KR102637523B1 - 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 - Google Patents
마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102637523B1 KR102637523B1 KR1020210094737A KR20210094737A KR102637523B1 KR 102637523 B1 KR102637523 B1 KR 102637523B1 KR 1020210094737 A KR1020210094737 A KR 1020210094737A KR 20210094737 A KR20210094737 A KR 20210094737A KR 102637523 B1 KR102637523 B1 KR 102637523B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mask
- sheet portion
- frame
- mask cell
- cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims abstract description 64
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 29
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 14
- 230000008569 process Effects 0.000 description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 26
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 17
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 17
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 10
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 5
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 4
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 3는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크에 사용되는 프레임을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크가 템플릿에 접착된 마스크 지지 템플릿을 나타내는 개략도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 지지 템플릿을 프레임 상에 로딩하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿을 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착한 후 마스크와 템플릿을 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다.
도 10 및 도 11은 본 발명의 여러 실시예에 따른 프레임의 마스크 셀 시트부의 크기 설정 방법을 나타내는 개략도이다.
도 12는 본 발명의 여러 실시예에 따른 마스크 셀 시트부의 용접 위치를 나타내는 개략도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 용접 위치에 따라 프레임의 변형을 감축하는 방법을 나타내는 개략도이다.
| 디스플레이 크기 (inch) / (mm) |
MX (mm) |
MY (mm) |
NX | NY | 총 마스크 셀 영역 수 |
| 9.7 / 246.4 | 197.1 | 147.9 | 7 | 6 | 42 |
| 10.5 /266.7 | 213.3 | 160.0 | 6 | 5 | 30 |
| 10.9 / 276.9 | 221.5 | 166.1 | 6 | 5 | 30 |
| 12.9 / 327.7 | 262.1 | 196.6 | 5 | 4 | 20 |
| 디스플레이 크기 (inch) / (mm) |
MX (mm) |
MY (mm) |
NX | NY | 총 마스크 셀 영역 수 |
| 9.7 / 246.4 | 147.9 | 197.1 | 9 | 4 | 36 |
| 10.5 /266.7 | 160.0 | 213.3 | 9 | 4 | 36 |
| 10.9 / 276.9 | 166.1 | 221.5 | 8 | 4 | 32 |
| 12.9 / 327.7 | 196.6 | 262.1 | 7 | 3 | 21 |
| 디스플레이 크기 (inch) / (mm) |
MX (mm) |
MY (mm) |
NX | NY | TX (mm) |
TY (mm) |
| 9.7 / 246.4 | 197.1 | 147.9 | 7 | 6 | 5.4 | 15.0 |
| 10.5 /266.7 | 213.3 | 160.0 | 6 | 5 | 20.8 | 31.4 |
| 10.9 / 276.9 | 221.5 | 166.1 | 6 | 5 | 15.7 | 24.5 |
| 12.9 / 327.7 | 262.1 | 196.6 | 5 | 4 | 27.7 | 31.6 |
| 디스플레이 크기 (inch) / (mm) |
MX (mm) |
MY (mm) |
NX | NY | TX (mm) |
TY (mm) |
| 9.7 / 246.4 | 147.9 | 197.1 | 9 | 4 | 27.3 | 16.9 |
| 10.5 /266.7 | 160.0 | 213.3 | 9 | 4 | 14.3 | 6.0 |
| 10.9 / 276.9 | 166.1 | 221.5 | 8 | 4 | 7.8 | 19.0 |
| 12.9 / 327.7 | 196.6 | 262.1 | 7 | 3 | 34.7 | 15.5 |
| 초기 대비 변화량 X축(㎛) | 초기 대비 변화량 Y축(㎛) | |
| STEP 1(초기) | 0 | 0 |
| STEP 2(WB1) | 3.1 | 4.3 |
| STEP 3(WB2) | 3.0 | 7.8 |
| STEP 4(WB3) | 2.5 | 10.8 |
| STEP 5(마스크 45ea) | 10.3 | 19.2 |
| STEP 6(마스크 45ea & 템플릿 분리) | 5.1 | 18.0 |
100: 마스크
110: 마스크 막, 마스크 금속막
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
221: 테두리 시트부
223: 제1 그리드 시트부
225: 제2 그리드 시트부
C: 셀, 마스크 셀
CR: 마스크 셀 영역
DM: 더미, 마스크 더미
L: 레이저
P: 마스크 패턴
WB: 용접 비드
TX: 제2 그리드 시트부, 제2 테두리 시트부의 폭
TY: 제1 그리드 시트부, 제1 테두리 시트부의 폭
TZ1: 제1 그리드 시트부, 제1 테두리 시트부의 두께
TZ2: 제2 그리드 시트부, 제2 테두리 시트부의 두께
Claims (9)
- 복수의 마스크, 및 복수의 마스크 셀 영역을 구비하고 테두리 프레임부 상에 마스크 셀 시트부가 연결된 프레임을 포함하는 프레임 일체형 마스크를 제조할 때, 프레임의 마스크 셀 시트부의 변형량을 감축시키는 방법으로서,
프레임은, 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부; 제1 방향 및 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하고, 테두리 프레임부에 연결되는 마스크 셀 시트부를 포함하고,
마스크 셀 시트부는, 제1 방향으로 연장 형성되고 상호 이격된 한 쌍의 제1 테두리 시트부; 제2 방향으로 연장 형성되고 양단이 각각의 제1 테두리 세트부의 단부에 연결되는 상호 이격된 한 쌍의 제2 테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 제2 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 제1 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부;를 포함하며,
마스크는 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크 셀, 및 마스크 셀 주변의 더미를 포함하고, 더미의 적어도 일부에 용접 비드가 마스크의 각 변에 평행한 방향을 따라 형성되며 마스크가 마스크 셀 시트부에 연결되고,
제1 마스크의 제1 측에 평행한 방향 및 제1 마스크에 최인접하는 제2 마스크의 제1 측에 대향하는 제2 측에 평행한 방향을 따라 용접 비드를 형성하되, 제1 측과 제2 측에 형성된 용접 비드 사이의 최단 거리는 제1 측의 용접 비드에서 제1 마스크의 마스크 셀까지의 최단 거리보다 짧게 용접 비드를 형성하며,
마스크 셀 시트부의 제1 방향, 제2 방향으로의 길이가 DX, DY이고, 단위 마스크 셀 영역의 제1 방향, 제2 방향으로의 길이가 MX, MY일때,
(a) NX×MX < DX ≤ (NX+1)×MX를 만족하는 NX, 및 NY×MY < DY ≤ (NY+1)×MY를 만족하는 NY를 산출하는 단계(NX, NY는 자연수);
(b) [DX - (NX×MX)]/(NX+1)을 제2 그리드 시트부의 폭 TX, 및 [DY - (NY×MY)]/(NY+1)을 제1 그리드 시트부의 폭 TY로 설정하는 단계;
를 포함하는, 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법. - 제1항에 있어서,
제2 그리드 시트부의 폭 TX 및 제1 그리드 시트부의 폭 TY의 일측단을 0%, 타측단을 100%로 할 때,
마스크 셀 시트부와 마스크의 용접은 폭 TX 및 폭 TY의 25% 내지 75%에 해당하는 부분에서 수행되는, 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법. - 삭제
- 제1항에 있어서,
제1 테두리 시트부 및 제1 그리드 시트부의 폭을 동일하게 설정하고, 제2 테두리 시트부 및 제2 그리드 시트부의 폭을 동일하게 설정하는, 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법. - 제1항에 있어서,
DX 및 DY는 기설정된 고정값을 가질 때, MX 및 MY의 변화에 따라, TX 및 TY가 변화되는, 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법. - 제5항에 있어서,
DX는 적어도 1,500mm, DY는 적어도 900mm보다 큰 고정값을 가지고, TX, TY 중 적어도 어느 하나는 8mm보다 크게 설정되는, 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법. - 제1항에 있어서,
DX2 + DY2 = D2을 만족하는 D는 적어도 1750mm보다 큰, 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법. - 복수의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 테두리 프레임부 상에 복수의 마스크 셀 영역을 구비하는 마스크 셀 시트부가 연결된 프레임을 준비하는 단계;
(b) 프레임 상에 마스크가 임시접착된 템플릿을 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및
(c) 마스크를 프레임에 부착하는 단계
를 포함하고,
프레임은, 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부; 제1 방향 및 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하고, 테두리 프레임부에 연결되는 마스크 셀 시트부를 포함하고,
마스크 셀 시트부는, 제1 방향으로 연장 형성되고 상호 이격된 한 쌍의 제1 테두리 시트부; 제2 방향으로 연장 형성되고 양단이 각각의 제1 테두리 세트부의 단부에 연결되는 상호 이격된 한 쌍의 제2 테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 제2 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 제1 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부;를 포함하며,
마스크는 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크 셀, 및 마스크 셀 주변의 더미를 포함하고, 더미의 적어도 일부에 용접 비드가 마스크의 각 변에 평행한 방향을 따라 형성되며 마스크가 마스크 셀 시트부에 연결되고,
제1 마스크의 제1 측에 평행한 방향 및 제1 마스크에 최인접하는 제2 마스크의 제1 측에 대향하는 제2 측에 평행한 방향을 따라 용접 비드를 형성하되, 제1 측과 제2 측에 형성된 용접 비드 사이의 최단 거리는 제1 측의 용접 비드에서 제1 마스크의 마스크 셀까지의 최단 거리보다 짧게 용접 비드를 형성하며,
(a) 단계에서, 마스크 셀 시트부의 제1 방향, 제2 방향으로의 길이가 DX, DY이고, 단위 마스크 셀 영역의 제1 방향, 제2 방향으로의 길이가 MX, MY일때,
(1) NX×MX < DX ≤ (NX+1)×MX를 만족하는 NX, 및 NY×MY < DY ≤ (NY+1)×MY를 만족하는 NY를 산출하는 단계(NX, NY는 자연수);
(2) [DX - (NX×MX)]/(NX+1)을 제2 그리드 시트부의 폭 TX, 및 [DY - (NY×MY)]/(NY+1)을 제1 그리드 시트부의 폭 TY로 설정하는 단계;
를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 복수의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크로서,
프레임은, 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부; 제1 방향 및 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하고, 테두리 프레임부에 연결되는 마스크 셀 시트부를 포함하고,
마스크 셀 시트부는, 제1 방향으로 연장 형성되고 상호 이격된 한 쌍의 제1 테두리 시트부; 제2 방향으로 연장 형성되고 양단이 각각의 제1 테두리 세트부의 단부에 연결되는 상호 이격된 한 쌍의 제2 테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 제2 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 제1 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부;를 포함하며,
마스크는 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크 셀, 및 마스크 셀 주변의 더미를 포함하고, 더미의 적어도 일부에 용접 비드가 마스크의 각 변에 평행한 방향을 따라 형성되며 마스크가 마스크 셀 시트부에 연결되고,
제1 마스크의 제1 측에 평행한 방향 및 제1 마스크에 최인접하는 제2 마스크의 제1 측에 대향하는 제2 측에 평행한 방향을 따라 용접 비드를 형성하되, 제1 측과 제2 측에 형성된 용접 비드 사이의 최단 거리는 제1 측의 용접 비드에서 제1 마스크의 마스크 셀까지의 최단 거리보다 짧게 용접 비드를 형성하며,
마스크 셀 시트부의 제1 방향, 제2 방향으로의 길이가 DX, DY이고, 단위 마스크 셀 영역의 제1 방향, 제2 방향으로의 길이가 MX, MY일때,
(a) NX×MX < DX ≤ (NX+1)×MX를 만족하는 NX, 및 NY×MY < DY ≤ (NY+1)×MY를 만족하는 NY를 산출하는 단계(NX, NY는 자연수);
(b) [DX - (NX×MX)]/(NX+1)을 제2 그리드 시트부의 폭 TX, 및 [DY - (NY×MY)]/(NY+1)을 제1 그리드 시트부의 폭 TY로 설정하는 단계;
에 따라 제1 그리드 시트부의 폭 TY와 제2 그리드 시트부의 폭 TX가 설정된, 프레임 일체형 마스크.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210094737A KR102637523B1 (ko) | 2021-07-20 | 2021-07-20 | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 |
| CN202280003475.9A CN115843470A (zh) | 2021-07-20 | 2022-07-15 | 用于框架一体型掩模的框架的尺寸设置方法,变形量缩减方法及框架 |
| PCT/KR2022/010353 WO2023003285A1 (ko) | 2021-07-20 | 2022-07-15 | 프레임 일체형 마스크에 사용되는 프레임의 크기 설정 방법, 변형량 감소 방법 및 프레임 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210094737A KR102637523B1 (ko) | 2021-07-20 | 2021-07-20 | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230013811A KR20230013811A (ko) | 2023-01-27 |
| KR102637523B1 true KR102637523B1 (ko) | 2024-02-19 |
Family
ID=84979481
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020210094737A Active KR102637523B1 (ko) | 2021-07-20 | 2021-07-20 | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102637523B1 (ko) |
| CN (1) | CN115843470A (ko) |
| WO (1) | WO2023003285A1 (ko) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015196874A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-09 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100696523B1 (ko) * | 2005-05-30 | 2007-03-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 이를 이용한 유기발광 표시장치의 제조방법 |
| KR101322130B1 (ko) * | 2006-12-22 | 2013-10-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 대면적 증착용 마스크 및 대면적 증착용 마스크의 제조방법 |
| JP5846287B1 (ja) * | 2013-12-27 | 2016-01-20 | 大日本印刷株式会社 | フレーム付き蒸着マスクの製造方法、引張装置、有機半導体素子の製造装置及び有機半導体素子の製造方法 |
| CN112639156B (zh) * | 2018-08-16 | 2023-04-18 | 悟劳茂材料公司 | 框架一体型掩模的制造方法及框架 |
| KR102013434B1 (ko) * | 2018-10-12 | 2019-08-22 | 주식회사 티지오테크 | 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
| KR102358268B1 (ko) * | 2019-02-07 | 2022-02-07 | 주식회사 오럼머티리얼 | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 |
| KR102202531B1 (ko) * | 2019-09-20 | 2021-01-13 | 주식회사 오럼머티리얼 | 프레임 일체형 마스크 및 그 제조방법 |
-
2021
- 2021-07-20 KR KR1020210094737A patent/KR102637523B1/ko active Active
-
2022
- 2022-07-15 CN CN202280003475.9A patent/CN115843470A/zh active Pending
- 2022-07-15 WO PCT/KR2022/010353 patent/WO2023003285A1/ko not_active Ceased
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015196874A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-09 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN115843470A (zh) | 2023-03-24 |
| KR20230013811A (ko) | 2023-01-27 |
| WO2023003285A1 (ko) | 2023-01-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102358268B1 (ko) | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 | |
| KR102101257B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR20200061277A (ko) | 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102241771B1 (ko) | 마스크 지지 템플릿, 마스크 금속막 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102637522B1 (ko) | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102252005B1 (ko) | 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크와 그의 제조 방법 | |
| KR20240057092A (ko) | 확장형 마스크와 프레임의 연결체 및 그 제조 방법 | |
| KR102560422B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크에 사용되는 프레임의 크기 설정 방법, 변형량 감소 방법 및 프레임 | |
| KR20230045561A (ko) | 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 | |
| KR20210131226A (ko) | 마스크의 부착 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102242813B1 (ko) | 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크와 그의 제조 방법 | |
| KR20230013811A (ko) | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 | |
| KR20230045560A (ko) | 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 | |
| KR102371174B1 (ko) | 지지체 및 이를 포함하는 프레임 일체형 마스크 제조 시스템 | |
| KR102697128B1 (ko) | 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 | |
| KR102618776B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102637521B1 (ko) | 마스크의 제조 방법 | |
| KR20230158805A (ko) | 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법 | |
| CN112442654A (zh) | 掩模支撑模板、掩模支撑模板的制造方法及框架一体型掩模的制造方法 | |
| KR20220071891A (ko) | Oled 화소 형성용 마스크 및 프레임 일체형 마스크 | |
| KR20220031242A (ko) | Oled 화소 형성용 마스크, 마스크 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102404746B1 (ko) | 마스크 지지 템플릿의 제조 방법, 마스크 인장력 작용 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR20220134896A (ko) | 마스크 지지 템플릿, 프레임 일체형 마스크 및 이의 제조 방법 | |
| CN113529081A (zh) | 掩模支撑模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一体型掩模的制造方法 | |
| KR20210143520A (ko) | Oled 화소 형성용 마스크, 마스크 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20210720 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20230320 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20231113 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20240213 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20240214 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |