KR20010062026A - 기판처리장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (19)
- 기판을 지지하는 홀더와상기 기판의 표면에 복수의 처리액을 공급하는 공급노즐과,상기 홀더의 주위에 설치되어진 용기를 구비하고,상기 용기는 복수의 처리실을 갖고,상기 복수의 처리실은 다단으로 설치되어진 개구부를 갖고,상기 홀더에 지지되어진 기판의 주위에 상기 각 처리실의 개구부의 각각을 이동시키는 상기 지지수단과 상기 용기를 상대적으로 승강이 자유롭게 구성하고,상기 각 처리실의 저면에 처리액의 배액이 실시되는 회로를 각각 접속하고,상기 회로가운데 적어도 하나를 상기 노즐에 접속하고 배출되어진 처리액을 상기 노즐에서 다시 기판의 표면에 공급하는 리사이클회로로서 구성한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 1에 있어서,상기 기판에 공급되는 처리액에 따른 상기 처리실을 상기 기판의 주위에 배치시키기 위하여 상기 처리실의 개구부를 상기 홀더에 지지되어진 기판의 주위에 이동시키는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 1에 있어서,상기 복수의 처리실은 적어도 제 1의 처리실과 제 2의 처리실로 이루어지고,상기 용기는 제 1의 처리실을 형성하는 동시에 제 2의 처리실의 일부를 형성하는 제 1 부재와 상기 제 1부재와 함께 제 2의 처리실을 형성하는 제 2의 부재로 구성되고,상기 제 1의 처리실은 제 1의 개구부를 갖고,상기 제 2의 처리실은 제 2의 개구부를 갖고,상기 홀더에 지지되어진 기판에 대하여 상기 제 1의 개구부 및 상기 제 2의 개구부를 이동시키는 상기 용기를 상기 홀더에 대하여 상대적으로 이동이 자유롭게 구성한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 1에 있어서,상기 홀더는 상기 기판을 지지한 상태에서 회전시키는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 3에 있어서,상기 기판은 상기 홀더에 수평으로 지지되고 수직축을 중심으로 회전하고,상기 제 1의 부재는 상기 제 2의 부재의 아래쪽에 배치되고,상기 제 1의 개구부가 상기 제 2의 개구부의 아래에 배치되어진 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 1에 있어서,상기 리사이클회로에 처리액을 저유하는 주저유탱크를 개장한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 6에 있어서,상기 주저유탱크내의 처리액을 순환시키는 순환회로를 또한 설치하고,상기 순환회로에 처리액의 온도를 조정하는 온도콘트롤러를 설치한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 6에 있어서,상기 리사이클회로에 처리액의 온도를 조정하는 온도콘트롤러를 설치한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 8에 있어서,상기 리사이클회로의 상기 주저유탱크의 상류측에 부저유탱크를 설치하고,상기 부저유탱크와 상기 주저유탱크간을 접속하는 접속회로에 상기 온도콘트롤러를 설치한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 8에 있어서,상기 리사이클회로의 상기 주저유탱크의 상류측에 부저유탱크를 설치하고,상기 부저유탱크에 상기 온도콘트롤러를 설치한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 6에 있어서,상기 주저유탱크에서 상기 노즐까지의 사이에 삼방변을 설치하고,상기 삼방변에서 상기 주저유탱크에 처리액을 반송하는 반송회로를 설치한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 6에 있어서,상기 주저유탱크는 주저유탱크내에 처리액을 보충하는 보충탱크가 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 3에 있어서,상기 제 1 부재와 상기 제 2 부재를 상대적으로 승강이 자유롭게 구성한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 13에 있어서,상기 제 1의 부재와 상기 제 2의 부재를 하강시켜 상기 제 1의 개구부를 닫은 상태로 하고,상기 제 2의 개구부를 상기 홀더보다도 아래의 위치에 배치시킨 상태에서 상기 홀더에 기판의 수수를 실시하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 3에 있어서,상기 각 처리실의 저면에 접속되어진 각 회로를 통하여 각 처리실내의 분위기의 배기를 각각 실시하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 15에 있어서,상기 각 회로에 기액분리장치를 각각 설치한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 16에 있어서,상기 제 1의 부재와 상기 제 2의 부재를 하강시켜 상기 제 1의 개구부를 닫은 상태로 하고,상기 제 2의 개구부를 상기 홀더에 지지된 기판의 옆쪽에 배치시키고,상기 제 2의 처리실의 저면에 접속되어진 회로에서 상기 제 2의 처리실내의 분위기의 배기를 실시하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 16에 있어서,복수의 처리액의 가운데 약액으로 처리할 경우,상기 제 1의 개구부를 상기 홀더에 지지되어진 기판의 옆쪽에 배치시키고,상기 제 2의 개구부를 상기 제 1의 개구부의 위쪽에 배치시키고,상기 제 1의 처리실내 및 상기 제 2의 처리실내를 통하여 상기 제 1 및 제 2의 처리실의 저면에 접속되어진 양회로에서 상기 약액의 분위기를 배기하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
- 청구항 1에 있어서,상기 각 처리실의 저면에 실내분위기의 배기를 실시하는 배기회로를 각각 접속한 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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