TWI512123B - 遮罩及具有該遮罩之遮罩組件 - Google Patents
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
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- H10K50/00—Organic light-emitting devices
Description
所述技術通常關於一種遮罩。更特別地，所述技術通常關於一種包含支撐複數個單元遮罩之框架的遮罩組件。
平板顯示器之例子包含有機發光顯示器、液晶顯示器、電漿顯示面板等。為了製造有機發光顯示器，具有特定圖樣的電極、有機發光層等須被形成。用以形成電極及有機發光層等的方法可藉由利用遮罩組件應用於一沉積方法。
更特別地，有機發光顯示器包含多個像素且每個包含有機發光二極體。像素為用以顯示影像之基本單位。像素是在一基板上且以矩陣形式排列。有機發光二極體具有依序所形成之陽極、第一電極與陰極、以及第二電極。有機發光層被包含於陽極和陰極之間。每一像素是由每一層發射光(例如紅、綠、及藍等)。形成有機發光層的有機材料是非常易受濕氣、氧氣等而受損，使得它們應該於形成有機發光層之製程期間及形成有機發光層後徹底與濕氣隔離。因此，難以利用一般為影製程執行圖樣化。就其本身而論，有機發光層和第二電極等利用一遮罩所形成。其遮罩具有用以僅經由對應每一所形成之圖樣的部份使沉積材料穿過之圖樣開口部。
近年來，已經有具條帶形狀的含開口部和複數個單元遮罩的框架之遮罩組件，其兩端對應於開口部固定在框架。本相關領域的遮罩組件藉由在單元遮罩上施加拉應力以固定在框架上。因此，因施加在單元遮罩上的拉應力，形成在單元遮罩中的圖樣化開口部之形狀可能變形。
以上在背景部份中所揭露的資訊僅用以增加認識本揭露技術之背景，因此其可能含有不構成在這個國家之本領域通常知識者已經知道之先前技術的資訊。
根據本發明之態樣，其抑制因施加在單元遮罩及具有單元遮罩的遮罩組件之拉應力而造成形成在單元遮罩中的圖樣化開口部之變形，所述技術已經努力以提供一種遮罩。
根據一例示性實施例，一種遮罩組件包含：含有開口部之框架、以及多個單元遮罩，其設置於開口部上且在朝一方向施加一拉應力之情況下藉由框架支撐每一單元遮罩之兩端，每一單元遮罩包含：朝該方向設置之多個圖樣化開口部、以及一第一凹槽，其設置鄰近於圖樣化開口部且介於圖樣化開口部與單元遮罩之一邊緣之間，並自單元遮罩之一表面壓下所形成。
根據本發明之一態樣，根據施加於鄰近第一凹槽之圖樣化開口部之拉應力的強度，在單元遮罩之表面上第一凹槽可具有一第一形變寬度。
根據本發明之一態樣，第一凹槽在單元遮罩之表面上可為一半圓形狀。
單元遮罩可更包含一第二凹槽，其設置鄰近於圖樣化開口部且介於鄰近的等圖樣化開口部之間，並自單元遮罩之表面壓下所形成。
根據本發明之一態樣，根據施加於鄰近第二凹槽之圖樣化開口部之拉應力的強度，在單元遮罩之表面上第二凹槽可具有一第二形變寬度。
根據本發明之一態樣，第二凹槽在單元遮罩之表面上可具有一半圓形狀或一圓錐形狀。
根據本發明之一態樣，第一凹槽在數目上為複數個，且單元遮罩可更包含一第三凹槽，其設置在鄰近的該等第一凹槽之間且自單元遮罩之表面壓下所形成。
根據本發明之一態樣，第三凹槽可具有一多邊形狀。
根據本發明之一態樣，單元遮罩可更包含一虛擬圖樣，其設置於位在以該方向所設置之複數個圖樣化開口部之最外側的圖樣化開口部與單元遮罩之端點之間。
根據本發明之一態樣，根據施加於鄰近虛擬圖樣之圖樣化開口部之拉應力的強度，在單元遮罩之表面上虛擬圖樣可具有一第三形變寬度。
根據本發明之一態樣，虛擬圖樣可穿透單元遮罩。
根據本發明之一態樣，虛擬圖樣可自單元遮罩之表面壓下所形成。
根據本發明之一態樣，虛擬圖樣可對應於框架。
根據本發明之一態樣，圖樣化開口部可具有一條帶或一點形。
根據另一例示性實施例，一種具有彼此相對之第一端及第二端，並在朝一方向施加拉應力之情況下藉由一框架所支撐之單元遮罩包含：一單元遮罩主體部，其具有沿該方向延伸之一條帶形狀；多個圖樣化開口部，其設置在該方向中；以及一第一凹槽，其設置鄰近於圖樣化開口部且介於圖樣化開口部與單元遮罩主體部之邊緣之間，並自單元遮罩主體部之表面壓下所形成。
根據本發明之一態樣，根據施加於鄰近第一凹槽之圖樣化開口部之拉應力的強度，在單元遮罩主體部之表面上第一凹槽可具有一第一形變寬度。
根據本發明之一態樣，單元遮罩更可包含一第二凹槽，其設置鄰近於圖樣化開口部且介於鄰近的該等圖樣化開口部其中之二之間，並自單元遮罩主體部之表面壓下所形成。
根據本發明之一態樣，根據施加於鄰近第二凹槽之圖樣化開口部之拉應力的強度，在單元遮罩主體部之表面上第二凹槽可具有一第二形變寬度。
根據本發明之一態樣，單元遮罩可更包含一第三凹槽，其設置在鄰近的該等第一凹槽之間且自單元遮罩主體部之表面壓下所形成，其中第一凹槽之數目為複數個。
根據本發明之一態樣，單元遮罩可更包含一虛擬圖樣，其設置於位在複數個圖樣化開口部之最外側的圖樣化開口部與單元遮罩主體部之端點之間。
根據本發明之一態樣，根據施加於鄰近虛擬圖樣之圖樣化開口部的其中之一之拉應力的強度，在單元遮罩主體部之表面上虛擬圖樣可具有一第三形變寬度。
根據本發明之一態樣，圖樣化開口部可具有一條帶或一點形。
根據一實施例，提供一種抑制因施加於單元遮罩之拉應力而造成形成在單元遮罩圖樣化開口部的形變之遮罩、以及具有遮罩的遮罩組件。
本發明之其他態樣及/或優點將被描述於下列敘述中，且在某種程度上，自其敘述將顯而易知、或藉由本發明之實踐可被了解。
100‧‧‧框架
110‧‧‧開口部
120‧‧‧第一支撐部
130‧‧‧對第二支撐部
200、202、203、204、205‧‧‧單元遮罩
200a‧‧‧支撐單元遮罩之兩端
200b‧‧‧單元遮罩之邊緣
200c‧‧‧單元遮罩之表面
210‧‧‧單元遮罩主體部
220‧‧‧圖樣化開口部
221‧‧‧圖樣化開口部之一側
230‧‧‧第一凹槽
240‧‧‧第二凹槽
250‧‧‧第三凹槽
260、264、265‧‧‧虛擬圖樣
11~19‧‧‧比較例之單元遮罩
W1‧‧‧第一形變寬度
W2‧‧‧第二形變寬度
W3‧‧‧第三形變寬度
x‧‧‧第一方向
y‧‧‧第二方向
本專利或申請文件包含至少一以彩色呈現之圖式。具有彩色圖式(多個圖式)之此專利或專利申請公開之附本藉由請求智慧局及支付所需費用而將被提供。自以下實施例之描述連同參閱附圖，本發明之這些及/或其他態樣與優點將變得更為明瞭且更易理解，其中：第1圖係顯示一遮罩組件之一例示性實施例之展開透視圖；第2圖係顯示第1圖之例示性實施例的遮罩組件之平面視圖；第3圖係顯示第1圖例示性實施例之包含在遮罩組件中的單元遮罩之平面視圖；第4圖係為沿第3圖中IV-IV線截面之橫斷面視圖；第5圖係為包含在探針組件中的單元遮罩之一例示性實施例之平面視圖；第6圖係為包含在探針組件中的單元遮罩之一例示性實施例之平
面視圖；第7A圖至第9圖係用以闡明一試驗證實由於分散施加於包含在每一遮罩組件的每一單元遮罩之圖樣化開口部的拉應力，使圖樣化開口部之變形受到抑制之各例示性實施例圖式；第10圖係顯示包含在探針組件中的單元遮罩之一例示性實施例之平面視圖；第11圖係顯示包含在探針組件中的單元遮罩之一例示性實施例之平面視圖；以及第12圖係為第11圖中沿XII-XII線截面之橫斷面視圖。
涉及本發明之本實施例被詳盡地敘述，其範例呈現於附圖中，其中全文中相似的參考符號對照相似之元件。為了解釋本發明，藉由參照圖式在下文中述闡述實施例。
在下文中，遮罩組件之例示性實施例將被描述並參照第1圖至第4圖。第1圖係顯示一遮罩組件之展開透視圖。第2圖係顯示一遮罩組件之平面視圖。如第1圖及第2圖所示，遮罩包含框架100及複數個單元遮罩200。
框架100固定及支撐每一複數個單元遮罩200之兩端，並且包含顯露單元遮罩200之一開口部110。框架100更包含一對第一支撐部120，其沿著一支撐條之延伸方向(即第一方向X)彼此面對，且其間具有開口部110。框架110亦具有一對第二支撐部130，其沿著與第一方向相交的一第二方向y彼此面對，且其間具有開口部110。第二支撐部130藉由例如焊接等之固定方法在第二方向y施加一拉應力於單元遮罩200之情況下支撐單元遮罩200之兩端200a。
在框架100中，第一支撐部120形成具有四邊形狀之框架100的短邊。第二支撐部130形成框架100之長邊。然而，可了解到遮罩組件之框架可具有第一支撐部120及第二支撐部130，使其在其他態樣具有大致相同的長度。再者，遮罩組件之框架之另一實施例可形成一多邊形或圓形形狀。
單元遮罩200係固定於框架100，以便於在拉應力施加於單元遮罩200之情況下藉由框架100支撐。由於因施加在單元遮罩200之拉應力使壓縮力沿著第二方向y(單元遮罩200之延伸方向)被施加於框架100，框架100係由一金屬材料所製成，例如具有很大的鋼性的不鏽鋼等。因此，框架的形變將不會因為施加於單元遮罩200上之拉應力而發生。
單元遮罩200具有沿著第二方向y延伸之條帶形狀。朝第二方向y施加拉應力的情況下藉由支撐於框架100支撐每一單元遮罩200之兩端200a，複數個單元遮罩200係沿著第一方向x設置且被固定於框架100。
在下文中，包含在遮罩組件之單元遮罩200將被描述於第2圖到第4圖。第3圖係顯示包含於遮罩200組件中之單元遮罩的平面視圖。第4圖係係為沿第3圖中IV-IV線截面之橫斷面視圖。
如第3圖及第4圖所示，單元遮罩200包含一單元遮罩主體部210、多個圖樣化開口部220、第一凹槽230、第二凹槽240、第三凹槽250、以及虛擬圖樣260。
單元遮罩主體部210具有沿著第二方向y所延伸之條帶形狀以及係設置於框架100之開口部110上並藉由框架100所支撐。單元遮罩
主體部210沿著第二方向y提供有複數個圖樣化開口部220。
複數個圖樣化開口部220沿著第二方向y設置於單元遮罩200的其中之一中。圖樣化開口部220可對應一個有機發光顯示器。在本例中，形成多個有機發光顯示器之圖樣可被同時地藉由透過單元遮罩200的單一製程形成於母板上，其上的有機發光顯示器將被製造。換句話說，圖樣化開口部220係設置於單元遮罩200上，並對應於形成有機發光顯示器之圖樣的沉積區。圖樣化開口部220具有一通過單元遮罩220穿透之開口圖樣，因此形成有機發光顯示器之圖樣可透過圖樣化開口部220形成在母板上。圖樣化開口部220之形狀具有一條紋形狀，且第一凹槽230係設置鄰近於圖樣化開口部220。
每一第一凹槽230係設置於圖樣化開口部220及單元遮罩200之邊緣200b之間，且自單元遮罩200之表面200c壓下所形成。第一凹槽230係沿著第二方向y設置，並對應於每一沿第二方向y所設置的複數個圖樣化開口部220。第一凹槽230係設置在位於第二方向y之最外側的圖樣化開口部220與單元遮罩200之邊緣200b之間。第一凹槽230係毗鄰於位在第二方向y之最外側的圖樣化開口部220。
在單元遮罩200之表面200c上，第一凹槽230為一半圓形狀。第一凹槽230有半圓形狀，使得單元遮罩200之表面200c上其有一第一形變寬度W1。根據施加於臨近第一凹槽230之圖樣化開口部220之拉應力強度，第一凹槽230之第一變形寬度W1因施加於單元遮罩200之拉應力而變形。如第3圖所示，當圖樣化開口部220有一四邊形形狀在單元遮罩200之表面200c上時，對應圖樣化開口部220
之一側221的第一凹槽230之寬度W1係自對應圖樣化開口部220之一側221中央部之部分到圖樣化開口部220之一側221的外部而逐漸變窄。換言之，圖樣化開口部220之一側221之整個部分中，對應比其他部份施加較強拉應力於一個部分的第一凹槽230之寬度W1係形成以較寬於對應圖樣化開口部220之其他部分之第一凹槽230之寬度W1。在此配置中，根據施加於圖樣化開口部220之拉應力強度，在單元遮罩200之表面200c上第一凹槽具有第一形變W1，藉此分散施加於圖樣化開口部220之拉應力。再者，施加於圖樣化開口部220之拉應力藉由第一凹槽230分散，使得因施加於單元遮罩200之拉應力所導致之圖樣化開口部220之變形可被抑制。
因藉由具有第一形變寬度W1之第一凹槽230分散施加於圖樣化開口部220之拉應力，使圖樣化開口部220之變形受到抑制之事實可透過實驗而證實。此試驗將敘述如下。
在單元遮罩200之第一凹槽230中，圖樣化開口部220之一側221的整個部分中，對應於比其他部分施加較強拉應力之一部分之寬度W1形成以寬於對應於一側221之其他部分之寬度W1。然而，在其他實施例中，在圖樣化開口部220之一側221之整個部分中，對應於比其他部份施加較強拉應力的一部分之寬度W1係形成以窄於對應於一側221之其他部分之寬度W1。
第二凹槽240設置接近於圖樣化開口部220且介於沿著第二方向y所設置之複數個圖樣化開口部220之鄰近圖樣化開口部220間，並自單元遮罩200之表面200c壓下所形成。第二凹槽240在單元遮罩200之表面200c具有一半圓形狀。第二凹槽具有一半圓形狀，藉此在單元遮罩200之表面200c上具有第二形變寬度W2。根據施加
於鄰近第二凹槽240之圖樣化開口部220之拉應力強度，第二凹槽240之形變寬度W2因施加於單元遮罩200之拉應力之變形。如第3圖所示，當圖樣化開口部220在單元遮罩200之表面200c具有四邊形狀時，對應於圖樣化開口部220之一側221的第二凹槽240之寬度W2係自對應於圖樣化開口部220之一側221的中央部之部分向圖樣化開口部220之一側221的外部逐漸變窄。
換句話說，在圖樣化開口部220之一側221的整體部分中，相對於比其他部份施加較強拉應力之部分的第二凹槽240之寬度W2可形成以寬於圖樣化開口部220之其他部份的第二凹槽240之寬度W2。
在此配置中，根據施加於圖樣化開口部220之拉應力強度，第二凹槽240在單元遮罩200的表面200c上具有第二形變寬度，藉此分散施加於圖樣化開口部220之拉應力。
再者，施加於圖樣化開口部220的拉應力藉由第二凹槽240所分散，使得因施加於單元遮罩200之拉應力所導致圖樣化開口部220之變形可被抑制。
因藉由具有第二形變寬度W2的第二凹槽240分散施加於圖樣化開口部220之拉應力，使圖樣化開口部220之變形受到抑制之事實可透過實驗而證實。此試驗將敘述如下。
在單元遮罩200之第二凹槽240中，圖樣化開口部220之一側221的整個部分中，對應於比其他部分施加較強拉應力之一部分之寬度W2形成以寬於對應於一側221之其他部分之寬度W2。然而，在其他實施例中，圖樣化開口部220之一側221之整個部分中，對應於比其他部份被施加於較強拉應力之一部分的寬度W2係形成以窄於
對應於一側221之其他部分之寬度W2。
再者，根據所示之實施例，兩個第二凹槽240位在相鄰一對之圖樣化開口部220之間。然而，根據另一實施例，二或三個第二凹槽240可設置在鄰近圖樣化開口部220之間。
第三凹槽250位在相鄰成對的第一凹槽230間，且自單元遮罩200之表面200c壓下所形成。在單元遮罩200之表面200c上第三凹槽250具有多邊形及/或四邊形。第三凹槽250分散施加於圖樣化開口部220之拉應力，使得因施加於單元遮罩200之拉應力所導致圖樣化開口部220之變形可被抑制。
由於藉由第三凹槽250分散施加於圖樣化開口部220之拉應力，使圖樣化開口部220之變形受到抑制之事實可透過實驗而證實。此試驗將敘述如下。
根據所示之例示性實施例，雖然包含在探針組件的單元遮罩200之第三凹槽250在單元遮罩200之表面具有四邊型狀，根據另一實施例之第三凹槽250可具有四角、圓形或多邊形等，例如五邊形。
再者，根據所示之例示性實施例，第三凹槽250之其中之一設置在鄰近的第一凹槽230之間。然而，根據另一實施例，包含在探針組件中的單元遮罩200之複數個第三凹槽250可設置於鄰近的第一凹槽230之間。
虛擬圖樣260設置於位在朝第二方向y的最外側之圖樣化開口部220與單元遮罩200之一端200a之間。虛擬圖樣260可執行因施加於單元遮罩200之拉應力使得圖樣化開口部220被施加其拉應力的
分散作用。
虛擬圖樣260分散施加於圖樣化開口部220之拉應力，藉此抑制因施加於單元遮罩200之拉應力所造成的圖樣化開口部220之變形。虛擬圖樣260設置在單元遮罩主體部210上並對應於框架100的位置。如上所述，虛擬圖樣260設置在框架上，以避免沉積材料利用探針組件在沉積程序期間透過虛擬圖案260沉積在母板上。虛擬圖樣260具有類似圖樣化開口部220之條帶形狀。
由於藉由虛擬圖樣260分散施加於圖樣化開口部220之拉應力，使圖樣化開口部220之變形受到抑制之事實可透過實驗而證實。此試驗將敘述如下。
在此配置中，單元遮罩200包含第一凹槽230、第二凹槽240、第三凹槽250及虛擬圖樣260，其分散施加於圖樣化開口部220之拉應力，藉此抑制因施加於單元遮罩200之拉應力而造成的圖樣化開口部220之變形。
在下文中，根據一例示性實施例，包含在探針組件的單元遮罩202將被描述並參照第5圖。第5圖係顯示單元遮罩202之平面視圖。
如第5圖所示，單元遮罩202包含單元遮罩主體部210、圖樣化開口部220、第一凹槽230、第二凹槽240、第三凹槽250、以及虛擬圖樣260。在沿著第二方向y設置的複數個圖樣化開口部220中，第二凹槽240設置接近於圖樣化開口部220並介於鄰近的圖樣化開口部220之間，且自單元遮罩202之表面200c壓下所形成。
第二凹槽240在單元遮罩202之表面200c上具有一圓錐形狀。特別
地，第二凹槽240具有圓錐形狀，使得其在單元遮罩202之表面200c上具有第二形變寬度W2。根據施加於鄰近第二凹槽240之圖樣化開口部220之拉應力強度，第二凹槽240之形變寬度W2因施加於單元遮罩200之拉應力而變形。如第5圖所示，當圖樣化開口部220在單元遮罩202之表面200c具有四邊形狀時，對應於圖樣化開口部220之一側221的第二凹槽240之寬度W2係自對應於圖樣化開口部220之一側221的中央部之部分向圖樣化開口部220之一側221的外部逐漸變寬。換句話說，在圖樣化開口部220之一側221的整體部分中，相對於比其他部份施加較強拉應力之部分的第二凹槽240之寬度W2可形成以寬於對應圖樣化開口部220之其他部份的第二凹槽240之寬度W2。在此配置中，根據施加於圖樣化開口部220之拉應力強度，第二凹槽240在單元遮罩202之表面200c上具有第二形變寬度W2，藉此分散施加於圖樣化開口部220之拉應力。
再者，施加於圖樣化開口部220之拉應力藉由第二凹槽240所分散，使得因施加於單元遮罩202之拉應力所導致圖樣化開口部220之變形可被抑制。根據第二例示性實施例，包含在遮罩組件中的圖樣化開口部220之單元遮罩202與虛擬圖樣260之形狀具有一點形。
根據第1到5圖所示之例示性實施例，包含在遮罩組件中的單元遮罩200、202及虛擬圖樣260並無限制如所示的條帶或點形。因此，其他實施例的包含在遮罩組件中之單元遮罩及虛擬圖樣可具有多種形式。
由於藉由第一凹槽230、第三凹槽250、虛擬圖樣260及具有第二形變寬度W2的第二凹槽240分散施加於圖樣化開口部220之拉應力
，使圖樣化開口部220之變形受到抑制之事實可透過實驗而證實。此試驗將敘述如下。
在此配置中，單元遮罩202包含第一凹槽230、第二凹槽240、第三凹槽250、以及虛擬圖樣260，其分散施加於圖樣化開口部220之拉應力，藉此抑制因施加於單元遮罩202之拉應力所導致圖樣化開口部220之變形。
在下文中，包含在探針組件中之單元遮罩203之一例示性實施例將被敘述並參照第6圖。
如第6圖所示，單元遮罩203包含單元遮罩主體部210、圖樣化開口部220、第一凹槽230、以及虛擬圖樣260。
換句話說，單元遮罩203僅包含第一凹槽230，其並不含有在上述第1至5圖所示之實施例的包含在單元遮罩200、202中之第二凹槽240及第三凹槽250。
在第6圖所示之配置中，因藉由第一凹槽230及虛擬圖樣260分散施加於圖樣化開口部220之拉應力使圖樣化開口部220之變形受到抑制之事實可透過實驗而證實。此試驗將敘述如下。
在第6圖所示之配置中，單元遮罩203包含第一凹槽230及虛擬圖樣260，其分散施加於圖樣化開口部220之拉應力，藉此抑制因施加於單元遮罩202之拉應力所導致圖樣化開口部220之變形。
在下文中，根據各第一、第二及第三實施例，證實因施加於包含在每一遮罩組件之每一單元遮罩200、202及203之圖樣化開口部220的拉應力分散，使圖樣化開口部220之變形受到抑制的試驗將被敘述並參照第7A至9圖。
第7A至9圖用以闡明試驗證實圖樣化開口部由於分散施加於包含在每一遮罩組件的每一單元遮罩之圖樣化開口部的拉應力，使圖樣化開口部之變形受到抑制之各例示性實施例圖式。
首先，根據第1至6所示之每一實施例，第7A圖係顯示包含在每一遮罩組件單元遮罩200、202及203之平面視圖。第7A圖亦顯示比較例1至9之單元遮罩11至19。如圖所示，單元遮罩11並不包含虛擬圖樣或任何第一至第三凹槽；單位遮罩12具有虛擬圖樣但無任何的第一至第三凹槽；單位遮罩13在一側邊具有單一個第一凹槽，但並無虛擬圖樣或第二及第三凹槽；單位遮罩14在一側邊具有單個第一凹槽及虛擬圖樣，但並無第二及第三凹槽；單元遮罩15在一側邊具有單一個第一凹槽、虛擬圖樣及第二與第三凹槽；單元遮罩16在一側邊具有單一個第一凹槽、虛擬圖樣及第二與第三凹槽，且在除了第一凹槽之其他邊上可為突起區域；單元遮罩17在一側邊具有單一個第一凹槽、虛擬圖樣與第三凹槽，且除了第一凹槽在其他邊上可為突起區域；單元遮罩18在一側邊具有單一個第一凹槽、虛擬圖樣、且除了第一凹槽在其他邊上可為突起區域，但並無第二或第三凹槽；以及單元遮罩19在一側邊具有單一個第一凹槽、虛擬圖樣與第三凹槽，但並無第二凹槽。
第7B圖為在相同拉應力施加於在第7A圖所示之每一單元遮罩，當單元遮罩藉由相同框架所支撐時，測量包含在每一單元遮罩中的圖樣化開口部之形變值的圖式。
在第7B圖所示之圖式中，x軸表示顯示圖樣化開口部之已測量形變值的圖式之高度差異，而y軸表示圖樣化開口部的形變值。
如第7B圖所示，根據每一比較例1至9，當相同的拉應力施加於每一單元遮罩11至19時，包含在單元遮罩11至19每一圖樣化開口部呈現2.3μm(微米)到5.4μm的高度差異。另一方面，根據第1至4圖所示之實施例，當拉應力施加於單元遮罩200時，單元遮罩200之圖樣化開口部220之形變值呈現1.6μm之高度差異。
換句話說，因施加於圖樣化開口部220之拉應力的分散，單元遮罩200比每一比較例1至9之單元遮罩11至19有較佳抑制圖樣化開口部220之變形的事實已被證實。
再者，當相同拉應力施加於每一單元遮罩11至19時，比較例1至9所包含之單元遮罩11至19的每一圖樣化開口部之形變值呈現2.3μm到5.4μm的高度差異。在另一方面，當拉應力施加於單元遮罩202時，第5圖之單元遮罩202的圖樣化開口部220之形變值呈現1.6μm高度差異。換句話說，因施加於圖樣化開口部220之拉應力的分散，單元遮罩202比每一比較例1至9之單元遮罩11至19有較佳抑制圖樣化開口部220之變形的事實已被證實。
再者，當相同拉應力施加於每一單元遮罩11至19時，包含在每一比較例1至9之單元遮罩11至19的每一圖樣化開口部之形變值呈現2.3μm到5.4μm的高度差異。在另一方面，當拉應力施加於單元遮罩203時，第6圖之單元遮罩203的圖樣化開口部220之形變值呈現1.7μm高度差異。
換句話說，因施加於圖樣化開口部220之拉應力的分散，單元遮罩203比每一比較例1至9之單元遮罩11至19有較佳抑制圖樣化開口部220之變形的事實已被證實。
其次，第8圖係為在相同拉應力施加的情況下，當包含在第1至6圖的實施例之每一遮罩組件單元遮罩200、202及203與每一比較例1至9之單元遮罩11至19藉由相同框架所支撐時，測量每一單元遮罩之每個位置的形變值之圖式。在第8圖所示的圖式中，x軸表示每一單元遮罩之位置(單元遮罩之長度設為200mm)，而y軸表示每一單元遮罩的形變值。
如第8圖所示，當相同拉應力施加於每一單元遮罩11至19時，比較例1至9之每一單元遮罩11至19的每個位置之形變值大於每一單元遮罩200、202及203之每個位置的形變值之事實已被證實。
換句話說，每一單元遮罩200、202及203之每個位置的形變值小於比較例1至9之每一單元遮罩11至19的每個位置之形變值之事實已被證實，使得施加於每一圖樣化開口部220之拉應力被分散，因此每一圖樣化開口部220之變形可被抑制。
其次，第9圖係顯示在施加相同拉應力的情況下，當每一單元遮罩200、202及203及每一比較例1至9之每一單元遮罩11至19藉由相同框架所支撐時，施加於包含在每一單元遮罩之圖樣化開口部的壓力之圖式。第9圖顯示利用購自Dassault Systemes Co.之SIMULIA結構及ABAQUS、電與熱分析工具之模擬實驗所得到之結果。第9圖所顯示之顏色從紅色到藍色表示拉應力之強度較強。
如第9圖所示，可確認當相同拉應力施加於每一單元遮罩11至19時，包含在每一比較例1至9之每一單完遮罩11至19的每一圖樣化開口部顯示藍色。另一方面，可確認包含在每一單元遮罩200、202及203之每一圖樣化開口部220的側邊並無顯示藍色。換言之
，其可確認施加於包含在第一、第二及第三實施例之遮罩組件中且包含在每一單元遮罩200、202及203中的每一圖樣化開口部220之壓力少於每一比較例1至9之每一單元遮罩11至19之圖樣化開口部。
換言之，可確認施加於包含在單元遮罩200、202及203之每一圖樣化開口部220的拉應力被分散，因此每一圖樣化開口部220之變形被抑制。自上述試驗可確認，施加於包含在每一實施例的每一單元遮罩200、202及203中之每一圖樣化開口部220之拉應力被分散，因此每一圖樣化開口部220之變形被抑制。
包含在另一實施例之探針組件的單元遮罩204將被敘述並參照第10圖。如第10圖所示，單元遮罩204包含單元遮罩主體210、圖樣化開口部220、第一凹槽230、第二凹槽240、第三凹槽250及虛擬圖樣264。
依據施加於鄰近虛擬圖樣264之圖樣化開口部220的拉應力強度，虛擬圖樣264在單元遮罩204之表面200c上具有第三形變寬度W3。
虛擬圖樣264設置於在外側的圖樣化開口部220與單元遮罩204之一端200a之間，且形成以穿透通過單元遮罩204。所顯示之虛擬圖樣264在單元遮罩204之表面200c上具有橢圓形，使其在單元遮罩204之表面200c上具有第三形變寬度W3。根據施加於鄰近虛擬圖樣264之圖樣化開口部220的拉應力強度，虛擬圖樣264之第三形變寬度W3因施加於單位遮罩204之拉應力而變形。如第5圖所示，當圖樣化開口部220在單元遮罩204之表面200c上具有四邊形時，對應於圖樣化開口部220之一側221的虛擬圖樣264之寬度W3自
對應於圖樣化開口部220之一側的中央部的部份向圖樣化開口部220之一側221的外部逐漸變窄。
換句話說，在圖樣化開口部220之一側221的整個部分中，對應比其他部份施加較強拉應力於一個部分的虛擬圖樣264之寬度W3係形成以較寬於對應圖樣化開口部220之其他部分之虛擬圖樣264之寬度W3。
在此配置中，根據施加於圖樣化開口部220之拉應力強度，在單元遮罩204之表面200c上虛擬圖樣264具有第三形變W3，藉此分散施加於圖樣化開口部220之拉應力。再者，施加於圖樣化開口部220之拉應力藉由虛擬圖樣264分散，使得因施加於單元遮罩204之拉應力所導致圖樣化開口部220之變形可被抑制。再者，施加於圖樣化開口部220之拉應力藉由虛擬圖樣264分散，使得因施加於單元遮罩204之拉應力所導致圖樣化開口部220之變形受到抑制。
在單元遮罩204之虛擬圖樣264中，再圖樣化開口部220之一側221的整個部份中，對應於比其他部分施加較強拉應力於一部份之寬度W3形成以寬於對應一側221之其他部分之寬度W3。然而，在包含在其他實施例之探針組件中的單元遮罩之虛擬圖樣264中，在圖樣化開口部220之一側221的整個部分內，對應比其他部份施加較強拉應力於一個部分之寬度W3係形成以較窄於對應一側221之其他部分之寬度W3。
包含在一實施例之探針組件中的單元遮罩205將被描述並參照第11及第12圖。第12圖係為第11圖中沿XII-XII線截面之橫斷面視
圖。
如第11圖及第12圖所示，單元遮罩205包含單元遮罩主體部210、圖樣化開口部220、第一凹槽230、第二凹槽240、第三凹槽250及虛擬圖樣265。根據施加鄰近於虛擬圖樣265之圖樣化開口部220的拉應力強度，虛擬圖樣265在單元遮罩205之表面200c上具有第三形變寬度W3。
虛擬圖樣265設置在最外側圖樣化開口部220及單元遮罩205之一端200a之間，且自單元遮罩205之表面壓下所形成。虛擬圖樣265在單元遮罩205之表面200c上具有橢圓形，使其在單元遮罩205之表面200c上具有第三形變寬度W3。
根據施加於鄰近虛擬圖樣265之圖樣化開口部220的拉應力強度，因施加於單元遮罩205之拉應力而導致虛擬圖樣265之第三形變寬度W3變形。如第11圖所示，當圖樣化開口部220在單元遮罩205之表面200c上具有四邊形時，對應於圖樣化開口部220之一側221的虛擬圖樣265之寬度W3係自對應於圖樣化開口部220之一側的中央部之部份至圖樣化開口部220之一側221之外部逐漸變窄。
換言之，在圖樣化開口部220之一側221的整個部分，對應於比其他部份施加於較強拉應力的一部份之虛擬圖樣265的寬度W3形成以較寬於對應於圖樣化開口部220之其他部份的虛擬圖樣265之寬度W3。
在此配置中，根據施加於圖樣化開口部220之拉應力強度，虛擬圖樣265在單元遮罩205之表面200c上具有第三形變寬度W3，藉此分散施加於圖樣化開口部220之拉應力。
再者，施加於圖樣化開口部220之拉應力藉由虛擬圖樣265而分散，使得因施加於單元遮罩205之拉應力而導致圖樣化開口部220之變形受到抑制。
在單元遮罩205之虛擬圖樣265中，在圖樣化開口部220之一側221的整個部份中對應於比其他部份施加於較強拉應力的一部份之寬度W3形成以寬於對應於一側221之其他部分的寬度W3。然而，在其他實施例中，在圖樣化開口部220之一側221的整個部分中對應比其他部份施加於較強拉應力之一部分的寬度W3可被形成以窄於對應一側221之其他部分的寬度W3。
雖然本發明之一些實施例已經顯示且闡明，藉由那些本領域具有通常知識者可被理解，在此實施例中變化可被實施且沒有背離本發明之目的與精神，其範疇已定義在申請專利範圍與其等效範圍中。
100‧‧‧框架
110‧‧‧開口部
120‧‧‧第一支撐部
130‧‧‧對第二支撐部
200‧‧‧單元遮罩
200a‧‧‧支撐單元遮罩之兩端
Claims (23)
- 一種遮罩組件，其包含：一框架，其包含一開口部；以及多個單元遮罩，其設置於該開口部上且在朝一方向施加一拉應力之情況下藉由該框架支撐每一該單元遮罩之兩端，每一該單元遮罩包含：多個圖樣化開口部，其朝該方向設置；以及一第一凹槽，其設置鄰近於該圖樣化開口部且介於該圖樣化開口部與該單元遮罩之一邊緣之間，並自該單元遮罩之一表面壓下所形成。
- 如申請專利範圍第1項所述之遮罩組件，其中根據施加於鄰近該第一凹槽之該圖樣化開口部之該拉應力的強度，在該單元遮罩之該表面上該第一凹槽具有一第一形變寬度。
- 如申請專利範圍第2項所述之遮罩組件，其中該第一凹槽在該單元遮罩之該表面上具有一半圓形狀。
- 如申請專利範圍第2項所述之遮罩組件，其中該單元遮罩更包含一第二凹槽，其設置鄰近於該圖樣化開口部且介於鄰近的該等圖樣化開口部之間，並自該單元遮罩之該表面壓下所形成。
- 如申請專利範圍第4項所述之遮罩組件，其中根據施加於鄰近該第二凹槽之該圖樣化開口部之該拉應力的強度，在該單元遮罩之該表面上該第二凹槽具有一第二形變寬度。
- 如申請專利範圍第5項所述之遮罩組件，其中該第二凹槽在該單 元遮罩之該表面上具有一半圓形狀或一圓錐形狀。
- 如申請專利範圍第4項所述之遮罩組件，其中該第一凹槽在數目上為複數個，且其中該單元遮罩更包含一第三凹槽，其設置在鄰近的該等第一凹槽之間且自該單元遮罩之該表面壓下所形成。
- 如申請專利範圍第7項所述之遮罩組件，其中該第三凹槽具有一多邊形狀。
- 如申請專利範圍第4項所述之遮罩組件，其中該單元遮罩更包含一虛擬圖樣，其設置在位在以該方向所設置之該複數個圖樣化開口部之最外側的該圖樣化開口部與該單元遮罩之端點之間。
- 如申請專利範圍第9項所述之遮罩組件，其中根據施加於鄰近該虛擬圖樣之該圖樣化開口部之該拉應力的強度，在該單元遮罩之該表面上該虛擬圖樣具有一第三形變寬度。
- 如申請專利範圍第9項所述之遮罩組件，其中該虛擬圖樣穿透該單元遮罩。
- 如申請專利範圍第9項所述之遮罩組件，其中該虛擬圖樣係自該單元遮罩之該表面壓下所形成。
- 如申請專利範圍第9項所述之遮罩組件，其中該虛擬圖樣對應於該框架。
- 如申請專利範圍第1項所述之遮罩組件，其中該圖樣化開口部係為一條帶或一點形。
- 一種具有彼此相對之第一端及第二端之單元遮罩，其在朝一方向施加一拉應力之情況下藉由一框架所支撐，該單元遮罩包含：一單元遮罩主體部，其具有沿該方向延伸之一條帶形狀；多個圖樣化開口部，其設置在該方向中；以及一第一凹槽，其設置鄰近於該圖樣化開口部且介於該圖樣化開 口部與該單元遮罩主體部之一邊緣之間，並自該單元遮罩主體部之一表面壓下所形成。
- 如申請專利範圍第15項所述之單元遮罩，其中根據施加於鄰近該第一凹槽之該圖樣化開口部之該拉應力的強度，在該單元遮罩主體部之該表面上該第一凹槽具有一第一形變寬度。
- 如申請專利範圍第16項所述之單元遮罩，其更包含一第二凹槽，其設置鄰近於該圖樣化開口部且介於鄰近的該等圖樣化開口部其中之二之間，並自該單元遮罩主體部之該表面壓下所形成。
- 如申請專利範圍第17項所述之單元遮罩，其中根據施加於鄰近該第二凹槽之該圖樣化開口部之該拉應力的強度，在該單元遮罩主體部之該表面上該第二凹槽具有一第二形變寬度。
- 如申請專利範圍第18項所述之單元遮罩，其更包含一第三凹槽，其設置在鄰近的該等第一凹槽之間且自該單元遮罩主體部之該表面壓下所形成。
- 如申請專利範圍第19項所述之單元遮罩，其更包含一虛擬圖樣，其設置於位在該複數個圖樣化開口部之最外側的該圖樣化開口部與該單元遮罩主體部之端點之間。
- 如申請專利範圍第20項所述之單元遮罩，其中根據施加於鄰近該虛擬圖樣之該圖樣化開口部的其中之一之該拉應力的強度，在該單元遮罩主體部之該表面上該虛擬圖樣具有一第三形變寬度。
- 如申請專利範圍第15項所述之單元遮罩，其中該圖樣化開口部係為一條帶或一點形。
- 一種製造顯示裝置之方法，該顯示裝置包含一基材、多個像素及一有機發光單元，該方法包含：圖樣化該基材； 在該基材上形成一圖樣，用以利用一遮罩組件使用在該顯示裝置中，該遮罩組件包含：一框架，其包含一開口部；以及多個單元遮罩，其設置於該開口部上且在朝一方向施加一拉應力之情況下藉由該框架支撐每一該單元遮罩之兩端，每一該單元遮罩包含：多個圖樣化開口部，其朝該方向設置；以及一第一凹槽，其設置鄰近於該圖樣化開口部且介於該圖樣化開口部與該單元遮罩之一邊緣之間，並自該單元遮罩之一表面壓下所形成。
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