CN102201550B - 单元掩模、掩模组件和制造显示设备的方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及单元掩膜、掩膜组件和制造显示设备的方法。所述掩模组件包括：框架，包括开口部件；和单元掩模，其在沿一个方向施加拉力的状态下布置在所述开口上并且使所述单元掩模中的每一个的两个端部由所述框架支撑，所述单元掩模中的每一个包括：图案开口部件，沿所述一个方向布置；以及第一槽，布置成与所述图案部件相邻并且在所述图案开口部件与所述单元掩模的边缘之间，并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。

Description

单元掩模、掩模组件和制造显示设备的方法

技术领域

所描述的技术总体涉及掩模。更为具体地，所描述的技术总体涉及包括支撑多个单元掩模的框架的掩模组件。

背景技术

平板显示器的示例包括有机发光显示器、液晶显示器、等离子体显示面板等。为了制造有机发光显示器，应该形成具有特定图案的电极、有机发射层等等。用于形成电极和有机发射层等等的方法可以适用于利用掩模组件的沉积方法。

更具体地说，有机发光显示器包括像素，并且各个像素包括有机发光二极管。这些像素是用于显示图像的基本单元。这些像素在基板上并且被排列成矩阵形式。有机发光二极管具有顺序形成的阳极(即第一电极)和阴极(即第二电极)。有机发射层被包括在阳极与阴极之间。每层发射每个像素的光(红、绿和蓝等等)。形成有机发射层的有机材料非常易受到潮气和氧等等的侵蚀，所以在形成有机发射层的工艺期间以及在形成有机发射层之后它们应该与潮气完全隔离。因此，难以利用一般的平版印刷工艺执行图案化。同样，有机发射层和第二电极等等利用掩模来形成。该掩模具有图案开口部件，用于仅通过与形成的每个图案相对应的部分透过沉积材料。

近来已经使用一种掩模组件，包括：框架，包括开口部件；以及与该开口部件相对应的多个呈带状的单元掩模，其两个端部固定到该框架。相关技术的掩模组件通过向该单元掩模施加拉力而固定到该框架。因此，形成在单元掩模中的图案开口部件的形状可能会由于施加到掩模单元的拉力而变形。

在背景技术部分中公开的以上信息仅用于加强所描述的技术的背景的理解，因此其可能包含并不构成本国内本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

所描述的技术致力于提供根据本发明的各方面的抑制由于施加到单元掩模的拉力而造成的形成在单元掩模中的图案开口部件的变形的掩模和具有该掩模的掩模组件。

根据示例性实施例，掩模组件包括：框架，包括开口部件；和多个单元掩模，布置在所述开口部件上，并且在沿一个方向施加拉力的状态下使所述多个单元掩模中的每一个单元掩模的两个端部由所述框架支撑，所述多个单元掩模中的每一个单元掩模包括：沿所述一个方向布置的多个图案开口部件；以及第一槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在该图案开口部件与该单元掩模的边缘之间，并且形成为从该单元掩模的表面被压低。

根据本发明的一方面，所述第一槽在所述单元掩模的表面上可以具有与施加到与所述第一槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

根据本发明的一方面，所述第一槽在所述单元掩模的表面上可以具有半圆形形状。

所述单元掩模可以进一步包括：第二槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在两个相邻图案开口部件之间，并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。

根据本发明的一方面，所述第二槽在所述单元掩模的表面上可以具有与施加到与所述第二槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

根据本发明的一方面，所述第二槽在所述单元掩模的表面上可以具有半圆形形状或锥形形状。

根据本发明一方面，所述第一槽的数目为复数，并且其中所述单元掩模可以进一步包括：第三槽，布置在两个相邻第一槽之间并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。

根据本发明的一方面，所述第三槽可以具有多边形形状。

根据本发明的一方面，所述单元掩模可以进一步包括：虚拟图案，布置在位于沿所述一个方向布置的多个图案开口部件的最外侧处的图案开口部件与所述单元掩模的靠近该最外侧的端部之间。

根据本发明的一方面，所述虚拟图案在所述单元掩模的表面上可以具有与施加到与所述虚拟图案相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

根据本发明的一方面，所述虚拟图案可以透过所述单元掩模。

根据本发明的一方面，所述虚拟图案可以形成为从所述单元掩模的表面被压低。

根据本发明的一方面，所述虚拟图案可以对应于所述框架。

根据本发明的一方面，所述多个图案开口部件可以具有条型或点型。

根据另一示例性实施例，一种具有在沿一个方向施加拉力的状态下由框架支撑的彼此相对的两个端部的单元掩模包括：单元掩模主体部件，具有沿所述一个方向延伸的带状；沿所述一个方向布置的多个图案开口部件；和第一槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在该图案开口部件与该单元掩模主体部件的边缘之间，并且形成为从所述单元掩模主体部件的表面被压低。

根据本发明的一方面，所述第一槽在所述单元掩模主体部件的表面上可以具有与施加到所述多个图案开口部件中与所述第一槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

根据本发明的一方面，所述单元掩模可以进一步包括：第二槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在所述多个图案开口部件中的两个相邻图案开口部件之间，并且形成为从所述单元掩模主体部件的表面被压低。

根据本发明的一方面，所述第二槽在所述单元掩模的表面上可以具有与施加到所述多个图案开口部件中与所述第二槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

根据本发明一方面，所述单元掩模进一步包括：第三槽，布置在两个相邻第一槽之间，并且形成为从所述单元掩模主体部件的表面被压低，其中所述第一槽的数目是复数。

根据本发明的一方面，所述单元掩模可以进一步包括：虚拟图案，布置在多个图案开口部件中位于最外侧处的图案开口部件与所述单元掩模的靠近该最外侧的端部之间。

根据本发明的一方面，所述虚拟图案在所述单元掩模的表面上可以具有与施加到所述多个图案开口部件中与所述虚拟图案相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

根据本发明的一方面，所述多个图案开口部件可以具有条型或点型。

根据实施例，提供了抑制由于施加到所述单元掩模而引起的形成在单元掩模中的图案开口部件的变形的掩模以及具有该掩模的掩模组件。

本发明的其它方面和/或优点将部分地记载在以下的描述中，并且部分地从以下描述中显而易见，或者可以通过实践本发明而获知。

附图说明

本发明的这些和/或其它方面和优点将从以下结合附图对实施例的描述中变得明显并且更易于理解，附图中：

图1是示出根据示例性实施例的掩模组件的分解透视图；

图2是示出根据图1的示例性实施例的掩模组件的俯视图；

图3是示出包括在根据图1的示例性实施例的掩模组件中的单元掩模的俯视图；

图4是沿图3的线IV-IV截取的横截面视图；

图5是示出包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模的俯视图；

图6是示出包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模的俯视图；

图7A至图9是用于说明证实图案开口部件的变形由于分散了施加到包括在根据每个示例性实施例的每个掩模组件中的每个单元掩模的图案开口部件的拉力而得到抑制的实验的图；

图10是示出包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模的俯视图；

图11是示出包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模的俯视图；以及

图12是沿图11的线XII-XII截取的横截面视图。

具体实施方式

现在将详细参考本发明的当前实施例，这些实施例的示例在附图中示出，附图中的相同标记始终表示相同的元件。为了说明本发明，下面参照附图说明这些实施例。

在下文中，将参照图1至图4描述根据示例性实施例的掩模组件。图1是示出掩模组件的分解透视图。图2是示出掩模组件的俯视图。如图1和2所示，掩模包括框架100和多个单元掩模200。

框架100固定并支撑多个单元掩模200中每个单元掩模的两个端部，并且包括使单元掩模200暴露的开口部件110。框架100进一步包括沿支撑杆的伸长方向(即，也就是说，第一方向x)彼此面对的一对第一支撑部件120，开口部件110位于这两者之间。框架100还具有沿与第一方向x交叉的第二方向彼此面对的一对第二支撑部件130，开口部件110位于这两者之间。在拉力沿第二方向y施加到单元掩模200的状态下，第二支撑部件130通过诸如焊接等等之类的固定方法支撑单元掩模200的两个端部200a。

在框架100中，第一支撑部件120形成具有四边形形状的框架100的短边。第二支撑部件130形成框架100的长边。然而，在其它方面，可以理解的是，掩模组件的框架可以具有长度基本相同的第一支撑部件120和第二支撑部件130。进一步，根据另一实施例的掩模组件的框架可以被形成为多边形或圆形形状。

在拉力被施加到单元掩模200的状态下，单元掩模200被固定到框架100以便由框架100支撑。因为施加到单元掩模200的拉力所产生的压力会沿第二方向y(单元掩模200的延伸方向)施加到框架100，所以框架100由诸如具有很大刚度的不锈钢等等之类的金属材料制成。因此，不会由于单元掩模200的压力而出现框架的变形。

单元掩模200具有沿第二方向y延伸的带状。在沿第二方向y施加拉力的状态下，每个单元掩模200的两个端部200a由框架100支撑。多个单元掩模200沿第一方向x布置并固定到框架100。

在下文中，将参照图2至4描述包括在掩模组件中的单元掩模200。图3是示出包括在掩模组件200中的单元掩模的俯视图。图4是沿图3的线IV-IV截取的横截面视图。

如图3和4所示，单元掩模200包括单元掩模主体部件210、图案开口部件220、第一槽230、第二槽240、第三槽250以及虚拟图案260。

单元掩模主体部件210具有沿第二方向y延伸的带状，并且被布置在框架100的开口部件110上，并由框架100支撑。单元掩模主体部件210具有沿第二方向y的多个图案开口部件220。

多个图案开口部件220沿第二方向y布置在一个单元掩模200中。图案开口部件220可以对应于一个有机发光显示器。在这种情况下，形成若干个有机发光显示器的图案可以同时形成在母基板上，在母基板上，将通过单元掩模200由单一工艺制造有机发光显示器。换句话说，图案开口部件220布置在单元掩模200上，对应于形成有机发光显示器的图案的沉积区域。图案开口部件220具有透过单元掩模200的开口图案，使得形成有机发光显示器的图案可以通过图案开口部件220形成在母基板上。图案开口部件220的形状具有条型，并且第一槽230位于每个图案开口部件220附近。

每个第一槽230位于图案开口部件220与单元掩模200的边缘200b之间，并且被形成为从单元掩模200的表面200c被压低。第一槽230沿第二方向y布置，对应于沿第二方向y布置的多个图案开口部件220中的每一个。第一槽230布置在沿第二方向y位于最外侧的图案开口部件220与单元掩模200的边缘200b之间。第一槽230与沿第二方向y位于最外侧的图案开口部件220相邻。

第一槽230在单元掩模200的表面200c上具有半圆形形状。第一槽230具有半圆形形状，所以它在单元掩模200的表面200c上具有变形宽度W。第一槽230的变形宽度W根据通过施加到单元掩模200的拉力而施加到与第一槽230相邻的图案开口部件220的拉力的强度而变形。如图3所示，当图案开口部件220在单元掩模200的表面200c上具有四边形形状时，与图案开口部件220的一边221相对应的第一槽230的宽度W从与图案开口部件220的一边221的中心部分相对应的部分到图案开口部件220的一边221的远离中心的部分逐渐变窄。换句话说，在图案开口部件220的一边221的整个部分中，第一槽230的与比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为宽于第一槽230的与图案开口部分220的其它部分相对应的宽度W。在该结构中，第一槽230在单元掩模200的表面200c上具有与施加到图案开口部件220的拉力的强度相应的变形宽度W，从而分散了施加到图案开口部件220的拉力。进一步，施加到图案开口部件220的拉力被第一槽230分散，从而抑制了由施加到单元掩模200的拉力造成的图案开口部件220的变形。

通过实验证实了以下事实：由于具有变形宽度W的第一槽230分散了施加到图案开口部件220的拉力，因此图案开口部件220的变形得到抑制。下面将描述该实验。

在单元掩模200的第一槽230中，与在图案开口部件220的一边221的整个部分中比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为宽于与一边221的其它部分相对应的宽度W。然而，在其它实施例中，与在图案开口部件220的一边221的整个部分中比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为窄于与一边221的其它部分相对应的宽度W。

第二槽240位于图案开口部件220附近，并且位于沿第二方向y布置的多个图案开口部件220中相邻的图案开口部件220之间，并且形成为从单元掩模200的表面200c被压低。第二槽240在单元掩模200的表面200c上具有半圆形形状。第二槽240具有半圆形形状，从而在单元掩模200的表面200c上具有变形宽度W。第二槽240的变形宽度W根据通过施加到单元掩模200的拉力而施加到与第二槽240相邻的图案开口部件220的拉力的强度而变形。如图3所示，当图案开口部件220在单元掩模200的表面200c上具有四边形形状时，第二槽240的与图案开口部件220的一边221相对应的宽度W从与图案开口部件220的一边221的中心部分相对应的部分到图案开口部件220的一边221的远离中心的部分逐渐变窄。

换句话说，在图案开口部件220的一边221的整个部分中，第二槽240的与比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为宽于第二槽240的与图案开口部分220的其它部分相对应的宽度W。

在该结构中，第二槽240在单元掩模200的表面200c上具有与施加到图案开口部件220的拉力的强度相应的变形宽度W，从而分散了施加到图案开口部件220的拉力。

进一步，施加到图案开口部件220的拉力被第二槽240分散，从而抑制了由施加到单元掩模200的拉力造成的图案开口部件220的变形。

通过实验证实了以下事实：由于具有变形宽度W的第二槽240分散了施加到图案开口部件220的拉力，因此图案开口部件220的变形得到抑制。下面将描述该实验。

在单元掩模200的第二槽240中，与在图案开口部件220的一边221的整个部分中比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为宽于与一边221的其它部分相对应的宽度W。然而，在其它实施例中，与在图案开口部件220的一边221的整个部分中比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为窄于与一边221的其它部分相对应的宽度W。

进一步，根据示出的实施例，两个第二槽240位于相邻的一对图案开口部件220之间。然而，根据另一实施例，一个或三个第二槽240可以位于相邻的图案开口部件220之间。

第三槽250位于相邻的一对第一槽230之间，并且被形成为从单元掩模200的表面200c被压低。第三槽250在单元掩模200的表面200c上具有多边形形状和/或四边形形状。第三槽250分散施加到图案开口部件220的拉力，从而抑制了由施加到单元掩模200的拉力造成的图案开口部件220的变形。

通过实验证实了以下事实：由于第三槽250分散了施加到图案开口部件220的拉力，因此图案开口部件220的变形得到抑制。下面将描述该实验。

虽然包括在根据所示出的示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模200的第三槽250在单元掩模200的表面上具有四边形形状，但根据另一实施例的第三槽250可以具有三角形、圆形或诸如五边形之类的多边形等等。

进一步，根据所示出的示例性实施例，一个第三槽250布置在相邻的第一槽230之间。然而，根据另一实施例，包括在掩膜组件中的单元掩模200的多个第三槽250可以布置在相邻的第一槽230之间。

虚拟图案260布置在沿第二方向y布置在最外侧的图案开口部件220与单元掩模200的端部220a之间。虚拟图案260起到分散通过施加到单元掩模200的拉力而施加到图案开口部件220的拉力的作用。

虚拟图案260分散施加到图案开口部件220的拉力，从而抑制了由施加到单元掩模200的拉力造成的图案开口部件220的变形。虚拟图案260布置在单元掩膜主体部件210上与框架100相对应的位置处。如上所述，虚拟图案260布置在框架100上以防止沉积材料在利用掩膜组件的沉积工艺期间通过虚拟图案260沉积到母基板上。虚拟图案260具有像图案开口部件220一样的条型。

通过实验证实了以下事实：由于通过虚拟图案260分散了施加到图案开口部件220的拉力，因此图案开口部件220的变形得到抑制。下面将描述该实验。

在该结构中，单元掩模200包括分散施加到图案开口部件220的拉力的第一槽230、第二槽240、第三槽250以及虚拟图案260，从而抑制了施加到单元掩模200的拉力造成的图案开口部件220的变形。

在下文中，将参照图5描述包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模202。图5是示出单元掩模202的俯视图。

如图5所示，单元掩模202包括单元掩模主体部件210、图案开口部件220、第一槽230、第二槽240、第三槽250以及虚拟图案260。第二槽240布置在图案开口部件220附近，并且在沿第二方向y布置的多个图案开口部件220中相邻的图案开口部件220之间，并且形成为从单元掩模202的表面200c被压低。

第二槽240在单元掩模202的表面200c上具有锥形形状。具体来说，第二槽240具有锥形形状，使得它在单元掩模202的表面200c上具有变形宽度W。第二槽240的变形宽度W根据通过施加到单元掩模200的拉力而施加到与第二槽240相邻的图案开口部件220的拉力的强度而变形。如图5所示，当图案开口部件220在单元掩模202的表面200c上具有四边形形状时，第二槽240的与图案开口部件220的一边221相对应的宽度W从与图案开口部件220的一边221的中心部分相对应的部分到图案开口部件220的一边221的远离中心的部分逐渐变宽。换句话说，在图案开口部件220的一边221的整个部分中，第二槽240的与比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为窄于第二槽240的与图案开口部分220的其它部分相对应的宽度W。在该结构中，第二槽240在单元掩模202的表面200c上具有与施加到图案开口部件220的拉力的强度相应的变形宽度W，从而分散了施加到图案开口部件220的拉力。

进一步，施加到图案开口部件220的拉力被第二槽240分散，从而抑制了通过施加到单元掩模202的拉力造成的图案开口部件220的变形。包括在根据第二示例性实施例的掩模组件中的单元掩模202的图案开口部件220和虚拟图案260的形状具有点型。

包括在根据在图1至图5中示出的示例性实施例的掩模组件中的单元掩模200、202和虚拟图案160、260不限于所示的条型或点型。因此，包括在根据另一实施例的掩模组件中的单元掩模和虚拟图案可以具有各种类型。

通过实验证实了以下事实：由于具有变形宽度W的第一槽230、第三槽250、虚拟图案260、第二槽240分散了施加到图案开口部件220的拉力，因此图案开口部件220的变形得到抑制。下面将描述该实验。

在该结构中，单元掩模202包括分散施加到图案开口部件220的拉力的第一槽230、第二槽240、第三槽250以及虚拟图案260，从而抑制了施加到单元掩模202的拉力造成的图案开口部件220的变形。

在下文中，将参照图6描述包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模203。

如图6所示，单元掩模203包括单元掩模主体部件210、图案开口部件220、第一槽230以及虚拟图案260。

换句话说，单元掩模203仅仅包括第一槽230，而不包括在图1至图5中示出的前述实施例的单元掩模200、202中所包括的第二槽240和第三槽250。

在图6中示出的该结构中，通过实验证实了以下事实：由于通过第一槽230和虚拟图案260分散了施加到图案开口部件220的拉力，因此图案开口部件220的变形得到抑制。下面将描述该实验。

图6中示出的该结构中，单元掩模203包括分散施加到图案开口部件220的拉力的第一槽230和虚拟图案260，从而抑制了施加到单元掩模203的拉力造成的图案开口部件220的变形。

在下文中，将参照图7A至9描述证实由于分散了施加到包括在根据第一、第二和第三实施例中的每一个的每个掩模组件中的每个单元掩模200、202和203的每个图案开口部件220的拉力而使得图案开口部件220的变形得到抑制的实验。

图7A至9是用于说明证实由于分散了施加到包括在根据各个示例性实施例的各个掩模组件中的各个单元掩模的图案开口部件的拉力而使得图案开口部件的变形得到抑制的实验的图。

首先，图7A是示出包括在根据图1至6中示出的各个实施例的各个掩模组件中的单元掩模200、202和203的俯视图。图7A还示出根据各对比示例1至9的单元掩模11至19。如所示出的，单元掩模11不包括虚拟图案或第一槽至第三槽中的任何一个；单元掩模12具有虚拟图案但没有第一槽至第三槽；单元掩模13具有在一侧上的单个第一槽，但是没有虚拟图案且没有第二槽和第三槽；单元掩模14具有在一侧上的单个第一槽和虚拟图案，但没有第二槽和第三槽；单元掩模15具有在一侧上的单个第一槽、虚拟图案和第二槽及第三槽；单元掩模16具有在一侧上的单个第一槽、虚拟图案和第二槽及第三槽，以及在没有第一槽的其它侧上的隆起区域；单元掩模17具有在一侧上的单个第一槽、虚拟图案和第三槽以及在没有第一槽的其它侧上的隆起区域；单元掩模18具有在一侧上的单个第一槽、虚拟图案以及在没有第一槽的其它侧上的隆起区域，但是没有第二槽或第三槽；单元掩模19具有在一侧上的单个第一槽、虚拟图案以及第三槽，但没有第二槽。

图7B是在相同的拉力被施加到图7A中示出的各个单元掩模的状态下，当单元掩模被相同的框架支撑时，测量包括在各个单元掩模中的图案开口部件的变形值的曲线图。

在图7B所示的曲线图中，x轴表示示出测得的图案开口部件的变形值的曲线图的高度差，而y轴表示图案开口部件的变形值。

如图7B所示，当相同的拉力被施加到各个单元掩模11至19时，包括在根据各个对比示例1至9的单元掩模11至19中的各个图案开口部件的变形值表现出2.3μm(微米)至5.4μm的高度差。另一方面，当拉力被施加到单元掩模200时，根据图1至4中示出的实施例的单元掩模200的图案开口部件220的变形值表现出1.6μm的高度差。

换句话说，证实了以下事实：与根据各个对比示例1至9的单元掩模11至19相比，单元掩模200由于分散了施加到图案开口部件220的拉力而更好地抑制了图案开口部件220的变形。

进一步，当相同的拉力被施加到各个单元掩模11至19时，包括在根据各个对比示例1至9的单元掩模11至19中的各个图案开口部件的变形值表现出2.3μm(微米)至5.4μm的高度差。另一方面，当相同的拉力被施加到单元掩模202时，图5的单元掩模202的图案开口部件220的变形值表现出1.6μm的高度差。换句话说，证实了以下事实：与根据各个对比示例1至9的单元掩模11至19相比，图5的单元掩模202由于分散了施加到图案开口部件220的拉力而更好地抑制了图案开口部件220的变形。

进一步，当相同的拉力被施加到每个单元掩模11至19时，包括在根据各个对比示例1至9的单元掩模11至19中的各个图案开口部件的变形值表现出2.3μm至5.4μm的高度差。另一方面，当相同的拉力被施加到单元掩模203时，图6的单元掩模203的图案开口部件220的变形值表现出1.7μm的高度差。

换句话说，证实了以下事实：与根据各个对比示例1至9的单元掩模11至19相比，单元掩模203由于分散了施加到图案开口部件220的拉力而更好地抑制了图案开口部件220的变形。

接下来，图8是在相同的拉力被施加的状态下，当包括在根据图1至6的实施例的各个掩模组件中的单元掩模200、202和203和根据各个对比例1至9的各个单元掩模11至19被相同的框架支撑时，测量各个单元掩模在每个位置的变形值的曲线图。在图8中示出的曲线图中，x轴表示各个单元掩模的位置(每个掩模的长度被设置为200mm)，而y轴表示各个单元掩模的变形值。

如图8所示，证实了以下事实：当相同的拉力被施加到各个单元掩膜11至19时，根据对比示例1至9的单元掩模组件11至19在每个位置的变形值大于单元掩模200、202和203中的每一个的每个位置的变形值。

换句话说，证实了以下事实：各个单元掩模200、202和203在每个位置的变形小于根据各个对比示例1至9的单元掩模11至19在每个位置的变形，从而分散了施加到每个图案开口部件220的拉力，如此一来，每个图案开口部件220的变形得到抑制。

接下来，图9示出了在相同的拉力被施加的状态下，当单元掩模200、202和203和根据各个对比示例1至9的各个单元掩模11至19由相同的框架支撑时，施加到包括在各个单元掩模中的图案开口部件的压力的图。图9示出从利用可从达索系统公司(Dassault Systemes Co.)获得的SIMULIA结构(SIMULIA structure)和ABAQUS电学和热学分析工具进行的仿真实验得到的结果。图9的颜色表示从红色到蓝色拉力越来越强。

如图9所示，可以证实的是，当相同的拉力被施加到各个单元掩模11至19时，根据各个对比示例1至9的各个单元掩模11至19的各个图案开口部件的侧边由蓝色示出。另一方面，可以证实的是，包括在各个单元掩模200、202和203中的各个图案开口部件220的侧边没有用蓝色示出。换句话说，所证实的是，施加到包括在根据第一实施例、第二实施例和第三实施例中的每一个的掩模组件中所包括的各个单元掩膜200、202和203中所包括的各个图案开口部件220的拉力小于根据各个对比示例1至9的单元掩模11至19的图案开口部件。

换句话说，所证实的是，施加到包括在各个单元掩模200、202和203中的每个图案开口部件220的拉力被分散，从而抑制了每个图案开口部件220的变形。从上述实验证实的是，施加到包括在根据各个根据实施例的掩模组件中的各个单元掩模200、202和203中所包括的每个图案开口部件220的拉力被分散，从而抑制了每个图案开口部件220的变形。

现在将参照图10描述包括在根据示例性实施例的掩膜组件中的单元掩模204。如图10所示，单元掩模204包括单元掩模主体部件210、图案开口部件220、第一槽230、第二槽240、第三槽250以及虚拟图案264。

虚拟图案264在单元掩模204的表面200c上具有随施加到与虚拟图案264相邻的图案开口部件220的拉力的强度而定的变形宽度W。

虚拟图案264布置在最外面的图案开口部件220与单元掩模204的端部200a之间并且形成为透过单元掩模204。所示出的虚拟图案264在单元掩模204的表面200c上具有椭圆形形状，使得它在单元掩模204的表面200c上具有变形宽度W。虚拟图案240的变形宽度W根据通过施加到单元掩模204的拉力而施加到与虚拟图案264相邻的图案开口部件220的拉力的强度而变形。如图10所示，当图案开口部件220在单元掩模204的表面200c上具有四边形形状时，虚拟图案264的与图案开口部件220的一边221相对应的宽度W从与图案开口部件220的一边的中心部分相对应的部分到图案开口部件220的一边221的远离中心的部分逐渐变窄。

换句话说，在图案开口部件220的一边221的整个部分中，虚拟图案264的与比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为宽于虚拟图案264的与图案开口部分220的其它部分相对应的宽度W。

在该结构中，虚拟图案264在单元掩模204的表面200c上具有与施加到图案开口部件220的拉力的强度相应的变形宽度W，从而分散了施加到图案开口部件220的拉力。

进一步，施加到图案开口部件220的拉力被虚拟图案264分散，从而抑制了由施加到单元掩模204的拉力造成的图案开口部件220的变形。

在单元掩模204的虚拟图案264中，与在图案开口部件220的一边221的整个部分中比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为宽于与一边221的其它部分相对应的宽度W。然而，在包括在根据另一实施例的掩膜组件中的单元掩模的虚拟图案264中，与在图案开口部件220的一边221的整个部分中比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为窄于与一边221的其它部分相对应的宽度W。

现在将参照图11和12描述包括在根据实施例的掩膜组件中的单元掩模205。图12是沿图11的线XII-XII截取的横截面视图。

如图11和图12中所示，单元掩模205包括单元掩模主体部件210、图案开口部件220、第一槽230、第二槽240、第三槽250以及虚拟图案265。虚拟图案265在单元掩模205的表面200c上具有与施加到与虚拟图案265的相邻的图案开口部件220的拉力的强度相应的变形宽度W。

虚拟图案265布置在最外面的图案开口部件220与单元掩模205的端部200a之间，并且形成为从单元掩模205的表面被压低。虚拟图案265在单元掩模205的表面200c上具有椭圆形形状，使得它在单元掩模205的表面200c上具有变形宽度W。

虚拟图案265的变形宽度W根据通过施加到单元掩模205的拉力而施加到与虚拟图案265相邻的图案开口部件220的拉力的强度而变形。如图11所示，当图案开口部件220在单元掩模205的表面200c上具有四边形形状时，虚拟图案265的与图案开口部件220的一边221相对应的宽度W从与图案开口部件220的一边的中心部分相对应的部分到图案开口部件220的一边221的远离中心的部分逐渐变窄。

换句话说，在图案开口部件220的一边221的整个部分中，虚拟图案265的与比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为宽于虚拟图案265的与图案开口部分220的其它部分相对应的宽度W。

在该结构中，虚拟图案265在单元掩模205的表面200c上具有与施加到图案开口部件220的拉力的强度相应的变形宽度W，从而分散了施加到图案开口部件220的拉力。

进一步，施加到图案开口部件220的拉力被虚拟图案265分散，从而抑制了由施加到单元掩模205的拉力造成的图案开口部件220的变形。

在单元掩模205的虚拟图案265中，与在图案开口部件220的一边221的整个部分中比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W被形成为宽于与一边221的其它部分相对应的宽度W。然而，在其它实施例中，与在图案开口部件220的一边221的整个部分中比其它部分施加了更大强度的拉力的一部分相对应的宽度W可以形成为窄于与一边221的其它部分相对应的宽度W。

尽管已经示出并描述了本发明的几个实施例，但是本领域技术人员将会理解，在不背离本发明的原理和精神的情况下，可以对这些实施例做出修改，本发明的范围在权利要求及其等同物中限定。

Claims (21)

1.一种掩模组件，包括：

框架，包括开口部件；和

多个单元掩模，布置在所述开口部件上，并且在沿一个方向施加拉力的状态下使所述多个单元掩模中的每一个单元掩模的两个端部由所述框架支撑，所述多个单元掩模中的每一个单元掩模包括：

沿所述一个方向布置的多个图案开口部件；和

第一槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在该图案开口部件与该单元掩模的边缘之间，并且形成为从该单元掩模的表面被压低；

其中所述第一槽在所述单元掩模的表面上具有与施加到与所述第一槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述第一槽在所述单元掩模的表面上具有半圆形形状。

3.根据权利要求1所述的掩模组件，其中所述单元掩模进一步包括：第二槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在两个相邻图案开口部件之间，并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。

4.根据权利要求3所述的掩模组件，其中所述第二槽在所述单元掩模的表面上具有与施加到与所述第二槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

5.根据权利要求4所述的掩模组件，其中所述第二槽在所述单元掩模的表面上具有半圆形形状或者锥形形状。

6.根据权利要求3所述的掩模组件，其中所述第一槽的数目为复数，并且

其中所述单元掩模进一步包括：第三槽，布置在两个相邻第一槽之间，并且形成为从所述单元掩模的表面被压低。

7.根据权利要求6所述的掩模组件，其中所述第三槽具有多边形形状。

8.根据权利要求3所述的掩模组件，其中所述单元掩模进一步包括：虚拟图案，布置在位于沿所述一个方向布置的多个图案开口部件的最外侧处的图案开口部件与所述单元掩模的靠近该最外侧的端部之间。

9.根据权利要求8所述的掩模组件，其中所述虚拟图案在所述单元掩模的表面上具有与施加到与所述虚拟图案相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

10.根据权利要求8所述的掩模组件，其中所述虚拟图案透过所述单元掩模。

11.根据权利要求8所述的掩模组件，其中所述虚拟图案被形成为从所述单元掩模的表面被压低。

12.根据权利要求8所述的掩模组件，其中所述虚拟图案对应于所述框架。

13.根据权利要求1掩模组件，其中所述多个图案开口部件为条型或点型。

14.一种单元掩模，具有在沿一个方向施加拉力的状态下由框架支撑的彼此相对的两个端部，所述单元掩模包括：

单元掩模主体部件，具有沿所述一个方向延伸的带状；

沿所述一个方向布置的多个图案开口部件；和

第一槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在该图案开口部件与所述单元掩模主体的边缘之间，并且形成为从所述单元掩模主体部件的表面被压低；

其中所述第一槽在所述单元掩模主体部件的表面上具有与施加到所述多个图案开口部件中与所述第一槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

15.根据权利要求14所述的单元掩模，进一步包括：第二槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在所述多个图案开口部件中的两个相邻图案开口部件之间，并且形成为从所述单元掩模主体部件的表面被压低。

16.根据权利要求15所述的单元掩模，其中所述第二槽在所述单元掩模主体部件的表面上具有与施加到所述多个图案开口部件中与所述第二槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

17.根据权利要求16所述的单元掩模，进一步包括：第三槽，布置在两个相邻第一槽之间，并且形成为从所述单元掩模主体部件的表面被压低，

其中所述第一槽的数目是复数。

18.根据权利要求17所述的单元掩模，进一步包括：虚拟图案，布置在位于所述多个图案开口部件的最外侧处的图案开口部件与所述单元掩模的靠近该最外侧的端部之间。

19.根据权利要求18所述的单元掩模，其中所述虚拟图案在所述单元掩模主体部件的表面上具有与施加到所述多个图案开口部件中与所述虚拟图案相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

20.根据权利要求13所述的单元掩模，其中所述多个图案开口部件为条型或点型。

21.一种制造显示设备的方法，所述显示设备包括基板、像素和有机发射单元，所述方法包括：

制备所述基板；并且

利用掩模组件在供所述显示设备使用的所述基板上形成图案，所述掩模组件包括：

框架，包括开口部件；和

多个单元掩模，布置在所述开口部件上，并且在沿一个方向施加拉力的状态下使所述多个单元掩模中的每一个单元掩模的两个端部由所述框架支撑，所述多个单元掩模中的每一个单元掩模包括：

沿所述一个方向布置的多个图案开口部件；和

第一槽，布置成与所述多个图案开口部件中的一个图案开口部件相邻并且在该图案开口部件与该单元掩模的边缘之间，并且形成为从该单元掩模的表面被压低；

其中所述第一槽在所述单元掩模的表面上具有与施加到与所述第一槽相邻的图案开口部件的拉力的强度相应的变形宽度。

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