JP2015196874A - 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法 - Google Patents
蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015196874A JP2015196874A JP2014074864A JP2014074864A JP2015196874A JP 2015196874 A JP2015196874 A JP 2015196874A JP 2014074864 A JP2014074864 A JP 2014074864A JP 2014074864 A JP2014074864 A JP 2014074864A JP 2015196874 A JP2015196874 A JP 2015196874A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- mask
- deposition mask
- metal
- metal mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims abstract description 98
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title claims description 93
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 20
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 32
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 344
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 241
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 241
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 121
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 121
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 5
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 description 24
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 19
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 10
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 5
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000003562 lightweight material Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】フレーム60上に複数の蒸着マスク100が、当該蒸着マスクの幅方向に並べて配置されてなる多面付け蒸着マスクに用いられる蒸着マスクであって、スリットが形成された金属マスク10と当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスク20とが積層されてなり、前記金属マスクの幅方向の端面が、凹部30及び凸部35を有していることを特徴とする蒸着マスク。
【選択図】図1
Description
本発明の一実施形態の多面付け蒸着マスク200は、フレーム60上に複数の蒸着マスク100が、当該蒸着マスク100の幅方向に並べて配置されてなる(図1(a)、(b)参照)。フレーム60に固定される各蒸着マスク100は、スリット15が形成された金属マスク10と、当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部25が形成された樹脂マスク20とが積層されてなる構成を呈している(図3(b)参照)。多面付け蒸着マスク200を構成するフレーム60には、当該フレーム60が有する開口内に長手方向、及び幅方向の何れか一方、又は双方に延びる補強フレーム65が設けられており(図2(a)〜(c)参照)、図1(a)、(b)に示すように、各蒸着マスクの長手方向の両端は、フレーム60の本体部と固定され(図中の符号Xで示される箇所)、各蒸着マスクの幅方向の一端、又は両端は、補強フレーム65と固定されている(図中の符号Yで示される箇所)。本願明細書では、特に断りがある場合をのぞいて、多面付け蒸着マスクとしたときに、1の蒸着マスクに対し隣り合う蒸着マスク側の方向を幅方向とし、当該幅方向に直交する方向を長手方向としている。
(特徴1);多面付け蒸着マスク200を構成する各蒸着マスク100の金属マスク10の幅方向の端面が、凹部30及び凸部35を有している点。
(特徴2);隣り合う蒸着マスク100同士において、1の蒸着マスクの金属マスク100の端面が有している凹部30及び凸部35は、当該1の蒸着マスクと隣り合う他の蒸着マスクの金属マスクの幅方向の端面が有している凸部35及び凹部30とそれぞれ嵌合(係合と称される場合もある)するように配置されている点。
(特徴3);1の蒸着マスク100とフレーム60とは、1の蒸着マスクの金属マスク10の端面が有している凸部35と補強フレーム65とが厚み方向において重なる部分の少なくとも一部で固定されている点。
図3(a)、(b)に示すように、多面付蒸着マスクを構成する蒸着マスク100は、複数のスリット15が形成された金属マスク10と当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部25が形成されてなり、金属マスクの幅方向の端面は、凹部30及び凸部35を有している。
図3に示すように、樹脂マスク20には、複数の開口部25が設けられている。
図3(b)に示すように、樹脂マスク20の一方の面上には、金属マスク10が積層されている。金属マスク10は、金属から構成され、縦方向或いは横方向に延びるスリット15が配置されている。スリット15は開口と同義である。スリットの配置例について特に限定はなく、縦方向、及び横方向に延びるスリットが、縦方向、及び横方向に複数列配置されていてもよく、縦方向に延びるスリットが、横方向に複数列配置されていてもよく、横方向に延びるスリットが縦方向に複数列配置されていてもよい。また、縦方向、或いは横方向に1列のみ配置されていてもよい。なお、ここで言う「縦方向」、「横方向」とは、図面の上下方向、左右方向をさし、長手方向、幅方向のいずれの方向であってもよい。例えば、蒸着マスク、樹脂マスク、金属マスクの長手方向を「縦方向」としてもよく、幅方向を「縦方向」としてもよい。また、本願明細書では、蒸着マスクを平面視したときの形状が矩形状である場合を例に挙げて説明しているが、これ以外の形状、例えば、円形状、ひし形形状等としてもよい。この場合、対角線の長手方向や、径方向、或いは、任意の方向を「長手方向」とし、この「長手方向」に直交する方向を、「幅方向(短手方向と言う場合もある)」とすればよい。
図10に示すように、第1実施形態の蒸着マスク100は、複数画面分の蒸着パターンを同時に形成するための蒸着マスクであって、樹脂マスク20の一方の面上に、複数のスリット15が設けられた金属マスク10が積層されてなり、樹脂マスク20には、複数画面を構成するために必要な開口部25が設けられ、各スリット15が、少なくとも1画面全体と重なる位置に設けられている。また、金属マスクの幅方向の端面は、凹部30及び凸部35を有している。
次に第2実施形態の蒸着マスクについて説明する。図14に示すように、第2実施形態の蒸着マスクは、蒸着作製するパターンに対応した開口部25が複数設けられた樹脂マスク20の一方の面上に、1つのスリット(1つの貫通孔16)が設けられた金属マスク10が積層されてなり、当該複数の開口部25の全てが、金属マスク10に設けられた1つの貫通孔と重なる位置に設けられている。また、金属マスクの幅方向の端面は、凹部30及び凸部35を有している。
第2実施形態の蒸着マスクにおける樹脂マスク20は、樹脂から構成され、図14に示すように、1つの貫通孔16と重なる位置に蒸着作製するパターンに対応した開口部25が複数設けられている。開口部25は、蒸着作製するパターンに対応しており、蒸着源から放出された蒸着材が開口部25を通過することで、蒸着対象物には、開口部25に対応する蒸着パターンが形成される。なお、図示する形態では、開口部が縦横に複数列配置された例を挙げて説明をしているが、縦方向、或いは横方向にのみ配置されていてもよい。
第2実施形態の蒸着マスク100における金属マスク10は、金属から構成され1つの貫通孔16を有している。そして、本発明では、当該1つの貫通孔16は、金属マスク10の正面からみたときに、全ての開口部25と重なる位置、換言すれば、樹脂マスク20に配置された全ての開口部25がみえる位置に配置されている。貫通孔16の大きさは、樹脂マスク20の大きさよりも小さく構成されている。
図2に示すように、一実施形態の多面付け蒸着マスク200を構成するフレーム60は、略矩形形状の枠部材であり、最終的に固定される蒸着マスク100の樹脂マスク20に設けられた開口部25を蒸着源側に露出させるための開口を有する。さらに、フレーム60は、当該フレーム60が有する開口内に、フレーム60の長手方向、及び幅方向の何れか一方、又は双方に延びる補強フレーム65が設けられている。フレーム60、及び補強フレームの材料について特に限定はなく、蒸着マスクを支持することができる材料であればよく、例えば、金属フレームや、セラミックフレーム等を使用することができる。中でも、金属フレームは、蒸着マスクの金属マスクとの溶接が容易であり、変形等の影響が小さい点で好ましい。金属材料としては、剛性が大きい金属材料、例えば、SUSや、インバー材などが好適である。補強フレームについても同様である。また、フレーム60の本体部と補強フレーム65は同じ材料であってもよく、異なる材料であってもよい。
次に、本発明の一実施形態の蒸着マスクについて説明する。本発明の一実施形態の蒸着マスクは、フレーム上に複数の蒸着マスクが、当該蒸着マスクの幅方向に並べて配置されてなる多面付け蒸着マスクに用いられる蒸着マスクであって、スリットが形成された金属マスクと当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクとが積層されてなり、金属マスクの幅方向の端面が凹部30及び凸部35を有していることを特徴としている。
次に、本発明の一実施形態の蒸着マスク準備体について説明する。本発明の一実施形態の蒸着マスク準備体は、フレーム上に複数の蒸着マスクが、当該蒸着マスクの幅方向に並べて配置されてなる多面付け蒸着マスクに用いられる蒸着マスクを得るための蒸着マスク準備体であって、スリットが形成された金属マスクと樹脂板とが積層されてなり、金属マスクの幅方向の端面は、凹部及び凸部を有していることを特徴としている。
次に、本発明の一実施形態の有機半導体素子の製造方法について説明する。本発明の一実施形態の有機半導体素子の製造方法は、多面付け蒸着マスクを用いた蒸着法により蒸着パターンを形成する工程を有し、当該有機半導体素子を製造する工程において、上記で説明した本発明の一実施形態の多面付け蒸着マスクが用いられる点に特徴を有する。
15…スリット
20…樹脂マスク
25…開口部
50…シート部材
60…フレーム
65…補強フレーム
100…蒸着マスク
200…多面付け蒸着マスク
Claims (6)
- フレーム上に複数の蒸着マスクが、当該蒸着マスクの幅方向に並べて配置されてなる多面付け蒸着マスクに用いられる蒸着マスクであって、
スリットが形成された金属マスクと当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクとが積層されてなり、
前記金属マスクの幅方向の端面が、凹部及び凸部を有していることを特徴とする蒸着マスク。 - フレーム上に複数の蒸着マスクが、当該蒸着マスクの幅方向に並べて配置されてなる多面付け蒸着マスクに用いられる蒸着マスクを得るための蒸着マスク準備体であって、
スリットが形成された金属マスクと樹脂板とが積層されてなり、
前記金属マスクの幅方向の端面が、凹部及び凸部を有していることを特徴とする蒸着マスク準備体。 - フレーム上に複数の蒸着マスクが、当該蒸着マスクの幅方向に並べて配置されてなる多面付け蒸着マスクであって、
前記フレームが有する開口内には、当該フレームの長手方向、及び幅方向の何れか一方、又は双方に延びる補強フレームが設けられ、
各前記蒸着マスクは、スリットが形成された金属マスクと当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクとが積層されてなり、
各前記蒸着マスクの金属マスクの幅方向の端面は、凹部及び凸部を有しており、
隣り合う蒸着マスク同士において、1の蒸着マスクの前記金属マスクの端面が有している凹部及び凸部は、当該1の蒸着マスクと隣り合う他の蒸着マスクの前記金属マスクの端面が有している凸部及び凹部とそれぞれ嵌合しており、
前記1の蒸着マスクの金属マスクの端面が有している前記凸部のうちの少なくとも1つは、前記補強フレームと、厚み方向において重なる少なくとも一部において直接的に、又は間接的に固定されていることを特徴とする多面付け蒸着マスク。 - 前記補強フレームと固定されている凸部は、当該凸部の厚み方向の上方、又は下方において前記他の金属マスクと重ならないことを特徴とする請求項3に記載の多面付け蒸着マスク。
- 前記補強フレームと固定されている凸部は、当該凸部の厚み方向の上方、及び下方において前記他の金属マスクと重ならないことを特徴とする請求項3に記載の多面付け蒸着マスク。
- 有機半導体素子の製造方法であって、
フレーム上に複数の蒸着マスクが当該蒸着マスクの幅方向に並べて配置されてなる多面付け蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する工程を含み、
前記蒸着パターンを形成する工程で用いられる多面付け蒸着マスクが、
前記フレームが有する開口内に、当該フレームの長手方向、及び幅方向の何れか一方、又は双方に延びる補強フレームが設けられ、各前記蒸着マスクは、スリットが形成された金属マスクと当該スリットと重なる位置に蒸着作製するパターンに対応する開口部が形成された樹脂マスクとが積層されてなり、各前記蒸着マスクの金属マスクの幅方向の端面が、凹部及び凸部を有しており、隣り合う蒸着マスク同士において、1の蒸着マスクの前記金属マスクの端面が有している凹部及び凸部は、当該1の蒸着マスクと隣り合う他の蒸着マスクの前記金属マスクの端面が有している凸部及び凹部とそれぞれ嵌合しており、前記1の蒸着マスクの金属マスクの端面が有している前記凸部のうちの少なくとも1つは、前記補強フレームと、厚み方向において重なる少なくとも一部において直接的に、又は間接的に固定されている多面付け蒸着マスクであることを特徴とする有機半導体素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014074864A JP6269264B2 (ja) | 2014-03-31 | 2014-03-31 | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014074864A JP6269264B2 (ja) | 2014-03-31 | 2014-03-31 | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015196874A true JP2015196874A (ja) | 2015-11-09 |
JP6269264B2 JP6269264B2 (ja) | 2018-01-31 |
Family
ID=54546757
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014074864A Active JP6269264B2 (ja) | 2014-03-31 | 2014-03-31 | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6269264B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019073800A (ja) * | 2016-09-30 | 2019-05-16 | 大日本印刷株式会社 | フレーム一体型の蒸着マスク、フレーム一体型の蒸着マスク準備体、蒸着パターン形成方法、有機半導体素子の製造方法、有機elディスプレイの製造方法 |
CN111254386A (zh) * | 2020-03-26 | 2020-06-09 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜条及掩膜板 |
WO2020202360A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク |
CN115298722A (zh) * | 2020-04-02 | 2022-11-04 | 夏普株式会社 | 蒸镀掩模、显示面板及显示面板的制造方法 |
KR20230010490A (ko) * | 2021-07-12 | 2023-01-19 | 주식회사 오럼머티리얼 | 프레임 일체형 마스크에 사용되는 프레임의 크기 설정 방법, 변형량 감소 방법 및 프레임 |
WO2023003286A1 (ko) * | 2021-07-23 | 2023-01-26 | 주식회사 오럼머티리얼 | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
WO2023003285A1 (ko) * | 2021-07-20 | 2023-01-26 | 주식회사 오럼머티리얼 | 프레임 일체형 마스크에 사용되는 프레임의 크기 설정 방법, 변형량 감소 방법 및 프레임 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004091830A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Hirai Seimitsu Kogyo Corp | 金属マスクとその製造方法 |
JP2010090415A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-04-22 | Seiko Epson Corp | 蒸着マスク |
WO2010047101A1 (ja) * | 2008-10-21 | 2010-04-29 | 株式会社アルバック | マスク及びマスクを用いた成膜方法 |
WO2013105645A1 (ja) * | 2012-01-12 | 2013-07-18 | 大日本印刷株式会社 | 多面付け蒸着マスクの製造方法及びこれにより得られる多面付け蒸着マスク並びに有機半導体素子の製造方法 |
-
2014
- 2014-03-31 JP JP2014074864A patent/JP6269264B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004091830A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Hirai Seimitsu Kogyo Corp | 金属マスクとその製造方法 |
JP2010090415A (ja) * | 2008-10-06 | 2010-04-22 | Seiko Epson Corp | 蒸着マスク |
WO2010047101A1 (ja) * | 2008-10-21 | 2010-04-29 | 株式会社アルバック | マスク及びマスクを用いた成膜方法 |
WO2013105645A1 (ja) * | 2012-01-12 | 2013-07-18 | 大日本印刷株式会社 | 多面付け蒸着マスクの製造方法及びこれにより得られる多面付け蒸着マスク並びに有機半導体素子の製造方法 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7247085B2 (ja) | 2016-09-30 | 2023-03-28 | 大日本印刷株式会社 | フレーム一体型の蒸着マスク、フレーム一体型の蒸着マスク準備体、蒸着パターン形成方法、有機半導体素子の製造方法、有機elディスプレイの製造方法 |
JP2020073726A (ja) * | 2016-09-30 | 2020-05-14 | 大日本印刷株式会社 | フレーム一体型の蒸着マスク、フレーム一体型の蒸着マスク準備体、蒸着パターン形成方法、有機半導体素子の製造方法、有機elディスプレイの製造方法 |
JP2022116127A (ja) * | 2016-09-30 | 2022-08-09 | 大日本印刷株式会社 | フレーム一体型の蒸着マスク、蒸着パターン形成方法、有機半導体素子の製造方法、有機elディスプレイの製造方法 |
JP2019073800A (ja) * | 2016-09-30 | 2019-05-16 | 大日本印刷株式会社 | フレーム一体型の蒸着マスク、フレーム一体型の蒸着マスク準備体、蒸着パターン形成方法、有機半導体素子の製造方法、有機elディスプレイの製造方法 |
WO2020202360A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク |
CN111254386A (zh) * | 2020-03-26 | 2020-06-09 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜条及掩膜板 |
CN115298722A (zh) * | 2020-04-02 | 2022-11-04 | 夏普株式会社 | 蒸镀掩模、显示面板及显示面板的制造方法 |
CN115298722B (zh) * | 2020-04-02 | 2023-08-29 | 夏普株式会社 | 蒸镀掩模、显示面板及显示面板的制造方法 |
KR20230010490A (ko) * | 2021-07-12 | 2023-01-19 | 주식회사 오럼머티리얼 | 프레임 일체형 마스크에 사용되는 프레임의 크기 설정 방법, 변형량 감소 방법 및 프레임 |
KR102560422B1 (ko) | 2021-07-12 | 2023-07-28 | 주식회사 오럼머티리얼 | 프레임 일체형 마스크에 사용되는 프레임의 크기 설정 방법, 변형량 감소 방법 및 프레임 |
KR20230013811A (ko) * | 2021-07-20 | 2023-01-27 | 주식회사 오럼머티리얼 | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 |
WO2023003285A1 (ko) * | 2021-07-20 | 2023-01-26 | 주식회사 오럼머티리얼 | 프레임 일체형 마스크에 사용되는 프레임의 크기 설정 방법, 변형량 감소 방법 및 프레임 |
KR102637523B1 (ko) * | 2021-07-20 | 2024-02-19 | 주식회사 오럼머티리얼 | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 |
WO2023003286A1 (ko) * | 2021-07-23 | 2023-01-26 | 주식회사 오럼머티리얼 | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6269264B2 (ja) | 2018-01-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6269264B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法 | |
JP5780350B2 (ja) | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6209867B2 (ja) | 樹脂板付き金属マスク | |
JP6326885B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6394877B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP2016053194A (ja) | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6597863B2 (ja) | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法、及び蒸着マスクの製造方法 | |
JP6375906B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP2015067892A (ja) | 蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP2015148002A (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6394879B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6347112B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着マスクの製造方法、パターンの製造方法、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6197423B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP2017210687A (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6583446B2 (ja) | 蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP2018119217A (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、及び有機半導体素子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171018 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171218 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6269264 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |