JP5427813B2 - マスク及びこれを含むマスク組立体 - Google Patents

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Description

本発明はマスクに関し、より詳しくは複数の単位マスクを支持するフレームを含むマスク組立体に関する。
一般的に、平板表示装置の代表的な例として、有機発光表示装置(organic light emitting display)、液晶表示装置(liquid crystal display)及びプラズマディスプレイパネル(plasma display panel)等がある。
このうち、有機発光表示装置を製造するためには、特定パターンを有する電極と有機発光層などを形成する必要があり、その形成法としてマスク組立体を利用した蒸着法が適用される。
より詳細には、有機発光表示装置は、基板に画像表現の基本単位の画素(pixel)がマトリックス状に配列され、各々の画素に赤色(Red)、緑色(Green)、青色(Blue)等の光を発光する各々の有機発光層を間において正極の第1電極と負極の第2電極が順に形成された有機発光素子が配置される構成を有する。ここで、有機発光層を形成する有機物質は、水分及び酸素などに非常に弱いので、有機発光層を形成する工程及び有機発光層を形成した後にも水分から徹底的に隔離しなければならず、通常のフォトリソグラフィ工程を利用してのパターニングでは取り扱いが難しい。従って、有機発光層及び第2電極などは、主に各パターンに対応する部分にのみ蒸着物質が貫通するためのパターン開口部が形成されているマスクを利用して形成する。
従来、開口部を備えたフレーム、開口部に対応して両端部がフレームに固定される帯状の複数の単位マスクを含むマスク組立体が使用されていた。
このような従来のマスク組立体は、単位マスクに引張力が加えられてフレームに支持されるため、単位マスクに加えられる引張力によって単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形する問題があった。
本発明の実施形態は、前述した問題を解決するためのものであって、本発明の目的は、単位マスクに加えられる引張力によって、単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形することを抑制したマスク、及びこれを含むマスク組立体を提供することである。
前述した技術的課題を達成するための本発明の第1側面は、開口部を含むフレーム、及び開口部上に位置して一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームに支持される1つ以上の単位マスクを含み、単位マスクは一方向に配置された複数のパターン開口部、及びパターン開口部と隣接してパターン開口部と単位マスクの枠の間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第1グルーブを含むマスク組立体を提供する。
第1グルーブは、第1グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスクの表面上で変形した幅を有してもよい。
第1グルーブは単位マスクの表面上で半円形状であってもよい。
単位マスクは、パターン開口部と隣接し、隣接するパターン開口部の間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第2グルーブをさらに含んでもよい。
第2グルーブは、第2グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて単位マスクの表面上で変形した幅を有してもよい。
第2グルーブは単位マスクの表面上で半円または円錐形状であってもよい。
第1グルーブは複数であり、単位マスクは隣接する第1グルーブの間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第3グルーブをさらに含んでもよい。
第3グルーブは多角形状であってもよい。
単位マスクは、一方向に配置された複数のパターン開口部のうち最外側に位置するパターン開口部と単位マスクの端部との間に位置するダミーパターンをさらに含んでもよい。
ダミーパターンは、ダミーパターンと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて単位マスクの表面上で変形した幅を有してもよい。
ダミーパターンは単位マスクを貫通してもよい。
ダミーパターンは単位マスクの表面に陥没形成されてもよい。
ダミーパターンはフレームと対応してもよい。
パターン開口部の形状は、帯状(stripe)またはドット状(dot)であってもよい。
また、本発明の第2側面は、一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームに支持される単位マスクにおいて、一方向に沿って延長された帯状の単位マスク本体部、一方向に配置された複数のパターン開口部及びパターン開口部と隣接してパターン開口部と単位マスク本体部の枠の間に位置し、単位マスク本体部の表面に陥没形成された第1グルーブを含む単位マスクを提供する。
第1グルーブは、第1グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有してもよい。
パターン開口部と隣接し、隣接するパターン開口部の間に位置し、単位マスク本体部の表面に陥没形成された第2グルーブをさらに含んでもよい。
第2グルーブは、第2グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有してもよい。
第1グルーブは複数であり、隣接する第1グルーブの間に位置し、単位マスク本体部の表面に陥没形成された第3グルーブをさらに含んでもよい。
一方向に配置された複数のパターン開口部のうち最外側に位置するパターン開口部と単位マスク本体部の端部との間に位置するダミーパターンをさらに含んでもよい。
ダミーパターンは、ダミーパターンと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有してもよい。
パターン開口部の形状は、帯状(stripe)またはドット状(dot)であってもよい。
前述した本発明の実施形態によれば、単位マスクに加えられる引張力によって、単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形することを抑制できるマスク、及びこれを含むマスク組立体が提供される。
本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体を示す分解斜視図である。 本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体を示す平面図である。 本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。 図3のIV-IV線に沿った断面図である。 本発明の第2の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。 本発明の第3の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。 本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散し、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。 本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散し、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。 本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散し、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。 本発明の第4の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。 本発明の第5の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。 図11のXII-XII線に沿った断面図である。
以下、添付図面を参照しながら、本発明の多様な実施形態について本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は様々に相違した形態で実現することができ、ここで説明する実施形態に限定されることはない。
また、多様な実施形態において、同一の構成を有する構成要素については、同一の符号を使って代表的に第1の実施形態で説明し、その他の実施形態では第1の実施形態と異なる構成についてのみ説明する。
本発明を明確に説明するために説明上不要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似する構成要素については同一参照符号を付与した。
また、図面に示された各構成の大きさ及び厚さは説明の便宜上任意に示すものであり、本発明によるマスク及びその周辺部、並びにマスク組立体が必ずしも示された通りの大きさ及び厚さを有する構成であるとは限らない。
図面においてから複数の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。そして、図面において、説明の便宜のために、一部の層及び領域の厚さを誇張して示した。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上に」または「上部に」あるという時、これは他の部分の「直上」にある場合だけでなく、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。一方、ある部分が他の部分の「直上」にあるという時には中間に他の部分がないことを意味する。
以下、図1〜図4を参照して本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体について説明する。
図1は、本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体を示す分解斜視図である。図2は、本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体を示す平面図である。
図1及び図2に示すように、本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体は、フレーム100及び複数の単位マスク200を含む。
フレーム100は複数の各々の単位マスク200の両端を固定及び支持し、単位マスク200を露出させる開口部110を含む。フレーム100は、開口部110を間において後述する第2支持部130の延長方向の第1方向(x)に沿って互いに対向する一対の第1支持部120及び開口部110を間において、第1方向(x)と直交する第2方向(y)に沿って互いに対向する一対の第2支持部130をさらに含む。第2支持部130には溶接などの固定方法を利用して、単位マスク200が第2方向(y)に引張力が加えられた状態で単位マスク200の両端部200aが支持される。
本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体のフレーム100において、第1支持部120が四角形状のフレーム100の短辺を構成し、第2支持部130がフレーム100の長辺を構成するが、本発明の第2の実施形態にかかるマスク組立体のフレームにおいて、第1支持部120及び第2支持部130は実質的に同じ長さで形成される。また、本発明の第3の実施形態にかかるマスク組立体のフレームは多角形または円形状で構成される。
フレーム100に固定される単位マスク200は、引張力が印加された状態でフレーム100によって支持されるが、フレーム100は単位マスク200に印加された引張力によって、単位マスク200の延長方向の第2方向(y)に沿って圧縮力が作用するため、単位マスク200の圧縮力による変形が生じないように、強性が大きいステンレス鋼(stainless steel)などの金属材料で形成される。
単位マスク200は第2方向(y)に延長された帯状であり、第2方向(y)に引張力が加えられた状態で両端部200aがフレーム100によって支持される。単位マスク200は複数であり、複数の単位マスク200が第1方向(x)に沿ってフレーム100に配置されて支持される。
以下、図2〜図4を参照して本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクについて詳しく説明する。
図3は本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。図4は図3のIV-IV線に沿った断面図である。
図2〜図4に示すように、単位マスク200は、単位マスク本体部210、パターン開口部220、第1グルーブ230、第2グルーブ240、第3グルーブ250及びダミーパターン260を含む。
単位マスク本体部210は第2方向(y)に沿って延長された帯状であり、フレーム100の開口部110上に位置し、フレーム100によって支持されている。単位マスク本体部210には第2方向(y)に沿って複数のパターン開口部220が形成されている。
パターン開口部220は、1つの単位マスク200に第2方向(y)に複数配置されている。パターン開口部220は1つの有機発光表示装置に対応でき、この場合、単位マスク200を通して、単一工程で複数の有機発光表示装置を構成するパターンを有機発光表示装置が製造されるマザーボードに同時に形成できる。即ち、パターン開口部220は、有機発光表示装置を構成する複数のパターンの蒸着領域に対応して単位マスク200に配置される。パターン開口部220は、有機発光表示装置を構成するパターンがパターン開口部220を通してマザーボードに形成できるように、単位マスク200を貫通するオープンパターン形態を有する。パターン開口部220の形状は帯状(stripe)であり、パターン開口部220と隣接して第1グルーブ230が位置している。
第1グルーブ230は、パターン開口部220と単位マスク200の枠200bとの間に位置し、単位マスク200の表面200cで陥没形成されている。第1グルーブ230は、第2方向(y)に沿って配置された複数の各々のパターン開口部220に対応して、第2方向(y)に沿って複数が配置されており、第2方向(y)の最外側に位置するパターン開口部220と単位マスク200の枠200bとの間で最外側に位置するパターン開口部220と隣接して配置されている。第1グルーブ230は、単位マスク200の表面200c上で半円形状を有する。第1グルーブ230は半円形状を有することによって、単位マスク200の表面200c上で変形する幅(W)を有する。第1グルーブ230が有する変形した幅(W)は、単位マスク200に印加される引張力によって、第1グルーブ230と隣接するパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて変形しているが、図3に示すように、単位マスク200の表面200c上でパターン開口部220が四角形状を有する場合、パターン開口部220の一辺221と対応する第1グルーブ230の幅(W)は、パターン開口部220の一辺221の中央の部分に対応する部分からパターン開口部220の一辺221の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭くなる。即ち、単位マスク200に印加された引張力によって、パターン開口部220の一辺221の全体部分のうち、他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する第1グルーブ230の幅(W)は、前記パターン開口部220の他の部分に対応する第1グルーブ230の幅(W)より広く形成される。このように、第1グルーブ230がパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて単位マスク200の表面200c上で変形した幅(W)を有することによって、パターン開口部220に印加される引張力が分散する。さらに、第1グルーブ230によってパターン開口部220に印加される引張力が分散することによって、単位マスク200に印加される引張力によってパターン開口部220が変形することが抑制される。
以上のように、変形した幅(W)を有する第1グルーブ230によってパターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200の第1グルーブ230は、パターン開口部220が一辺221の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅(W)が一辺221の他の部分に対応する幅(W)より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクの第1グルーブは、パターン開口部220が一辺221の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅(W)が一辺221の他の部分に対応する幅(W)より狭く形成される。
第2グルーブ240は、第2方向(y)に沿って配置された複数のパターン開口部220のうち隣接するパターン開口部220の間でパターン開口部220と隣接して位置し、単位マスク200の表面200cで陥没形成されている。第2グルーブ240は、単位マスク200の表面200c上で半円形状を有する。第2グルーブ240は、半円形状を有することによって、単位マスク200の表面200c上で変形する幅(W)を有する。第2グルーブ240が有する変形する幅(W)は、単位マスク200に印加される引張力によって第2グルーブ240と隣接するパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて変形するが、図3に示すように、単位マスク200の表面200c上でパターン開口部220が四角形状を有する場合、パターン開口部220の一辺221と対応する第2グルーブ240の幅(W)は、パターン開口部220の一辺221の中央の部分に対応する部分からパターン開口部220の一辺221の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭くなる。即ち、単位マスク200に印加された引張力によって、パターン開口部220の一辺221の全体部分のうちの他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する第2グルーブ240の幅(W)は、前記パターン開口部220の他の部分に対応する第2グルーブ240の幅(W)より広く形成される。このように、第2グルーブ240がパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて単位マスク200の表面200c上で変形した幅(W)を有することによって、パターン開口部220に印加される引張力が分散する。さらに、第2グルーブ240によってパターン開口部220に印加される引張力が分散することにより、単位マスク200に印加される引張力によるパターン開口部220の変形が抑制される。
以上のような変形した幅(W)を有する第2グルーブ240によってパターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることが実験を通して確認でき、この実験については後述する。
本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200の第2グルーブ240は、パターン開口部220が一辺221の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅(W)が一辺221の他の部分に対応する幅(W)より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200の第2グルーブ240は、パターン開口部220が一辺221の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅(W)が一辺221の他の部分に対応する幅(W)より狭く形成される。
また、本発明の第1の実施形態にかかる第2グルーブ240は、隣接するパターン開口部220の間に2つ位置するが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200の第2グルーブ240は、隣接するパターン開口部220の間に1つまたは3つ以上位置してもよい。
第3グルーブ250は、第2方向(y)に沿って配置された複数の各々のパターン開口部220に対応して、第2方向(y)に沿って複数が配置された第1グルーブ230の間に位置し、単位マスク200の表面200cに陥没形成されている。第3グルーブ250は、単位マスク200の表面200c上に四角形状で形成される。第3グルーブ250はパターン開口部220に印加される引張力を分散し、第3グルーブ250によってパターン開口部220に印加される引張力が分散するため、単位マスク200に印加される引張力によってパターン開口部220が変形することが抑制される。
以上のような変形した幅(W)を有する第3グルーブ250によってパターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200の第3グルーブ250は、単位マスク200の表面上で四角形状を有するが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200の第3グルーブ250は、三角形、円形または五角形などの多角形状を有してもよい。
また、本発明の第1の実施形態にかかる第3グルーブ250は、隣接する第1グルーブ230の間に1つだけが位置するが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200の第3グルーブ250は、隣接する第1グルーブ230の間に複数位置してもよい。
ダミーパターン260は、第2方向(y)に配置された複数のパターン開口部220のうち最外側に位置するパターン開口部220と単位マスク200の端部200aとの間に位置し、単位マスク200に印加される引張力によって、パターン開口部220に印加される引張力を分散させる役割を果たす。ダミーパターン260は、パターン開口部220に印加される引張力を分散させることによって、単位マスク200に印加される引張力によってパターン開口部220が変形することを抑制する。ダミーパターン260はフレーム100と対応し、フレーム100上に位置する。このように、ダミーパターン260がフレーム100上に位置することによって、マスク組立体を利用した蒸着工程において、蒸着手段がダミーパターン260を通してマザーボードに蒸着されることが防止される。ダミーパターン260は、パターン開口部220のように帯状(stripe)である。
以上のように、ダミーパターン260によってパターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
このように、本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200は、パターン開口部220に印加される引張力を分散させる第1グルーブ230、第2グルーブ240、第3グルーブ250、及びダミーパターン260を含むことによって、単位マスク200によって印加される引張力によってパターン開口部220が変形することを抑制する。
以下、図5を参照して本発明の第2の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
図5は本発明の第2の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
図5に示すように、単位マスク202は単位マスク本体部210、パターン開口部220、第1グルーブ230、第2グルーブ240、第3グルーブ250及びダミーパターン260を含む。
第2グルーブ240は、第2方向(y)に沿って配置された複数のパターン開口部220のうち隣接するパターン開口部220の間でパターン開口部220と隣接して位置し、単位マスク202の表面200cに陥没形成されている。第2グルーブ240は、単位マスク202の表面200c上で円錐形を有している。第2グルーブ240は円錐形を有することによって、単位マスク202の表面200c上で変形する幅(W)を有する。第2グルーブ240が有する変形した幅(W)は、単位マスク202に印加される引張力によって第2グルーブ240と隣接するパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて変形しているが、図5に示すように、単位マスク202の表面200c上でパターン開口部220が例えば四角形状を有する場合、パターン開口部220の一辺221と対応する第2グルーブ240の幅(W)は、パターン開口部220の一辺221の中央の部分に対応する部分からパターン開口部220の一辺221の外郭の部分に対応する部分へ行くほど広くなる。即ち、単位マスク202に印加された引張力によって、パターン開口部220の一辺221の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する第2グルーブ240の幅(W)は、前記パターン開口部220の他の部分に対応する第2グルーブ240の幅(W)より狭く形成される。このように、第2グルーブ240がパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク202の表面200c上で変形した幅(W)を有することによって、パターン開口部220に印加される引張力が分散する。さらに、第2グルーブ240によってパターン開口部220に印加される引張力が分散することによって、単位マスク202に印加される引張力によってパターン開口部220が変形することが抑制される。本発明の第2の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク202のパターン開口部220及びダミーパターン260の形状はドット状(dot)を有する。
本発明の第1の実施形態及び第2の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク及びダミーパターンは帯状(stripe)またはドット状(dot)を有するが、これに限定されずに本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク及びダミーパターンは多様な形状を有する。
以上のような第1グルーブ230、第3グルーブ250、ダミーパターン260及び変形した幅(W)を有する第2グルーブ240によってパターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
このように、本発明の第2の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク202は、パターン開口部220に印加される引張力を分散させる第1グルーブ230、第2グルーブ240、第3グルーブ250及びダミーパターン260を含むことによって、単位マスク202によって印加される引張力によって、パターン開口部220が変形することが抑制される。
以下、図6を参照して本発明の第3の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
図6は本発明の第3の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
図6に示すように、単位マスク203は単位マスク本体部210、パターン開口部220、第1グルーブ230及びダミーパターン260を含む。
即ち、本発明の第3の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク203は、前述した第1の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200、及び前述した第2の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク202に含まれている第1グルーブ230、第2グルーブ240及び第3グルーブ250のうち第1グルーブ230のみを含む。また、パターン開口部220及びダミーパターン260は、第1の実施形態にて用いた帯状のものと同様である。
以上のような第1グルーブ230及びダミーパターン260によってパターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
このように、本発明の第3の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク203は、パターン開口部220に印加される引張力を分散させる第1グルーブ230及びダミーパターン260を含む。このため、第3の実施形態にかかるマスク組立体でも、単位マスク203によって印加される引張力によってパターン開口部220が変形することを抑制できる。
以下、図7〜図9を参照して、前述した本発明の第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態にかかるマスク組立体各々に含まれている各々の単位マスク200、202及び203の各々のパターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることが確認できた実験について説明する。
図7〜図9は、本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散して、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。
まず、図7の(a)は、前述した本発明の本発明の第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態各々にかかるマスク組立体各々に含まれている単位マスク200、202及び203及び比較例1〜比較例9各々にかかる単位マスク11〜19を示す平面図である。図7の(b)は図7の(a)に示された各々の単位マスクを同一引張力が印加された状態で同一フレームに支持した時、各々の単位マスクに含まれているパターン開口部の変形値を測定したグラフである。図7の(b)に示されたグラフにおいて、x軸は測定されたパターン開口部の変形値を示すグラフの高低差の値を示し、y軸はパターン開口部の変形値を示す。
図7に示すように、比較例1〜比較例9の各々にかかる単位マスク11〜19に含まれている各々のパターン開口部は同一引張力が各単位マスク11〜19に印加された時、各々のパターン開口部の変形値が2.3μm〜5.4μmの高低差の値を示すが、一方、本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200のパターン開口部220は、引張力が単位マスク200に印加された時、パターン開口部220の変形値が1.6μmの高低差の値を示す。即ち、本発明の第1の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク200は、比較例1〜比較例9の各々にかかる単位マスク11〜19に比べて、パターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることが確認できた。
また、比較例1〜比較例9の各々にかかる単位マスク11〜19に含まれている各々のパターン開口部は、同一引張力が各単位マスク11〜19に印加された時、各々のパターン開口部の変形値が2.3μm〜5.4μmの高低差の値を示すが、一方、本発明の第2の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク202のパターン開口部220は、引張力が単位マスク202に印加された時、パターン開口部220の変形値が1.6μmの高低差の値を示す。即ち、本発明の第2の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク202は、比較例1〜比較例9の各々にかかる単位マスク11〜19に比べて、パターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることが確認できた。
また、比較例1〜比較例9の各々にかかる単位マスク11〜19に含まれている各々のパターン開口部は、同一引張力が各単位マスク11〜19に印加された時、各々のパターン開口部の変形値が2.3μm〜5.4μmの高低差の値を示すが、一方、本発明の第3の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク203のパターン開口部220は引張力が単位マスク203に印加された時、パターン開口部220の変形値が1.7μmの高低差の値を示す。即ち、本発明の第3の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク203は、比較例1〜比較例9の各々による単位マスク11〜19に比べて、パターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることが確認できた。
次に、図8は前述した本発明の本発明の第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態の各々にかかる各々のマスク組立体に含まれている単位マスク200、202及び203及び比較例1〜比較例9の各々にかかる各々の単位マスク11〜19を同一引張力が印加された状態で同一なフレームに支持した時、各々の単位マスクの位置別変形値を測定したグラフである。図8に示されたグラフにおいて、x軸は各々の単位マスクの位置を示し(各々の単位マスクの長さは200mmに設定した)、y軸は各々の単位マスクの変形値を示す。
図8に示すように、比較例1〜比較例9の各々にかかる単位マスク11〜19は、同一引張力が各単位マスク11〜19に印加された時、各々の単位マスクの位置別変形値が本発明の第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク200、202及び203の位置別変形値に比べて、さらに変形することが確認できた。
即ち、本発明の第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク200、202及び203は、各単位マスクの位置別変形が比較例1〜比較例9の各々にかかる単位マスク11〜19に比べて、あまり変形しないことによって、各パターン開口部220に印加される引張力が分散して各パターン開口部220の変形が抑制されることが確認できた。
次に、図9は前述した本発明の本発明の第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態の各々にかかるマスク組立体の各々に含まれている単位マスク200、202及び203、及び比較例1〜比較例9の各々にかかる単位マスク11〜19の各々を同一引張力が印加された状態で同一フレームに支持した時、各々の単位マスクに含まれているパターン開口部に印加される圧力を示す図面である。図9に示された図面は、Dassault Systemes社のSIMULIAで販売する構造、電気及び熱解析ツールであるABAQUSを使って、シミュレーション(simulation)した実験を利用して導出された。図9にあっては、左上の指標に示すように、赤色(上)から青色(下)に行くほど引張力が強くなる。つまり、最上部の赤色に向かって引張力はより弱くなり(weaker)、対称的に最下部の青色に向かって引張力はより強くなる(stronger)。
図9に示すように、比較例1〜比較例9の各々にかかる単位マスク11〜19は、同一引張力が各単位マスク11〜19に印加された時、各々の単位マスクに含まれている各パターン開口部の側辺に青色が示されることを確認できるが、一方、本発明の第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク200、202及び203に含まれている各パターン開口部220の側辺には、青色が示されないことが確認できた。即ち、本発明の第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク200、202及び203に含まれている各パターン開口部220は、各単位マスクに含まれているパターン開口部220に印加される圧力が比較例1〜比較例9の各々にかかる単位マスク11〜19のパターン開口部に比べて小さいことが確認できた。即ち、本発明の第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク200、202及び203に含まれている各パターン開口部220に印加される引張力が分散して各パターン開口部220の変形が抑制されることが確認できた。
以上のような実験を通して、本発明の第1の実施形態、第2の実施形態及び第3の実施形態の各々にかかるマスク組立体の各単位マスク200、202及び203のパターン開口部220に印加される引張力が分散してパターン開口部220の変形が抑制されることを確認した。
以下、図10を参照して本発明の第4の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
図10は本発明の第4の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
図10に示すように、単位マスク204は単位マスク本体部210、パターン開口部220、第1グルーブ230、第2グルーブ240、第3グルーブ250及びダミーパターン264を含む。
ダミーパターン264は、ダミーパターン264と隣接するパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク204の表面200c上で変形した幅(W)を有する。ダミーパターン264は、最外郭パターン開口部220と単位マスク204の端部200aとの間に位置し、単位マスク204を貫通して形成されている。ダミーパターン264は、単位マスク204の表面200c上で楕円形状を有している。ダミーパターン264は楕円形状を有することによって、単位マスク204の表面200c上で変形する幅(W)を有する。ダミーパターン264が有する変形した幅(W)は、単位マスク204に印加される引張力によってのダミーパターン264と隣接するパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて変形するが、図10に示すように、単位マスク204の表面200c上でパターン開口部220が四角形状を有する場合、パターン開口部220の一辺221と対応するダミーパターン264の幅(W)は、パターン開口部220の一辺221の中央の部分に対応する部分からパターン開口部220の一辺221の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭く形成される。即ち、単位マスク204に印加された引張力によって、パターン開口部220の一辺221の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応するダミーパターン264の幅(W)は、前記パターン開口部220の他の部分に対応するダミーパターン264の幅(W)より広く形成される。このように、ダミーパターン264がパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて単位マスク204の表面200c上で変形した幅(W)を有することによってパターン開口部220に印加される引張力が分散する。さらに、ダミーパターン264によってパターン開口部220に印加される引張力が分散することによって、単位マスク204に印加される引張力によってパターン開口部220が変形することが抑制される。
本発明の第4の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスク204のダミーパターン264は、パターン開口部220が一辺221の全体部分のうち他の部分と比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅(W)が一辺221の他の部分に対応する幅(W)より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクのダミーパターンは、パターン開口部220の一辺221の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅が一辺221の他の部分に対応する幅より狭く形成される。
以下、図11及び図12を参照して本発明の第5の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
図11は本発明の第5の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。図12は図11のXII-XII線に沿った断面図である。
図11及び図12に示すように、単位マスク205は、単位マスク本体部210、パターン開口部220、第1グルーブ230、第2グルーブ240、第3グルーブ250及びダミーパターン265を含む。
ダミーパターン265は、ダミーパターン265と隣接するパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク205の表面200c上で変形した幅(W)を有する。ダミーパターン265は、最外郭パターン開口部220と単位マスク205の端部200aとの間に位置し、単位マスク205の表面に陥没形成されている。ダミーパターン265は、単位マスク205の表面200c上で楕円形状を有している。ダミーパターン265は、楕円形状を有することによって、単位マスク205の表面200c上で変形する幅(W)を有する。ダミーパターン265が有する変形した幅(W)は、単位マスク205に印加される引張力によって、ダミーパターン265と隣接するパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて変形しているが、図11に示すように、単位マスク205の表面200c上でパターン開口部220が四角形状を有する場合、パターン開口部220の一辺221と対応するダミーパターン265の幅(W)は、パターン開口部220の一辺221の中央部分と対応する部分からパターン開口部220の一辺221の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭く形成される。即ち、単位マスク205に印加された引張力によって、パターン開口部220の一辺221の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分と対応するダミーパターン265の幅(W)は、前記パターン開口部220の他の部分に対応するダミーパターン265の幅(W)より広く形成される。このように、ダミーパターン265がパターン開口部220に印加される引張力の強さに応じて単位マスク205の表面200c上で変形した幅(W)を有することによって、パターン開口部220に印加される引張力が分散する。さらに、ダミーパターン265によってパターン開口部220に印加される引張力が分散することによって、単位マスク205に印加される引張力によってパターン開口部220が変形することが抑制される。
本発明の第4の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク205のダミーパターン265は、パターン開口部220が一辺221の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅(W)が一辺221の他の部分に対応する幅(W)より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクのダミーパターンは、パターン開口部220の一辺221の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅が一辺221の他の部分に対応する幅より狭く形成される。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されず、添付の特許請求の範囲の概念と範囲を逸脱しない限り、多様な修正及び変形が可能であることを本発明が属する技術分野に従事する者は容易に理解できる。
100 フレーム
110 開口部
120、130 支持部
200、202、203、204、205 単位マスク
210 単位マスク本体部
220 パターン開口部
230、240、250 グルーブ
260、264、265 ダミーパターン

Claims (18)

  1. 開口部を含むフレームと、
    前記開口部上に位置し、一方向に引張力が加えられた状態で両端部が前記フレームに支持される1つ以上の単位マスクを含み、
    前記単位マスクは、
    前記一方向に配置された複数のパターン開口部と、
    前記パターン開口部と隣接して前記パターン開口部と前記単位マスクの枠との間に位置し、前記単位マスクの表面に陥没形成された第1グルーブを含み、
    前記第1グルーブは、前記第1グルーブと隣接する少なくとも1つの前記パターン開口部に印加される前記引張力が強いほど幅が広くなることを特徴とする、マスク組立体。
  2. 前記第1グルーブは、前記単位マスクの表面上で半円形状であることを特徴とする、請求項1に記載のマスク組立体。
  3. 前記単位マスクは、前記パターン開口部と隣接し、隣接する前記パターン開口部の間に位置し、前記単位マスクの表面に陥没形成された第2グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載のマスク組立体。
  4. 前記第2グルーブは、
    前記一方向に配置された複数のパターン開口部が帯状の場合には、前記第2グルーブと隣接する少なくとも1つの前記パターン開口部に印加される前記引張力が強いほど幅が広くなり、
    前記一方向に配置された複数のパターン開口部のそれぞれが、前記一方向に配置された複数のドット形状から形成される場合には、前記第2グルーブと隣接する少なくとも1つの前記パターン開口部に印加される前記引張力が強いほど幅が狭くなることを特徴とする、請求項3に記載のマスク組立体。
  5. 前記第2グルーブは、前記単位マスクの表面上で半円または円錐形状であることを特徴とする、請求項4に記載のマスク組立体。
  6. 前記第1グルーブは複数であり、
    前記単位マスクは隣接する前記第1グルーブの間に位置し、前記単位マスクの表面に陥没形成された第3グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項3に記載のマスク組立体。
  7. 前記第3グルーブは、多角形状であることを特徴とする、請求項6に記載のマスク組立体。
  8. 前記単位マスクは、前記一方向に配置された前記複数のパターン開口部のうち最外側に位置するパターン開口部と前記単位マスクの前記端部との間に位置するダミーパターンをさらに含むことを特徴とする、請求項3に記載のマスク組立体。
  9. 前記ダミーパターンは、前記ダミーパターンと隣接する少なくとも1つの前記パターン開口部に印加される前記引張力が強いほど幅が広くなることを特徴とする、請求項8に記載のマスク組立体。
  10. 前記ダミーパターンは、前記単位マスクを貫通することを特徴とする、請求項8に記載のマスク組立体。
  11. 前記ダミーパターンは、前記単位マスクの表面に陥没形成されたことを特徴とする、請求項8に記載のマスク組立体。
  12. 前記ダミーパターンは、前記フレームと対応することを特徴とする、請求項8に記載のマスク組立体。
  13. 一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームに支持される単位マスクにおいて、
    前記一方向に沿って延長された帯状の単位マスク本体部と、
    前記一方向に配置された複数のパターン開口部と、
    前記パターン開口部と隣接して前記パターン開口部と前記単位マスク本体部の枠との間に位置し、前記単位マスク本体部の表面に陥没形成された第1グルーブを含み、
    前記第1グルーブは、前記第1グルーブと隣接する少なくとも1つの前記パターン開口部に印加される前記引張力が強いほど幅が広くなる、ことを特徴とする、単位マスク。
  14. 前記パターン開口部と隣接し、隣接する前記パターン開口部の間に位置し、前記単位マスク本体部の表面に陥没形成された第2グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項13に記載の単位マスク。
  15. 前記第2グルーブは、
    前記一方向に配置された複数のパターン開口部が帯状の場合には、前記第2グルーブと隣接する少なくとも1つの前記パターン開口部に印加される前記引張力が強いほど幅が広くなり、
    前記一方向に配置された複数のパターン開口部のそれぞれが、前記一方向に配置された複数のドット形状から形成される場合には、前記第2グルーブと隣接する少なくとも1つの前記パターン開口部に印加される前記引張力が強いほど幅が狭くなることを特徴とする、請求項14に記載の単位マスク。
  16. 前記第1グルーブは複数であり、
    隣接する前記第1グルーブの間に位置し、前記単位マスク本体部の表面に陥没形成された第3グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項15に記載の単位マスク。
  17. 前記一方向に配置された前記複数のパターン開口部のうち、最外側に位置するパターン開口部と前記単位マスク本体部の端部との間に位置するダミーパターンをさらに含むことを特徴とする、請求項16に記載の単位マスク。
  18. 前記ダミーパターンは、前記ダミーパターンと隣接する少なくとも1つの前記パターン開口部に印加される前記引張力が強いほど幅が広くなることを特徴とする、請求項17に記載の単位マスク。
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