TWI580803B - 遮罩及具有其之遮罩組件 - Google Patents
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Description
本發明係有關於一種遮罩及具有其之遮罩組件。更特別的是,本發明係有關於一種用於沉積有機發光層之遮罩以及具有其之遮罩組件。
顯示裝置係為用於顯示影像的裝置,最近,含有有機發光二極體(OLED)的顯示裝置係日益受重視。
與液晶顯示器(LCD)不同,有機發光二極體具有自發光之特性且不需要光源,致使能夠減少全部顯示裝置之厚度與重量。有機發光二極體存有高品質特性,例如低電力消耗、高亮度與高反應速度。
為了製造有機發光二極體顯示器,必須形成具有特定圖樣的電極、有機發光層、以及其他相似物,為此可應用一種使用遮罩組件的沉積方法。
更詳細地,有機發光二極體顯示器包含作為在基板上顯示影像之基本單元的複數個像素且其係排列成矩陣形式,而在每一像素中有一有機發光二極體,在有機發光二極體中第一電極(作為陽極)與第二電極(作為陰極)係與有機發光層依序地形成,每一有機發光層係發出例如紅色光、綠色光或藍色光等等。形成有機發光層的有機材料非常容易受到濕氣、氧氣等等損壞,致使其在形成有機發光層之製程期間以及形成有機發光層之後應與濕氣隔離。因此,其
難以使用一般光刻製程執行圖案化。因此,有機發光層係使用遮罩形成,在遮罩上係形成用於僅透過對應於每一圖樣的一部分來滲透沉積材料之圖樣開口部。
近年來已使用遮罩組件,其包含有開口部的框架以及兩端固定至框架且對應於開口部之複數個帶狀遮罩。
在相關技術領域中的遮罩組件係藉由施加拉力至遮罩而固定至框架,致使形成在遮罩中的圖樣形狀可能會由於施加至遮罩的拉力而變形。
揭露於背景章節之上述資訊係僅用來加強所述技術,背景之一理解,所以可能包含未構成該技術領域具有通常知識者已知之先前技術之資訊。
本發明已經致力發展於提供一種用於控制形成在遮罩中的圖樣因被施加至遮罩之拉力造成變形的遮罩,以及具有其之遮罩組件。
本發明的例示性實施例係提供一種遮罩,當拉力被施加在第一方向上時遮罩之兩端係支撐在框架上,此遮罩包含:在第一方向延伸成帶狀的遮罩主體單元;含有在第一方向延伸且開孔且分別地在與第一方向交錯之第二方向上安置之複數個圖樣狹縫的複數個圖樣單元,複數個圖樣單元係在第一方向上安置在遮罩主體單元中;以及含有複數個偽狹縫的複數個偽單元,複數個偽單元係安置在遮罩主體單元中且彼此相分隔且複數個圖樣單元介其之間,複數個偽狹縫係在第一方向上延伸且開孔,並分別地在第二方向上安置。
複數個偽狹縫中安置在第二方向上的外部區中的偽狹縫在該第一方向延伸的長度係短於安置在第二方向上的中心區中的偽狹縫在第一方向延伸的長度。
安置在第二方向上的外部區中的偽狹縫可為複數個,且在第一方向延伸的長度係隨著往第二方向上之外側而依序地變短。
安置在第二方向上外部區的偽狹縫之數量可為5至10個。
五個偽狹縫係安置在第二方向上的外部區,安置在第二方向上外部區的複數個偽狹縫中的相鄰偽狹縫之複數端之間在第一方向之長度係五倍於相鄰偽狹縫之間在第二方向上的長度。
安置在第二方向上的外部區中之偽狹縫在第二方向上的寬度係兩倍於安置在第二方向上的中心區中之偽狹縫在第二方向上的寬度。
五個偽狹縫係安置在第二方向上的外部區,以及安置在第二方向上外部區的複數個偽狹縫中的相鄰偽狹縫之複數端之間在第一方向之長度係六倍於相鄰偽狹縫之間在第二方向上的長度。
五個偽狹縫係安置在第二方向上的外部區,以及安置在第二方向上外部區的複數個偽狹縫中的相鄰偽狹縫之複數端之間在第一方向之長度係兩倍於相鄰偽狹縫之間在第二方向上的長度。
十個偽狹縫係安置在第二方向上的外部區,以及安置在第二方向上外部區的複數個偽狹縫中的相鄰偽狹縫之複數端之間在第一方向之長度係五倍於相鄰偽狹縫之間之第二方向上的長度。
本發明的另一例示性實施例係提供一種遮罩組件,其包含:含有開口的框架;以及提供在開口中的遮罩。
根據實施例,係提供用於控制形成在遮罩中的圖樣因被施加至遮罩之拉力造成變形的遮罩以及具有其之遮罩組件。
100‧‧‧框架
110‧‧‧開口
120‧‧‧第一支撐件
130‧‧‧第二支撐件
20、200、202、203、204、205、206‧‧‧遮罩
200a‧‧‧遮罩之兩端
210‧‧‧遮罩主體單元
220‧‧‧圖樣單元
221‧‧‧圖樣狹縫
230‧‧‧偽單元
231‧‧‧偽狹縫
CA‧‧‧中心區
BA‧‧‧外部區
EL1、EL2‧‧‧延伸長度
L1、L2‧‧‧長度
D1、D2‧‧‧寬度
x、y、z‧‧‧方向
A‧‧‧部分
本發明更完整的理解及其許多附隨優點將藉由考量配合其附圖參考下列詳細描述而變得顯而易見,且同時變得更利於理解,其中相似參考符號係代表相同或相似構件,其中:第1圖係顯示根據本發明的第一例示性實施例之遮罩組件之透視爆炸圖。
第2圖係顯示第1圖所示之部分A。
第3A圖係顯示根據本發明的第二例示性實施例之遮罩,而第3B圖係顯示根據比較例之遮罩。
第4A圖係顯示根據本發明的第三例示性實施例之遮罩,而第4B圖係顯示根據比較例之遮罩。
第5A圖係顯示根據本發明的第四例示性實施例之遮罩,而第5B圖係顯示根據比較例之遮罩。
第6A圖係顯示根據本發明的第五例示性實施例之遮罩,而第6B圖係顯示根據比較例之遮罩。
第7A圖係顯示根據本發明的第六例示性實施例之遮罩,而第7B圖係顯示根據比較例之遮罩。
本發明將參閱其中顯示本發明之例示性實施例的附圖而更完整地描述。熟悉此領域之技術者將理解,所描述之實施例可在完全未脫離本發明的精神或範疇下被以各種不同方式修改。
因此,圖式與描述係視為性質上的說明而不因此受限制。於整份說明書中相似之參考符號代表相似之元件。
此外,具有以相同之參考符號標示之相同構件的構造將代表性地呈現在本發明的第一例示性實施例中,而不同於第一例示性實施例的其他構件將在其他例示性實施例中描述。
此外,為理解與容易描述起見,複數個圖式中所示的每一構件之尺寸與厚度係為任意顯示,但本發明不因此受限制。
在圖式中,層、薄膜、面板、區域等之厚度係為了清楚而誇張呈現。為了理解與描述容易,一些層與區域之厚度係誇張呈現。應理解的是,當一元件,例如一層、一薄膜、一區域或基板,係指在另一元件「上」時,其可能是直接在該其他元件上或其間亦可存在中介元件。
此外,除非明確地另行闡述,否則詞彙「包含(comprise)」及其變化像是「包含(comprises)」或「包含(comprising)」將理解為表示涵括所述元件但不排除任何其他元件。此外,說明書中,「在上(on)」代表位於目標元件的上方或下方,而未含有必定基於重力方向位於頂部上之意思。
現在將參考第1圖與第2圖描述根據第一例示性實施例之遮罩組件。
第1圖係顯示根據本發明的第一例示性實施例之遮罩組件之透視爆炸圖。
如第1圖所示,遮罩組件包含框架100與複數個遮罩200。
框架100包含用於固定且支撐複數個遮罩200之兩端並暴露遮罩200的開口110。框架100進一步包含在第一方向(x方向)上彼此相面對且開口110位於其之間的成對之第一支撐件120,以及在與第一方向(x方向)交錯之第二方向(y方向)上彼此相面對且開口110位於其之間的成對之第二支撐件130。遮罩200之兩端200a係透過固定方法,例如焊接,而支撐在第二支撐件130上,而拉力係在第一方向(x方向)上施加至遮罩200。
在根據第一例示性實施例之遮罩組件之框架100中,第一支撐件120係為四邊形框架100之長邊側而第二支撐件130係為框架100之短邊側,而根據另一例示性實施例之遮罩組件之框架中,第一支撐件與第二支撐件可形成有大致上相等的長度。而且,根據另一例示性實施例之遮罩組件之框架能夠為多邊形或圓形。
當被施加拉力時,固定至框架100的遮罩200係被支撐,而框架100係以金屬材料形成,例如有高硬度的不鏽鋼,致使其可能不會因遮罩200之緊壓力量而變形,此緊壓力量係在第二方向(y方向)上施加,即遮罩200之延伸方向。
遮罩200係為在第一方向(x方向)上延伸的帶狀(band form),而張力在第一方向(x方向)上施加時遮罩200之兩端200a皆支撐在框架100上。遮罩200可為複數個,複數個遮罩200係在框架100上於第二方向(y方向)上安置且被支撐。遮罩200之兩端200a係形成馬蹄鐵形狀,但是其能夠為各種形狀而不受此實施例之限制。
遮罩200包含遮罩主體單元210、圖樣單元220以及偽單元230。
遮罩主體單元210係為在第一方向(x)上延伸之帶狀,其係提供在框架100之開口110上方,且支撐在框架100上。遮罩主體單元210包含安置在第一方向(x方向)上的複數個圖樣單元220、以及與圖樣單元220相分隔一間隙且安置在遮罩主體單元210之一端上的偽單元(dummy unit)230。
圖樣單元220包含安置在單一遮罩200上且於第一方向(x方向)上的複數個圖樣。圖樣單元220係對應於單一有機發光二極體(OLED)顯示器,且在此情況下,用於複數個有機發光二極體(OLED)顯示器的圖樣能夠同步地形成在主基板上,且有機發光二極體(OLED)顯示器將透過遮罩200以單一製程來製造。亦即,圖樣單元220係安置在遮罩主體單元210上而對應於設置有機發光二極體(OLED)顯示器的圖樣。圖樣單元220係具有用於穿透遮罩200的開
孔圖樣形狀,致使用於有機發光二極體(OLED)顯示器的圖樣可透過圖樣單元220而形成在主基板上。圖樣單元220之形狀包含複數個條紋型圖樣狹縫221。
圖樣狹縫221係分別地在第一方向(x方向)上延伸且開孔,而每一圖樣狹縫221係在與第一方向(x方向)交錯的第二方向(y方向)上分別地安置。
偽單元230能夠是複數個,而複數個偽單元230係彼此分別地相對於圖樣單元220安置且複數個圖樣單元220係在第一方向(x方向)上安置於複數個偽單元230之間。亦即,偽單元230係安置鄰近於遮罩200之兩端200a。偽單元230係提供在遮罩200之一端200a與複數個圖樣單元220中安置在第一方向(x方向)上最外面之圖樣單元220之間,而且其分散因施加至遮罩200之拉力而施加至圖樣單元220的拉力。偽單元230係分散施加至圖樣單元220的拉力以控制圖樣單元220由於施加至遮罩200拉力而產生的變形。偽單元230係對應框架100而提供在框架100中。因此在沉積製程中,係使用探針組件以避免沉積材料穿過偽單元230而沉積在主基板上。偽單元230包含與圖樣單元220相似方式的複數個條紋型偽狹縫231。
複數個偽狹縫231係分別地在第一方向(x方向)上延伸且開孔,而複數個偽狹縫231係在第二方向(y方向)上分別地安置。
第2圖係顯示第1圖所示之部分A。
如第2圖所示,在複數個偽狹縫231中,安置在第二方向(y方向)上之外部區(BA)的偽狹縫231之第一方向(x)延伸長度EL2係短於安置在第二方向(y方向)上之中心區(CA)的偽狹縫231之第一方向(x)延伸長度EL1,而安置在外部區(BA)的偽狹縫231之第一方向(x)延伸長度EL2係依序地接近外部區而變短。隨著外部區(BA)中的複數個偽狹縫231往外側安置,第一方向(x方向)延伸長度EL2係依序地變短,如此以控制偽狹縫231因為施加至遮罩
200之拉力而造成的變形。安置在第二方向(y方向)上之外部區(BA)中的偽狹縫231之數量可為5至10個。此外,安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中,在相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上長度L1可為複數個偽狹縫231之間之第二方向(y方向)上長度L2的二倍到六倍。
詳細地說明,當遮罩200之兩端200a使用延伸裝置而延伸時,例如鉗(clamp),相比於其他部分,更多壓力係施加至對應遮罩200之邊緣的部分,但是當對應遮罩200之邊緣部的外部區(BA)的複數個偽狹縫231安置到外圍部分時,在第一方向(x方向)之延伸長度EL2係依序地變短藉此分散施加至對應遮罩200之邊緣部之部分的壓力,致使能控制偽狹縫231因為施加至遮罩200之拉力而造成的變形。其結果是,能控制偽狹縫231之變形以及偽單元230之變形,致使可避免因偽單元230之變形而造成圖樣單元220之變形。
如上所述,根據第一例示性實施例之遮罩組件包含含有偽狹縫231的偽單元230以及圖樣單元220,致使可控制在遮罩200上形成的圖樣單元220因施加至遮罩200之拉力所造成的變形。
此外,關於根據第一例示性實施例之遮罩組件,隨著偽單元230之第二方向(y方向)的外部區(BA)中之偽狹縫231安置到外圍部時,第一方向(x方向)之延伸長度EL2係依序地變短,而施加至安置在外部區(BA)之偽狹縫231的拉力係被分散致使偽單元230之變形能被控制,且因偽單元230變形而造成的圖樣單元220變形能被控制。
而且,當安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的偽狹縫231之數量為5至10個,而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)之相鄰偽狹縫231之複數端之間在第一方向(x方向)的長度L1為相鄰偽狹縫231之間在第二方向(y方向)之長度L2的二倍到六倍時,可將分散根據實施例之遮罩之拉力的效
果最佳化,現在將參考根據本發明的第二例示性實施例至第六例示性實施例來描述此效果。
現在將參考第3A圖至第7B圖描述根據第二例示性實施例至第六例示性實施例之遮罩。
以下將僅描述不同於第一例示性實施例的部分,而不描述的其他部分請見第一例示性實施例。為較佳理解與描述容易,在第二例示性實施例至第六例示性實施例中的相同組成元件將有與第一例示性實施例相同之參考符號。
現在將參考第3A圖與第3B圖描述根據第二例示性實施例之遮罩。
第3A圖係顯示根據本發明的第二例示性實施例之遮罩,而第3B圖係顯示根據比較例之遮罩。
第3A圖之上圖式係顯示根據第二例示性實施例之遮罩202之偽狹縫,而3A圖之下圖式係顯示使用ABAQUS模擬當遮罩延伸時施加至根據第二例示性實施例之遮罩202的偽狹縫的壓力之模擬圖,而ABAQUS係為Simulia of Dassault Systèmes所販賣用於分析構造、電性以及熱的工具。
第3B圖之上圖式顯示根據例示性實施例之遮罩20之偽狹縫,而其下圖式係顯示使用ABAQUS模擬當遮罩延伸時施加至根據比較例示性實施例之20的偽狹縫的壓力之模擬圖,而ABAQUS係為Simulia of Dassault Systèmes所販賣用於分析構造、電性以及熱的工具。
如第3A圖之上圖式所示,五個偽狹縫231係安置在根據第二例示性實施例之遮罩202在第二方向(y方向)上的外部區(BA)中,而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可為相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2的五倍。
如第3B圖之上圖式所示,五個偽狹縫231係安置在根據比較例示性實施例之遮罩20之第二方向(y方向)的外部區(BA)中,而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可與相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2相同。
如第3A圖之下圖式以及第3B圖之下圖式所示,當透過模擬比較根據第二例示性實施例之遮罩202以及根據比較例之遮罩20時,施加至根據第二例示性實施例之遮罩202之在第二方向(y方向)上最外面偽狹縫231的最高壓力係大致上判斷為316.8MPa,而施加至根據比較例之遮罩20之在第二方向(y方向)上最外面偽狹縫231的最高壓力係判斷為467.5MPa。
亦即,根據第二例示性實施例之遮罩202具有安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)之五個偽狹縫231,而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可為相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2的五倍,而施加至安置在外部區(BA)中之偽狹縫231的拉力係被分散致使偽單元230之變形能受到控制,其係作用為避免圖樣單元220變形以及提供具有改良可靠性之遮罩202的因素。
現在將參考第4A圖與第4B圖描述根據第三例示性實施例之遮罩。
第4A圖係顯示根據本發明的第三例示性實施例之遮罩,而第4B圖係顯示根據比較例之遮罩。
第4A圖之上圖式顯示根據第三例示性實施例之遮罩203之偽狹縫,而第4A圖之下圖式係使用ABAQUS模擬顯示當遮罩延伸時施加至根據第三例示性實施例之遮罩203的偽狹縫的壓力之模擬圖,而ABAQUS係為Simulia of Dassault Systèmes所販賣用於分析構造、電性以及熱的工具。
第4B圖之上圖式顯示根據例示性實施例之遮罩20之偽狹縫,而第4B圖之下圖式係顯示使用ABAQUS模擬當遮罩延伸時施加至根據比較例示性實施例之20的偽狹縫的壓力之模擬圖,而ABAQUS係為Simulia of Dassault Systèmes所販賣用於分析構造、電性以及熱的工具。
如第4A圖之上圖式所示,五個偽狹縫231係安置在根據第三例示性實施例之遮罩203之在第二方向(y方向)上的外部區(BA),而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可為相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2的五倍。此外,安置在遮罩203之第二方向(y方向)上外部區(BA)的偽狹縫231之第二方向(y)寬度D1係兩倍於安置在第二方向(y方向)上中心區(CA)的偽狹縫231之第二方向(y)寬度D2。
如第4B圖之上圖式所示,五個偽狹縫231係安置在根據比較例示性實施例之遮罩20之第二方向(y方向)的外部區(BA)中,而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可與相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2相同。
如第4A圖之下圖式以及第4B圖之下圖式所示,當透過模擬比較根據第三例示性實施例之遮罩203以及根據比較例之遮罩20,施加至根據第三例示性實施例之遮罩203之在第二方向(y方向)上最外面偽狹縫231的分散係大致上判斷為343.3MPa,而施加至根據比較例之遮罩20之在第二方向(y方向)上最外面偽狹縫231的分散係判斷為467.5MPa。
亦即,根據第二例示性實施例之遮罩202具有安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)之五個偽狹縫231,且安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x
方向)上的長度L1可為相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2的五倍,以及安置在第二方向(y方向)上的外部區(BA)之偽狹縫231之第二方向寬度D1係兩倍於安置在第二方向(y方向)上的中心區(CA)之偽狹縫231之第二方向寬度D2,致使施加至安置在外部區(BA)之偽狹縫231的拉力分散而偽單元230之變形能受到控制,其係作用為避免圖樣單元220變形以及提供具有改良可靠性之遮罩203的因素。
現在將參考第5A圖與第5B圖描述根據第四例示性實施例之遮罩。
第5A圖係顯示根據本發明的第四例示性實施例之遮罩,而第5B圖係顯示根據比較例之遮罩。
第5A圖之上圖式係顯示根據第四例示性實施例之遮罩204之偽狹縫,而第5A圖之下圖式係顯示使用ABAQUS模擬當遮罩延伸時施加至根據第四例示性實施例之遮罩204的偽狹縫的壓力之模擬圖,而ABAQUS係為Simulia of Dassault Systèmes所販賣用於分析構造、電性以及熱的工具。
第5B圖之上圖式顯示根據例示性實施例之遮罩20之偽狹縫,而其下圖式係顯示使用ABAQUS模擬當遮罩延伸時施加至根據比較例示性實施例之20的偽狹縫的壓力之模擬圖,而ABAQUS係為Simulia of Dassault Systèmes所販賣用於分析構造、電性以及熱的工具。
如第5A圖之上圖式所示,五個偽狹縫231係安置在根據第四例示性實施例之遮罩204在第二方向(y方向)上的外部區(BA)中,而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可為相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2的六倍。
如第5B圖之上圖式所示,五個偽狹縫231係安置在根據比較例示性實施例之遮罩20之第二方向(y方向)的外部區(BA)中,而安置在第二方向
(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可與相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2相同。
如第5A圖之下圖式以及第5B圖之下圖式所示,當透過模擬比較根據第四例示性實施例之遮罩204以及根據比較例之遮罩20,施加至根據第四例示性實施例之遮罩204之在第二方向(y方向)上最外面偽狹縫231的最高壓力係大致上判斷為318.7MPa,而施加至根據比較例之遮罩20之在第二方向(y方向)上最外面偽狹縫231的最高壓力係判斷為467.5MPa。
亦即,根據第四例示性實施例之遮罩204具有安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)之五個偽狹縫231,安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可為相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2的六倍,而施加至安置在外部區(BA)的偽狹縫231之拉力係被分散,致使偽單元230之變形能受到控制,其係作用為避免圖樣單元220變形以及提供具有改良可靠性之遮罩204的因素。
現在將參考第6A圖與第6B圖描述根據第五例示性實施例之遮罩。
第6A圖係顯示根據本發明的第五例示性實施例之遮罩,而第6B圖係顯示根據比較例之遮罩。
第6A圖之上圖式係顯示根據第五例示性實施例之遮罩之偽狹縫,而第6A圖之下圖式係顯示使用ABAQUS模擬當遮罩延伸時施加至根據第五例示性實施例之遮罩的偽狹縫的壓力之模擬圖,而ABAQUS係為Simulia of Dassault Systèmes所販賣用於分析構造、電性以及熱的工具。
第6B圖之上圖式顯示根據例示性實施例之遮罩20之偽狹縫,而其下圖式係顯示使用ABAQUS模擬當遮罩延伸時施加至根據比較例示性實施例之
20的偽狹縫的壓力之模擬圖,而ABAQUS係為Simulia of Dassault Systèmes所販賣用於分析構造、電性以及熱的工具。
如第6A圖之上圖式所示,五個偽狹縫231係安置在根據第五例示性實施例之遮罩205在第二方向(y方向)上的外部區(BA)中,而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1係兩倍於相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2。
如第6B圖之上圖式所示,五個偽狹縫231係安置在根據比較例示性實施例之遮罩20之第二方向(y方向)的外部區(BA)中,而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可與相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2相同。
如第6A圖之下圖式以及第6B圖之下圖式所示,當透過模擬比較根據第五例示性實施例之遮罩205以及根據比較例之遮罩20,施加至根據第五例示性實施例之遮罩205之在第二方向(y方向)上最外面偽狹縫231的最高壓力係大致上判斷為372.4MPa,而施加至根據比較例之遮罩20之在第二方向(y方向)上最外面偽狹縫231的最高壓力係判斷為467.5MPa。
亦即,根據第五例示性實施例之遮罩205具有安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)之五個偽狹縫231,安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1係六倍於相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2,以及施加至安置在外部區(BA)中之偽狹縫231的拉力係被分散致使偽單元230之變形能受到控制,其係作用為避免圖樣單元220變形以及提供具有改良可靠性之遮罩205的因素。
現在將參考第7A圖與第7B圖描述根據第六例示性實施例之遮罩。
第7A圖係顯示根據本發明的第六例示性實施例之遮罩,而第7B圖係顯示根據比較例之遮罩。
第7A圖之上圖式係顯示根據第六例示性實施例之遮罩之偽狹縫,而其下圖式係顯示使用ABAQUS模擬當遮罩延伸時施加至根據第六例示性實施例之遮罩的偽狹縫的壓力之模擬圖,而ABAQUS係為Simulia of Dassault Systèmes所販賣用於分析構造、電性以及熱的工具。
第7B圖之上圖式顯示根據例示性實施例之遮罩之偽狹縫,而其下圖式係顯示使用ABAQUS模擬當遮罩延伸時施加至根據比較例示性實施例之的偽狹縫的壓力之模擬圖,而ABAQUS係為Simulia of Dassault Systèmes所販賣用於分析構造、電性以及熱的工具。
如第7A圖之上圖式所示,十個偽狹縫231係安置在根據第六例示性實施例之遮罩206在第二方向(y方向)上的外部區(BA)中,而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可為相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2的五倍。
如第7B圖之上圖式所示,五個偽狹縫231係安置在根據比較例示性實施例之遮罩20之第二方向(y方向)的外部區(BA)中,而安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可與相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2相同。
如第7A圖之下圖式以及第7B圖之下圖式所示,當透過模擬比較根據第六例示性實施例之遮罩206以及根據比較例之遮罩20,施加至根據第六例示性實施例之遮罩206之在第二方向(y方向)上最外面偽狹縫231的最高壓力係大
致上判斷為340.6MPa,而施加至根據比較例之遮罩20之在第二方向(y方向)上最外面偽狹縫231的最高壓力係判斷為467.5MPa。
亦即,根據第六例示性實施例之遮罩206具有安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)之十個偽狹縫231,安置在第二方向(y方向)上外部區(BA)的複數個偽狹縫231中的相鄰偽狹縫231之複數端之間之第一方向(x方向)上的長度L1可為相鄰複數個偽狹縫231之間第二方向(y方向)上之長度L2的五倍,以及施加至安置在外部區(BA)中之偽狹縫231的拉力係被分散致使偽單元230之變形能受到控制,其係作用為避免圖樣單元220變形以及提供具有改良可靠性之遮罩206的因素。
總結,藉由提供遮罩及/或含有具遮罩提供開口之框架的遮罩組件,其中遮罩包含遮罩主體、如上所述在第一方向上延伸之複數個圖樣單元、以及如上所述分別地安置在第二方向上且在第一方向上延伸且開孔的複數個偽單元,而施加至包含在偽單元中的偽狹縫的拉力係被分散或分散致使偽單元之變形能受到控制,從而避免圖樣單元之變形且提供具有改良可靠性的遮罩以及任何包含此遮罩的遮罩組件。
雖然本揭露內容結合考慮現行可實用的例示性實施例而描述,應瞭解的是,本發明不限於所揭露實施例,相反的,其欲將各種修改以及相似配置皆涵蓋在附加的申請專利範圍之精神與範圍內。
200‧‧‧遮罩
210‧‧‧遮罩主體單元
230‧‧‧偽單元
231‧‧‧偽狹縫
CA‧‧‧中心區
BA‧‧‧外部區
EL1、EL2‧‧‧延伸長度
L1、L2‧‧‧長度
x、y‧‧‧方向
Claims (16)
- 一種遮罩,係具有兩端,當在一第一方向被施加一拉力時該兩端係支撐在一框架上,該遮罩包含:一遮罩主體單元,係在該第一方向延伸成一帶狀;複數個圖樣單元,係含有在該第一方向延伸且開孔的複數個圖樣狹縫,該複數個圖樣狹縫係分別地安置在與該第一方向交錯的一第二方向,且該複數個圖樣單元係在該第一方向上分離地安置於該遮罩主體單元中;以及兩個偽單元,係含有複數個偽狹縫,該複數個偽單元係相對彼此分隔且該複數個圖樣單元係設置於該複數個偽單元之間,該複數個偽狹縫係安置在該遮罩主體單元中並在該第一方向上延伸且開孔,並在該第二方向上分別地安置;其中該第一方向與該第二方向為該遮罩相對於其厚度方向的多個表面方向,該第一方向平行該遮罩的兩端之間的一方向,且該複數個偽狹縫的多個開孔平行於該第一方向而延伸;其中該複數個偽狹縫中安置在該第二方向上的一外部區中的該偽狹縫之在該第一方向延伸的長度係短於安置在該第二方向上的一中心區中的該偽狹縫之在該第一方向延伸的長度。
- 如申請專利範圍第1項所述之遮罩,其中安置在該第二方向上的該外部區中的該偽狹縫係為複數個,且在該第一方向延伸的該長度係往在該第二方向上之外側而依序地變短。
- 如申請專利範圍第2項所述之遮罩,其中安置在該第二方向上的該外部區的該複數個偽狹縫之數量係在5個至10個之範圍內。
- 如申請專利範圍第3項所述之遮罩,其中五個偽狹縫係安置在該第二方向上的該外部區;以及 其中安置在該第二方向上該外部區的該複數個偽狹縫中的相鄰之該偽狹縫之複數端之間在該第一方向之長度係五倍於相鄰之該偽狹縫之間在該第二方向上的長度。
- 如申請專利範圍第4項所述之遮罩,其中安置在該第二方向上的該外部區之該偽狹縫在該第二方向上的寬度係兩倍於安置在該第二方向上的該中心區中之該偽狹縫在該第二方向上的寬度。
- 如申請專利範圍第3項所述之遮罩,其中五個偽狹縫係安置在該第二方向上的該外部區;以及其中安置在該第二方向上該外部區的該複數個偽狹縫中的相鄰之該偽狹縫之複數端之間在該第一方向之長度係六倍於相鄰之該偽狹縫之間在該第二方向上的長度。
- 如申請專利範圍第3項所述之遮罩,其中五個偽狹縫係安置在該第二方向上的該外部區;以及其中安置在該第二方向上該外部區的該複數個偽狹縫中的相鄰之該偽狹縫之複數端之間在該第一方向之長度係兩倍於相鄰之該偽狹縫之間在該第二方向上的長度。
- 如申請專利範圍第3項所述之遮罩,其中十個偽狹縫係安置在該第二方向上的該外部區;以及其中安置在該第二方向上該外部區的該複數個偽狹縫中的相鄰之該偽狹縫之複數端之間在該第一方向之長度係五倍於相鄰之該偽狹縫之間之該第二方向上的長度。
- 一種遮罩組件,該遮罩組件包含含有一開口的一框架以及如申請專利範圍第1項所述之一遮罩,該遮罩係提供在該開口中。
- 如申請專利範圍第9項所述之遮罩組件,其中安置在該第二方向上的該外部區中的該偽狹縫係複數個,且在該第一方向延伸的該長度係往該第二方向上之外側而依序地變短。
- 如申請專利範圍第10項所述之遮罩組件,其中安置在該第二方向上的該外部區的該偽狹縫之數量係在5個至10個之範圍內。
- 如申請專利範圍第11項所述之遮罩組件,其中五個偽狹縫係安置在該第二方向上的該外部區;以及其中安置在該第二方向上該外部區的該複數個偽狹縫中的相鄰之該偽狹縫之複數端之間在該第一方向之長度係五倍於相鄰之該偽狹縫之間在該第二方向上的長度。
- 如申請專利範圍第12項所述之遮罩組件,其中安置在該第二方向上的該外部區中之該偽狹縫在該第二方向上的寬度係兩倍於安置在該第二方向上的該中心區中之該偽狹縫在該第二方向上的寬度。
- 如申請專利範圍第11項所述之遮罩組件,其中五個偽狹縫係安置在該第二方向上的該外部區;以及其中安置在該第二方向上該外部區的該複數個偽狹縫中的相鄰之該偽狹縫之複數端之間在該第一方向之長度係六倍於相鄰之該偽狹縫之間在該第二方向上的長度。
- 如申請專利範圍第11項所述之遮罩組件,其中五個偽狹縫係安置在該第二方向上的該外部區;以及其中安置在該第二方向上該外部區的該複數個偽狹縫中的相鄰之該偽狹縫之複數端之間在該第一方向之長度係兩倍於相鄰之該偽狹縫之間在該第二方向上的長度。
- 如申請專利範圍第11項所述之遮罩組件,其中十個偽狹縫係安置在該第二方向上的該外部區;以及其中安置在該第二方向上該外部區的該複數個偽狹縫中的相鄰之該偽狹縫之複數端之間在該第一方向之長度係五倍於相鄰之該偽狹縫之間之該第二方向上的長度。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120048720A KR101919467B1 (ko) | 2012-05-08 | 2012-05-08 | 단위 마스크 및 이를 포함하는 마스크 조립체 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201348474A TW201348474A (zh) | 2013-12-01 |
TWI580803B true TWI580803B (zh) | 2017-05-01 |
Family
ID=49534939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW102112584A TWI580803B (zh) | 2012-05-08 | 2013-04-10 | 遮罩及具有其之遮罩組件 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9289798B2 (zh) |
KR (1) | KR101919467B1 (zh) |
CN (1) | CN103390728B (zh) |
TW (1) | TWI580803B (zh) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101813549B1 (ko) * | 2011-05-06 | 2018-01-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 분할 마스크와 그 분할 마스크를 포함한 마스크 프레임 조립체의 조립장치 |
KR102237428B1 (ko) * | 2014-02-14 | 2021-04-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법 |
KR102250047B1 (ko) * | 2014-10-31 | 2021-05-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
CN104651778B (zh) * | 2015-03-13 | 2016-04-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种金属掩膜板及其制作出的有机电致发光显示器件 |
KR102549358B1 (ko) * | 2015-11-02 | 2023-06-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 마스크 조립체 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법 |
KR102608420B1 (ko) * | 2016-03-09 | 2023-12-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
CN205576262U (zh) * | 2016-05-09 | 2016-09-14 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 一种掩膜板 |
KR20180113675A (ko) * | 2017-04-06 | 2018-10-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 시트 및 마스크 조립체의 제조방법 |
CN107340683B (zh) * | 2017-07-28 | 2020-12-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板、oled显示基板及其制作方法、显示装置 |
CN107435131B (zh) * | 2017-09-29 | 2019-08-02 | 上海天马微电子有限公司 | 掩膜装置、蒸镀设备以及掩膜装置制备方法 |
KR20210009479A (ko) | 2019-07-16 | 2021-01-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법 |
US20220372615A1 (en) * | 2019-11-12 | 2022-11-24 | Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Mask |
CN111394692B (zh) * | 2020-05-09 | 2022-05-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版 |
KR20220030437A (ko) * | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크, 이의 제조 방법, 및 표시 패널 제조 방법 |
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---|---|---|---|---|
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KR100354245B1 (ko) | 1999-06-30 | 2002-09-28 | 삼성에스디아이 주식회사 | 음극선관용 텐션 마스크 |
JP4915312B2 (ja) * | 2007-08-08 | 2012-04-11 | ソニー株式会社 | 蒸着用マスクの製造方法 |
KR20100000129A (ko) | 2008-06-24 | 2010-01-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시장치용 증착 마스크 유닛 |
KR101182439B1 (ko) | 2010-01-11 | 2012-09-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법 |
KR101173961B1 (ko) * | 2010-03-24 | 2012-08-14 | (주)한 송 | 대면적 amoled 다면취 패널 제작용 셀 분할마스크 및 이를 이용한 마스크프레임어셈블리 |
-
2012
- 2012-05-08 KR KR1020120048720A patent/KR101919467B1/ko active IP Right Grant
- 2012-11-23 CN CN201210483339.2A patent/CN103390728B/zh active Active
-
2013
- 2013-03-07 US US13/789,343 patent/US9289798B2/en active Active
- 2013-04-10 TW TW102112584A patent/TWI580803B/zh active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130298826A1 (en) | 2013-11-14 |
CN103390728B (zh) | 2017-06-09 |
US9289798B2 (en) | 2016-03-22 |
CN103390728A (zh) | 2013-11-13 |
TW201348474A (zh) | 2013-12-01 |
KR20130125177A (ko) | 2013-11-18 |
KR101919467B1 (ko) | 2019-02-11 |
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