JPH06236843A - 処理液供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 処理液収容部の交換を容易にし、被処理体の
パーティクルの付着及び汚染防止を図れるようにした処
理液供給装置を提供する。 【構成】 レジスト液収容部２３に、処理液供給ノズル
３１に接続する処理液送出口４３を設けると共に、Ｎ2
ガスボンベ５０に接続する加圧気体導入口４４を設け
る。処理液送出口４３及び加圧気体導入口４４に、雄ね
じ部やカップラ雄部等の取付部を設ける。この取付部に
それぞれ不使用時に開口部を閉塞し、使用時には開口部
を開放するキャップ部材４７を着脱可能に装着し、使用
時に処理液移送管３４、Ｎ2 ガス供給管３５を着脱可能
に連結する。これにより、キャップ部材４７を取り外し
た後、処理液送出口４３及び加圧気体導入口４４に処理
液移送管３４及びＮ2 ガス供給管３５を接続することが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、処理液を貯留する処
理液収容部から移送される処理液を被処理体に供給して
処理する処理液供給装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体デバイスの製造工程にお
いて、被処理体である半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基
板上にフォトリソグラフィー技術を用いて所定の回路パ
ターンの転写を行っており、このような工程において
は、被処理体上に感光剤であるフォトレジスト液を塗布
するためのレジスト塗布装置が用いられている。

【０００３】このような塗布装置は、レジスト収容部に
貯留されているレジスト液を例えば窒素（Ｎ2 ）ガス等
の加圧気体にて圧送し、これを処理液供給ノズルからウ
エハ表面上に所定のレジスト液を供給し、その後、スピ
ンチャックによりウエハを高速回転させてレジスト液を
ウエハ表面全面に拡散させて、均一なコーティング膜を
得るようになっている。この場合、レジスト液収容部
は、レジスト液を収容する瓶等の容器に収容されてお
り、この容器の開口部に装着される処理液移送チューブ
付の蓋体に、Ｎ2 ガス供給源であるＮ2 ガスボンベに接
続するＮ2 ガス供給管を連結すると共に、処理液供給ノ
ズルに接続するレジスト液移送管を連結してなり、容器
内のレジスト液が無くなったとき、新しいレジスト液収
容容器にＮ2ガス供給管及びレジスト液移送管を連結す
る処理液移送チューブ付蓋体を装着している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の処理液供給装置においては、前回使用した処理
液移送チューブ付蓋体を新しいレジスト液収容容器に装
着するため、前回使用したレジスト液が処理液移送チュ
ーブに付着されたまま新しいレジスト液と接触してしま
い、付着されたレジストが剥離してパーティクルとなっ
てウエハに供給されると、このパーティクルが付着しウ
エハが汚染されるという問題があった。この問題を解決
する手段として、レジスト液収容容器を交換する度に処
理液移送チューブ付蓋体を新しいものに交換する使い捨
てにするか、あるいは蓋体を洗浄した後に新しいレジス
ト液収容容器に装着するなどが考えられるが、前者の使
い捨てにおいては資材の無駄が生じ、また後者の洗浄に
よるものにおいては、レジスト液収容部の交換作業に多
くの労力及び時間を要し、処理能率の低下をきたすとい
う問題がある。

【０００５】この発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、処理液移送管及び加圧気体供給管を簡単に処理液収
容部に連結することができ、被処理体のパーティクルの
付着及び被処理体の汚染防止を図れるようにした処理液
供給装置を提供することを目的とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の処理液供給装置は、被処理体に処理液を
供給する処理液供給手段と、上記処理液を貯留する処理
液収容部と、上記処理液収容部内の処理液を上記処理液
供給手段に移送すべく処理液収容部内を加圧する加圧気
体供給手段とを具備する処理液供給装置を前提とし、上
記処理液収容部に、上記処理液供給手段に接続する処理
液送出口を設けると共に、上記加圧気体供給手段に接続
する加圧気体導入口を設け、上記処理液送出口及び加圧
気体導入口に、それぞれ不使用時に開口部を閉塞し、使
用時には開口部を開放する閉塞部材を設けると共に、使
用時に処理液移送管、加圧気体供給管を着脱可能に連結
する取付部を形成してなることを特徴とするものであ
る。

【０００７】この発明において、上記閉塞部材は不使用
時に処理液送出口及び加圧気体導入口を閉塞し、使用時
にはこれら開口部を開放するものであれば、任意のもの
でよく、例えば閉塞部材を、処理液送出口及び加圧気体
導入口の取付部に着脱可能に装着されるキャップ部材に
て形成するか、あるいは、閉塞部材を、弾性力の付勢に
よって常時開口部に設けられた弁座に就座する弁体にて
形成し、処理液移送管及び加圧気体供給管の取付部に、
上記弾性力に抗して上記弁体を開放する開放操作部を設
けることができる。

【０００８】

【作用】上記のように構成されるこの発明の処理液供給
装置によれば、処理液収容部に、処理液供給手段に接続
する処理液送出口を設けると共に、加圧気体供給手段に
接続する加圧気体導入口を設け、処理液送出口及び加圧
気体導入口に、それぞれ不使用時に開口部を閉塞し、使
用時には開口部を開放する閉塞部材を設けると共に、使
用時に処理液移送管、加圧気体供給管を着脱可能に連結
する取付部を形成することにより、使用時に閉塞部材の
開口部の閉塞を解除して、処理液送出口に処理液移送管
を連結すると共に、加圧気体導入口に加圧気体供給管を
連結することができる。そして、この状態で、加圧気体
供給源から加圧気体供給管を介して処理液収容部内に加
圧気体を供給して処理液を加圧し、加圧された処理液を
処理液移送管を介して処理液供給手段に供給し、被処理
体に供給することができる。したがって、処理液収容部
の交換の際に、交換される処理液収容部内に前回使用し
た処理液の付着物等の混入がなく、クリーンな状態で被
処理体に処理液を供給することができる。

【０００９】

【実施例】以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細
に説明する。ここでは、この発明の処理液供給装置を半
導体ウエハの塗布現像装置に使用されるレジスト塗布装
置に適用した場合について説明する。

【００１０】図１はこの発明の処理液供給装置の第一実
施例の概略構成図、図２は処理液供給装置が配置された
半導体ウエハの処理システムの概略斜視図、図３は第一
実施例における処理液収容部の分解断面図が示されてい
る。

【００１１】この発明の処理液供給装置を備えたレジス
ト塗布装置が配置される処理システムは、図２に示すよ
うに、その一側に被処理体である半導体ウエハＷ（以下
にウエハという）を収容する複数のカセット１１を載置
可能に構成したキャリアステーション１０を有し、この
キャリアステーション１０の中央にはウエハＷの搬入・
搬出及びウエハＷの位置決めを行いつつウエハＷを保持
してメインアーム１２との間で受け渡しを行う補助アー
ム１３が設けられている。この場合、メインアーム１２
は、処理システムの中央部にてその長さ方向に移動可能
に２基設けられており、このメインアーム１２の移送路
の両側に各種処理装置が配置されている。

【００１２】上記処理装置としては、キャリアステーシ
ョン１０側の側方には、ウエハＷをブラシ洗浄するため
のブラシ洗浄装置１４及び高圧ジェット水により洗浄を
施すための高圧ジェット洗浄装置１５が並設されると共
に、メインアーム１２の移送路の反対側には、現像装置
１６が２基並設され、その隣には２基の加熱装置１７が
積み重ねて設けられている。

【００１３】また、上記装置１４〜１７の側方には、接
続ユニット１８を介してウエハＷにフォトレジストを塗
布する前にこれを疎水化処理するアドヒージョン装置１
９が設けられ、このアドヒージョン装置１９の下方には
クーリング装置２１が配置されている。このアドヒージ
ョン装置１９とクーリング装置２１の側部には加熱装置
１７が２列で２個ずつ積み重ねるように配置されてい
る。また、メインアーム１２の移送路を挟んでこれら加
熱装置１７やアドヒージョン装置１９等の反対側には、
ウエハＷにフォトレジスト液を塗布するこの発明に係る
レジスト塗布装置２０が２台並設されている。なお、図
示されていないが、これらレジスト塗布装置２０の側部
には、レジスト膜に所定の微細パターンを露光するため
の露光装置等が設けられている。

【００１４】上記のように構成された処理システムに組
み込まれるこの発明のレジスト塗布装置２０は、図１に
示すように、ウエハＷにレジスト液Ｌを塗布するレジス
ト塗布ユニット２２と、このレジスト塗布ユニット２２
にレジスト液収容部２３からレジスト液Ｌを供給するレ
ジスト供給ユニット２４とで主要部が構成されている。

【００１５】上記レジスト塗布ユニット２２は、ウエハ
Ｗを真空チャックにより吸着保持し、かつ駆動モータ２
５により回転可能及び上下動可能なスピンチャック２６
を具備しており、このスピンチャック２６の周辺部に
は、レジスト液塗布時に飛散するレジスト液やサイドリ
ンス時に飛散するリンス液を受け止めるカップ２７が設
けられている。

【００１６】上記カップ２７の底部は、排液を一側に集
めるために傾斜されており、この傾斜端部には排液を排
出するための排液配管２８が接続され、他端部にはカッ
プ２７内の雰囲気を排出するための排気配管２９接続さ
れており、その雰囲気は図示しないミストトラップを経
て排出されるようになっている。また、カップ２７の側
部には、レジスト液塗布後にウエハ周縁部のレジストを
溶解除去するサイドリンス部３０が設けられると共に、
スピンチャック２６を挟んでその反対側にはレジスト液
を供給する処理液供給手段である処理液供給ノズル３１
を待機させるノズル待機部３２とレジスト液のダミー吐
出を行うダミー吐出部３３が並設されている。

【００１７】一方、上記レジスト供給ユニット２４は、
処理液収容部であるレジスト液収容部２３として上端部
が開口されたガラス製容器４０を有しており、その内部
には溶媒により溶解されたレジスト液Ｌが収容されてい
る。そして、図３に示すように、容器４０の開口部４０
ａには溶媒に対して耐食性の大きな材料、例えばフッ素
樹脂製の蓋体４２がシーリング用のフッ素樹脂製のＯリ
ング４１を介してねじ結合されている。

【００１８】この場合、上記蓋体４２の頂部に処理液送
出口４３が設けられ、蓋体４２の側部に加圧気体導入口
４４が設けられており、処理液送出口４３には容器４０
内に延在し、その先端が容器４０の底部付近に達するレ
ジスト液移送チューブ４５が連結されている。また、処
理液送出口４３には取付部である雄ねじ部４６が設けら
れており、この雄ねじ部４６にキャップ部材４７が着脱
可能にねじ結合されると共に、上記処理液供給ノズル３
１に接続する処理液移送管３４の取付部３４ａが着脱可
能にねじ結合されるようになっている。一方、加圧気体
導入口４４には、同軸上に隣接して雄ねじ部４６とカッ
プラ雄部４８が設けられており、雄ねじ部４６にキャッ
プ部材４７ａが着脱可能にねじ結合され、カップラ雄部
４８に加圧気体供給源であるＮ2 ガスボンベ５０に接続
するＮ2 ガス供給管３５のカップラ雌部３６が着脱可能
に嵌合されるようになっている。なお、上記キャップ部
材４７，４７ａ、処理液移送管３４の取付部３４ａ及び
Ｎ2 ガス供給管３５の取付部であるカップラ雌部３６に
はＯリング等のシール部材３７が装着されている。

【００１９】なお、上記実施例では、処理液送出口４３
に雄ねじ部４６を設け、加圧気体導入口４４に雄ねじ部
４６とカップラ雄部４８を設けた場合について説明して
いるが、これら取付部は必ずしもこのような構造である
必要はなく、両取付部を雄又は雌ねじ部にしてもよく、
あるいは両取付部をカップラ雄又は雌部にて形成しても
よく、更にはこれらの組合せ構造としてもよい。

【００２０】上記のように構成されるレジスト液収容部
２３は、不使用時には処理液送出口４３及び加圧気体導
入口４４にそれぞれキャップ部材４７，４７ａが装着さ
れて処理液送出口４３及び加圧気体導入口４４の開口部
が閉塞された状態となっており、使用時すなわちレジス
ト液（容器）の交換時に、キャップ部材４７，４７ａを
取り外した後、処理液送出口４３に処理液移送管３４が
ねじ結合によって接続され、加圧気体導入口４４にＮ2
ガス供給管３５のカップラ雌部３６が嵌合によって接続
される。そして、Ｎ2 ガスボンベ５０から供給されるＮ
2 ガスを加圧気体導入口４４から容器４０内に導入し、
この圧力によって容器内の底迄挿入したレジスト液移送
チューブ４５を介してレジスト液Ｌを圧送し得るように
構成されている。

【００２１】なお、処理液移送管３４には、その途中に
開閉弁３８が介設されると共に、レジスト液を供給側へ
引き戻すためのサックバック部４９が分岐させて接続さ
れている。また、Ｎ2 ガス供給管３５には、フィルタ３
９及び開閉弁３８ａが順次介設されている（図１参
照）。

【００２２】次に、上記のように構成されたレジスト塗
布装置の動作について説明する。まず、被処理体である
ウエハＷはキャリアステーション１０のカセット１１か
ら補助アーム１３を介して搬送されてメインアーム１２
に受け渡され、これをブラシ洗浄装置１４内に搬送す
る、このブラシ洗浄装置１４内にてブラシ洗浄されたウ
エハＷは引き続いて乾燥される。なお、ブラシ洗浄の代
わりに必要に応じて高圧ジェット洗浄装置１５内にて高
圧ジェット水により洗浄される。その後、ウエハＷはア
ドヒージョン装置１９にて疎水化処理され、クーリング
装置２１にて冷却された後、この発明の処理液供給装置
を備えたレジスト塗布装置２０にてレジスト液すなわち
感光膜がウエハＷの表面に塗布形成される。そして、こ
のフォトレジストが加熱装置１７にて加熱されてベーキ
ング処理が施された後、図示しない露光装置にて所定の
回路パターンが露光される。そして、露光されたウエハ
Ｗは、フォトレジスト現像装置１６内に収容され、ここ
で現像液により現像処理された後にリンス液により現像
液を洗い流し、現像処理を完了する。そして、処理済み
のウエハＷはキャリアステーション１０のカセット１１
内に収納された後、搬出されて次の処理工程に向けて移
送される。

【００２３】ここで、上記レジスト塗布装置２０内にお
けるレジスト液Ｌのコーティング工程について説明する
と、まず、メインアーム１２によりウエハＷを上昇した
状態のスピンチャック２６上に載置してこれを吸引保持
し、スピンチャック２６が下降する。次に、コーティン
グ操作を行う場合には、まず、把持アーム（図示せず）
によってノズル待機部３２に位置する処理液供給ノズル
３１を把持移動してダミー吐出部３３に設置し、この状
態でレジスト供給ユニット２４側から処理液移送管３４
を介して一時的にレジスト液Ｌを供給し、処理液供給ノ
ズル３１内に存在する劣化し乾燥気味のレジスト液を吐
出させてダミーディスペンスを行う。

【００２４】上記のようにして、ダミーディスペンス操
作を行った後、処理液供給ノズル３１をウエハＷの中心
部上方に位置させ、この上に所定量のレジスト液を供給
し、ウエハＷを例えば２０００ｒｐｍで高速回転させる
ことによりレジスト液を遠心力で分散させてコーティン
グを施す。

【００２５】一方、上記レジスト供給ユニット２４から
処理液供給ノズル３１へレジスト液を供給する場合に
は、まず、Ｎ2 ガス供給管３５に介設された開閉弁３８
ａと処理液移送管３４に介設された開閉弁３８を開放操
作して、Ｎ2 ガスボンベ５０からＮ2 ガスを加圧気体導
入口４４から容器４０内に導入し、この圧力によって容
器４０内に収容されたレジスト液Ｌを容器底部に挿入さ
れたレジスト液移送チューブ４５、処理液送出口４３及
び処理液移送管３４を介して処理液供給ノズル３１に圧
送することによって行う。そして、コーティング処理を
繰り返して行うことにより容器４０内のレジスト液Ｌが
無くなった場合には、新しいレジスト液収容部２３と交
換するのであるが、この場合、新しい容器４０に装着さ
れた蓋体４２の処理液送出口４３及び加圧気体導入口４
４に装着されているキャップ部材４７，４７ａを取り外
した後、処理液送出口４３の雄ねじ部４６に空になった
容器４０から取り外した処理液移送管３４の取付部３４
ａをねじ結合により接続すると共に、加圧気体導入口４
４のカップラ雄部４８にＮ2 ガス供給管３５のカップラ
雌部３６を嵌合して接続する。したがって、前回使用し
たレジスト液供給チューブに付着したレジスト液が新し
いレジスト液に混入することがないので、クリーンな状
態でレジスト液Ｌの交換を行うことができ、ウエハＷに
おけるパーティクルの付着や汚染の防止を図ることがで
きる。また、使用前のレジスト液収容部２３は、処理液
送出口４３及び加圧気体導入口４４にキャップ部材４７
が装着されているので、レジスト液Ｌを容器４０内に密
封した状態で保管することができ、メンテナンス性を容
易にすることができる。また、蓋体４２自身は容器４０
からは取り外さないので、容器交換時に開口部４０は密
封状態であり、内部のレジスト液が外気と接触すること
はない。したがって、レジスト液が外気のパーティクル
によって汚染されることもない。

【００２６】図４はこの発明の第二実施例におけるレジ
スト液収容部の不使用時の要部拡大断面図、図５はその
使用時の要部拡大断面図が示されている。

【００２７】第二実施例におけるレジスト液収容部２３
は、上記第一実施例における閉塞部材であるキャップ部
材４７，４７ａに代えて閉塞部材を処理液送出口４３及
び加圧気体導入口４４内に内蔵させるようにした場合で
ある。

【００２８】この場合、カップラ雄部４８を設けた処理
液送出口４３及び加圧気体導入口４４（ここでは加圧気
体導入口４４にて代表して説明する）の開口通路５１内
に弁座５２を設け、この弁座５２と容器側端部との間に
開放操作部５３を同軸上に突出する弁体５４を摺動可能
に配設すると共に、弁体５４と容器側端部との間に圧縮
コイルスプリング５５を縮設させて、常時圧縮コイルス
プリング５５の弾性力の付勢によって弁体５４を弁座５
２に就座させるように構成する。一方、Ｎ2 ガス供給管
３５のカップラ雌部３６の開口通路５１内に弁座５２を
設け、この弁座５２とＮ2 ガス供給管側端部との間に開
放操作部５３を同軸上に突出する弁体５４を摺動可能に
配設すると共に、弁体５４とＮ2 ガス供給管側端部との
間に圧縮コイルスプリング５５を縮設させて、常時圧縮
コイルスプリング５５の弾性力の付勢によって弁体５４
を弁座５２に就座させるように構成する。このように構
成することにより、不使用時には、圧縮コイルスプリン
グ５５の弾性力によって加圧気体導入口４４（処理液送
出口４３）の開口部は自動的に閉塞され、使用時に加圧
気体導入口４４のカップラ雄部４８にＮ2 ガス供給管３
５のカップラ雌部３６を嵌合すると、加圧気体導入口側
の弁体５４の開放操作部５３とＮ2 ガス供給管側の弁体
５４の開放操作部５３とが当接係合すると共に、圧縮コ
イルスプリング５５の弾性力に抗して両弁体５４がそれ
ぞれ弁座５２から離隔して、開口部の閉塞状態が解除さ
れる。そして、この状態で、上述のようにＮ2 ガスボン
ベ５０からＮ2 ガスを容器４０内に供給することによっ
て容器４０内のレジスト液Ｌを処理液供給ノズル３１か
らウエハＷに供給することができる。

【００２９】したがって、第二実施例におけるレジスト
液収容部２３によれば、キャップ部材４７ａを取り外す
手間が省け、簡単に処理液送出口４３及び加圧気体導入
口４４に処理液移送管３４及びＮ2 ガス供給管３５を接
続することができる。

【００３０】なお、上記第二実施例においては、加圧気
体導入口４４の開口通路５１とカップラ雌部３６の開口
通路５１に配設される双方の弁体５４に互いに当接係合
する開放操作部５３を設けた場合について説明したが、
必ずしもこのような構造である必要はなく、少なくとも
カップラ雌部３６の開口通路５１内に配設される弁体５
４に開放操作部５３を設けて、加圧気体導入口４４（及
び処理液送出口４３）の開口通路５１内に配設される弁
体５４に当接係合させるようにしてもよい。

【００３１】図６はこの発明の第三実施例におけるレジ
スト液収容部の分解断面図が示されている。第三実施例
におけるレジスト液収容部２３は、処理液送出口４３と
加圧気体導入口４４に同時に処理液移送管３４とＮ2 ガ
ス供給管３５を接続できるようにした場合である。すな
わち、蓋体４２の頂部に処理液送出口４３と加圧気体導
入口４４とを並設すると共に、その外周部に取付部であ
る雄ねじ部４６とカップラ雄部４８を設け、カップラ雄
部４８に着脱可能に嵌合するカップラ雌部３６に処理液
移送管３４とＮ2 ガス供給管３５を一体化して設けた場
合である。なお、取付部の雄ねじ部４６にはキャップ部
材４７が着脱可能にねじ結合される。したがって、第三
実施例のレジスト液収容部２３によれば、処理液移送管
３４とＮ2 ガス供給管３５とを同時に容器４０に接続す
ることができるので、レジスト液の交換作業を容易に行
うことができる。なお、カップラ雌部３６と蓋体４２と
は、処理液移送管３４と処理液排出口４３との当接部分
からＮ2 ガスが浸入しレジスト液中に混入しないように
シーリングしておくことは言うまでもない。

【００３２】図７はこの発明の第四実施例におけるレジ
スト収容部の分解断面図が示されている。第四実施例に
おけるレジスト液収容部２３は、レジスト液量検出機能
を具備させた場合である。すなわち、蓋体４２に一体に
連結されて容器４０の底部まで延在するレジスト液移送
チューブ４５に沿わせて光ファイバー５６を設けると共
に、蓋体４２の外周部に光ファイバー５６のコネクタ５
７を設け、このコネクタ５７に液量検出部５８に接続す
る光ファイバー内蔵チューブ５９を着脱可能にねじ結合
して接続できるようにした場合である。このように構成
することにより、レジスト液収容部２３を交換する際
に、処理液送出口４３及び加圧気体導入口４４に処理液
移送管３４及びＮ2 ガス供給管３５を接続すると共に、
コネクタ５７に光ファイバー内蔵チューブ５９を接続す
れば、レジスト液Ｌの量を液量検出部５８にて検出する
ことができ、レジスト液Ｌが無くなった状態を離れた場
所にて検知することができる。こうすることによって、
従来、容器４０外にセンサーを設けたり、全体の重量を
測定することにより液減少を検出する方法に比べて、よ
り残量が少ない状態でも正確に検知することができる。

【００３３】なお、上記第二実施例ないし第四実施例に
おいて、その他の部分は上記第一実施例と同じであるの
で、同一部分には同一符号を付して、その説明は省略す
る。また、上記実施例では、この発明の処理液供給装置
を半導体ウエハの塗布現像装置に適用した場合について
説明したが、被処理体は必ずしも半導体ウエハである必
要はなく、例えばＬＣＤ用のガラス基板等であってもよ
く、また、塗布現像装置以外の処理液供給装置にも適用
できることは勿論である。例えば、処理液として、現像
液、エッチング液、洗浄液等の供給にも適用可能であ
る。また、上記容器の交換はロボット等を利用して自動
的に交換できる。

【００３４】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明の処理
液供給装置は、上記のように構成されているので、以下
のような効果が得られる。

【００３５】１）請求項１に記載の処理液供給装置によ
れば、使用時に閉塞部材の開口部の閉塞を解除して、処
理液送出口に処理液移送管を連結すると共に、加圧気体
導入口に加圧気体供給管を連結することができるので、
処理液収容部の交換の際に、交換される処理液収容部内
に前回使用した処理液の付着物等の混入がなく、クリー
ンな状態で被処理体に処理液を供給することができ、被
処理体へのパーティクルの付着や汚染を防止することが
できる。

【００３６】２）請求項２に記載の処理液供給装置によ
れば、閉塞部材を、処理液送出口及び加圧気体導入口の
取付部に着脱可能に装着されるキャップ部材にて形成す
るので、処理液収容部の交換時にキャップ部材を取り外
して、処理液移送管及び加圧気体供給管を容易に接続す
ることができ、処理液収容部の交換作業の容易化及びメ
ンテナンス性の向上を図ることができる。

【００３７】３）請求項３記載の処理液供給装置によれ
ば、閉塞部材を、弾性力の付勢によって常時開口部に設
けられた弁座に就座する弁体にて形成し、処理液移送管
及び加圧気体供給管の取付部に、弾性力に抗して弁体を
開放する開放操作部を設けるので、処理液送出口及び加
圧気体導入口の開口と同時に各管を接続することがで
き、更に処理液収容部の交換作業を容易にすることがで
き、処理能率の向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の処理液供給装置の第一実施例の概略
構成図である。

【図２】この発明の処理液供給装置を適用する処理シス
テムを示す斜視図である。

【図３】この発明の第一実施例における処理液収容部の
分解断面図である。

【図４】この発明の第二実施例における処理液収容部の
不使用時の要部拡大断面図である。

【図５】第二実施例における処理液収容部の使用時の要
部拡大断面図である。

【図６】この発明の第三実施例における処理液収容部の
分解断面図である。

【図７】この発明の第四実施例における処理液収容部の
分解断面図である。

【符号の説明】

Ｌ レジスト液（処理液） Ｗ 半導体ウエハ（被処理体） ２３ レジスト液収容部（処理液収容部） ３１ 処理液供給ノズル（処理液供給手段） ３４ 処理液移送管 ３４ａ 取付部 ３５ Ｎ2 ガス供給管（加圧気体供給管） ３６ カップラ雌部（取付部） ４０ 容器 ４２ 蓋体 ４３ 処理液送出口 ４４ 加圧気体導入口 ４６ 雄ねじ部（取付部） ４７ キャップ部材（閉塞部材） ４８ カップラ雄部（取付部） ５０ Ｎ2 ガスボンベ（加圧気体供給源） ５１ 開口通路 ５２ 弁座 ５３ 開放操作部 ５４ 弁体 ５５ 圧縮コイルスプリング

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体に処理液を供給する処理液供給
   手段と、上記処理液を貯留する処理液収容部と、上記処
   理液収容部内の処理液を上記処理液供給手段に移送すべ
   く処理液収容部内を加圧する加圧気体供給手段とを具備
   する処理液供給装置において、 上記処理液収容部に、上記処理液供給手段に接続する処
   理液送出口を設けると共に、上記加圧気体供給手段に接
   続する加圧気体導入口を設け、 上記処理液送出口及び加圧気体導入口に、それぞれ不使
   用時に開口部を閉塞し、使用時には開口部を開放する閉
   塞部材を設けると共に、使用時に処理液移送管、加圧気
   体供給管を着脱可能に連結する取付部を形成してなるこ
   とを特徴とする処理液供給装置。
2. 【請求項２】 閉塞部材を、処理液送出口及び加圧気体
   導入口の取付部に着脱可能に装着されるキャップ部材に
   て形成してなることを特徴とする請求項１記載の処理液
   供給装置。
3. 【請求項３】 閉塞部材を、弾性力の付勢によって常時
   開口部に設けられた弁座に就座する弁体にて形成し、 処理液移送管及び加圧気体供給管の取付部に、上記弾性
   力に抗して上記弁体を開放する開放操作部を設けたこと
   を特徴とする請求項１記載の処理液供給装置。