JPH11233477A

JPH11233477A - 洗浄処理装置

Info

Publication number: JPH11233477A
Application number: JP5154398A
Authority: JP
Inventors: Yuji Tanaka; 裕司田中; Shinichiro Shimomura; 伸一郎下村; Yuji Kamikawa; 裕二上川
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1998-02-17
Filing date: 1998-02-17
Publication date: 1999-08-27
Anticipated expiration: 2018-02-17
Also published as: JP3343650B2

Abstract

(57)【要約】【課題】洗浄液中に混入するパーティクル等の汚染微
粒子を正確に測定して、歩留まりの向上及び洗浄性能の
向上を図れるようにすること。【解決手段】半導体ウエハＷを浸漬処理する洗浄液Ｌ
を貯留する洗浄槽２０内の洗浄液Ｌをオーバーフローさ
せると共に、循環供給させ、かつ循環供給の際に濾過し
て、ウエハＷを洗浄する洗浄処理装置において、洗浄槽
２０と電動式ベローズポンプ３０とを吸入管路５１を介
して接続すると共に、この吸入管路５１における電動式
ベローズポンプ３０の吸引側に、洗浄液Ｌ中に混入する
パーティクルを検出するパーティクルカウンタ５０を配
設する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体ウ
エハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理体の洗浄処理装置
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程にお
いては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス等の被処理体
（以下にウエハという）を薬液やリンス液等の洗浄液が
貯留された洗浄槽に順次搬送して洗浄等の処理を行う洗
浄処理装置が広く採用されている。

【０００３】従来のこの種の洗浄処理装置として、図７
に示すような洗浄処理装置が知られている。この洗浄処
理装置は、ウエハＷを浸漬処理する洗浄液Ｌを貯留する
内槽ａと、この内槽ａの上端部を包囲する外槽ｂとから
なる洗浄槽ｃを具備してなり、内槽ａの下部に配設され
る洗浄液供給ノズルｄと外槽ｂの底部に設けられた排出
口ｅとを接続する循環管路ｆに、例えばエアーベローズ
式の循環ポンプｇ、ダンパｈ及びフィルタｉが介設され
ている。この洗浄処理装置によれば、内槽ａに貯留され
た洗浄液Ｌ中に、ウエハボートｊによって保持されたウ
エハＷを浸漬すると共に、図示しない洗浄供給源から内
槽ａ内に供給される洗浄液Ｌを外槽ｂにオーバーフロー
させ、かつ循環濾過させつつウエハＷを洗浄することが
できる。

【０００４】ところで、繰り返し洗浄を行うと、洗浄さ
れるウエハＷに付着するパーティクル等の汚染微粒子が
洗浄液中に混入する。洗浄液中に所定量以上のパーティ
クル等が混入すると、次に洗浄処理されるウエハが汚染
されて歩留まりの低下をきたすと共に、洗浄性能が低下
するという問題がある。

【０００５】そこで、従来では図７に示すように、循環
管路ｆにおける循環ポンプｇの吐出側に検査用の分岐管
路ｋを分岐させ、この分岐管路ｋに検出手段例えばパー
ティクルカウンタｍを接続すると共に、パーティクルカ
ウンタｍの吐出側を外槽ｂに接続している。このように
して、内槽ａ内の洗浄液Ｌの一部を循環管路ｆ及び分岐
管路ｋを介して取り出し、取り出された洗浄液中のパー
ティクルの数を検出して、所定量の洗浄液Ｌ中のパーテ
ィクル数を監視している。なお、図７において、符号ｎ
は循環管路ｆに介設された開閉弁、ｐは内槽ａの底部に
設けられた排出口ｑに接続するドレン管、ｒはドレン管
ｑに介設されるドレン弁である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、循環ポ
ンプｇはエアーベローズ式であるため、脈動が生じて検
出される洗浄液の流量が不安定となる。そのため、パー
ティクルの正確な測定ができないという問題があった。
また、パーティクルカウンタｍへの洗浄液の供給は、循
環ポンプｇと共用しているため、パーティクルカウンタ
ｍの能力以上の流量が流れてしまうという問題があっ
た。更には、循環ポンプｇの背圧を利用した測定である
ため、循環ポンプｇで発生したパーティクルがパーティ
クルカウンタｍで加算されて検出されてしまい、洗浄液
中の正確なパーティクル数が測定できないという問題も
あった。

【０００７】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、洗浄液中に混入するパーティクル等の汚染微粒子を
正確に測定して、歩留まりの向上及び洗浄性能の向上を
図れるようにした洗浄処理装置を提供することを目的と
するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は以下のように構成する。

【０００９】（１）請求項１記載の発明は、被処理体を
浸漬処理する洗浄液を貯留する洗浄槽内の洗浄液をオー
バーフローさせると共に、循環供給させ、かつ循環供給
の際に濾過して、上記被処理体を洗浄する洗浄処理装置
において、上記循環供給系とは別に、上記洗浄槽と定量
圧送手段とを管路を介して接続すると共に、この管路に
おける上記定量圧送手段の吸引側に、上記洗浄液中に混
入する汚染微粒子を検出する検出手段を配設してなる、
ことを特徴とする。

【００１０】このように構成することにより、洗浄槽内
の洗浄液を定量取り出すことができ、検出手段によって
洗浄液中に混入するパーティクル等の汚染微粒子を正確
に測定することができる。

【００１１】（２）請求項２記載の発明は、被処理体を
浸漬処理する洗浄液を貯留する洗浄槽内の洗浄液をオー
バーフローさせると共に、循環供給させ、かつ循環供給
の際に濾過して、上記被処理体を洗浄する洗浄処理装置
において、上記循環供給系とは別に、上記洗浄槽と定量
圧送手段とを管路を介して接続すると共に、この管路に
おける上記定量圧送手段の吸引側に、上記洗浄液中に混
入する汚染微粒子を検出する検出手段を配設し、かつ、
上記定量圧送手段と検出手段とを同期動作させる制御手
段を具備してなる、ことを特徴とする。この場合、上記
定量圧送手段の吸引動作に伴って検出手段の検出動作を
行うようにする方が好ましい（請求項３）。

【００１２】このように構成することにより、上記請求
項１記載の発明と同様に、洗浄槽内の洗浄液を定量取り
出すことができると共に、検出手段によって洗浄液中に
混入するパーティクル等の汚染微粒子を正確に測定する
ことができ、かつ定量圧送手段と検出手段とを同期動作
させて、測定精度の向上を図ることができる。

【００１３】（３）請求項４記載の発明は、請求項１
又は２記載の洗浄処理装置において、上記定量圧送手段
の吐出側を、洗浄槽に接続してなる、ことを特徴とす
る。

【００１４】このように構成することにより、測定に供
された洗浄液を再度洗浄槽内に循環供給することがで
き、洗浄液の有効利用を図ることができる。

【００１５】（４）請求項５記載の発明は、請求項１又
は２記載の洗浄処理装置において、上記洗浄槽を、被処
理体を浸漬処理する内槽と、この内槽より外側にオーバ
ーフローした洗浄液を受け止める外槽とで構成し、上記
内槽と定量圧送手段の吸引側とを接続してなる、ことを
特徴とする。

【００１６】このように構成することにより、被処理体
を浸漬処理する内槽内の洗浄液を定量取り出すことがで
きると共に、検出手段によって洗浄液中に混入するパー
ティクル等の汚染微粒子を正確に測定することができ
る。

【００１７】（５）請求項６記載の発明は、請求項１又
は２記載の洗浄処理装置において、上記洗浄槽を、被処
理体を浸漬処理する内槽と、この内槽より外側にオーバ
ーフローした洗浄液を受け止める外槽とで構成し、上記
定量圧送手段の吐出側を、外槽に接続してなる、ことを
特徴とする。

【００１８】このように構成することにより、測定に供
された洗浄液を直接浸漬処理する内槽とは別の外槽内へ
吐出することができる。したがって、洗浄能力を低下さ
せることなく、洗浄液を循環供給することができ、洗浄
液の有効利用を図ることができる。

【００１９】（６）請求項７記載の発明は、請求項１な
いし６のいずれかに記載の洗浄処理装置において、上記
定量圧送手段を、耐食性及び耐薬品性を有するベローズ
と、このベローズを駆動するボールねじ機構とを具備す
る電動式ベローズポンプにて形成してなる、ことを特徴
とする。

【００２０】このように構成することにより、定量圧送
手段として、定量性、耐薬品性及び耐久性に富む電動式
ベローズポンプを使用することができ、装置の寿命の増
大が図れると共に、測定精度の向上及び装置の信頼性の
向上を図ることができる。

【００２１】（７）請求項８記載の発明は、請求項７記
載の洗浄処理装置において、複数の電動式ベローズポン
プを互いに並列状態に連通すると共に、各ベローズポン
プの駆動に位相差をもたせるようにした、ことを特徴と
する。

【００２２】このように構成することにより、上記請求
項７記載の発明と同様に、定量圧送手段として、定量
性、耐薬品性及び耐久性に富む電動式ベローズポンプを
使用することができ、装置の寿命の増大が図れると共
に、測定精度の向上及び装置の信頼性の向上を図ること
ができ、更に、連続的に多量の洗浄液中のパーティクル
等の汚染微粒子を正確に測定することができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄処理システムに適用した場合について説
明する。

【００２４】図１はこの発明の洗浄処理装置を適用した
洗浄処理システムの一例を示す概略平面である。

【００２５】上記洗浄処理システムは、被処理用の基板
である半導体ウエハＷ（以下にウエハという）を水平状
態に収納する容器例えばキャリア１を搬入、搬出するた
めの搬入・搬出部２と、ウエハＷを薬液、洗浄液等の液
処理すると共に乾燥処理する処理部３と、搬入・搬出部
２と処理部３との間に位置してウエハＷの受渡し、位置
調整及び姿勢変換等を行うインターフェース部４とで主
に構成されている。

【００２６】上記搬入・搬出部２は、洗浄処理システム
の一側端部にはキャリア搬入部５ａとキャリア搬出部５
ｂが併設されると共に、ウエハの受渡し部６が設けられ
ている。この場合、キャリア搬入部５ａとウエハ受渡し
部６との間には図示しない搬送機構が配設されており、
この搬送機構によってキャリア１がキャリア搬入部５ａ
からウエハ受渡し部６へ搬送されるように構成されてい
る。

【００２７】また、キャリア搬出部５ｂとウエハ受渡し
部６には、それぞれキャリアリフタ（図示せず）が配設
され、このキャリアリフタによって空のキャリア１を搬
入・搬出部２上方に設けられたキャリア待機部（図示せ
ず）への受け渡し及びキャリア待機部からの受け取りを
行うことができるように構成されている。この場合、キ
ャリア待機部には、水平方向（Ｘ，Ｙ方向）及び垂直方
向（Ｚ方向）に移動可能なキャリア搬送ロボット（図示
せず）が配設されており、このキャリア搬送ロボットに
よってウエハ受渡し部６から搬送された空のキャリア１
を整列すると共に、キャリア搬出部５ｂへ搬出し得るよ
うになっている。また、キャリア待機部には、空キャリ
アだけでなく、ウエハＷが収納された状態のキャリア１
を待機させておくことも可能である。

【００２８】上記ウエハ受渡し部６は、上記インターフ
ェース部４に開口しており、その開口部には蓋開閉装置
８が配設されている。この蓋開閉装置８によってキャリ
ア１の蓋体（図示せず）が開放あるいは閉塞されるよう
になっている。したがって、ウエハ受渡し部６に搬送さ
れた未処理のウエハＷを収納するキャリア１の蓋体を蓋
開閉装置８によって取り外してキャリア１内のウエハＷ
を搬出可能にし、全てのウエハＷが搬出された後、再び
蓋開閉装置８によって蓋体を閉塞することができる。ま
た、キャリア待機部からウエハ受渡し部６に搬送された
空のキャリア１の蓋体を蓋開閉装置８によって取り外し
てキャリア１内へのウエハＷを搬入可能にし、全てのウ
エハＷが搬入された後、再び蓋開閉装置８によって蓋体
１を閉塞することができる。なお、ウエハ受渡し部６の
開口部近傍には、キャリア１内に収納されたウエハＷの
枚数を検出するマッピングセンサ９が配設されている。

【００２９】上記インターフェース部４には、複数枚例
えば２５枚のウエハＷを水平状態に保持すると共に、ウ
エハ受渡し部６のキャリア１との間でウエハＷを受け渡
す水平搬送手段例えばウエハ搬送アーム１０と、複数枚
例えば５０枚のウエハＷを所定間隔をおいて垂直状態に
保持する図示しないピッチチェンジャと、ウエハ搬送ア
ーム１０とピッチチェンジャとの間に位置して、複数枚
例えば２５枚のウエハＷを水平状態と垂直状態とに変換
する姿勢変換手段例えば姿勢変換装置１１と、垂直状態
に姿勢変換されたウエハＷに設けられたノッチ（図示せ
ず）を検出する位置検出手段例えばノッチアライナ（図
示せず）が配設されている。また、インターフェース部
４には、処理部３と連なる搬送路１２が設けられてお
り、この搬送路１にウエハ搬送手段例えばウエハ搬送チ
ャック１３が移動自在に配設されている。

【００３０】一方、上記処理部３には、ウエハＷに付着
するパーティクルや有機物汚染を除去する第１の処理ユ
ニット１４と、ウエハＷに付着する金属汚染を除去する
第２の処理ユニット１５と、ウエハＷに付着する化学酸
化膜を除去すると共に乾燥処理する洗浄・乾燥処理ユニ
ット１６及びチャック洗浄ユニット１７が直線状に配列
されており、第１、第２の処理ユニット１４，１５及び
洗浄・乾燥処理ユニット１７にこの発明の洗浄処理装置
が用いられている。なお、各ユニット１４〜１７と対向
する位置に設けられた搬送路１２に、Ｘ，Ｙ方向（水平
方向）、Ｚ方向（垂直方向）及び回転（θ）可能な上記
ウエハ搬送チャック１３が配設されている。

【００３１】次に、この発明に係る洗浄処理装置につい
て詳細に説明する。上記洗浄処理装置は、図２に示すよ
うに、洗浄液Ｌ｛例えば、フッ化水素酸（ＨＦ）の希釈
液（ＤＨＦ）やリンス液（純水）等｝を貯留する内槽２
１と、この内槽２１の上部開口部を包囲し、内槽２１か
らオーバーフローした洗浄液Ｌを受け止める外槽２２と
からなる洗浄槽２０と、内槽２１の下部に配設される洗
浄液供給ノズル２３と、この洗浄液供給ノズル２３と外
槽２２の底部に設けられた排出口２２ａとを接続する循
環管路２４に、排出口側から順に介設される開閉弁２
５，エアーベローズ式の循環ポンプ２６，ダンパ２７及
びフィルタ２８とを具備してなる。なお、洗浄槽２０の
内槽２１内には複数枚例えば５０枚のウエハＷを保持す
るウエハボート２９が配設されている。また、内槽２１
の底部に設けられた排出口２１ａには、ドレン弁２１ｂ
を介設したドレン管２１ｃが接続されている。

【００３２】また、上記循環管路２４に介設される循環
ポンプ２６とは別に、定量圧送手段例えば電動式ベロー
ズポンプ３０（以下に定量ポンプという）が配設されて
おり、この定量ポンプ３０の吸入ポート３１と内槽２１
が吸入管路５１を介して接続され、定量ポンプ３０の吐
出ポート３２と外槽２２が吐出管路５２を介して接続さ
れている。また、吸入管路５１には、定量ポンプ３０に
よって内槽２１内から吸引された洗浄液Ｌ中に混入する
パーティクル等の汚染微粒子を検出する検出手段例えば
パーティクルカウンタ５０が介設されている。このパー
ティクルカウンタ５０は、定量ポンプ３０と同期動作す
べく制御手段例えば中央演算処理装置６０（ＣＰＵ）に
よって定量ポンプ３０の吸引駆動時に作動し得るように
構成されている。すなわち、ＣＰＵ６０によって定量ポ
ンプ３０の吸引駆動を検知し、その検知信号に基づいて
駆動信号をパーティクルカウンタ５０に伝達して、内槽
２１うちの洗浄液Ｌの一部を吸引する過程において洗浄
液Ｌに混入されるパーティクルの量（個／ミリリット
ル）を検出可能に構成されている。なお、パーティクル
カウンタ５０で所定以上のパーティクル数が検出された
場合には、アラーム表示されるようになっている。

【００３３】この場合、上記定量ポンプ３０は、図３に
示すように、吸入ポート３１と吐出ポート３２とを有す
る固定端部材３３と、この固定端部材３３に対峙する可
動端部材３４との間に耐食性及び耐薬品性を有する合成
ゴム製のベローズ３５を具備すると共に、可動端部材３
４を固定端部材３３に対して進退移動するボールねじ機
構３６を具備してなる。すなわち、正逆回転可能なモー
タ例えばステッピングモータ３７によて回転されるねじ
軸３８に図示しない多数の鋼球を介してナット３９を螺
合し、このナット３９と可動端部材３４とを連結部材４
０を介して連結することによって、ステッピングモータ
３７の駆動に伴ってベローズ３５が伸縮して、内槽２１
内の洗浄液Ｌを定量例えば０〜４０ミリリットル吸引
し、その吸引した洗浄液Ｌを外槽２２に吐出し得るよう
に構成されている。なお、吸入管路５１の吸入ポート側
と吐出管路５２の吐出ポート側には、それぞれ逆止弁４
１，４２が介設されている。

【００３４】上記パーティクルカウンタ５０は、図３に
示すように、吸入管路５１の途中に接続される全体ある
いは一部が透明性の検出管５３と、この検出管５３の側
方に配設されるレーザー発光体５４と、検出管５３に関
してレーザー発光体５４と反対側に配設される受光体５
５とで構成されている。

【００３５】上記のように構成される定量ポンプ３０を
駆動して、内槽２１内の洗浄液Ｌの一部を吸引すると同
時に、パーティクルカウンタ５０を動作、すなわちレー
ザー発光体５４から検出管５３内を流れる洗浄液Ｌに向
かってレーザー光を照射させると、検出管５３内を定量
例えば４０ミリリットル（最大）で流れる洗浄液Ｌにレ
ーザー光が照射され、洗浄液Ｌ中に混入するパーティク
ル等の汚染微粒子でレーザー光が屈曲あるいは遮断され
るのを受光体５５で検出することによって、所定量中の
パーティクル数（個／ミリリットル）を検出することが
できる。この場合、ステッピングモータ３７の正逆方向
に同速度で回転すると、図４（ａ）に示すように、吸引
ストロークと吐出ストロークが同一となり、吐出時にパ
ーティクルカウンタ５０の作動が停止するが、吸引スト
ロークと吐出ストロークは数秒程度であるので、パーテ
ィクル数の検出への影響は少ない。なお、パーティクル
カウンタ５０の作動時間を長くし、停止時間を短くする
には、図４（ｂ）に示すように、ステッピングモータ３
７の吸引時の回転速度を遅くし、吐出時の回転速度を速
くすればよい。

【００３６】また、図５に示すように、複数例えば２つ
の定量ポンプ３０Ａ，３０Ｂを互いに並列状態に連通す
ると共に、各定量ポンプ３０Ａ，３０Ｂに位相差をもた
せるようにすることにより、パーティクルカウンタ５０
を連続して作動させることができる。すなわち、上記の
ように構成される２つの定量ポンプ３０Ａ，３０Ｂを吸
入管路５１と吐出管路５２に並列状態に連通し、一方の
定量ポンプ３０Ａを収縮動作すなわち吐出動作させる
際、他方の定量ポンプ３０Ｂを伸長すなわち吸引動作さ
せることにより、連続してパーティクルカウンタ５０を
作動させて、検出管５３内を流れる定量の洗浄液中のパ
ーティクル数を検出することができる。

【００３７】なお、図５において、吸入管路５１と吐出
管路５２には一方の定量ポンプ３０Ａが接続され、吸入
管路５１及び吐出管路５２にそれぞれ接続される吸入分
岐管路５１Ａ，吐出分岐管路５２Ａに他方の定量ポンプ
３０Ｂが接続されている以外は、図３に示す場合と同じ
であるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省
略する。

【００３８】上記のように構成されるこの発明の洗浄処
理装置によれば、洗浄槽２０の内槽２１内に貯留された
洗浄液Ｌ中にウエハＷを浸漬させ、図示しない洗浄液供
給源から洗浄液Ｌを供給すると共に、内槽２１から外槽
２２にオーバーフローされた洗浄液Ｌを濾過しつつ循環
して、ウエハＷを洗浄処理することができる。そして、
洗浄処理中、あるいは、洗浄処理前に定量ポンプ３０
（３０Ａ，３０Ｂ）を駆動させると共に、パーティクル
カウンタ５０を作動させて、循環供給系等とは別に内槽
２１から定量の洗浄液Ｌを取り出して、洗浄液Ｌ中のパ
ーティクル数を検出することができる。パーティクルカ
ウンタ５０を通過して定量ポンプ３０の吐出ポート３２
から吐出された洗浄液Ｌは、再び洗浄槽２０の外槽２２
に供給されて洗浄処理に供される。したがって、測定に
供された洗浄液を直接浸漬処理する内槽２１とは別の外
槽２２内へ吐出するので、洗浄能力が低下することな
く、洗浄液の有効利用を図ることができる。なお、検出
された洗浄液を外槽２２に供給させずに排出してもよ
い。

【００３９】このようにして、内槽２１内の洗浄液Ｌ中
のパーティクル数を検出して監視することで、例えば洗
浄処理前に洗浄液Ｌ中のパーティクル数を検出して、図
６に示すように、パーティクル数が適正数例えば１０個
／ミリリットル以下の時にウエハＷを内槽２１内に投入
して洗浄処理を施すことができ、ウエハＷの洗浄を効率
よく行うことができる。また、パーティクル数が上限値
例えば２０個／ミリリットル以上の時にはアラーム表示
により、オペレータに洗浄不適切状態を知らせることが
できる。

【００４０】なお、上記実施形態では、洗浄液ＬがＤＨ
Ｆである場合について説明したが、その他の洗浄液例え
ばアンモニア／過酸化水素混合液（ＡＰＭ）、あるいは
硫酸／過酸化水素混合液（ＳＰＭ）等であっても同様に
洗浄液中に混入するパーティクル等の汚染微粒子を検出
し、監視することができる。

【００４１】また、上記実施形態では、この発明の洗浄
処理装置を半導体ウエハの洗浄処理システムに適用した
場合について説明したが、半導体ウエハ以外のＬＣＤ用
ガラス基板等にも適用できることは勿論である。

【００４２】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明の洗浄
処理装置によれば、上記のように構成されているので、
以下のような優れた効果が得られる。

【００４３】（１）請求項１記載の発明によれば、洗浄
槽内の洗浄液を定量取り出すことができ、検出手段によ
って洗浄液中に混入するパーティクル等の汚染微粒子を
正確に測定することができるので、洗浄液の使用状態を
監視することができ、洗浄液を最適な状態で使用して、
歩留まりの向上及び洗浄性能の向上を図ることができ
る。

【００４４】（２）請求項２、３記載の発明によれば、
上記請求項１記載の発明と同様に、洗浄槽内の洗浄液を
定量取り出すことができると共に、検出手段によって洗
浄液中に混入するパーティクル等の汚染微粒子を正確に
測定することができ、かつ定量圧送手段と検出手段とを
同期動作させて、測定精度の向上を図ることができる。

【００４５】（３）請求項４記載の発明によれば、測
定に供された洗浄液を再度洗浄槽内に循環供給すること
ができるので、洗浄液の有効利用を図ることができる。

【００４６】（４）請求項５記載の発明によれば、被処
理体を浸漬処理する内槽内の洗浄液を定量取り出すこと
ができると共に、検出手段によって洗浄液中に混入する
パーティクル等の汚染微粒子を正確に測定することがで
きる。

【００４７】（５）請求項６記載の発明によれば、測定
に供された洗浄液を直接浸漬処理する内槽とは別の外槽
内へ吐出することができるので、洗浄能力を低下させる
ことなく、洗浄液を循環供給することができ、洗浄液の
有効利用を図ることができる。

【００４８】（６）請求項７記載の発明によれば、定量
圧送手段として、定量性、耐薬品性及び耐久性に富む電
動式ベローズポンプを使用することができるので、装置
の寿命の増大が図れると共に、測定精度の向上及び装置
の信頼性の向上を図ることができる。

【００４９】（７）請求項８記載の発明によれば、上記
請求項７記載の発明と同様に、定量圧送手段として、定
量性、耐薬品性及び耐久性に富む電動式ベローズポンプ
を使用することができるので、装置の寿命の増大が図れ
ると共に、測定精度の向上及び装置の信頼性の向上を図
ることができ、更に、連続的に多量の洗浄液中のパーテ
ィクル等の汚染微粒子を正確に測定することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の洗浄処理装置を適用した洗浄処理シ
ステムの一例を示す概略平面図である。

【図２】この発明に係る洗浄処理装置の一例を示す概略
断面図である。

【図３】この発明における定量ポンプとパーティクルカ
ウンタを示す概略断面図である。

【図４】上記定量ポンプの吸入ストロークと吐出ストロ
ークの別の形態を示す説明図である。

【図５】この発明における定量ポンプの別の実施形態を
示す概略断面図である。

【図６】パーティクル数と時間の関係を示すグラフであ
る。

【図７】従来の洗浄処理装置を示す概略断面図である。

【符号の説明】

Ｗ半導体ウエハ（被処理体）Ｌ洗浄液２０洗浄槽２１内槽２２外槽２３洗浄液供給ノズル２４循環管路２６循環ポンプ２８フィルタ３０定量ポンプ（電動式ベローズポンプ；定量圧送手
段）３１吸入ポート３２吐出ポート３５ベローズ３６ボールねじ機構５０パーティクルカウンタ（検出手段）５１吸入管路５１Ａ吸入分岐管路５２吐出管路５２Ａ吐出分岐管路５３検出管５４レーザー発光体５５受光体６０ＣＰＵ（制御手段）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理体を浸漬処理する洗浄液を貯留す
る洗浄槽内の洗浄液をオーバーフローさせると共に、循
環供給させ、かつ循環供給の際に濾過して、上記被処理
体を洗浄する洗浄処理装置において、上記循環供給系とは別に、上記洗浄槽と定量圧送手段と
を管路を介して接続すると共に、この管路における上記
定量圧送手段の吸引側に、上記洗浄液中に混入する汚染
微粒子を検出する検出手段を配設してなる、ことを特徴
とする洗浄処理装置。
【請求項２】被処理体を浸漬処理する洗浄液を貯留す
る洗浄槽内の洗浄液をオーバーフローさせると共に、循
環供給させ、かつ循環供給の際に濾過して、上記被処理
体を洗浄する洗浄処理装置において、上記循環供給系とは別に、上記洗浄槽と定量圧送手段と
を管路を介して接続すると共に、この管路における上記
定量圧送手段の吸引側に、上記洗浄液中に混入する汚染
微粒子を検出する検出手段を配設し、かつ、上記定量圧
送手段と検出手段とを同期動作させる制御手段を具備し
てなる、ことを特徴とする洗浄処理装置。
【請求項３】請求項２記載の洗浄処理装置において、上記定量圧送手段の吸引動作に伴って検出手段の検出動
作を行うようにした、ことを特徴とする洗浄処理装置。
【請求項４】請求項１又は２記載の洗浄処理装置にお
いて、上記定量圧送手段の吐出側を、洗浄槽に接続してなる、
ことを特徴とする洗浄処理装置。
【請求項５】請求項１又は２記載の洗浄処理装置にお
いて、上記洗浄槽を、被処理体を浸漬処理する内槽と、この内
槽より外側にオーバーフローした洗浄液を受け止める外
槽とで構成し、上記内槽と定量圧送手段の吸引側とを接
続してなる、ことを特徴とする洗浄処理装置。
【請求項６】請求項１又は２記載の洗浄処理装置にお
いて、上記洗浄槽を、被処理体を浸漬処理する内槽と、この内
槽より外側にオーバーフローした洗浄液を受け止める外
槽とで構成し、上記定量圧送手段の吐出側を、外槽に接
続してなる、ことを特徴とする洗浄処理装置。
【請求項７】請求項１ないし６のいずれかに記載の洗
浄処理装置において、上記定量圧送手段を、耐食性及び耐薬品性を有するベロ
ーズと、このベローズを駆動するボールねじ機構とを具
備する電動式ベローズポンプにて形成してなる、ことを
特徴とする洗浄処理装置。
【請求項８】請求項７記載の洗浄処理装置において、複数の電動式ベローズポンプを互いに並列状態に連通す
ると共に、各ベローズポンプの駆動に位相差をもたせる
ようにした、ことを特徴とする洗浄処理装置。