TWI472631B - 遮罩條 - Google Patents

Description

遮罩條

本發明是有關於一種遮罩條與一種遮罩的製造方法。

在現行圖案化製程中，常藉由多條遮罩條所組成的遮罩搭配鍍膜製程來形成圖案化膜層。遮罩是金屬薄板藉由蝕刻的方式製作出多條細長的金屬線，其中多條金屬線之間的空隙可作為鍍膜製程時的開口區。

由於金屬線相當細長，易扭曲變形，因此在遮罩條的兩側設置有拉伸區。在將遮罩條固定至框架上以構成遮罩時，於拉伸區處施以預張力，使金屬線橫向繃緊。藉此，讓金屬線維持直線而使開口區維持正確的形狀與位置，並得以對抗鍍膜時溫度所造成的膨脹量，還有抵抗遮罩與欲鍍膜之基板的重量所造成的彎曲變形。

然而，在施予預張力時，現行設計之拉伸區靠近施力點的位置在力量轉換以及受力形變方面的自由度不夠高。因此靠近拉伸區的開口區易呈現波浪狀的皺褶形變，使遮罩條無法服貼於欲鍍膜之基板上，造成開口區的位置偏移、鍍膜厚度不均以及欲鍍膜位置走位等問題發生。另一方面，為避免增加預張力會造成皺褶形變之狀況加劇，或是造成皺褶形變之影響範圍向內擴張，需限制預張力的大小。然，此舉常造成預張力不足的情況發生。在預張力不足的情況下，由於遮罩條不夠穩固，無法抵擋欲鍍膜之基板的重量以及鍍膜時所累積的膜層的重量所造成的彎曲變形，且在清洗時易鬆脫變形，因此常造成遮罩的使用率以及壽命大幅地降低。

本發明提供一種遮罩條，其可提供良好的鍍膜品質且具有良好的使用率以及壽命。

本發明提供一種遮罩條，用以被固定於一框架上而構成一遮罩，具有兩個拉伸區與一圖案區，其中遮罩條被固定於框架後，圖案區位於框架內，拉伸區位於框架外，且各拉伸區遠離圖案區的一側具有一V型切口。

在本發明之一實施例中，前述之各拉伸區在V型切口的端點與圖案區之間具有多個挖空區。

在本發明之一實施例中，前述之各挖空區呈長條狀，且挖空區彼此平行排列。

在本發明之一實施例中，前述之各挖空區呈三角形。

在本發明之一實施例中，前述之挖空區沿著平行於圖案區與拉伸區的邊界的方向排成多列。

在本發明之一實施例中，前述之挖空區中位於同一列者的大小相同。

在本發明之一實施例中，前述之挖空區的大小隨著與圖案區的距離縮短而遞減。

在本發明之一實施例中，前述之各挖空區的一角指向圖案區。

本發明另提供一種遮罩條，用以被固定於一框架上而構成一遮罩，具有兩個拉伸區與一圖案區，其中遮罩條被固定於框架後，圖案區位於框架內，拉伸區位於框架外，各拉伸區具有多個挖空區。

在本發明之一實施例中，前述之各拉伸區遠離圖案區的一側具有一切口。

在本發明之一實施例中，前述之各挖空區呈長條狀，且挖空區彼此平行排列。

在本發明之一實施例中，前述之各挖空區呈三角形。

在本發明之一實施例中，前述之挖空區沿著平行於圖案區與拉伸區的邊界的方向排成多列。

在本發明之一實施例中，前述之挖空區中位於同一列者的大小相同。

在本發明之一實施例中，前述之挖空區的大小隨著與圖案區的距離縮短而遞減。

在本發明之一實施例中，前述之挖空區的一角指向圖案區。

基於上述，本提案之遮罩條可藉由在拉伸區提供一V型切口及/或多個挖空區，均勻地分散預張力，使拉伸區靠近施力點的位置在力量轉換以及受力形變的自由度得以提升。因此，靠近拉伸區的開口區可保持良好的平整度而得以服貼於欲鍍膜之基板上，進而提升製程良率。

為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

圖1為本發明一實施例之遮罩條的上視示意圖。圖2為圖1中之拉伸區的上視示意圖。

請同時參照圖1與圖2，本實施例之遮罩條110，用以被固定於一框架120上而構成一遮罩100。在本實施例中，遮罩條110例如是藉由焊接、鎖固或其他方式被固定於框架120上。另外，遮罩100所包括的遮罩條110數量可大於1。換言之，通常一個遮罩100是由被固定在一個框架120上的多個遮罩條110所構成，以便於進行大面積的蒸鍍或其他製程。

遮罩條110具有兩個拉伸區A1與一圖案區A2。在遮罩條110被固定於框架120後，圖案區A2位於框架120內，拉伸區A1位於框架120外。而在遮罩條110被固定於框架120後，即可將拉伸區A1移除，以利蒸鍍或其他製程的進行。在本實施例中，遮罩條110的製作方法例如是將金屬薄板藉由蝕刻的方式在圖案區A2製作出多個重複的圖案，其中各圖案包括多條細長的金屬線112，而各金屬線112之間的空隙114在圖案化製程中，可作為鍍膜製程時的開口區。舉例而言，各金屬線112之間的空隙114可作為有機發光二極體(Organic Light Emitting Diode,OLED)蒸鍍製程時欲形成圖案化膜層之開口區，例如用於形成OLED中各個畫素區的有機發光材料層。於蒸鍍製程中，將遮罩100放置在蒸鍍材料源與目標基板之間，並使各空隙114對應各畫素區。在蒸鍍完成後，蒸鍍材料源的材料只會沈積在各畫素區中而不會超出範圍。因此，藉由調變空隙114的尺寸、形狀以及位置可控制蒸鍍製程時欲沈積材料的區域的尺寸、形狀以及位置。當然，遮罩條110以及遮罩100之用途不限於此，而空隙114也不限定於對應畫素區。

在實務上，由於各金屬線112相當細長，易扭曲變形，因此藉由在拉伸區A1處施以預張力F，使金屬線橫向繃緊，並固定於框架120上，可避免於鍍膜製程時欲鍍膜位置走位，並提供足以承載鍍膜時溫度所造成的膨脹量以及遮罩與欲鍍膜之基板的重量所造成的彎曲變形。

本實施例之遮罩條110在各拉伸區A1遠離圖案區A2的一側具有一V型切口V，縮小預張力F之施力點的面積，進而使施力較為集中。此外，藉由增加V型切口V的深度，提高V型切口V週遭受力形變的自由度，本實施例之遮罩條110可更均勻地分散預張力。具體而言，將集中於施力點的應力分散至一整面拉伸區A1。因此，本實施例之遮罩條110可降低因應力集中所造成之波浪狀的皺褶形變。

另外，本實施例之遮罩條110更可選擇性地在V型切口V的端點X與圖案區A2之間提供多個挖空區A3。在本實施例中，各挖空區A3呈彼此平行排列之長條狀，且挖空區A3例如是沿著平行於圖案區A2與拉伸區A1之邊界的方向排成一列。

值得一提的是，本實施例之遮罩條110藉由提供多個挖空區A3，可讓預張力更平均地傳進圖案區A2。因此，均勻傳遞的預張力可使圖案區A2保持平整。另外，由於本實施例之遮罩條110具有良好的力量轉換以及受力形變的自由度，因此可進一步承受更大的預張力F。本實施例之遮罩條110可提供較大的承載力，足以支撐欲鍍膜之基板的重量以及鍍膜時所累積的膜層的重量。另外，在清洗時也較不易鬆脫變形。因此，本實施例之遮罩條110所製成的遮罩具有良好的使用率以及壽命。

當然，本提案之遮罩條除了可為上述型態外，亦可有其他型態，以下將搭配圖3另舉一實施例作說明。圖3為本發明另一實施例之遮罩條的上視示意圖。

請參照圖3，本實施例之遮罩條210與遮罩條110具有相似的型態，惟二者差異處在於拉伸區A1的型態。本實施例之遮罩條210在拉伸區A2處具有多個挖空區A4。在本實施例中，各挖空區A4例如是呈三角形，而各挖空區的一角指向圖案區A2。此外，挖空區A4沿著平行於圖案區A2與拉伸區A1的邊界的方向排成多列，且位於同一列者的大小相同，其中挖空區A4的大小隨著與圖案區的距離縮短而遞減。與前一實施例相似，本實施例之遮罩條210所製成的遮罩具有良好的使用率以及壽命。

當然，本實施例之遮罩條210在各拉伸區A1遠離圖案區A2的一側亦可選擇性的配置有一切口U。藉由增加切口U的深度，可提高切口U週遭受力形變的自由度。因此，本實施例之遮罩條210可更均勻地分散預張力，並進一步地降低因應力集中所造成之波浪狀的皺褶形變。

綜上所述，本提案之遮罩條是在拉伸區提供V型切口及/或多個挖空區，均勻地分散預張力，使拉伸區靠近施力點的位置在力量轉換以及受力形變的自由度等方面得以提升。藉此，改善習知技術於開口區因受力不均所產生之波浪狀的皺褶形變，進而確保本實施例的遮罩條平整地服貼於欲鍍膜之基板上，減緩開口區的位置偏移、鍍膜厚度不均以及鍍膜位置走位等問題的發生。另外，本提案之遮罩條在力量轉換以及受力形變的自由度得以提升的情況下，可進一步提升預張力，改善習知技術欲避免皺褶形變所造成預張力不足的情況。因此，本提案之遮罩條可較為穩固地固定於框架上，並具有足夠的承載力去承載欲鍍膜之基板的重量以及鍍膜時所累積的膜層的重量。是以，本提案之遮罩條所組成的遮罩具有良好的使用率以及壽命。

雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100．．．遮罩

110、210．．．遮罩條

112．．．金屬線

114．．．開口區

120．．．框架

A1．．．拉伸區

A2．．．圖案區

A3、A4．．．挖空區

F．．．預張力

V．．．V型切口

X．．．端點

U．．．切口

圖1為本發明一實施例之遮罩條的上視示意圖。

圖2為圖1中之拉伸區的上視示意圖。

圖3為本發明另一實施例之遮罩條的上視示意圖。

100．．．遮罩

110．．．遮罩條

112．．．金屬線

114．．．空隙

120．．．框架

A1．．．拉伸區

A2．．．圖案區

A3．．．挖空區

F．．．預張力

V．．．V型切口

X．．．端點

Claims (11)

1. 一種遮罩條，用以被固定於一框架上而構成一遮罩，具有兩個拉伸區與一圖案區，其中該遮罩條被固定於該框架後，該圖案區位於該框架內，該些拉伸區位於該框架外，各該拉伸區遠離該圖案區的一側具有一V型切口，各該拉伸區在該V型切口的端點與該圖案區之間具有多個挖空區，且各該挖空區呈三角形。
2. 如申請專利範圍第1項所述之遮罩條，其中該些挖空區沿著平行於該圖案區與該些拉伸區的邊界的方向排成多列。
3. 如申請專利範圍第2項所述之遮罩條，其中該些挖空區中位於同一列者的大小相同。
4. 如申請專利範圍第3項所述之遮罩條，其中該些挖空區的大小隨著與該圖案區的距離縮短而遞減。
5. 如申請專利範圍第1項所述之遮罩條，其中各該挖空區的一角指向該圖案區。
6. 一種遮罩條，用以被固定於一框架上而構成一遮罩，具有兩個拉伸區與一圖案區，其中該遮罩條被固定於該框架後，該圖案區位於該框架內，該些拉伸區位於該框架外，各該拉伸區具有多個挖空區，且各該挖空區呈三角形。
7. 如申請專利範圍第6項所述之遮罩條，其中各該拉伸區遠離該圖案區的一側具有一切口。
8. 如申請專利範圍第6項所述之遮罩條，其中該些挖 空區沿著平行於該圖案區與該些拉伸區的邊界的方向排成多列。
9. 如申請專利範圍第8項所述之遮罩條，其中該些挖空區中位於同一列者的大小相同。
10. 如申請專利範圍第9項所述之遮罩條，其中該些挖空區的大小隨著與該圖案區的距離縮短而遞減。
11. 如申請專利範圍第6項所述之遮罩條，其中各該挖空區的一角指向該圖案區。