을 보관 탱크(164)-회수공급 라인(160)-제1 순환 라인(110)-산세 설비(10) 순으로 이송시켜 보관 탱크(164)에 보관되는 세정액을 산세 설비(10)로 공급할 수 있다.
이상, 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.
10: 산세 설비
100: 세정액 순환 필터링 장치
110: 제1 순환 라인
112: 제1 밸브
114: 제2 밸브
120: 필터 유닛
122: 제1 필터 유닛
124: 제2 필터 유닛
130: 제2 순환 라인
132: 제3 밸브
140: 산성도 측정 라인
142: 산성도 측정 유닛
144: 제4 밸브
150: 펌프
160: 회수공급 라인
162: 제5 밸브
164: 보관 탱크
170: 압력 측정 유닛
180: 제어 유닛
100: 세정액 순환 필터링 장치
110: 제1 순환 라인
112: 제1 밸브
114: 제2 밸브
120: 필터 유닛
122: 제1 필터 유닛
124: 제2 필터 유닛
130: 제2 순환 라인
132: 제3 밸브
140: 산성도 측정 라인
142: 산성도 측정 유닛
144: 제4 밸브
150: 펌프
160: 회수공급 라인
162: 제5 밸브
164: 보관 탱크
170: 압력 측정 유닛
180: 제어 유닛
Claims (10)
- 산세 설비로부터 배출되는 세정액을 순환시키는 제1 순환 라인;
상기 제1 순환 라인에 배치되어 세정액에 잔존하는 오염물을 필터링하는 필터 유닛;
상기 필터 유닛에 배치되어 필터링된 세정액을 상기 산세 설비에 재공급하는 제2 순환 라인;
상기 필터 유닛을 거친 세정액의 산성도를 측정하는 산성도 측정 유닛; 및
세정액을 순환시키는 동력을 제공하는 펌프를 포함하는 세정액 순환 필터링 장치.
- 제1항에 있어서,
상기 산세 설비로부터 세정액 배출 여부를 조절하는 제1 밸브;
상기 제1 순환 라인으로부터 상기 필터 유닛으로 세정액의 유동 여부를 조절하는 제2 밸브; 및
상기 필터 유닛으로부터 상기 제2 순환 라인을 통해 상기 산세 설비로 세정액의 유동 여부를 조절하는 제3 밸브를 더 포함하는 세정액 순환 필터링 장치.
- 제2항에 있어서,
양단이 상기 제2 순환 라인에 연결되며, 상기 산성도 측정 유닛이 배치되는 산성도 측정 라인; 및
상기 필터 유닛으로부터 상기 산성도 측정 라인으로 세정액의 유동 여부를 조절하는 제4 밸브를 더 포함하는 세정액 순환 필터링 장치.
- 제3항에 있어서,
상기 제1 순환 라인에 연결되어, 상기 산세 설비로부터 배출되는 세정액을 회수하고, 상기 제1 순환 라인에 세정액을 공급하는 회수공급 라인; 및
상기 제1 순환 라인으로부터 상기 회수공급 라인으로 세정액의 유동 여부를 조절하는 제5 밸브를 더 포함하는 세정액 순환 필터링 장치.
- 제4항에 있어서,
상기 제1 밸브 내지 상기 제5 밸브의 개폐를 제어하는 제어 유닛을 더 포함하는 세정액 순환 필터링 장치.
- 제5항에 있어서,
상기 제어 유닛은 상기 제1 밸브 내지 상기 제3 밸브를 오픈하고, 상기 제5 밸브를 클로즈하여 세정액을 필터링하여 순환시키는, 세정액 순환 필터링 장치.
- 제5항에 있어서,
상기 제어 유닛은, 상기 제1 밸브, 상기 제2 밸브 및 상기 제 4 밸브를 오픈하고, 상기 제5 밸브를 클로즈하여 필터링된 세정액의 산성도를 측정하는, 세정액 순환 필터링 장치.
- 제5항에 있어서,
상기 제어 유닛은, 상기 제1 밸브 및 상기 제5 밸브를 오픈하고, 상기 제2 밸브를 클로즈하여 세정액을 회수 및 공급하는, 세정액 순환 필터링 장치.
- 제3항에 있어서,
상기 제4 밸브는 체크밸브로 이루어지는, 세정액 순환 필터링 장치.
- 제1항에 있어서,
상기 제1 순환 라인 및 상기 제2 순환 라인에 각각 설치되어 압력을 측정하는 복수 개의 압력 측정 유닛을 더 포함하는 세정액 순환 필터링 장치.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020180160593A KR102134918B1 (ko) | 2018-12-13 | 2018-12-13 | 세정액 순환 필터링 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020180160593A KR102134918B1 (ko) | 2018-12-13 | 2018-12-13 | 세정액 순환 필터링 장치 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20200073311A true KR20200073311A (ko) | 2020-06-24 |
| KR102134918B1 KR102134918B1 (ko) | 2020-07-20 |
Family
ID=71407919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020180160593A KR102134918B1 (ko) | 2018-12-13 | 2018-12-13 | 세정액 순환 필터링 장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102134918B1 (ko) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100513397B1 (ko) * | 2001-01-12 | 2005-09-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 세정시스템 및 그 세정액 공급방법 |
| KR20050094550A (ko) * | 2004-03-23 | 2005-09-28 | 삼성전자주식회사 | 기판 세정 장치 |
| KR100598914B1 (ko) * | 2004-09-02 | 2006-07-10 | 세메스 주식회사 | 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비 |
| KR100862761B1 (ko) * | 2006-09-05 | 2008-10-13 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판처리장치 |
| KR101503172B1 (ko) * | 2013-11-20 | 2015-03-16 | 주식회사 엘지실트론 | 약액 공급 장치 |
| KR101696062B1 (ko) | 2015-03-09 | 2017-01-13 | 주식회사 포스코 | 용액 필터링장치 |
-
2018
- 2018-12-13 KR KR1020180160593A patent/KR102134918B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100513397B1 (ko) * | 2001-01-12 | 2005-09-09 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 세정시스템 및 그 세정액 공급방법 |
| KR20050094550A (ko) * | 2004-03-23 | 2005-09-28 | 삼성전자주식회사 | 기판 세정 장치 |
| KR100598914B1 (ko) * | 2004-09-02 | 2006-07-10 | 세메스 주식회사 | 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비 |
| KR100862761B1 (ko) * | 2006-09-05 | 2008-10-13 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판처리장치 |
| KR101503172B1 (ko) * | 2013-11-20 | 2015-03-16 | 주식회사 엘지실트론 | 약액 공급 장치 |
| KR101696062B1 (ko) | 2015-03-09 | 2017-01-13 | 주식회사 포스코 | 용액 필터링장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR102134918B1 (ko) | 2020-07-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11498852B2 (en) | Ultrapure water generation and verification system | |
| US8580117B2 (en) | System and method for replacing resist filter to reduce resist filter-induced wafer defects | |
| US20150020968A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| WO2000064822A1 (en) | Apparatus and process for separation and recovery of liquid and slurry abrasives used for polishing | |
| US6436281B2 (en) | Apparatus for treating wastewater from a chemical-mechanical polishing process used in chip fabrication | |
| CN111618743A (zh) | 研磨液再生回收系统 | |
| CN111050995A (zh) | 冷却液处理系统 | |
| CN208913880U (zh) | 研磨液过滤系统、研磨液供应系统及化学机械研磨设备 | |
| KR102134918B1 (ko) | 세정액 순환 필터링 장치 | |
| CN110652751B (zh) | 光阻剂分配系统及光阻剂的回收方法 | |
| US20130299406A1 (en) | Slurry Concentration System and Method | |
| US20030003851A1 (en) | Method and apparatus for recycling slurry | |
| TWI795912B (zh) | 具氣壓式循環功能之預浸潤系統 | |
| TWI592988B (zh) | 半導體乾燥設備和用於該設備之半導體乾燥用處理液體的循環與過濾方法 | |
| KR101806144B1 (ko) | 제어-삼투 및 역삼투를 이용한 담수화 시스템 | |
| KR101116653B1 (ko) | 세정액 공급 장치 | |
| CN107644822B (zh) | 半导体干燥设备和半导体干燥用处理液体循环与过滤方法 | |
| US20240077890A1 (en) | Smart manufacturing solutions for wastewater treatment | |
| US20240216942A1 (en) | Apparatus for supplying chemicals, apparatus and method for treating substrate | |
| KR100355869B1 (ko) | 세정장치의 역세척장치 | |
| CN117344309B (zh) | 一种金属刻蚀液回收控制系统及控制方法 | |
| JPH06134457A (ja) | 超純水の製造システム及び製造方法 | |
| US20220216072A1 (en) | Processing liquid supply apparatus and method of removing solids from processing liquid supply apparatus | |
| KR20050094550A (ko) | 기판 세정 장치 | |
| KR20070013488A (ko) | 냉각 유체 회수 시스템을 갖는 반도체 제조 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right |