KR100911746B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

기판 처리 장치가 제공된다. 기판 처리 장치는 배기관, 배기관에서 유입된 배기액이 처리되는 배기 챔버 및 배기 챔버 내에 형성되며 배기액을 걸러주는 배기망 및 배기망을 지지하고 배기액이 유입되는 통로를 형성하는 지지부를 포함하는 배기 필터부를 포함하되, 배기관에서 유입된 배기액은 배기 필터부를 통과하여 불순물 입자는 배기망에 잔류되고 액체만이 배기 챔버 내부로 유입된다.
배기 필터, 척

Description

기판 처리 장치{PLATE GENERATING APPARATUS}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 생산성이 향상된 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 메모리 소자의 기판으로 사용되는 웨이퍼(wafer), 액정 디스플레이 또는 플라즈마 디스플레이 패널로 사용되는 평판 기판 등은 박막과 금속막 등을 형성하는 여러 공정을 거쳐 메모리 소자나 디스플레이 소자로 제조된다. 이러한 각 공정은 외부와는 격리된 환경을 제공하는 공정 챔버(process chamber)에서 진행된다. 즉, 공정 챔버 내에서는 메모리 소자나 디스플레이 소자를 제조하는 도포 공정, 노광 공정, 현상 공정, 식각 공정, 세정 공정, 스트립 공정 등이 진행될 수 있다.
한편, 기판 제조 공정을 진행할 때에는 기판 처리 가스, 기판 처리 약액 또는 순수(DI) 등을 사용한다. 기판 제조 공정에서 사용된 이러한 물질들은 배기관을 통해 배기된다.
도 1a는 본 발명의 종래 기술에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다. 도 1b는 본 발명의 종래 기술에 따른 기판 처리 장치의 정면도이다. 도 1c는 본 발명의 종 래 기술에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터의 사시도이다.
도 1a 내지 도 1c를 참조하면, 본 발명의 종래 기술에 따른 기판 처리 장치는 배기 챔버(10) 내부와 연결된 배기관(13)을 통해 배기액이 배기 챔버(10) 내부로 유입된다. 한편, 배기 챔버(10) 내부에는 배기 필터부(20)가 형성된다. 배기 필터부(20)는 상부가 오픈된 육면체 형상으로 필터 지지판(12) 상에 형성된다.
배기 챔버(10) 내부로 배기액이 유입되면, 배기액은 배기 챔버(10) 내에 형성된 배기 필터부(20)로 유입된다. 이때, 배기액에 포함된 불순물, 예를 들어, 유리 기판이 식각된 유리조각 들은 배기 필터부(20) 내부에 가라앉게 된다. 한편, 배기액에서 고체 물질인 불순물을 제외한 액체는 배기 필터부(20) 밖으로 역류하여 배기 챔버(10) 내부에 모이게 되고, 적절한 후처리 공정이 취해지게 된다.
즉, 고체 물질인 불순물은 배기 필터부(20) 내부에 가라앉고, 액체만이 배기 필터부(20) 밖으로 역류되어야 한다. 그러나, 액체가 역류될 때에 배기 필터부(20) 내부에 가라앉은 불순물도 같이 역류하는 현상이 일어난다. 배기액 내에 포함된 불순물의 고체 물질은 그 입자가 미세하기 때문에 배기액의 유동에 따라 쉽게 움직일 수 있기 때문이다. 따라서, 배기액의 고체 불순물을 걸러주는 배기 필터부(20)가 제 역할을 하지 못함으로써, 배기액의 후처리 공정이 원활하게 진행되지 못하고, 생산성이 저하될 수 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 생산성이 향상된 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 배기관, 상기 배기관에서 유입된 배기액이 처리되는 배기 챔버 및 상기 배기 챔버 에 형성되며 배기액을 걸러주는 배기망 및 상기 배기망을 지지하고 배기액이 유입되는 통로를 형성하는 지지부를 포함하는 배기 필터부를 포함하되, 상기 배기관에서 유입된 배기액은 상기 배기 필터부를 통과하여 불순물 입자는 상기 배기망에 잔 류되고 액체만이 상기 배기 챔버 내부로 유입된다.
본 발명의 기타 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
상기한 바와 같은 기판 처리 장치에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 배기액 처리 공정에 따르면, 배기액에서 고체 불순물을 보다 효과적으로 분리할 수 있다. 따라서, 배기액 처리 공정이 보다 효율적으로 진행되므로, 생산성이 향상될 수 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 및/또는 은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 포함한다(comprises) 및/또는 포 함하는(comprising)은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
이하, 도 2 내지 도 4b를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대하여 설명한다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 정면도이다. 도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터의 사시도이다. 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터의 정면도이다.
도 1 내지 도 4b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는 배기 챔버(100) 및 배기 챔버(100) 내에 형성된 배기 필터부(200)를 포함한다.
배기 챔버(100) 내에서는 배기액 처리 공정이 진행되는데, 구체적으로 배기액에서 고체 상태의 불순물, 예를 들어 기판의 식각 잔여물 등을 제거한 후, 액체 배기액을 재활용하거나 폐기하는 공정이 진행된다. 배기 챔버(100)에는 공정 챔버(미도시)와 연결된 배기관(130)이 연결되고, 배기 필터부(200)가 형성된다.
배기관(130)은 공정 챔버(미도시)와 연결되어 공정 챔버에서 기판 처리 공정 시에 사용된 배기액을 배기 챔버(100)로 이동시킨다. 배기관(130)은 도 3에 도시된 바와 같이 배기 챔버(100)의 상부에 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않으며, 배기 챔버(100)의 측면 또는 하면에 형성될 수도 있다.
배기 챔버(100) 내부에는 배기 필터부(200)가 형성되는데, 예를 들어 배기 필터부(200)는 배기관(130) 하부에 위치하도록 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 배기 필터부(200)는 필터 지지판(120)에 의해 지지되어 배기 챔버(100)의 중간 영역 또는 상부 영역에 형성될 수 있다.
배기 필터부(200)는 배기액을 걸러주는 배기망(220) 및 배기망(220)을 지지하고 배기액이 유입되는 통로를 형성하는 배기망 지지부(210)를 포함한다. 배기망(220)은 액체는 통과시키고 고체는 통과시키지 않는 그물망, 천 등으로 형성되어 배기망 지지부(210) 하부로 돌출되도록 형성된다. 그러나, 이에 제한되지 않으며 지지부에 평탄하게 형성될 수도 있다. 배기망 지지부(210)는 배기액을 모아주는 측면부 및 배기망(220)이 연결되는 저면부를 포함한다. 배기망 지지부(210)의 측면부는 원 또는 다각형 형상일 수 있다.
이하, 도 2 내지 도 4b를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기액 처리 공정을 설명한다.
우선, 공정 챔버(미도시)에서 기판 처리 공정이 진행된 후, 또는 처리 공정 중에 배기관(130)을 통해 배기액이 배기 챔버(100) 내부로 유입된다. 배기 챔버(100) 내부로 유입된 배기액은 배기 필터부(200)로 유입된다. 이 때, 배기 필터부(200)의 배기망 지지부(210)가 배기액이 옆으로 새는 것을 막아준다. 배기액은 배기 필터부(200)의 저면에 형성된 배기망(220)으로 통과한다. 이 때, 고체 불순물 은 배기망(220)을 통과하고, 액체 배기액만이 배기망(220)을 통과할 수 있다. 배기망(220)을 통과한 액체 배기액은 배기 챔버(100) 내에 모여 재처리, 폐기 등의 후속 공정이 진행된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 배기액 처리 공정에 따르면, 배기액에서 고체 불순물을 보다 효과적으로 분리할 수 있다. 따라서, 배기액 처리 공정이 보다 효율적으로 진행되므로, 생산성이 향상될 수 있다.
이하, 도 5를 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명한다. 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터부의 사시도이다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터부(202)는 배기망 지지부(212)가 원기둥 형상으로 형성된다는 점이 본 발명의 일 실시예와 다르다. 즉, 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터부(202)는 원기둥 형상의 배기망 지지부(212) 및 배기망(222)을 포함한다.
이하, 도 6을 참조하여, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명한다. 도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터부(204)는 배기관(130)이 형성된 배기 챔버(100) 주변부에 연결되어 형성된다. 즉, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터부(204)는 배기 챔버(100)와 연결된 배기망 지지부(214) 및 배기망(224)을 포함한다. 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치에 따르면, 배기액이 옆으로 새는 것을 차단함 으로써, 모든 배기액이 배기 필터부(204)를 통과하게 되는 구조이다. 따라서, 보다 효율적으로 배기액의 고체 불순물을 걸러낼 수 있어, 생산성이 보다 향상될 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
도 1a는 본 발명의 종래 기술에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다.
도 1b는 본 발명의 종래 기술에 따른 기판 처리 장치의 정면도이다.
도 1c는 본 발명의 종래 기술에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터의 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 정면도이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터의 사시도이다.
도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터의 정면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 배기 필터부의 사시도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 기판 처리 장치의 단면도이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
100: 배기 챔버 120: 필터 지지판
130: 배기관 200, 202, 204: 배기 필터부
210, 212, 214: 배기망 지지부 220, 222, 224: 배기망

Claims (5)

  1. 배기액이 처리되는 배기 챔버;
    상기 배기 챔버 내로 배기액을 제공하도록 상기 배기 챔버와 연결되어 형성된 배기관; 및
    상기 배기 챔버 내에 형성되며 배기액을 걸러주는 배기망 및 상기 배기망을 지지하고 배기액이 유입되는 통로를 형성하는 지지부를 포함하는 배기 필터부를 포함하되, 상기 배기관에서 유입된 배기액은 상기 배기 필터부를 통과하여 상기 배기액 내의 고체 불순물은 상기 배기망에 잔류되고 상기 배기액에서 상기 고체 불순물이 제거된 액체 배기액은 상기 배기 챔버 내부로 유입되는 기판 처리 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 지지부는 중앙에 배기망이 연결되는 개구부가 형성된 저면부 및 상기 저면부의 네측면을 둘러싸도록 형성된 측면부를 포함하는 기판 처리 장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 측면부는 일측은 상기 저면부의 네측면과 연결되고, 타측은 상기 배기 챔버와 연결되되, 상기 측면부는 상기 배기 챔버에 연결된 배기관을 둘러싸도록 형성되는 기판 처리 장치 .
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 배기망은 상기 지지부 하부로 돌출되어 형성된 기판 처리 장치.
  5. 삭제
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10102244A (ja) 1996-09-13 1998-04-21 Samsung Electron Co Ltd スパッタリング装置
JP2000097013A (ja) 1998-09-21 2000-04-04 Nishishiba Electric Co Ltd 湿式集塵機
KR20050069780A (ko) * 2003-12-31 2005-07-05 동부아남반도체 주식회사 드레인 이물질 제거장치
KR20060021105A (ko) * 2004-09-02 2006-03-07 세메스 주식회사 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10102244A (ja) 1996-09-13 1998-04-21 Samsung Electron Co Ltd スパッタリング装置
JP2000097013A (ja) 1998-09-21 2000-04-04 Nishishiba Electric Co Ltd 湿式集塵機
KR20050069780A (ko) * 2003-12-31 2005-07-05 동부아남반도체 주식회사 드레인 이물질 제거장치
KR20060021105A (ko) * 2004-09-02 2006-03-07 세메스 주식회사 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비

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