CN104342616B - 用于沉积的掩模、掩模组件和形成掩模组件的方法 - Google Patents

Abstract

公开了一种用于沉积的掩模、掩模组件和形成掩模组件的方法，所述用于沉积的掩模包括：掩模主体，在第一方向上延伸，具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相对并被框架支撑的端部，同时张力在第一方向上被施加到掩模；以及多个有效图案，在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分隔，具有小于第一厚度的第二厚度。

Description

用于沉积的掩模、掩模组件和形成掩模组件的方法

技术领域

本发明涉及一种掩模和一种掩模组件。更具体地讲，本发明涉及一种用于沉积有机层的掩模和一种掩模组件。

背景技术

通常，作为平板显示器的代表性示例，具有有机发光显示器、液晶显示器、等离子体显示面板等。

在这些中，为了制造有机发光显示器，形成具有特定图案的电极、有机发射层等。可以通过例如使用掩模组件的沉积方法来执行用于形成电极和有机发射层等的方法。

更具体地讲，有机发光显示器包括像素和有机发光二极管，像素是在基底上以矩阵形式排列的显示图像的基本单元，有机发光二极管具有与有机发射层顺序地设置的阳极、第一电极、阴极和第二电极，每个有机发射层针对每个像素发射诸如红色、绿色、蓝色或白色的带颜色的光。有机发射层的有机材料易受湿气、氧等的侵害，使得在形成有机发射层的工艺过程中以及在形成有机发射层之后采用将有机材料与湿气彻底隔离。因此，利用普通的光刻工艺执行图案化会是困难的。因此，使用掩模形成有机发射层，在掩模中限定了用于使沉积材料仅穿过与掩模的每个图案对应的部分的图案开口。

发明内容

本发明的一个或更多个示例性实施例提供一种用于沉积的掩模和包括所述用于沉积的掩模的掩模组件，所述用于沉积的掩模控制由对掩模施加的张力而引起的掩模的有效图案的变形。

示例性实施例提供了一种用于沉积的掩模，所述掩模包括：掩模主体，在第一方向上延伸并具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相对并被框架支撑的端部，同时张力在第一方向上被施加到掩模；以及多个有效图案，在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分离，具有小于第一厚度的第二厚度。

所述掩模还可以包括第一虚设图案，位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间，并且具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度。

所述掩模还可以包括多个第一虚设图案，位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间，并且具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度。

多个有效开口可以限定在所述多个有效图案中的一个有效图案中，多个第一虚设开口可以限定在第一虚设图案中，相邻的有效开口之间的第一距离比相邻的第一虚设开口之间的第二距离小。

所述掩模还可以包括位于所述多个有效图案中的相邻的有效图案之间的第二虚设图案。

第二虚设图案可以具有第二厚度。

第二虚设图案可以具有第三厚度。

所述掩模还可以包括分别位于来自所述多个有效图案中的相邻的有效图案之间的多个第二虚设图案。

多个有效开口可以限定在所述多个有效图案中的有效图案中，多个第二虚设开口可以限定在第二虚设图案中，相邻的有效开口之间的第一距离比相邻的第二虚设开口之间的第三距离小。

另一个示例性实施例提供了一种掩模组件，所述掩模组件包括：框架，开口限定在框架中；以及至少一个掩模，当在第一方向上彼此相对的掩模端部被框架支撑，同时在第一方向上对掩模施加张力时，所述多个有效图案与框架中的开口叠置。

所述掩模组件还可以包括在与第一方向交叉的第二方向上布置的多个掩模，其中，所述多个掩模的所述多个有效图案与框架中的开口叠置。

根据一个或更多个示例性实施例，提供了用于沉积的掩模和包括所述用于沉积的掩模的掩模组件，所述用于沉积的掩模控制由于对掩模施加张力而引起的掩模的有效图案的变形。掩模主体具有比由掩模的有效图案限定的厚度大的厚度，所以改善了掩模主体的刚度。第一虚设图案设置在最外面的有效图案和掩模主体的在掩模的第一方向上的端部之间，第二虚设图案设置在相邻的有效图案之间，每个虚设图案具有比掩模主体的厚度小的厚度，所以第一虚设图案和/或第二虚设图案分散或吸收了施加到有效图案的张力，由于在掩模的第一方向上对掩模施加的张力而引起的有效图案的变形得到控制。

附图说明

通过参照附图进一步详细地描述本公开的示例性实施例，本公开的上述和其他特征将变得更加清楚，在附图中：

图1是根据本发明的掩模组件的示例性实施例的分解透视图；

图2是图1中的掩模组件的俯视图；

图3是根据本发明的包括在掩模组件中的掩模的示例性实施例的俯视图；

图4是对于图3的线IV-IV的剖视图；

图5是根据本发明的掩模的另一示例性实施例的俯视图；

图6是对于图5的线VI-VI的剖视图；

图7是根据本发明的掩模的又一示例性实施例的俯视图。

具体实施方式

在下文中，将参照附图更充分地描述本发明，在附图中示出了本发明的示例性实施例。如本领域技术人员将认识到的，在所有不脱离本发明的精神或范围的情况下，可以以各种不同的方式修改描述的示例性实施例。

因此，附图和描述在本质上将被认为是说明性的，而不是限制性的。在整个说明书中，相同的附图标记指示相同的元件。如这里使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任意和所有组合。

在各个示例性实施例中，对于具有相同构造的元件使用相同的附图标记，并且将在一个示例性实施例中代表性地描述相同的附图标记，在其他示例性实施例中，将仅描述与所述一个示例性实施例的元件不同的元件。

为了更好的理解和易于描述而在附图中任意地示出了在附图中示出的每个组件的尺寸和厚度，但是本发明不限于图示。

在附图中，为了清晰起见，夸大了层、膜、面板、区域等的厚度。为了更好的理解和易于描述，在附图中增大了层、膜、面板、区域等的厚度。将理解的是，当诸如层、膜、区域或基底的元件被称作“在”另一元件“上”时，该元件可以直接在另一元件上，或者也可以存在中间元件。

另外，除非明确地描述为相反，否则词语“包括”及其变型形式将被理解为意指包含陈述的元件但不排除任何其他元件。在整个该说明书中，要理解的是，术语“在……上”和相似的术语被普遍地使用，而不需涉及重力参考。

将理解的是，虽然在这里可以使用术语第一、第二、第三等来描述各个元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应该受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、组件、区域、层或部分区别于另一个元件、组件、区域、层或部分。因此，在不脱离本发明的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组件、区域、层或部分可被命名为第二元件、组件、区域、层或部分。

考虑到测量问题以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)，如在这里使用的“大约”或“近似”包括陈述的值并意味着在如本领域的普通技术人员所确定的具体值的可接受偏差范围内。例如，“大约”可以指在一个或更多个标准偏差的范围内，或者在所陈述的值的±30％、20％、10％、5％的范围内。

除非另有定义，否则这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员所通常理解的意思相同的意思。还将理解的是，除非这里明确这样定义，否则术语(例如在通用字典中定义的术语)应该被解释为具有与相关领域的环境中它们的意思一致的意思，而将不以理想的或者过于正式的含义来解释它们。

除非这里另外指出或者通过上下文而清楚地相矛盾，否则可以按照合适的顺序执行这里描述的所有方法。除非另外声明，否则任何和所有示例的使用或者示例性语言(例如，“诸如”)仅意在更好地说明本发明，并不意图限制本发明的范围。如在这里使用的，说明书中的任何语言都不应该被解释为将任何未声明的元件指定为对于本发明的实施是必要的。

用于形成有机发光显示器的电极、有机发射层等的方法可以利用使用掩模组件的沉积方法而被采用。

已经使用了掩模组件，该掩模组件包括具有开口的框架和多个与开口相对应的呈带状的掩模，掩模的两端被固定到框架。可以通过对掩模施加张力来使掩模固定到框架。然而，限定在掩模中的图案开口的形状可能由于施加到掩模的张力而变形。因此，期望一种减少或有效地防止限定在掩模中的图案开口的形状的变形的改善的掩模组件。

在下文中，将参照附图详细地描述本发明。

现在将参照图1至图4来描述根据本发明的掩模组件。

图1是根据本发明的掩模组件的示例性实施例的分解透视图。图2是图1中的掩模组件的俯视图。

如图1和图2中所示，掩模组件包括框架100和多个掩模200。

开口110被限定在框架100中。框架100固定并支撑多个掩模200中的每个的各个端。当掩模200被固定到框架100并被框架100支撑时，框架100中的开口110暴露掩模200。框架100包括：一对第一支撑件120，在第一方向(x)上彼此面对并且开口110位于其之间；以及一对第二支撑件130，在与第一方向(x)交叉的第二方向(y)上彼此面对并且开口110位于其之间。掩模200的两个相对的端部200a被支撑在第一支撑件120处。在一个示例性实施例中，例如，通过使用诸如焊接的固定方法，使掩模200的相对的端部200a支撑在框架100的第一支撑件120处，同时在第一方向(x)上对掩模200施加张力。

在根据本发明的掩模组件的说明性的示例性实施例的框架100中，第一支撑件120形成具有大体上为四边形形状的框架100的长边，第二支撑件130形成框架100的短边。然而，在选择性的示例性实施例中，根据本发明的掩模组件的框架，第一支撑件120和第二支撑件130可以具有基本相同的长度。

此外，根据本发明的掩模组件的另一个示例性实施例的框架可以具有多边形形状或圆形形状，而不是四边形形状。

固定到框架100的掩模200被支撑在框架100上，同时在第一方向(x)上对掩模200施加张力。因此，通过在第一方向(x)上对掩模200施加的张力，框架100在第一方向(x)(即，掩模200的延长方向)上受到的压紧力。因为框架100受到压紧力，所以框架100可以包括具有足够的刚度的诸如不锈钢的金属材料，从而减少或有效地防止由于掩模200的压紧力而引起的框架100的变形。

掩模200具有在第一方向(x)上延伸的带状或条状，在沿第一方向(x)对掩模200施加张力的状态下，掩模200的相对端部200a被支撑到框架100。在掩模组件中设置了多个掩模200，并且多个掩模200沿与第一方向(x)交叉的第二方向(y)被设置并支撑在框架100处。可以在第二方向(y)上将掩模200布置成彼此接触或者彼此分隔开。

图3是根据本发明的包括在掩模组件中的掩模的示例性实施例的俯视图。图4是对于图3的线IV-IV的剖视图。

如图3和图4中所示，掩模200包括掩模主体210、有效图案220、第一虚设图案230和第二虚设图案240。

掩模主体210具有在第一方向(x)上延伸的带状，掩模主体210设置在框架100的开口110中并被支撑在框架100上。在第一方向(x)上分离地设置在中心区域中的多个有效图案220形成在掩模主体210上。

掩模主体210具有第一厚度T1。第一厚度T1可以是掩模主体210的最大厚度或总厚度。在一个示例性实施例中，例如，掩模主体210可以具有大约10微米(μm)至大约60μm的第一厚度T1，第一厚度T1可以基本为30μm。

掩模200的多个有效图案220彼此分离并且沿第一方向(x)被设置。有效图案220可以与一个有机发光显示器对应。在单个掩模200中具有多个有效图案220的情况下，可以通过单个工艺在其上将制造有机发光显示器的母基底上同时设置若干个有机发光显示器的多个图案。即，掩模200的有效图案220与构造有机发光显示器的图案的沉积区域对应。有效图案220包括贯穿掩模200的厚度的开口图案，使得构造有机发光显示器的有机发光图案可以通过有效图案220设置在母基底上。为条纹型开口图案的多个有效开口221被限定在有效图案220处的掩模主体210中。

有效图案220从掩模主体210的表面凹陷，以限定小于第一厚度T1的第二厚度T2。在一个示例性实施例中，例如，掩模200可以具有大约5μm至大约50μm的位于有效图案220处的第二厚度T2，第二厚度T2可以大体上为10μm。有效图案220可以被掩模主体210的具有第二厚度T2的一部分或更多部分和/或被掩模主体210的这样的部分限定的有效开口221所限定。

根据本发明的包括在掩模组件中的掩模200的示例性实施例的有效图案220的有效开口221具有条纹形状，但是不限于此。根据本发明的包括在掩模组件中的掩模的另一个示例性实施例的有效开口221可以具有诸如离散的点或者多边形形状的各种形状。

第一虚设图案230设置为邻近多个有效图案220中的设置到掩模200的在第一方向(x)上的最外侧的有效图案220。

第一虚设图案230设置在有效图案220和掩模主体210的端部200a之间。第一虚设图案230可以具有与有效图案220不同的形状。第一虚设图案230具有从掩模主体210的表面嵌入的形状，以限定第三厚度T3。掩模200在第一虚设图案230处具有第三厚度，第三厚度T3介于第一厚度T1和第二厚度T2之间。在一个示例性实施例中，例如，掩模200可以具有大约10μm至大约50μm的在第一虚设图案230处的第三厚度T3，第三厚度T3可以大体上为20μm。

掩模200可以包括多个第一虚设图案230。如图3和图4中示出的，三个第一虚设图案230分别设置在最外面的有效图案220和掩模主体210的端部200a之间。第一虚设图案230可以具有不同的形状。

虽然图3和图4示出了三个第一虚设图案230，但是本发明不限于此。在另一个示例性实施例中，可以有比三个第一虚设图案230多或者少的第一虚设图案230，例如，一个、两个或四个第一虚设图案230。

第一虚设图案230具有贯穿掩模200的开口图案。为条纹型开口图案的多个第一虚设开口231被限定在第一虚设图案230处的掩模主体210中。

根据本发明的包括在掩模组件中的掩模200的示例性实施例的第一虚设图案230的第一虚设开口231具有条纹形状，但是不限于此。根据本发明的包括在掩模组件中的掩模的示例性实施例的第一虚设开口231可以具有诸如离散的点或者多边形形状的各种形状。第一虚设图案230可以被掩模主体210的具有第三厚度T3的一部分或更多部分和/或被掩模主体210的这样的部分限定的第一虚设开口231所限定。

第二虚设图案240设置在来自多个有效图案220中的相邻的有效图案220之间。第二虚设图案240具有贯穿掩模200的开口图案。为条纹型开口图案的多个第二虚设开口241被限定在第二虚设图案240处的掩模主体210中。第二虚设图案240可以被掩模主体210的具有第三厚度T3的一部分或更多部分和/或被掩模主体210的这样的部分限定的第二虚设开口241所限定。

存在分别设置在相邻的有效图案220之间的多个第二虚设图案240。

第二虚设图案240从掩模主体210的表面嵌入，并且限定了由第一虚设图案230限定的同一第三厚度T3。

根据本发明的包括在掩模组件中的掩模200的示例性实施例的第二虚设图案240的第二虚设开口241具有条纹形状，但是不限于此。根据本发明的包括在掩模组件中的掩模的另一个示例性实施例的第二虚设开口241可以具有诸如离散的点或者多边形形状的各种形状。

如上所述，在根据本发明的掩模组件的掩模200的示例性实施例中，掩模主体210具有比由有效图案220限定的第二厚度T2大的第一厚度T1，所以改善了掩模主体210的刚度，并且当在第一方向(x)上对掩模200施加张力时，控制了由张力引起的有效图案220的变形。

此外，关于根据本发明的掩模组件的掩模200的示例性实施例，第一虚设图案230设置在最外面的有效图案220和掩模主体210的端部200a之间，并且具有介于由有效图案220限定的第二厚度T2和掩模主体210的第一厚度T1之间的第三厚度T3，所以当在第一方向(x)上对掩模200施加张力时，第一虚设图案230由于张力而大体上变形，第一虚设图案230分散或吸收了施加到有效图案220的张力，从而控制了因在第一方向(x)上施加的张力而引起的有效图案220的变形。

另外，关于根据本发明的掩模组件的掩模200的示例性实施例，第二虚设图案240设置在相邻的有效图案220之间，并且限定了介于由有效图案220限定的第二厚度T2和掩模主体210的第一厚度T1之间的第三厚度T3，所以当在第一方向(x)上对掩模200施加张力时，第二虚设图案240由于张力而变形，第二虚设图案240分散或吸收了施加到有效图案220的张力，从而控制了由于在第一方向(x)上施加的张力而引起的有效图案220的变形。

即，当在第一方向(x)上对掩模200施加张力时，第一虚设图案230由于张力而大体上变形，然后第二虚设图案240由于通过第一虚设图案230分散的张力而变形，施加到有效图案220的张力再次被分散，所以基本控制了由于在第一方向(x)上施加的张力而引起的用于沉积有机层的有效图案220的变形。

如上所述，根据本发明的掩模组件的掩模200的示例性实施例包括均限定介于掩模主体210的第一厚度T1和由有效图案220限定的第二厚度T2之间的第三厚度T3的第一虚设图案230和第二虚设图案240，所以当掩模200被固定到框架100时施加到掩模200的张力被第一虚设图案230和第二虚设图案240连续地分散，控制了由于张力而引起的有效图案220的变形。即，设置了用于控制由于对掩模200施加的张力而引起的有效图案220的变形的掩模200和包括该掩模200的掩模组件。

现在将参照图5和图6描述根据第二示例性实施例的掩模。

将描述与第一示例性实施例不同的部分，没有描述的部分遵循第一示例性实施例。为了更好理解和易于描述，与第一示例性实施例相同的第二示例性实施例的构成元件将具有相同的附图标记。

图5是根据本发明的掩模的另一示例性实施例的俯视图。图6是对于图5的线VI-VI的剖视图。

如图5和图6中所示，掩模202包括掩模主体210、有效图案220、第一虚设图案230和第二虚设图案240。

第二虚设图案240从掩模主体210的表面凹陷，以限定与有效图案220相同的第二厚度T2。

与上面的描述类似，关于根据本发明的掩模202的示例性实施例，第二虚设图案240设置在相邻的有效图案220之间，并且限定了与有效图案220相同的第二厚度T2，所以当在第一方向(x)上对掩模202施加张力时，第二虚设图案240由于张力而变形，施加到有效图案220的张力被分散，并且控制了由于在第一方向(x)上施加的张力而引起的有效图案220的变形。

即，当在第一方向(x)上对掩模202施加张力时，第一虚设图案230由于张力而大体上变形，第二虚设图案240由于被第一虚设图案230分散的张力而变形，施加到有效图案220的张力再次被分散，并且由于在第一方向(x)上施加的张力而引起的用于沉积有机层的有效图案220的变形基本得到控制。

如上所述，因为根据本发明的掩模202的示例性实施例包括具有与有效图案220相同的第二厚度T2的第二虚设图案240，所以当掩模202被固定到框架100时施加到掩模202的张力被第一虚设图案230和第二虚设图案240连续地分散，并且控制了由于张力而引起的有效图案220的变形。即，提供了用于控制由于对掩模202施加的张力而引起的有效图案220的变形的掩模202。

现在将参照图7描述根据又一示例性实施例的掩模。

将描述与图3和图4中的示例性实施例不同的部分，为了便于解释，省略相同部分的任何重复描述。为了更好理解和容易描述，与图3和图4中的示例性实施例相同的图7中的示例性实施例的构成元件将具有相同的附图标记。

图7是根据本发明的掩模的又一示例性实施例的俯视图。

如图7中所示，掩模203包括掩模主体210、有效图案220、第一虚设图案230和第二虚设图案240。

相邻的有效开口221之间的间隙限定了第一距离L1，相邻的第一虚设开口231之间的间隙限定了第二距离L2。第一距离L1小于第二距离L2。在与有效开口221和第一虚设开口231的延伸方向垂直的方向截取距离。

另外，相邻的第二虚设开口241之间的间隙限定了第三距离L3。第一距离L1小于第三距离L3。

第三距离L3可以与第二距离L2相等或者与第二距离L2不同。

如描述的，关于根据本发明的掩模203的示例性实施例，第三距离L3和第二距离L2分别大于第一距离L1，所以当在第一方向(x)上对掩模203施加张力时，张力被第一虚设图案230和第二虚设图案240分散，并且控制了由于在第一方向(x)上对掩模203施加的张力而引起的有效图案220的变形。

即，当在第一方向(x)上对掩模203施加张力时，第一虚设图案230和第二虚设图案240分散了张力，所以基本上控制了由于沿第一方向(x)施加的张力而引起的用于沉积有机层的有效图案220的变形。

如上所述，关于根据本发明的掩模203的示例性实施例，第一虚设图案230和第二虚设图案240连续地分散了施加到掩模203的张力，从而控制由于张力而引起的有效图案220的变形。

即，提供了用于控制由于对掩模203施加的张力而引起的有效图案220的变形的掩模203。

虽然已经结合当前被认为是实践性的示例性实施例的内容描述了本发明，但是将理解的是，本发明不限于公开的实施例，而是相反，本发明意图覆盖包括在权利要求的精神和范围内的各种修改和等同布置。

Claims (14)

1.一种用于沉积的掩模，所述掩模包括：

掩模主体，在第一方向上延伸，具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相对并被框架支撑的端部，同时张力在第一方向上被施加到掩模；

多个有效图案，在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分离，具有小于第一厚度的第二厚度；

第一虚设图案，位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间，具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度，

其中，多个有效开口限定在由第二厚度限定的所述多个有效图案中的一个有效图案中，

其中，多个第一虚设开口限定在第一虚设图案中。

2.根据权利要求1所述的掩模，所述掩模还包括多个第一虚设图案，位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间，具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度。

3.根据权利要求1所述的掩模，其中，

相邻的有效开口之间的第一距离比相邻的第一虚设开口之间的第二距离小。

4.根据权利要求1所述的掩模，所述掩模还包括：

第二虚设图案，位于所述多个有效图案中的相邻的有效图案之间。

5.根据权利要求4所述的掩模，其中，

第二虚设图案具有第二厚度。

6.根据权利要求4所述的掩模，其中，

第二虚设图案具有第三厚度。

7.根据权利要求4所述的掩模，所述掩模还包括多个第二虚设图案，分别位于来自所述多个有效图案中的相邻的有效图案之间。

8.根据权利要求4所述的掩模，其中，

多个有效开口限定在所述多个有效图案中的有效图案中，

多个第二虚设开口限定在第二虚设图案中，以及

相邻的有效开口之间的第一距离小于相邻的第二虚设开口之间的第三距离。

9.一种掩模组件，所述掩模组件包括：

框架，开口限定在框架中；以及

根据权利要求1所述的掩模，其中，当在第一方向上彼此相对的掩模端部被框架支撑，同时在第一方向上对掩模施加张力时，所述多个有效图案与框架中的开口叠置。

10.根据权利要求9所述的掩模组件，所述掩模组件还包括在与第一方向交叉的第二方向上布置的多个掩模，其中，所述多个掩模的所述多个有效图案与框架中的开口叠置。

11.一种形成掩模组件的方法，所述方法包括：

设置开口限定在其中的框架；

布置与框架中的开口叠置的掩模的多个有效图案，并将掩模的相对的第一方向端部结合到框架，同时在第一方向上对掩模施加张力；

其中，所述掩模包括：

掩模主体，在第一方向上延伸，具有第一厚度；

所述多个有效图案，在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分隔，具有小于第一厚度的第二厚度；

第一虚设图案，位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间，具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度，

其中，多个有效开口限定在由第二厚度限定的所述多个有效图案中的一个有效图案中，

其中，多个第一虚设开口限定在第一虚设图案中。

12.根据权利要求11所述的方法，所述方法还包括将多个掩模的相对的第一方向端部结合到框架，同时在第一方向上对所述多个掩模分别施加张力。

13.根据权利要求11所述的方法，其中，所述掩模还包括：

第一虚设图案，位于所述多个有效图案中的在第一方向上的最外面的有效图案和掩模主体的端部之间，具有介于第一厚度和第二厚度之间的第三厚度。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述掩模还包括：

第二虚设图案，位于所述多个有效图案中的相邻的有效图案之间，具有第二厚度或者第三厚度。