CN110284101A - 一种金属掩膜板及其制造方法 - Google Patents

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刘盛娟
范爽
兰兰
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
    • C25D1/08—Perforated or foraminous objects, e.g. sieves

Abstract

本发明涉及显示技术领域，公开了一种金属掩膜板及其制造方法，该金属掩膜板包括掩膜板本体，掩膜板本体具有用于进行掩膜的掩膜区域和位于掩膜区域两侧、用于被夹持的夹持区域，且掩膜区域具有至少一个有效显示区，有效显示区为镂空的网状格结构，夹持区域具有通过镭射工艺形成的力分散区。在夹持上述掩膜板本体进行操作时，力分散区可分散被夹持部位的集中受力，从而避免掩膜板本体局部受力过大产生褶皱；或者，在对上述掩膜板进行焊接操作时，由于掩膜板本体上形成有力分散区，力分散区可分解掩膜板本体局部受热产生的热应力，进一步避免掩膜板本体产生褶皱变形的现象，从而可降低掩膜板本体产生褶皱隆起划伤玻璃的风险。

Description

一种金属掩膜板及其制造方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种金属掩膜板及其制造方法。
背景技术
有源矩阵有机发光二极体(Active-matrix organic light emitting diode，简称AMOLED)显示屏幕因其色域广，对比度高，响应速度快，发光效率高，且无需背光源等优势，已经逐渐进入消费者的视野。
但是，现有技术制造出的掩膜板焊接强度不足、强度变弱易破坏，并且具有褶皱隆起划伤玻璃的风险。
发明内容
本发明提供了一种金属掩膜板及其制造方法，上述金属掩膜板具有力分散区，利于分散夹持或焊接状态下掩膜板本体的集中受力，可降低掩膜板本体产生褶皱隆起划伤玻璃的风险。
为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：
一种金属掩膜板，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体具有用于进行掩膜的掩膜区域和位于所述掩膜区域两侧、用于被夹持的夹持区域，且所述掩膜区域具有至少一个有效显示区，所述有效显示区为镂空的网格状结构，所述夹持区域具有通过镭射工艺形成的力分散区。
上述掩膜板本体中，掩膜板本体具有掩膜区域和夹持区域，而掩膜区域具有至少一个有效显示区，有效显示区为镂空的网格状结构，夹持区域具有用于分散掩膜板本体上集中受力的力分散区。需要说明的是，在夹持上述掩膜板本体进行操作时，力分散区可分散被夹持部位的集中受力，从而避免掩膜板本体局部受力过大产生褶皱；或者，在对上述掩膜板进行焊接操作时，由于掩膜板本体上形成有力分散区，力分散区可分解掩膜板本体局部受热产生的热应力，进一步避免掩膜板本体产生褶皱变形的现象。
因此，上述金属掩膜板具有力分散区，利于分散夹持或焊接状态下掩膜板本体的集中受力，可降低掩膜板本体产生褶皱隆起划伤玻璃的风险。
优选地，所述掩膜板本体具有位于所述有效显示区周侧的受力过渡区。
优选地，所述掩膜板本体具有与所述有效显示区一一对应的开口，每一对相互对应的开口和有效显示区之间：所述开口的尺寸大于所述有效显示区的尺寸，且所述有效显示区在所述掩膜板本体底面的投影位于所述开口的投影内。
本发明还提供一种包括上述技术方案中提供的任意一种金属掩膜板的制造方法，包括：
形成掩膜板本体，且在所述掩膜板本体的掩膜区域形成至少一个有效显示区，所述有效显示区为镂空的网格状结构，在所述掩膜板本体的夹持区域通过镭射工艺形成力分散区。
优选地，所述形成所述掩膜板的方法包括：
采用一次电铸工艺形成具有所述夹持区域和掩膜区域的初始板体；
采用二次电铸工艺在所述初始板体上形成加厚层，且所述加厚层具有与所述初始板体上所述有效显示区一一对应的开口；
采用镭射工艺在所述掩膜板本体的夹持区域形成力分散区。
优选地，所述加厚层具有的开口的尺寸大于与其对应的有效显示区的尺寸。
优选地，在所述二次电铸工艺之前，还包括：
通过一次构图工艺在所述初始板体上形成光阻保护层，所述光阻保护层具有与初始板体上所述有效显示区一一对应的覆盖部，且所述覆盖部的尺寸大于所述有效显示区的尺寸。
优选地，所述初始板体的厚度范围为10～15um。
优选地，所述加厚层的厚度范围为10～15um。
附图说明
图1为本发明实施例提供的金属掩膜板的结构示意图；
图2为图1中A-A处剖视图；
图3为图1中B-B处剖视图；
图4为本发明实施例提供的金属掩膜板的制造方法中初始板体结构示意图；
图5为图4中C-C处剖视图；
图6至图7为本发明实施例提供的金属掩膜板的制造方法中结构变化示意图；
图8为图4中D-D处剖视图。
图标：1-掩膜板本体；2-初始板体；3-加厚层；4-有效显示区；5-力分散区；6-覆盖部。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参考图1至图3，本发明提供一种金属掩膜板，包括掩膜板本体1，掩膜板本体1具有用于进行掩膜的掩膜区域和位于掩膜区域两侧、用于被夹持的夹持区域，且掩膜区域具有至少一个有效显示区4，有效显示区4为镂空的网状格结构，夹持区域具有通过镭射工艺形成的力分散区5。
上述掩膜板本体1中，掩膜板本体1具有掩膜区域和夹持区域，而掩膜区域具有至少一个有效显示区4，有效显示区4为镂空的网格状结构，夹持区域具有用于分散掩膜板本体1上集中受力的力分散区5。需要说明的是，在夹持上述掩膜板本体1进行操作时，力分散区5可分散被夹持部位的集中受力，从而避免掩膜板本体1局部受力过大产生褶皱；或者，在对上述掩膜板进行焊接操作时，由于掩膜板本体1上形成有力分散区5，力分散区5可分解掩膜板本体1局部受热产生的热应力，进一步避免掩膜板本体1产生褶皱变形的现象。
因此，上述金属掩膜板具有力分散区5，利于分散夹持或焊接状态下掩膜板本体1的集中受力，可降低掩膜板本体1产生褶皱隆起划伤玻璃的风险。
在上述技术方案的基础上，为了尽可能的避免有效显示区4周围的掩膜板本体1发生褶皱或断裂，作为一种优选实施方式，掩膜板本体1具有位于有效显示区4周侧的受力过渡区。
具体的，请继续参考图1至图3，掩膜板本体1具有与有效显示区4一一对应的开口，每一对相互对应的开口和有效显示区4之间：开口的尺寸大于有效显示区4的尺寸，且有效显示区4在掩膜板本体1底面的投影位于开口的投影内。
本发明还提供一种包括上述技术方案中提供的任意一种金属掩膜板的制造方法，包括：
形成掩膜板本体1，且在掩膜板本体1的掩膜区域形成至少一个有效显示区4，有效显示区4为镂空的网格状结构，在掩膜板本体1的夹持区域通过镭射工艺形成力分散区5，如图1至图3中结构所示。
采用本发明提供的制造方法制造的金属掩膜板中，掩膜板本体1具有掩膜区域和夹持区域，而掩膜区域具有至少一个有效显示区4，有效显示区4为镂空的网格状结构，夹持区域具有用于分散掩膜板本体1上集中受力的力分散区5。需要说明的是，在夹持上述掩膜板本体1进行操作时，力分散区5可分散被夹持部位的集中受力，从而避免掩膜板本体1局部受力过大产生褶皱；或者，在对上述掩膜板进行焊接操作时，由于掩膜板本体1上形成有力分散区5，力分散区5可分解掩膜板本体1局部受热产生的热应力，进一步避免掩膜板本体1产生褶皱变形的现象。
因此，采用上述方法制造的金属掩膜板具有力分散区5，利于分散夹持或焊接状态下掩膜板本体1的集中受力，可降低掩膜板本体1产生褶皱隆起划伤玻璃的风险。
在上述技术方案的基础上，优选的，形成掩膜板的方法包括：
步骤S101：请参考图4、图5和图8，采用一次电铸工艺形成具有夹持区域和掩膜区域的初始板体2；
步骤S102：请参考图5、图6和图7采用二次电铸工艺在初始板体2上形成加厚层3，且加厚层3具有与初始板体2上有效显示区4一一对应的开口；
步骤S103：请参考图1，采用镭射工艺在掩膜板本体1的夹持区域形成力分散区5。
需要说明的是，在初始板体2上增加加厚层3后形成掩膜板本体1，且加厚层3的材料可以和初始板体2的材料相同。
上述金属掩膜板的制造方法中，采用了两次电铸工艺，在一次电铸工艺后，可形成初始板体2，该初始板体2具有掩膜区域，掩膜区域内具有至少一个有效显示区4；在二次电铸工艺后，可在初始本体上形成加厚层3，且该加厚层3具有与有效显示区4一一对应的开口。
需要说明的是，在进行一次电铸形成初始板体2以及进行二次电铸形成加厚层3时，可根据需求控制有效显示区4内网格状结构的开口密度或形状，且可根据需要设置初始板体2以及加厚层3的厚度，从而为后续焊接做准备，防止焊接过程中因板体强度不足或强度变弱被破坏或者产生褶皱。
此外，采用二次电铸工艺形成的掩膜板本体1表面平整度较高，降低了掩膜板本体1形成褶皱隆起划伤玻璃的风险。
需要说明的是，为了更好了分散掩膜板本体1上的集中受力，力分散区5的形状可根据实际使用需求进行变化，力分散区5可为镂空状或半镂空状，如图1和图2所示，力分散区5为镂空状。
在上述技术方案的基础上，为了尽可能的避免有效显示区4周围的掩膜板本体1发生褶皱或断裂，作为一种优选实施方式，请继续参考图7，加厚层3具有的开口的尺寸大于与其对应的有效显示区4的尺寸，即，加厚层3朝向开口的一侧与初始板体2朝向加厚层3的一侧形成台阶状结构，台阶状结构形成受力过渡区。
在上述技术方案的基础上，需要说明的是，在二次电铸工艺之前，还包括：
通过一次构图工艺在初始板体2上形成光阻保护层，光阻保护层具有与初始板体2上有效显示区4一一对应的覆盖部6，且覆盖部6的尺寸大于开口的尺寸，如图6所示。
具体的，一次电铸工艺的工艺路线可以为：芯模前处理→电铸成型→剥离→退模；二次电铸工艺的工艺路线可以为：芯模前处理→电铸成型→剥离→退模→清洗。
需要说明的是，由于覆盖部6的尺寸大于开口的尺寸，因而可使加厚层3具有的开口尺寸大于与其对应的有效显示区4的开口尺寸，从而使得掩膜板本体1朝向有效显示区4的一侧边缘形成台阶状结构。
在上述技术方案的基础上，初始板体2的厚度范围为10～15um。
在上述技术方案的基础上，加厚层3的厚度范围为10～15um。
需要说明的是，为了便于后续对掩膜板的焊接操作，优选的，掩膜板本体1的厚度为20um，其中，初始板体2的厚度可为10um，加厚层3的厚度也可为10um。
显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (9)

1.一种金属掩膜板，其特征在于，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体具有用于进行掩膜的掩膜区域和位于所述掩膜区域两侧、用于被夹持的夹持区域，且所述掩膜区域具有至少一个有效显示区，所述有效显示区为镂空的网格状结构，所述夹持区域具有通过镭射工艺形成的力分散区。
2.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述掩膜板本体具有位于所述有效显示区周侧的受力过渡区。
3.根据权利要求2所述的金属掩膜板，其特征在于，所述掩膜板本体具有与所述有效显示区一一对应的开口，每一对相互对应的开口和有效显示区之间：所述开口的尺寸大于所述有效显示区的尺寸，且所述有效显示区在所述掩膜板本体底面的投影位于所述开口的投影内。
4.一种如权利要求1-3任一项所述的金属掩膜板的制造方法，其特征在于，包括：
形成掩膜板本体，且在所述掩膜板本体的掩膜区域形成至少一个有效显示区，所述有效显示区为镂空的网格状结构，在所述掩膜板本体的夹持区域通过镭射工艺形成力分散区。
5.根据权利要求4所述的金属掩膜板的制造方法，其特征在于，所述形成所述掩膜板的方法包括：
采用一次电铸工艺形成具有所述夹持区域和掩膜区域的初始板体；
采用二次电铸工艺在所述初始板体上形成加厚层，且所述加厚层具有与所述初始板体上所述有效显示区一一对应的开口；
采用镭射工艺在所述掩膜板本体的夹持区域形成力分散区。
6.根据权利要求5所述的金属掩膜板的制造方法，其特征在于，所述加厚层具有的开口的尺寸大于与其对应的有效显示区的尺寸。
7.根据权利要求6所述的金属掩膜板的制造方法，其特征在于，在所述二次电铸工艺之前，还包括：
通过一次构图工艺在所述初始板体上形成光阻保护层，所述光阻保护层具有与初始板体上所述有效显示区一一对应的覆盖部，且所述覆盖部的尺寸大于所述有效显示区的尺寸。
8.根据权利要求5或6所述的金属掩膜板的制造方法，其特征在于，所述初始板体的厚度范围为10～15um。
9.根据权利要求5或6所述的金属掩膜板的制造方法，其特征在于，所述加厚层的厚度范围为10～15um。
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