KR101116653B1 - 세정액 공급 장치 - Google Patents

세정액 공급 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101116653B1
KR101116653B1 KR1020100001672A KR20100001672A KR101116653B1 KR 101116653 B1 KR101116653 B1 KR 101116653B1 KR 1020100001672 A KR1020100001672 A KR 1020100001672A KR 20100001672 A KR20100001672 A KR 20100001672A KR 101116653 B1 KR101116653 B1 KR 101116653B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning liquid
circulation line
unit body
cleaning
storage tank
Prior art date
Application number
KR1020100001672A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110081482A (ko
Inventor
김영미
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020100001672A priority Critical patent/KR101116653B1/ko
Publication of KR20110081482A publication Critical patent/KR20110081482A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101116653B1 publication Critical patent/KR101116653B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67288—Monitoring of warpage, curvature, damage, defects or the like

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

세정액 공급 장치는 기판의 세정을 위한 세정액이 저장되는 저장 탱크와, 저장 탱크와 연결되어 저장 탱크에 저장되는 세정액을 순환시키는 순환 라인과, 순환 라인에 연결되어 세정액의 오염에 따른 세정액의 특성 변화를 검출하기 위한 오염 검출 유닛을 포함한다. 따라서, 실시간으로 세정액의 오염을 간단하게 감지할 수 있다.

Description

세정액 공급 장치{Apparatus for supplying cleaning liquid}
본 발명은 세정액 공급 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 세정에 사용되는 세정액의 오염을 간편하게 확인할 수 있는 세정액 공급 장치에 관한 것이다.
일반적으로 정보 처리 기기 등은 처리된 정보를 표시하기 위한 디스플레이 장치를 갖는다. 이러한 디스플레이 장치로 최근에는 가볍고, 공간을 적게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있는 추세이다. 상기 평판 디스플레이 장치의 대표적인 예로 액정 디스플레이 장치(Liquid Crystal Display : LCD)가 널리 사용되고 있다.
액정 디스플레이 장치는 통상 유리 기판 상에 회로 패턴의 형성을 위한 다양한 공정들 예를 들면 증착 공정, 연마 공정, 포토리스그래피 공정, 식각 공정, 세정 공정 등을 반복적으로 수행하여 제조된다. 이들 제조 공정 중에서 세정 공정은 다른 공정들의 전후 단계에 수행하여 기판 상에 붙어 있는 먼지나 유기물 등의 이물질을 제거함으로써, 후속 공정에 대한 신뢰도를 향상시킨다.
상기 세정 공정 방식 중 하나로 세정액을 이용한 방식이 사용되며, 상기 세정액을 이용한 세정은 기판 상으로 세정액을 분사함으로써 기판을 세정하게 된다. 이처럼 세정액을 이용한 세정 방식 중에는 경비 절감 등의 이유로 기판의 세정 공정에 사용된 세정액을 회수하여 여과한 다음 재사용 하는 방식으로 사용되고 있다.
이처럼, 세정 공정에 사용된 세정액을 회수하여 재사용 하는 경우에는 세정액의 누적 사용에 따른 오염도로 인해서 세정 효율이 저하되는 원인이 되고 있다. 또한, 세정액에 식각액이 포함되면 세정액을 공급하기 위한 설비 부품에 부식 등의 손상이 발생되어 관리 요소가 증가되고, 부가적으로 소요되는 유지 관리비용이 증가되는 문제점이 있다.
본 발명을 통해 해결하려는 과제는 세정액의 오염 상태를 실시간으로 확인하여 오염된 세정액의 사용으로 인한 문제를 개선할 수 있는 세정액 공급 장치를 제공하는 것이다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위해 본 발명에 따른 세정액 공급 장치는 기판의 세정을 위한 세정액이 저장되는 저장 탱크와, 상기 저장 탱크와 연결되어 상기 저장 탱크에 저장되는 상기 세정액을 순환시키는 순환 라인 및 상기 순환 라인에 연결되고 상기 세정액의 오염에 따른 상기 세정액의 특성 변화를 검출하기 위한 오염 검출 유닛을 포함한다.
이때, 일 실시예에 따른 세정액 공급 장치에서 상기 오염 검출 유닛은 상기 순환 라인에 연결되어 상기 순환 라인을 흐르는 상기 세정액이 내부로 유입되도록 형성된 니플(Nipple) 형태의 유닛 몸체와, 상기 유닛 몸체의 내부에 채워지고 상기 유닛 몸체 내부로 유입되는 상기 세정액의 특성에 따라 반응하여 상기 세정액의 특성 상태를 나타내기 위한 반응 볼들을 포함한다.
다른 실시예에 따른 세정액 공급 장치에서 상기 반응 볼들은 상기 세정액의 특성 상태에 따라 색상이 변화되는 리트머스를 포함할 수 있다.
또 다른 실시예에 따른 세정액 공급 장치에서 상기 유닛 몸체는 외부에서 상기 유닛 몸체 내부에 채워진 상기 반응 볼들을 육안으로 확인할 수 있게 투명 재질로 이루어질 수 있다.
또 다른 실시예에 따른 세정액 공급 장치에서 상기 순환 라인에 연결되는 상기 유닛 몸체의 일단의 반대편에 위치하는 상기 유닛 몸체의 타단은 개방된 구조를 가지며, 상기 유닛 몸체는 타단 개방부를 밀폐하기 위한 캡 부재를 더 포함할 수 있다.
또 다른 실시예에 따른 세정액 공급 장치에서 상기 유닛 몸체는 내부에 채워지는 상기 반응 볼들이 상기 순환 라인으로 유입되지 않도록 상기 순환 라인과 연결되는 유로의 직경이 상기 반응 볼의 직경보다 작게 형성된다.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 세정액 공급 장치는 세정액을 순환시키는 순환 라인에 연결된 오염 검출 유닛을 통해서 세정액의 오염 상태를 실시간으로 확인함으로써, 사전에 오염된 세정액의 감지가 가능하므로 오염된 세정액 사용에 따른 설비 부품의 손상 및 세정 효율의 저하를 개선할 수 있다.
또한, 오염 검출 유닛은 순환되는 세정액의 흐름에 영향이 끼치지 않으며 비교적 간단하게 구성되므로 설치가 용이하다. 아울러, 오염 검출 유닛은 투명하게 구성되므로 별도의 장비 없이도 외부에서 육안으로 세정액 오염에 따른 유닛의 반응 상태를 확인할 수 있어 오염 검출이 수월하게 된다.
또한, 오염 검출 유닛은 세정액의 오염에 따라 반응하는 반응 볼들의 교체가 용이하므로 반응 볼들의 교체를 통해 유닛을 반복적으로 사용하는 것이 가능하여 경제적이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 다른 세정액 공급 장치의 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 오염 검출 유닛을 나타내는 개략적인 단면도이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 세정액 공급 장치에 대하여 설명한다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 발명의 명확성을 기하기 위해 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 설명하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 다른 세정액 공급 장치의 개략적인 구성도이고, 도 2는 도 1에 도시된 오염 검출 유닛을 나타내는 개략적인 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 세정액 공급 장치(100)는 저장 탱크(110), 순환 라인(120) 및 오염 검출 유닛(130)을 포함한다. 상기 세정액 공급 장치(100)는 저장 탱크(110)로 세정액을 유입 및 유출하기 위해 회수 라인(140), 공급 라인(150) 및 분사 라인(160)을 더 포함할 수 있다.
상기 세정액 공급 장치(100)는 기판(10)의 세정 공정을 수행하기 위해 기판(10)으로 세정액을 공급하기 위하여 바람직하게 사용될 수 있다. 여기서 기판(10)은 액정 디스플레이 소자와 같은 평판 디스플레이 소자를 제조하기 위한 유리 기판 또는 동종의 기술로서 반도체 소자를 제조하기 위한 실리콘웨이퍼 등일 수 있다.
상기 저장 탱크(110)에는 기판(10)을 세정하기 위한 세정액이 저장된다. 예컨대, 저장 탱크(110)에는 기판(10)의 세정에 사용할 세정액을 임시 저장하는 저장 용기이다. 저장 탱크(110)에 저장되는 세정액의 일 예로는 탈이온수(DeIonized Water : DIW)를 들 수 있다. 이와 달리, 저장 탱크(110)에 저장되는 세정액은 다른 용액일 수도 있으며, 본 발명이 상기 세정액의 종류에 의해 한정되지는 않을 것이다.
상기 저장 탱크(110)에는 세정액을 저장 탱크(110)로 공급(유입)하기 위한 회수 라인(140) 및 공급 라인(150)과, 저장 탱크(110)에 저장되어 있는 세정액을 기판(10)으로 공급하기 위한 분사 라인(160)이 더 연결된다. 여기서, 회수 라인(140)과 공급 라인(150)이 서로 개별적인 라인으로 저장 탱크(110)에 연결된 것으로 설명 및 도시하였으나, 회수 라인(140) 및 공급 라인(150)은 단일 라인으로 저장 탱크(110)에 연결될 수도 있다. 상기 회수 라인(140)은 세정 공간으로부터 기판(10)의 세정 공정에 사용한 세정액을 회수하고, 회수된 세정액을 저장 탱크(110)로 공급하기 위하여 사용된다. 이때, 상세히 도시하지는 않았지만 회수 라인(140)을 통해 회수되는 세정액은 기판(10) 세정에 재사용 하기 위하여 라인 상에서 여과 등의 과정을 수행한 뒤에 공급된다. 상기 공급 라인(150)은 저장 탱크(110)로 세정액을 공급하기 위해 사용되며, 공급 라인(150)을 통해 공급되는 세정액은 신규 세정액이다. 상기 분사 라인(160)은 저장 탱크(160)에 저장되어 있는 세정액을 기판(10)으로 공급하기 위하여 구비된다. 따라서 분사 라인(160)의 종단에는 세정액의 분사를 위한 분사 노즐(162)이 구비될 수 있으며, 분사 노즐(162)은 기판(10)의 상방에 배치된다. 분사 노즐(162)은 홀 또는 슬릿 형태의 분사구를 가질 수 있다. 한편, 도면에서 회수 라인(140) 및 공급 라인(150)은 저장 탱크(110)의 상면에 연결되고, 분사 라인(160)은 저장 탱크(110)의 하면에 연결된 것으로 도시하였으나, 회수 라인(140), 공급 라인(150) 및 분사 라인(160)이 연결되는 위치는 이에 한정되지 않고 변경 가능하다. 즉, 저장 탱크(110)에 대한 상기 라인들(140, 150, 160)의 연결 위치에 의해 본 발명이 제한되지는 않을 것이다.
또한, 상기 저장 탱크(110)에는 저장되는 세정액의 순환을 위한 순환 라인(120)이 연결된다.
상기 순환 라인(120)은 저장 탱크(110)에 연결되어 저장 탱크(110)에 저장되는 세정액을 순환시키는 역할을 한다. 예를 들면, 순환 라인(120)은 저장 탱크(110)의 하단부와 상단부를 연결하는 세정액의 순환 유로일 수 있다. 즉, 순환 라인(120)의 일단은 저장 탱크(110)의 하면(또는 측면 하부)에 연결되고, 순환 라인(120)의 타단은 저장 탱크(110)의 상면(또는 측면 상부)에 연결될 수 있다. 순환 라인(120)은 저장 탱크(110)의 하면을 통해 세정액을 유출하고, 유출한 세정액을 저장 탱크(110)의 상부를 통해 다시 유입시켜 세정액을 순환시킨다. 이를 위해, 순환 라인(120)에는 세정액을 플로우시키기 위한 순환 펌프(122)가 구비된다. 또한, 순환 라인(120)에는 세정액을 여과하기 위한 필터 부재(124)가 구비될 수 있다. 또한, 상세히 도시되진 않았지만 순환 라인(120)에는 세정액을 가열하기 위한 가열부 또는 세정액을 냉각하기 위한 냉각부와 같이 세정액의 온도 조절을 위한 부재가 구비될 수 있다.
상기 오염 검출 유닛(130)은 순환 라인(120)에 연결되어 세정액의 오염을 검출하기 위하여 구비된다. 즉, 오염 검출 유닛(130)은 세정액의 오염에 따른 세정액의 특성 변화를 검출하는 역할을 한다. 이를 위해, 오염 검출 유닛(130)은 세정액의 오염 상태를 검출하기 위한 물질을 포함할 수 있으며, 상기 오염 검출을 위한 물질로 리트머스(Litmus)를 포함할 수 있다.
예를 들면, 상기 오염 검출 유닛(130)은 유닛 몸체(132)와 반응 볼(134)들을 포함할 수 있다.
상기 유닛 몸체(132)는 순환 라인(120)에 연결된다. 유닛 몸체(132)는 순환 라인(120)과 연결을 통해 순환 라인(120)을 흐르는 세정액이 몸체 내부로 유입되도록 형성된다. 따라서, 유닛 몸체(132)의 내부에는 순환 라인(120)을 흐르던 세정액이 유입되어 채워진다. 유닛 몸체(132)는 예를 들어 순환 라인(120)의 측부에 나사 결합되어 순환 라인(120)에 접관되는 니플(Nipple) 형태로 구성될 수 있다. 이와 달리, 유닛 몸체(132)는 다른 방식으로 순환 라인(120)에 연결될 수 있다. 유닛 몸체(132)와 순환 라인(120)의 연결 부위는 세정액의 누수를 방지하기 위하여 실링 가능하도록 구성되며, 일 예로 실링용 고무링이 끼워질 수 있다. 유닛 몸체(132)는 그 내부에 반응 볼(134)들을 수납하기 위한 용기로써 사용된다. 상기 반응 볼(134)들은 유닛 몸체(132)의 내부에 채워진다.
상기 유닛 몸체(132)는 투명 재질로 이루어지는 것이 바람직하다. 이처럼 유닛 몸체(132)가 투명 재질로 이루어짐으로써 그 내부에 채워진 반응 볼(134)들을 외부에서 육안으로 직접 관찰할 수 있게 된다. 이를 통해, 별도의 장치 없이도 작업자가 육안으로 유닛 몸체(132) 내부에 수납된 반응 볼(134)들의 상태를 확인하여 세정액의 오염 상태를 감지할 수 있게 된다. 또한, 유닛 몸체(132)는 반응 볼(134)들의 교체가 용이한 구성을 갖는 것이 바람직하다. 따라서, 유닛 몸체(132)는 순환 라인(120)에 연결되는 일단의 반대편에 위치하는 몸체의 타단이 개방된 구조를 가지며, 유닛 몸체(132)의 타단 개방부에는 밀폐를 위한 캡 부재(133)가 결합된 구조를 가질 수 있다. 캡 부재(133)는 나사 결합될 수 있고, 또는 억지 끼움식으로 결합될 수 있다. 캡 부재(133)의 결합 구조는 공지되어 있는 다양한 기술이 적용될 수 있다. 또한, 캡 부재(133)의 결합 부위에는 세정액 누수 방지를 위해 실링 구조를 갖는 것이 바람직하며, 예를 들어 캡 부재(133)의 결합 부위에는 실링용 고무링이 끼워질 수 있다.
상기 반응 볼(134)들은 유닛 몸체(132)의 내부에 채워진다. 반응 볼(134)들은 순환 라인(120)으로부터 유닛 몸체(132) 내부로 유입되는 세정액의 특성에 따라 반응하여 세정액의 특성 상태를 나타내는 역할을 한다. 기판의 세정 공정에 사용되는 탈이온수는 재활용 과정에서 필터 부재에 의해 불순물의 경우 대부분 여과되지만, 기판의 식각 공정 등에 사용되는 약액 성분은 세정액에 잔류하게 된다. 따라서, 세정액을 반복 재사용 하게 되면 세정액은 산성(혹은 알칼리성)을 갖게 될 수 있다. 따라서, 반응 볼(134)은 세정액의 이러한 특성을 검출할 수 있도록 리트머스(Litmus)를 포함할 수 있다.
상기 반응 볼(134)들은 순환 라인(120)으로 유입될 경우 다른 설비의 손상을 유발할 수 있다. 따라서, 유닛 몸체(132)는 반응 볼(134)들이 순환 라인(120)으로 유입되지 않도록 구성되는 것이 바람직하다. 즉, 유닛 몸체(132)는 순환 라인(120)과 연결되는 유로의 직경이 반응 볼(134)들의 직경보다 작은 사이즈 갖도록 형성되는 것이 바람직하다. 이와 달리, 유닛 몸체(132)와 순환 라인(120)이 연결되는 유로에 세정액만 통과할 수 있는 메쉬 형태의 차단막이 구비될 수도 있다.
한편, 본 실시예에서 상기 오염 검출 유닛(130)이 순환 라인(120)에 연결된 것으로 설명하였다. 그러나, 오염 검출 유닛(130)은 세정액이 유입될 수 있는 다양한 위치에 연결될 수 있다. 예를 들어, 오염 검출 유닛(130)은 순환 라인(120) 이외에도 저장 탱크(120), 회수 라인(140), 분사 라인(160) 중 적어도 어느 하나에 연결될 수 있다. 오염 검출 유닛(130)은 세정액의 유입이 가능하도록 연결되는 구성이면 충분하다.
상기 세정액 공급 장치(100)에서 세정액의 오염 상태 감지는 간단하게 이루어진다. 앞서 설명한 바 있듯이 작업자(사용자)가 오염 검출 유닛(130)을 육안으로 확인하여 반응 볼(134)들의 상태를 확인함으로써 세정액의 오염 상태를 감지할 수 있다. 예를 들어, 반응 볼(134)들의 색상이 붉은색을 띠면 세정액은 산성화 된 상태이므로 조치를 취해야 된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 세정액 공급 장치는 세정액을 순환시키는 순환 라인에 연결되는 그 내부로 세정액이 유입되도록 구성된 오염 체크 유닛을 구비하고, 세정액의 오염에 따른 세정액의 특성 변화에 따라서 반응하는 반응 볼들을 통해서 세정액의 오염 상태를 수월하게 사전에 감지하는 것이 가능하다.
또한, 오염 체크 유닛은 반응 볼들을 육안으로 확인할 수 있도록 투명하게 구성됨으로써, 별도의 장치 없이도 육안으로 세정액의 오염 상태를 감지할 수 있다.
따라서, 본 발명의 세정액 공급 장치는 세정액의 오염 상태를 실시간으로 검출하여 세정액을 깨끗한 상태로 유지함으로써 설비의 조기 손상을 예방하고, 세정 효율의 개선이 요구되는 세정 설비 및 기타 용액을 이용한 기판 제조 공정용 장치에서 바람직하게 사용될 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100: 세정액 공급 장치 110: 저장 탱크
120: 순환 라인 122: 순환 펌프
124: 필터 부재 130: 오염 검출 유닛
132: 유닛 몸체 133: 캡 부재
134: 반응 볼 140: 회수 라인
150: 공급 라인 160: 분사 라인
162: 분사 노즐 10: 기판

Claims (6)

  1. 기판의 세정을 위한 세정액이 저장되는 저장 탱크;
    상기 저장 탱크와 연결되어 상기 저장 탱크에 저장되는 상기 세정액을 순환시키는 순환 라인; 및
    상기 순환 라인에 연결되고 상기 세정액의 오염에 따른 상기 세정액의 특성 변화를 검출하기 위한 오염 검출 유닛을 포함하고,
    상기 오염 검출 유닛은
    상기 순환 라인에 연결되어 상기 순환 라인을 흐르는 상기 세정액이 내부로 유입되도록 형성된 니플(Nipple) 형태의 유닛 몸체; 및
    상기 유닛 몸체의 내부에 채워지고 상기 유닛 몸체 내부로 유입되는 상기 세정액의 특성에 따라 반응하여 상기 세정액의 특성 상태를 나타내기 위한 반응 볼들을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 상기 반응 볼들은 상기 세정액의 특성 상태에 따라 색상이 변화되는 리트머스를 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 유닛 몸체는 외부에서 상기 유닛 몸체 내부에 채워진 상기 반응 볼들을 육안으로 확인할 수 있게 투명 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 순환 라인에 연결되는 상기 유닛 몸체의 일단의 반대편에 위치하는 상기 유닛 몸체의 타단은 개방된 구조를 가지며, 상기 유닛 몸체는 타단 개방부를 밀폐하기 위한 캡 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 유닛 몸체는 내부에 채워지는 상기 반응 볼들이 상기 순환 라인으로 유입되지 않도록 상기 순환 라인과 연결되는 유로의 직경이 상기 반응 볼의 직경보다 작게 형성된 것을 특징으로 하는 세정액 공급 장치.
KR1020100001672A 2010-01-08 2010-01-08 세정액 공급 장치 KR101116653B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100001672A KR101116653B1 (ko) 2010-01-08 2010-01-08 세정액 공급 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100001672A KR101116653B1 (ko) 2010-01-08 2010-01-08 세정액 공급 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110081482A KR20110081482A (ko) 2011-07-14
KR101116653B1 true KR101116653B1 (ko) 2012-03-07

Family

ID=44919979

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100001672A KR101116653B1 (ko) 2010-01-08 2010-01-08 세정액 공급 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101116653B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101955597B1 (ko) * 2017-05-17 2019-05-31 세메스 주식회사 세정액 제조 장치 및 방법
JP2019087594A (ja) * 2017-11-06 2019-06-06 シャープ株式会社 液体循環装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11233477A (ja) * 1998-02-17 1999-08-27 Tokyo Electron Ltd 洗浄処理装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11233477A (ja) * 1998-02-17 1999-08-27 Tokyo Electron Ltd 洗浄処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110081482A (ko) 2011-07-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5173500B2 (ja) 処理液供給装置およびそれを備えた基板処理装置
US20070119476A1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR101116653B1 (ko) 세정액 공급 장치
KR20110068835A (ko) 액처리 장치, 도포 현상 장치, 도포 현상 방법 및 기억매체
JP6311956B2 (ja) レジスト剥離液ろ過フィルタの洗浄液、洗浄装置および洗浄方法
US6281137B1 (en) Chemical treatment apparatus and chemical treatment method
KR100788906B1 (ko) 처리액 공급 방법
US11759813B2 (en) Apparatus for supplying chemical liquid
TWI592988B (zh) 半導體乾燥設備和用於該設備之半導體乾燥用處理液體的循環與過濾方法
JP2007149890A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
KR20080009591A (ko) 처리액 공급 방법
CN107644822B (zh) 半导体干燥设备和半导体干燥用处理液体循环与过滤方法
US20190204234A1 (en) Method And Apparatus Of Chemical Detection To Prevent Process Degradation
KR20050094550A (ko) 기판 세정 장치
CN111326452A (zh) 晶圆清洁系统
KR101037182B1 (ko) 기판 제조장치의 약액 처리장치 및 그 방법
JP2010267856A (ja) 洗浄処理装置および洗浄処理方法
KR101576145B1 (ko) 반도체 기판 세정용 약액 재사용장치
KR20060021105A (ko) 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비
CN213779610U (zh) 取样装置
KR20110007504A (ko) 기판 세정 장치
KR102320595B1 (ko) 스프레이식 기판 세정장치 및 기판 세정방법
JP2009099981A (ja) 処理液感知器を有するバルブ、これを利用する基板処理装置及び基板処理方法
KR100874902B1 (ko) 액체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
CN116364586A (zh) 供应溶液的装置、处理基板的设备和处理基板的方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150202

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160129

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170202

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180205

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190208

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200204

Year of fee payment: 9