JP3891776B2 - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3891776B2 JP3891776B2 JP2000352686A JP2000352686A JP3891776B2 JP 3891776 B2 JP3891776 B2 JP 3891776B2 JP 2000352686 A JP2000352686 A JP 2000352686A JP 2000352686 A JP2000352686 A JP 2000352686A JP 3891776 B2 JP3891776 B2 JP 3891776B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- liquid
- tank
- processing liquid
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Weting (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば薬液、純水等の処理液を貯溜する処理槽に、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板等の薄板状の基板を浸漬して、基板に洗浄処理、エッチング処理等の所定の処理を行う基板処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板等を用いた精密電子基板の製造プロセスにおいては、基板を薬液、純水等の処理液に浸漬させて種々の表面処理を行う基板処理装置が用いられている。ここでの表面処理としては、基板に対しての洗浄処理、エッチング処理等が行われる。
【0003】
図4は、従来の基板処理装置の概略構成を示す図である。この基板処理装置は、処理液を貯溜するとともに、基板の一種であるウエハWを処理液に浸漬させる処理槽100を備えている。この処理槽100内には、複数枚のウエハWを垂直方向に保持するための保持部101と、処理槽100内に処理液を供給するために、互いに平行で、かつ処理液を吐出するために複数の吐出孔(図示省略)が形成された2本の処理液供給ノズル102とが、それぞれ設けられている。
【0004】
処理液供給ノズル102は、処理槽100の底部に設けられており、処理液供給ノズル102の複数の吐出孔は、処理槽100の中心部へ向けて処理液を吐出する。この処理液供給ノズル102は、処理槽100外にある処理液供給源103に処理液供給管104を介して連通接続されている。
【0005】
また、処理槽100の外周には外槽110が形成されている。この外槽110は、処理槽100から溢れ出た(オーバーフローした)処理液を回収するためのものである。この外槽110の底部には、排出口111が形成されており、この排出口111と接続されている排出管112を介して、処理液が外槽110から排出される。なお、排出管112には、外槽110からの処理液の排出開始・排出停止を制御する排出弁113が設けられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の基板処理装置では、排出管112に、処理液の排出開始・排出停止を制御する排出弁113が設けられているとはいうものの、外槽110から排出口111を介して排出される処理液の排出量については制御されていない。したがって、排出弁113が「閉」の状態である場合、処理槽100からオーバーフローして外槽110へ一旦回収された処理液が、外槽110を溢れて、処理槽100側へ逆流してしまうことがあり(図4に示す2点鎖線参照)、外槽110へオーバーフローされないパーティクルが、処理槽100の処理液の液面に滞留するおそれがあった。
【0007】
そのため、図3の1点鎖線に示すように、処理槽100内の処理液中のパーティクルがなくなるまでには、処理槽100から処理液のオーバーフロー処理時間が長時間経過しなけらばならないことになり、処理槽100内における処理液の液面に滞留するパーティクルが原因で、ウエハWの洗浄処理やエッチング処理等に悪影響を及ぼすという問題があった。
【0008】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、短時間のオーバーフロー処理時間で処理槽から外槽へ、パーティクルを含む処理液をオーバーフローさせ、処理槽内における処理液の液面に滞留するパーティクルの基板への影響を抑制し、基板の洗浄またはエッチング等の処理を効率よく行える基板処理装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決するために、請求項1に記載の基板処理装置は、処理液により基板に所定の処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留し、処理液に基板を浸漬させて基板の処理を行うための処理槽と、前記処理槽の外周に配置され、前記処理槽から溢れ出た処理液を回収する外槽と、前記外槽に形成され、前記外槽から処理液を排出するための排出口と、前記排出口に連通接続された排出管と、前記排出管に設けられ、前記外槽から排出される処理液の排出量を制御する排出弁と、前記外槽内における処理液の液面を検出する液面検出手段と、前記液面検出手段により検出された検出結果に基づいて、前記排出弁の開閉を制御させる制御手段と、を備え、前記排出弁が閉の状態で、前記外槽内における処理液の液面が、処理液が満杯になった状態の前記処理槽内における処理液の液面より上方であると前記液面検出手段が検出した場合、前記制御手段は、前記排出弁を閉の状態から開の状態へ切り換えることを特徴とするものである。
【0010】
また、請求項2に記載の基板処理装置は、処理液により基板に所定の処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留し、処理液に基板を浸漬させて基板の処理を行うための処理槽と、前記処理槽の外周に配置され、前記処理槽から溢れ出た処理液を回収する外槽と、前記外槽に形成され、前記外槽から処理液を排出するための排出口と、前記排出口に連通接続された排出管と、前記排出管に設けられ、前記外槽から排出される処理液の排出量を制御する排出弁と、前記外槽の液面状態を時間情報で記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶されている時間情報に基づいて、前記排出弁の開閉を制御させる制御手段と、を備え、前記記憶手段に記憶されている時間情報は、所定の時間から前記外槽内における液面が、処理液が満杯になった状態の前記処理槽内における処理液の液面より上方になるまでの時間という時間情報を含むことを特徴とするものである。
【0011】
また、請求項3に記載の基板処理装置は、処理液により基板に所定の処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留し、処理液に基板を浸漬させて基板の処理を行うための処理槽と、前記処理槽の外周に配置され、前記処理槽から溢れ出た処理液を回収する外槽と、前記外槽から排出される処理液の排出量を調整する処理液排出量調整手段と、を備え、前記処理液排出量調整手段は、前記外槽から排出される処理液の排出量を制御する排出弁と、前記外槽内における処理液の液面を検出する液面検出手段と、前記液面検出手段により検出された検出結果に基づいて、前記排出弁の開閉を制御させる制御手段と、を備え、前記排出弁が閉の状態で、前記外槽内における液面が、処理液が満杯になった状態の前記処理槽内の処理液の液面より上方であると前記液面検出手段が検出した場合、前記制御手段は、前記排出弁を閉の状態から開の状態へ切り換えることを特徴とするものである。
【0012】
また、請求項4に記載の基板処理装置は、処理液により基板に所定の処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留し、処理液に基板を浸漬させて基板の処理を行うための処理槽と、前記処理槽の外周に配置され、前記処理槽から溢れ出た処理液を回収する外槽と、前記外槽から排出される処理液の排出量を調整する処理液排出量調整手段と、前記外槽の液面状態を時間情報で記憶する記憶手段と、を備え、前記処理液排出量調整手段は、前記外槽から排出される処理液の排出量を制御する排出弁と、前記記憶手段により記憶されている時間情報に基づいて、前記排出弁の開閉を制御させる制御手段と、を備え、前記記憶手段に記憶されている時間情報は、所定の時間から前記外槽内における処理液の液面が、処理液が満杯になった状態の前記処理槽内における処理液の液面より上方になるまでの時間という時間情報を含むことを特徴とするものである。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明に係る基板処理装置の一実施の形態について説明する。図1は、本発明の実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【0021】
この基板処理装置は、処理液を貯溜するとともに、基板の一種であるウエハWを処理液に浸漬させて、ウエハWに対して洗浄処理、またはエッチング処理を行うための処理槽1を備えている。この処理槽1内には、複数枚のウエハWを下方から垂直方向に保持するための保持部2と、処理槽1内に処理液を供給するために、互いに平行で、かつ処理液を吐出するために複数の吐出孔(図示省略)が形成された2本の処理液供給ノズル3とが、それぞれ設けられている。なお、保持部2には、ウエハWの下部を保持するために、複数の溝(図示省略)が形成されている。
【0022】
この2本の処理液供給ノズル3は、処理槽1の底部に設けられており、処理液供給ノズル3の複数の吐出孔は、処理槽1の中心部へ向けて処理液を吐出する。この処理液供給ノズル3は、処理槽1外にある処理液供給源4に処理液供給管5を介して連通接続されている。なお、処理液供給管5の途中には、処理液供給源4から処理液供給ノズル3へ供給される処理液の供給開始・供給停止を制御する開閉弁6が設けられている。
【0023】
また、処理槽1の外周には外槽7が形成されている。この外槽7は、処理槽1から溢れ出た(オーバーフローした)処理液を回収するためのものである。この外槽7の底部には排出口8が形成されており、この排出口8と接続されている処理液排出管9を介して、処理液が外槽7から排出される。なお、処理液排出管9の途中には、処理槽1の排出口8から排出される処理液の排出量を制御する排出弁10が設けられている。この排出弁10は、制御部12に電気的に接続されており、排出弁10の開閉動作の制御は、制御部12からの指令により行われる。
【0024】
外槽7内には、外槽7内の処理液の液面を検出する液面検出センサ11が設けられている。この液面検出センサ11は、制御部12に電気的に接続されており、液面検出センサ11により検出された検出結果は、制御部12へ伝達されるようになっている。そして、制御部12は、液面検出センサ11により検出された検出結果に基づいて、排出弁10へ指令を送って排出弁10の開閉動作の制御を行う。
【0025】
次に、外槽7内における処理液の液面と排出弁10の開閉動作との相関関係を説明する。図2は、外槽内における処理液の液面に対応した外槽および排出弁の状態を示す図である。
【0026】
まず、図2(A)に示すように、処理槽1から溢れ出た処理液が外槽7へ回収され、外槽7内における処理液の液面が、処理槽1内の処理液の液面より低い場合、制御部12からの指令により排出弁10は、「閉」の状態である。その後、さらに処理槽1から溢れ出た処理液が外槽7へ回収されていく。
【0027】
次に、図2(B)に示すように、外槽7内における処理液の液面が、処理槽1内における処理液の液面と略同じ高さになった場合、図2(A)に示す状態のときと同様、制御部12からの指令により排出弁10は、まだ「閉」の状態である。
【0028】
さらに、処理槽1から溢れた処理液が外槽7へ回収されて、図2(C)に示すように、処理槽1内の処理液が満杯になった状態で、外槽7内における処理液の液面が処理槽1内における処理液の液面より高くなった場合、制御部12からの指令により排出弁10は、「閉」の状態から「開」の状態へ切り換えられる。排出弁10が「開」の状態へ切り換えられる直前には、図2(C)の矢印に示すように、わずかばかりの処理液が外槽7と処理槽1との間を行ったり来たりしている。なお、液面検出センサ11は、外槽7内における処理液の液面が、処理槽1内における処理液の液面より高くなったと判断するように設定されているとともに、その判断により制御部12が、排出弁10を「閉」の状態から「開」の状態へ切り換えるように設定されている。
【0029】
そして、排出弁10が「開」の状態になると、外槽7内における処理液が、排出口8と接続されている処理液排出管9を介して、処理液が外槽7から排出される。このとき、図2(D)に示すように、外槽7内における処理液の液面が急激に低下することに伴って、処理槽1内の処理液が強制的に処理槽1から外槽7へ溢れ出るので、処理槽1における処理液の液面に浮遊しているパーティクルも、処理槽1から溢れ出る処理液とともに強制的に処理槽1を溢れ出て外槽7へ回収される。
【0030】
その結果、処理槽1内における処理液の液面に浮遊するパーティクルの滞留を防止でき、図3の実線で示すように、従来の技術と比較して、短時間のオーバーフロー処理時間で、処理槽1内のウエハWの洗浄またはエッチング等の処理を効率よく行うことができる。
【0031】
また、液面検出センサ11を用いて外槽7内の処理液の液面を検出して、その検出結果に基づいて排出弁10を「開」の状態にして、外槽7内における処理液を排出口8から排出しているので、好適な時点において外槽7内における処理液の液面を急激に低下させることができる。
【0032】
なお、上述した実施の形態では、液面検出センサ11の検出結果に基づいて、排出弁10の開閉動作を制御していたが、本発明に係る基板処理装置はこれに限るものではない。
【0033】
例えば、制御部12内にタイマー機能およびメモリ機能を付与し、外槽7内の処理液の液面にかかわる時間情報、具体的には、所定の時間からどのくらいの時間で、外槽7内の処理液の液面が処理槽1内の処理液の液面より高くなった状態になるのか(図2(C)の状態)という時間をタイマーでカウンタした後、それを時間情報としてメモリに予め記憶しておき、その時間が経過すれば、制御部12からの指令により排出弁10を「閉」の状態から「開」の状態へ切り換えて、外槽7の排出口8から処理液を強制的に排出させるようにしてもよい。
【0034】
この場合も液面検出センサ11を用いた場合と同様、処理槽1内における処理液の液面に浮遊するパーティクルの滞留を防止でき、図3の実線で示すように、従来の技術と比較して、短時間のオーバーフロー処理時間で、処理槽1内のウエハWに対する洗浄またはエッチング等の処理を効率よく行うことができる。
【0035】
また、所定の時間からどのくらいの時間で、外槽7内の処理液の液面が処理槽1内の処理液の液面より高くなった状態になるのかという時間情報に基づいて、外槽7内における処理液を排出口8から排出しているので、液面検出センサ11を用いた場合と同様、好適な時点において外槽7内における処理液の液面を急激に低下させることができる。
【0036】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明に係る基板処理装置によれば、排出管を流れる処理液の排出量を制御する排出弁の開閉動作を制御手段により制御させているので、短時間のオーバーフロー処理時間で処理槽から外槽へパーティクルを含む処理をオーバーフローさせ、処理槽内における処理液の液面に滞留するパーティクルの基板への影響を抑制し処理槽内の基板の洗浄またはエッチング等の処理を効率よく行うことができるという効果がある。
【0037】
また、本発明に係る基板処理装置によれば、外槽から排出される処理液の排出量を処理液排出量調整手段により調整しているので、短時間のオーバーフロー処理時間で処理槽から外槽へパーティクルを含む処理をオーバーフローさせ、処理槽内における処理液の液面に滞留するパーティクルの基板への影響を抑制し、処理槽内の基板の洗浄またはエッチング等の処理を効率よく行うことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図2】外槽内における処理液の液面に対応した外槽および排出弁の状態を示す図である。
【図3】本発明に係る基板処理装置と従来の基板処理装置におけるパーティクル数の変化を示す対比図である。
【図4】従来の基板処理装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
1 処理槽
2 保持部
3 処理液供給ノズル
4 処理液供給源
5 処理液供給管
7 外槽
8 排出口
9 処理液排出管
10 排出弁
11 液面検出センサ
12 制御部
W ウエハ
Claims (4)
- 処理液により基板に所定の処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留し、処理液に基板を浸漬させて基板の処理を行うための処理槽と、
前記処理槽の外周に配置され、前記処理槽から溢れ出た処理液を回収する外槽と、
前記外槽に形成され、前記外槽から処理液を排出するための排出口と、
前記排出口に連通接続された排出管と、
前記排出管に設けられ、前記外槽から排出される処理液の排出量を制御する排出弁と、
前記外槽内における処理液の液面を検出する液面検出手段と、
前記液面検出手段により検出された検出結果に基づいて、前記排出弁の開閉を制御させる制御手段と、
を備え、
前記排出弁が閉の状態で、前記外槽内における処理液の液面が、処理液が満杯になった状態の前記処理槽内における処理液の液面より上方であると前記液面検出手段が検出した場合、前記制御手段は、前記排出弁を閉の状態から開の状態へ切り換えることを特徴とする基板処理装置。 - 処理液により基板に所定の処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留し、処理液に基板を浸漬させて基板の処理を行うための処理槽と、
前記処理槽の外周に配置され、前記処理槽から溢れ出た処理液を回収する外槽と、
前記外槽に形成され、前記外槽から処理液を排出するための排出口と、
前記排出口に連通接続された排出管と、
前記排出管に設けられ、前記外槽から排出される処理液の排出量を制御する排出弁と、
前記外槽の液面状態を時間情報で記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶されている時間情報に基づいて、前記排出弁の開閉を制御させる制御手段と、
を備え、
前記記憶手段に記憶されている時間情報は、所定の時間から前記外槽内における液面が、処理液が満杯になった状態の前記処理槽内における処理液の液面より上方になるまでの時間という時間情報を含むことを特徴とする基板処理装置。 - 処理液により基板に所定の処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留し、処理液に基板を浸漬させて基板の処理を行うための処理槽と、
前記処理槽の外周に配置され、前記処理槽から溢れ出た処理液を回収する外槽と、
前記外槽から排出される処理液の排出量を調整する処理液排出量調整手段と、
を備え、
前記処理液排出量調整手段は、前記外槽から排出される処理液の排出量を制御する排出弁と、前記外槽内における処理液の液面を検出する液面検出手段と、前記液面検出手段により検出された検出結果に基づいて、前記排出弁の開閉を制御させる制御手段と、を備え、
前記排出弁が閉の状態で、前記外槽内における液面が、処理液が満杯になった状態の前記処理槽内の処理液の液面より上方であると前記液面検出手段が検出した場合、前記制御手段は、前記排出弁を閉の状態から開の状態へ切り換えることを特徴とする基板処理装置。 - 処理液により基板に所定の処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留し、処理液に基板を浸漬させて基板の処理を行うための処理槽と、
前記処理槽の外周に配置され、前記処理槽から溢れ出た処理液を回収する外槽と、
前記外槽から排出される処理液の排出量を調整する処理液排出量調整手段と、
前記外槽の液面状態を時間情報で記憶する記憶手段と、
を備え、
前記処理液排出量調整手段は、前記外槽から排出される処理液の排出量を制御する排出弁と、前記記憶手段により記憶されている時間情報に基づいて、前記排出弁の開閉を制御させる制御手段と、を備え、
前記記憶手段に記憶されている時間情報は、所定の時間から前記外槽内における処理液の液面が、処理液が満杯になった状態の前記処理槽内における処理液の液面より上方になるまでの時間という時間情報を含むことを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000352686A JP3891776B2 (ja) | 2000-11-20 | 2000-11-20 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000352686A JP3891776B2 (ja) | 2000-11-20 | 2000-11-20 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002158200A JP2002158200A (ja) | 2002-05-31 |
JP3891776B2 true JP3891776B2 (ja) | 2007-03-14 |
Family
ID=18825547
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000352686A Expired - Fee Related JP3891776B2 (ja) | 2000-11-20 | 2000-11-20 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3891776B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007203140A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Hitachi High-Technologies Corp | ワークの薬液洗浄方法および洗浄装置 |
JP6454611B2 (ja) | 2015-06-19 | 2019-01-16 | 株式会社ジェイ・イー・ティ | 基板処理システム及び基板処理方法 |
-
2000
- 2000-11-20 JP JP2000352686A patent/JP3891776B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002158200A (ja) | 2002-05-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5826601A (en) | Treating liquid replacing method, substrate treating method and substrate treating apparatus | |
US20040221880A1 (en) | Substrate treating apparatus | |
JP2942773B2 (ja) | 半導体ウェーハ洗浄装置及び方法 | |
JP2001244233A (ja) | ウェット処理装置 | |
JP2005045206A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
KR20180118063A (ko) | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 | |
JP3891776B2 (ja) | 基板処理装置 | |
WO2022059414A1 (ja) | 処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法 | |
JPH09181035A (ja) | 半導体ウエーハの洗浄装置 | |
JP4351981B2 (ja) | 半導体基板の洗浄方法及びその装置 | |
KR101078145B1 (ko) | 기판의 건조장치 및 건조방법 | |
JPH09162156A (ja) | 処理方法及び処理装置 | |
KR100598914B1 (ko) | 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비 | |
JPH11145100A (ja) | 基板処理装置 | |
KR20080020031A (ko) | 반도체 세정 설비 및 그의 퀵 드레인 제어 방법 | |
JP3321726B2 (ja) | 洗浄処理方法及びその装置 | |
JP2008047668A (ja) | 基板処理装置 | |
WO2023282064A1 (ja) | 基板処理システム、及び基板処理方法 | |
JP2000005710A (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP2001028356A (ja) | 洗浄装置 | |
JPH11150091A (ja) | Wet処理槽及びその給液方法 | |
KR100632044B1 (ko) | 웨이퍼의 세정장치 및 방법 | |
JPH10150012A (ja) | 基板処理装置 | |
JPH08323306A (ja) | 基板処理装置及び方法 | |
JP2003318145A (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050711 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050809 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060509 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060626 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061205 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091215 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091215 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |