CN115298722A - 蒸镀掩模、显示面板及显示面板的制造方法 - Google Patents

蒸镀掩模、显示面板及显示面板的制造方法 Download PDF

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Abstract

掩模片(3)的边缘(6)与最靠近边缘(6)的蒸镀孔组(5G)之间的X方向上的边框宽度(W3)相对于相邻的两个蒸镀孔组(5G)在X方向上的间隔距离(W4)的比率被设定为规定的第一范围内的值,相邻的两个掩模片(3)之间的X方向上的间隔开口宽度(W1)相对于蒸镀孔(5)在X方向上的开口宽度(W2)的比率被设定为规定的第二范围内的值。

Description

蒸镀掩模、显示面板及显示面板的制造方法
技术领域
本发明涉及具备具有与显示面板对应的框架开口的框架和跨过该框架开口而架设的掩模片的蒸镀掩模、显示面板以及显示面板的制造方法。
背景技术
已知有将大型显示面板的有机EL(Electro-Luminescence,电致发光)元件的发光层按照RGB的每个发光色进行涂布蒸镀的显示面板的制造方法(例如,参照专利文献1)。
在该现有的制造方法中,在极的交叉部设置电阻层,通过由通电产生的焦耳热使发光材料局部地蒸发,向重合的被处理基板局部地转印,发光层按每个发光色进行涂布。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本公开专利公报「特开2009-43572号(2009年2月26日公开)」
发明内容
发明要解决的问题
然而,在现有的制造方法中,由于通过基于热扩散的转印来涂布发光层,因此完全无法进行基于温度变化的发光层的位置控制,难以以适当的膜厚形成发光层。
另外,在通过使用了蒸镀掩模(FMM;Fine Metal Mask)的蒸镀法按每个发光色涂布发光层的方法中,难以制造大型蒸镀掩模,因此难以制造高精度的大型显示面板。
鉴于上述课题,本发明的目的在于,提供即使在通过蒸镀法按每个发光色涂布发光层的情况下,也能够与显示面板的尺寸无关地高精度地形成该显示面板的蒸镀掩模、显示面板以及显示面板的制造方法。
解决问题的手段
为了解决上述课题,本发明的一方式涉及的蒸镀掩模,用于制造显示面板,包括:掩模框架;以及多个掩模片,其以堵塞所述掩模框架的框架开口的方式沿与该掩模框架的彼此相对的两边正交的正交方向架设,并分别固定于该两边,所述多个掩模片各自具有由多个蒸镀孔构成的蒸镀孔组,所述多个蒸镀孔沿着所述正交方向彼此隔开规定间隔而形成,所述多个掩模片的各自中,多个所述蒸镀孔组沿与所述两边平行的平行方向设置,并且,所述掩模片的边缘与最接近于该边缘的所述蒸镀孔组之间的所述平行方向上的边框宽度相对于相邻的两个所述蒸镀孔组在所述平行方向上的间隔距离的比率被设定为规定的第一范围内的值,所述多个掩模片中,相邻的两个所述掩模片之间的所述平行方向上的间隔开口宽度相对于所述蒸镀孔的所述平行方向上的开口宽度的比率设定为规定的第二范围内的值。
为了解决上述课题,本发明的一方式涉及的显示面板,具备进行红色显示的红色像素;进行绿色显示的绿色像素;以及进行蓝色显示的蓝色像素,还具备:红色像素组,其由沿第一方向彼此以规定的间隔排列的多个所述红色像素构成;绿色像素组,其相对于所述红色像素在与所述第一方向正交的第二方向平行地设置,并且沿所述第一方向彼此以规定的间隔排列的多个所述绿色像素构成;以及蓝色像素组,其由相对于所述红色像素在所述第二方向上平行设置并且沿所述第一方向以规定的间隔排列的多个所述蓝色像素构成,所述红色像素组、所述绿色像素组及所述蓝色像素组沿所述第二方向以规定的顺序排列,在至少一个所述红色像素组中,红色的发光材料跨越该红色像素组的所述多个红色像素沿所述第一方向重叠,在至少一个所述绿色像素组中,绿色发光材料跨越所述绿色像素组的所述多个绿色像素沿所述第一方向重叠,在至少一个所述蓝色像素组中,蓝色的发光材料跨所述蓝色像素组的所述多个蓝色像素沿所述第一方向重叠。
为了解决上述课题,本发明的一方式涉及的显示面板的制造方法,其蒸镀蒸镀材料,包括使用本发明的一方式涉及的所述的蒸镀掩模蒸镀所述蒸镀材料的工序。
发明效果
根据本发明的一方式,能提供即使在通过蒸镀法按每个发光色涂布发光层的情况下,也能够与显示面板的尺寸无关地高精度地形成该显示面板的蒸镀掩模、显示面板以及显示面板的制造方法。
附图说明
图1是具有实施方式1涉及的显示面板的显示装置的主视图。
图2是表示上述显示面板的像素排列的图。
图3是表示上述显示面板的结构的剖面图。
图4是表示形成上述显示面板的蒸镀层时的蒸镀工序的情况的示意图。
图5是用于制造上述显示面板的蒸镀掩模的平面图。
图6是设置在上述蒸镀掩模上的掩模片的平面图。
图7是图5所示的A部的放大图。
图8是图6所示的B部的放大图。
图9是用上述蒸镀掩模蒸镀后的显示面板的平面图。
图10是图9所示的C部的放大图。
图11是表示通过上述蒸镀掩模蒸镀到显示面板上的蒸镀图案的图。
图12是比较例涉及的第一次蒸镀掩模的平面图。
图13是用上述第一次蒸镀掩模蒸镀后的显示面板的平面图。
图14是比较例涉及的第二次蒸镀掩模的平面图。
图15是用上述第二次蒸镀掩模蒸镀后的显示面板的平面图。
图16是图15所示的D部的放大图。
图17是表示实施方式2涉及的显示面板的像素排列的图。
图18是表示设置在用于制造上述显示面板的蒸镀掩模上的掩模片的接缝附近的平面图。
图19是表示与上述掩模片的接缝附近对应的显示面板的蒸镀图案的平面图。
图20是用于说明上述蒸镀掩模的开口率的图。
图21是用于说明比较例的蒸镀掩模的开口率的图。
图22是实施方式3涉及的蒸镀掩模的平面图。
图23是表示实施方式4涉及的蒸镀掩模的掩模片的制造方法的平面图。
图24是比较例涉及的掩模片的平面图。
图25是表示上述掩模片的边框区域的形成方法的平面图。
图26是用于说明上述掩模片的边框区域的图。
图27是比较例涉及的相互邻接的掩模片的平面图。
图28是沿图27所示的线FF的剖视图。
图29是实施方式4涉及的相互邻接的掩模片的平面图。
图30是沿图29所示的线GG的剖视图。
图31是表示与上述掩模片的接缝附近对应的显示面板的蒸镀图案的平面图。
具体实施方式
(实施方式1)
图1是具有实施方式1涉及的显示面板7的显示装置9的主视图。图2是表示显示面板7的像素排列的图。
显示装置9例如以景观模式(Landscape Mode,横向长)具备40型以上的大型显示面板7。显示面板7包括OLED(有机发光二极管,Organic Light Emitting Diode:有机发光二极管)。如图2所示,该显示面板7的像素排列采用了相同颜色的多个红色像素Rpix(红色像素)、绿色像素Gpix(绿色像素)以及蓝色像素Bpix(蓝色像素)沿着作为短边方向的Y方向(第一方向)排列的纵型条纹排列。
图3是表示上述显示面板7的结构的剖面图。显示面板7具备TFT基板30。TFT基板30通过在母玻璃等透光性的支承基板31形成树脂层(未图示)及阻挡层(未图示),在其上通过公知的方法形成配置于各像素pix的像素电路中包含的TFT(晶体管、驱动元件)32、包含栅极配线和源极配线的各种配线33,形成钝化膜(保护膜)34及层间绝缘膜(平坦化膜)35等,进而在该层间绝缘膜35上形成用于规定与阳极接触的阳极(反射电极层)36、ITO层及发光区域的像素部39而制作。
作为上述树脂层(未图示)的材料,可举出例如聚酰亚胺、环氧树脂、聚酰胺等。
上述阻挡层是在使用显示面板7时防止水、杂质到达TFT32及EL层40的层,例如,可以由通过CVD法形成的氧化硅膜、氮化硅膜或氧氮化硅膜、或这些膜的层叠膜构成。
TFT32是用于向EL层40供给驱动电流的驱动用晶体管。TFT32虽然未图示,但具有半导体层、栅极、漏极和源极。
钝化膜34以覆盖TFT32的方式形成。由此,钝化膜34防止TFT32中的金属膜的剥离,保护TFT32。钝化膜34是由氮化硅、氧化硅等制成的无机绝缘性膜。
层间绝缘膜35形成在钝化膜34上。层间绝缘膜35为将钝化膜34上的凹凸平坦化的平坦化膜。层间绝缘膜35是丙烯酸等的感光性树脂或聚酰亚胺等的热塑性树脂制成的有机绝缘膜。
阳极36对每个像素pix呈岛状单独地形成图案,阳极36的端部被像素堤部39覆盖。各阳极36经由设置于钝化膜34和层间绝缘膜35的接触孔与TFT32连接。
阳极36作为向EL层40注入空穴的电极而发挥作用。另外,在本实施方式中,阳极36为在反射膜37上层叠有透光性电极38的构成。此外,阳极36既可以是由反射膜37构成的单层结构,也可以层叠透光性电极38以外的其它层。
作为反射膜37的材料,例如可举出钽(Ta)或碳(C)等黑色电极材料、Al、Ag、金(Au)、Al-Li合金、Al-钕(Nd)合金、含Ag的合金或Al-硅(Si)合金等反射性金属电极材料等。
作为透光性电极38的材料,例如可以使用氧化铟锡(ITO)、氧化锡(SnO2)、氧化铟锌(IZO)、镓添加氧化锌(GZO)等透明电极材料等,也可以使用形成为薄膜的Ag等半透明的电极材料。
像素堤部39被配置为划分相邻的像素。像素堤部39是绝缘层,例如由感光性树脂构成。像素堤部39形成为覆盖阳极36的端部。像素堤部39作为即使在EL层40的端部变薄的情况下也防止阳极36的端部和阴极47短路的边缘罩而发挥作用。此外,像素堤部39也作为像素分离膜发挥功能,以使电流不泄漏到相邻的像素pix。
此外,在形成该有源区域时,框状地包围该有源区域框状堤(不图示)也形成在TFT基板30上。框状堤是丙烯酸等的感光性树脂或聚酰亚胺等的热塑性树脂制成。
在TFT基板30上形成有EL层40和阴极47。
在TFT基板30中,通过蒸镀等,从阳极36侧起依次层叠有例如空穴注入层41、空穴输送层42、发光层43、空穴阻挡层44、电子输送层45、电子注入层46。由此,在TFT基板30上形成EL层40。以覆盖形成在TFT基板30上的EL层40的方式形成有阴极47。
空穴输送层42及发光层43通过使用后述的蒸镀掩模1的蒸镀法,对于每个像素pix形成为岛状,但其它的空穴注入层41、空穴阻挡层44和电子输送层45、电子注入层46及阴极47,如图例示,分别由跨多个像素pix形成的整面状的共用层构成。此外,也可能构成为不形成空穴注入层41、空穴阻挡层44、电子输送层45和电子注入层46中的一层以上。
此外,如空穴输送层42及发光层43那样,将使用蒸镀掩模1针对每个像素pix蒸镀的层称为蒸镀层。
阴极47由ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)等透光性导电材料构成。
发光层43和空穴输送层42对于像素pix的每个发光色形成为像素pix。例如,在像素pix为发出红色光的红像素Rpix、发出绿色光的绿色像素Gpix和发出蓝色光的蓝色像素Bpix中的任一个的情况下,在红色像素Rpix上形成红色发光层43R和红色空穴输送层42R,在绿色像素Gpix上形成绿色发光层43G和绿色空穴输送层42G,在蓝色像素Bpix上形成蓝色发光层43B和蓝色空穴输送层42B。
空穴注入层41是包含空穴注入性材料且具有提高向发光层43的空穴注入效率的功能的层。
空穴输送层42包含空穴输送性材料,具有提高从阳极36注入且经由空穴注入层41输送来的空穴向发光层43输送的效率的功能。红色空穴输送层42R提高向红色发光层43R输送空穴的效率,绿色空穴输送层42G提高向绿色发光层43G输送空穴的效率,蓝色空穴输送层42B提高向蓝色发光层43B输送空穴的效率。
空穴阻挡层44含有阻止空穴移动的材料,是阻止空穴通过发光层43向电子输送层45输送的层。
电子注入层46是包含电子注入性材料且具有提高向发光层43的电子注入效率的功能的层。另外,电子输送层45是含有电子输送性材料且具有提高对发光层43的电子输送效率的功能的层。
从阳极36向发光层43注入的空穴和从阴极47向发光层43注入的电子通过在发光层43中复合而形成激子。形成的激子在从激发态向基态失活时放出光。由此,红色发光层43R发出红色光,绿色发光层43G发出绿色光,蓝色发光层43B发出蓝色光。
在蒸镀工序中,使用蒸镀掩模依次将红色空穴输送层42R、红色发光层43R、绿色空穴输送层42G、绿色发光层43G、蓝色空穴输送层42B以及蓝色发光层43B形成于像素pix。在该蒸镀工序中使用的蒸镀掩模1,在蒸镀工序之前,针对每个发光色预先制作。
使用该蒸镀掩模1形成的层并不限定于空穴输送层42和发光层43,只要是在每个像素pix(即像素堤部39的开口部23a内)形成的层即可。
另外,对具有阳极36、EL层40及阴极47的发光元件层构成OLED元件的情况进行了说明,但该发光元件层不限于构成OLED元件的情况,也可以构成无机发光二极管或量子点发光二极管。
然后,在阴极47上形成密封层25。作为密封层25的一例,可以是从TFT基板30层依次层叠无机膜、有机膜及无机膜的三层结构。由于形成有框状堤(不图示),因此能够将有机膜的膜厚形成为,例如1.0μm以上的厚度。
图4是表示形成显示面板7的蒸镀层时的蒸镀工序的情况的示意图。
在蒸镀工序中,蒸镀掩模1被配置在TFT基板30和蒸镀源70之间。使设置有具有多个贯通孔即蒸镀孔5的掩模片3(图5,图8)的蒸镀掩模1与TFT基板30的被蒸镀面19紧贴,在真空下,由蒸镀源70蒸发的蒸镀粒子Z(例如,有机发光材料)(蒸镀材料)越过掩模片3在TFT基板30的被蒸镀面19上的像素pix被蒸镀。由此,在TFT基板30的被蒸镀面19,以与掩模片3的蒸镀孔5对应的图案蒸镀红色发光层43R、红色空穴输送层42R、绿色发光层43G、绿色空穴输送层42G、蓝色发光层43B和蓝色空穴输送层42B中的任一种。
图4所示的蒸镀工序按蒸镀于像素pix的蒸镀层的每个种类进行。即,在本实施方式中,在制造显示面板7的过程中,蒸镀工序至少按像素pix分别蒸镀红色空穴输送层42R、红色发光层43R、绿色空穴输送层42G、绿色发光层43G、蓝色空穴输送层42B以及蓝色发光层43B而进行6次蒸镀工序。
图5是用于制造显示面板7的蒸镀掩模1的平面图。图6是设置在蒸镀掩模1上的掩模片3的平面图。图7是图5所示的A部的放大图。图8是图6所示的B部的放大图。
该蒸镀掩模1分类为用于蒸镀红色发光层43R的蒸镀掩模、用于蒸镀绿色发光层43G的蒸镀掩模、用于蒸镀蓝色发光层43B的蒸镀掩模、用于蒸镀红色空穴输送层42R的蒸镀掩模、用于蒸镀绿色空穴输送层42G的蒸镀掩模和用于蒸镀蓝色空穴输送层42B的蒸镀掩模这6种蒸镀掩模。
如图5所示,蒸镀掩模1具备:具有与显示面板7对应的框架开口4的框架2(掩模框架);和沿着Y方向(正交方向)跨框架开口4架设的多个,例如6块掩模片(FMM)3。
如图6所示,掩模片3具有图案区域A3和包围图案区域A3的边框区域A4。沿着图案区域A3的X方向(平行方向、第二方向)的两侧的边框区域A4被窄边框化。掩模片3的厚度为30μm~50μm,沿着其X方向的最大宽度通常为300mm,最大为500mm左右。
如图7和图8所示,在各掩模片3的图案区域A3中,由沿Y方向形成的多个蒸镀孔5构成的蒸镀孔组5G沿着显示面板7的横向即X方向(平行方向)与红色像素Rpix、绿色像素Gpix或蓝色像素Bpix中的任一个对应地重复排列。
相邻的掩模片3的X方向(平行方向)上的间隔开口宽度W1相对于表示沿着蒸镀孔5的X方向(平行方向)的尺寸的开口宽度W2的比率被设定为规定的第二范围内的值。该规定的第二范围内的值例如为0.85以上且1.15以下。
由此,被相邻的掩模片3的边框和边框夹着的间隔开口宽度W1的狭缝状的间隙的区域也发挥狭缝掩模那样的功能,作为与连续的多个像素对应的一列蒸镀孔发挥功能,能够沿着Y方向在该区域连续地蒸镀蒸镀材料,能够形成一列的像素组(详细情况将在图10以及图11中后述)。因此,FMM无法制作大型掩模,但能在X方向上连续的大面积向显示面板7蒸镀,可获得与使用大型掩模同样的效果。
即,能够将图案区域扩大到蒸镀装置的蒸镀区域。即使掩模片3的边框宽度W3变窄,也不会以精度为首对架张带来影响。
表示最接近掩模片3的沿着Y方向的边缘6的蒸镀孔5与边缘6之间的沿着X方向的距离的边框宽度W3相对于表示在X方向相邻的蒸镀孔5之间的距离的间隔距离W4的比率的第一范围内的值例如为0.85以上且1.15以下。
通过选择上述范围内的值,能够防止从各发光色的发光层发出的光的混色。
在间隔开口宽度W1相对于开口宽度W2的比率的第二范围内的值,以及边框宽度W3相对于间隔距离W4的比率的第一范围内的值的一个值被设定为小于1的情况下,优选上述第一范围内的值及上述第二范围内的值的另一个值被设定为1以上。
通过选择上述范围内的值,能够更可靠地防止从各发光色的发光层发出的光的混色。
也可以仅替换架设在框架开口4上的多个掩模片3中受到损伤的掩模片3,可根据显示面板7的大小等来优化掩模片3的分割数。以往仅有单一的大张掩模片的构思,不能部分替换。本实施方式中,由于掩模片被分割,因此能够仅更换受到损伤的掩模片。
掩模片3通过蚀刻制造,在制造装置及工艺上,对沿X方向的最大宽度有限制。
在框架2上分别设置有沿该框架2的彼此相对的长边的各边遮蔽框架开口4的端部的两个防污片8(遮蔽片)。
图9是用蒸镀掩模1单层蒸镀后的显示面板7的平面图。图10是图9所示C部的放大图。
图9中用虚线表示显示面板7上的蒸镀掩模1的多个掩模片3的接缝部位。在各掩模片3的与蒸镀孔5对应的蒸镀区域14,呈岛状蒸镀同色的蒸镀材料。另外,在此所说的蒸镀材料中例如包括RGB的各发光层材料和RGB的各空穴输送层材料。在与相邻的掩模片3之间对应的接缝区域13,沿Y方向连续蒸镀同色的蒸镀材料。各蒸镀区域14以覆盖单一的堤部15的方式设置。由该堤部15包围的区域(在图10中用虚线表示的矩形区域)为显示面板7所包含的各像素的发光区域(即,由堤部15包围的区域被断续地形成的岛状的上述阳极36和连续地形成的整面状的上述阴极47夹着,根据各色构成上述红色空穴输送层42R及红色发光层43R、绿色空穴输送层42G及绿色发光层43G、或者蓝色空穴输送层42B及蓝色发光层43B)。在接缝区域13中,相对于沿着Y方向排列的多个堤部15,蒸镀材料被蒸镀为一列的蒸镀图案,以堤部15单位形成同色的像素(即,在堤部15以外的部位,未形成上述阳极36等,作为像素不发光)。
图11是表示蒸镀在利用与各发光色分别对应的蒸镀掩模1进行全层蒸镀后的显示面板7上的蒸镀图案的图。
在与红色用的蒸镀掩模1的蒸镀孔5对应的蒸镀区域14R,呈岛状蒸镀红色的蒸镀材料。在与绿色用的蒸镀掩模1的蒸镀孔5对应的蒸镀区域14G,呈岛状蒸镀绿色的蒸镀材料。在与蓝色用的蒸镀掩模1的蒸镀孔5对应的蒸镀区域14B,呈岛状蒸镀蓝色的蒸镀材料。
并且,显示面板7中,多个蒸镀区域14R、14G、14B(像素)沿着显示面板7的X方向重复排列。该显示面板7具有:沿着Y方向隔开规定的间隔地对应于单一像素形成有多个蒸镀区域14R、14G、14B(蒸镀部)的第一蒸镀区域A1;以及沿着Y方向连续且按照横跨多个像素的方式形成单一的蒸镀区域13R、13G、13B(蒸镀部)的第二蒸镀区域A2。
在用于蒸镀红色发光层43R、绿色发光层43G、蓝色发光层43B、红色空穴输送层42R、绿色空穴输送层42G和蓝色空穴输送层42B的6种蒸镀掩模中,利用RGB的各颜色,将掩模片3(FMM)相对于框架2的固定位置在X方向上稍微错开,由此,如图11所示,在相邻的两个掩模片3之间能够形成RGB的各列的蒸镀区域13R、13G、13B,能够形成一列相同颜色的多个像素。
在第二蒸镀区域A2中,通过上述狭缝掩模的功能形成的一列的像素组按RGB的每种颜色在蒸镀区域13R、13G、13B上分别形成为一列蒸镀图案。
这样,在与相邻的掩模片3之间对应的显示面板7的第二蒸镀区域A2的蒸镀区域13R、13G、13B的各个上以狭缝状蒸镀各色的蒸镀材料的方式构成蒸镀掩模1。
在多个掩模片3中,相对于被蒸镀面19(图4),从与相邻的两个掩模片3之间的间隔开口宽度W1对应的开口喷出蒸镀材料,在蒸镀区域13R、13G、13B分别形成有一列蒸镀图案。
如图2所示,显示面板7是具备进行红色显示的红色像素Rpix(红色像素)、进行绿色显示的绿色像素Gpix(绿色像素)以及进行蓝色显示的蓝色像素Bpix(蓝色像素)的显示面板,具备:红色像素组,由沿着Y方向相互以规定的间隔排列的多个红色像素Rpix构成;绿色像素组,由相对于红色像素Rpix在与Y方向正交的X方向上平行地设置,并且沿着Y方向相互以规定的间隔排列的多个绿色像素Gpix构成;蓝色像素组,由相对于红色像素Rpix在X方向上平行地设置,并且沿着Y方向相互以规定的间隔排列的多个蓝色像素Bpix构成。所述红色像素组、所述绿色像素组及所述蓝色像素组沿着X方向以规定的顺序排列有多个。
在至少一个上述红色像素组中,如图11所示,横跨与该多个红色像素Rpix对应的多个堤部15R,红色的发光材料沿着Y方向与蒸镀区域13R重叠。
在至少一个上述绿色像素组中,如图11所示,横跨与该多个绿色像素Gpix对应的多个堤部15G,绿色的发光材料沿着Y方向与蒸镀区域13G重叠。
在至少一个上述蓝色像素组中,如图11所示,横跨与该多个蓝色像素Bpix对应的多个堤部15B,蓝色的发光材料沿着Y方向与蒸镀区域13B重叠。
在此,参照图12
Figure BDA0003836605550000161
图16,具体说明比较例的蒸镀掩模。
图12是比较例涉及的第一次蒸镀掩模91A的平面图。图13是用蒸镀掩模91A蒸镀后的显示面板7的平面图。图14是比较例涉及的第二次蒸镀掩模91B的平面图。图15是用蒸镀掩模91B蒸镀后的显示面板7的平面图。图16是图15所示的D部的放大图。
该比较例由于蒸镀掩模的掩模片的沿X方向的宽度存在限制,因此是使用蒸镀掩模91A、91B的两个蒸镀掩模完成一层的蒸镀的方式,利用蒸镀掩模91B的第二次蒸镀弥补蒸镀掩模91A不能在第一次蒸镀中蒸镀的部位,完成蒸镀工序。
蒸镀掩模91A是用于将蒸镀材料蒸镀在沿X方向排列的显示面板7的蒸镀区域B1、B2、B3、B4中的蒸镀区域B1、B3的掩模。蒸镀掩模91B是用于将蒸镀材料蒸镀在蒸镀区域B1、B2、B3、B4中的蒸镀区域B2、B4的掩模。
在第一次蒸镀后的显示面板7上,蒸镀材料在蒸镀区域B1、B3内的多个蒸镀区域14中被蒸镀。而且,在第二次蒸镀后的显示面板7上,蒸镀材料在蒸镀区域B2、B4内的多个蒸镀区域14中被蒸镀。
然而,根据该比较例,需要通常的2倍的蒸镀掩模数。而且,蒸镀装置的产距(处理时间)需要2倍以上,蒸镀材料也浪费,因此存在生产效率非常低的课题。
另外,还存在难以进行第一次蒸镀和第二次蒸镀的蒸镀膜厚的管理的课题。这是因为,如果第一次和第二次的蒸镀膜厚产生差异,则针对蒸镀膜厚产生差异的每个区域会产生块状的亮度差。
无法将宽度窄的FMM无缝地连接。另外,即使在电铸方式的蒸镀掩模的情况下,尺寸也受到限制。
与此相对,根据实施方式1涉及的蒸镀掩模1,通过进行1次的蒸镀处理,能够进行一层的蒸镀。因此,根据本实施方式,与比较例相比,能够降低蒸镀处理时间,以及通过削减必要的蒸镀掩模数量和蒸镀材料等来降低成本等,能够成本低廉且简单地制造显示面板7。
(实施方式2)
图17是表示实施方式2涉及的显示面板7A的像素排列的图。图18是表示设置在用于制造显示面板7A的蒸镀掩模1A上的掩模片3A的接缝附近的平面图。图19是表示与掩模片3A的接缝附近对应的显示面板7A的蒸镀图案的平面图。对与所述的构成要素相同的构成要素标注相同的附图标记,不重复这些详细说明。
显示面板7A的红色像素Rpix与Y方向的一方相邻的红色像素Rpix空出第一间隔配置,与Y方向的另一方相邻的红色像素Rpix空出比第一间隔长的第二间隔配置。隔开第一间隔而配置的一对红色像素Rpix通过同一蒸镀孔5A而被蒸镀。绿色像素Gpix、蓝色像素Bpix也与红色像素Rpix同样。
而且,在用于制造该显示面板7A的蒸镀掩模1A上设置的掩模片3A中,在X方向(平行方向)上相邻的两个蒸镀孔组5AG中,蒸镀孔5A在Y方向(正交方向)上的形成位置不同。
此外,在掩模片3A中,从一个蒸镀孔5A喷出的蒸镀材料用于形成在显示面板7A中包含的以Y方向(正交方向)相邻的堤部15A为单位形成的两个像素。
图20是用于说明蒸镀掩模1A的开口率的图。图21是用于说明比较例的蒸镀掩模的开口率的图。对与所述的构成要素相同的构成要素标注相同的附图标记,不重复这些详细说明。
蒸镀掩模1A的堤部15A的像素配置为如图19以及图20所示,与相邻的一方的堤部15A的像素相比,靠近相邻的另一方的堤部15A的像素。图20所示的包括相邻的一对堤部15A的蒸镀区域14A彼此的间隔W5与图21所示的包括相邻一个堤部15的蒸镀区域14彼此的间隔W5相等。因此,堤部15A与堤部15相比,沿着Y方向延长与间隔W5对应的尺寸的量,能够扩大面积。因此,实施方式2涉及的蒸镀掩模1A与比较例的蒸镀掩模相比,能够增大开口率(开口面积)。
相互靠近的两个堤部15A的开口在一个蒸镀孔5A中集中被蒸镀。但是,这两个堤部15A的像素因为作为单独像素而被布线,所以被分别驱动,独立地发光。
这样,设置靠近相邻的红色像素Rpix的部位和远离相邻的红色像素Rpix的部位,设置靠近相邻的绿色像素Gpix的部位和远离相邻的蓝色像素Bpix的部位和远离相邻的蓝色像素Bpix的部位。即,将红色像素Rpix、绿色像素Gpix以及蓝色像素Bpix的排列设为上下交替。并且,通过相同的蒸镀孔5A蒸镀相互接近的像素,能够提高显示面板7A的开口率。
在沿Y方向相邻的蒸镀孔5A之间设有肋16A。在没有肋16A的狭缝图案中不稳定,因此不能作为大型面板用掩模使用,但通过设置肋16A,掩模片3A稳定,能够将掩模片3A作为大型面板用掩模使用。
这样,由具有跨两像素以上的蒸镀孔5A的掩模片3A构成蒸镀掩模1A。
显示面板7A包括:包括两个堤部15A的多个蒸镀区域14A;以及包括多个单元的两个堤部15A的单一的接缝区域13A。
如图17所示,显示面板7A是具备进行红色显示的红色像素Rpix(红色像素)、进行绿色显示的绿色像素Gpix(绿色像素)以及进行蓝色显示的蓝色像素Bpix(蓝色像素)的显示面板,具备:红色像素组,由沿着Y方向相互以规定的间隔排列的多个红色像素Rpix构成;绿色像素组,由相对于红色像素Rpix在与Y方向正交的X方向上平行地设置,并且沿着Y方向相互以规定的间隔排列的多个绿色像素Gpix构成;蓝色像素组,由相对于红色像素Rpix在X方向上平行地设置,并且沿着Y方向相互以规定的间隔排列的多个蓝色像素Bpix构成。所述红色像素组、所述绿色像素组及所述蓝色像素组沿着X方向以规定的顺序排列有多个。
在至少一个上述红色像素组中,如图19所示,横跨与该多个红色像素Rpix对应的多个堤部15A,红色的发光材料沿着Y方向与蒸镀区域13A重叠。
在至少一个上述绿色像素组中,如图19所示,横跨与该多个绿色像素Gpix对应的多个堤部15A,绿色的发光材料沿着Y方向与蒸镀区域13A重叠。
在至少一个上述蓝色像素组中,如图19所示,横跨与该多个蓝色像素Bpix对应的多个堤部15A,蓝色的发光材料沿着Y方向与蒸镀区域13A重叠。
另外,图19表示红色像素组、绿色像素组和蓝色像素组的任一种蒸镀区域的形态。
作为光学的优点,与实施方式1相比能够增大开口率。在该图案中,也能够设置横跨多个像素的蒸镀区域14A而使面板大型化。
(实施方式3)
图22是实施方式3涉及的蒸镀掩模1B的平面图。对与所述的构成要素相同的构成要素标注相同的附图标记,不重复这些详细说明。本实施方式与上述实施方式1以及2的主要不同点在于:在本实施方式中,通过适当设置覆盖片12(阻止片)以及防污片8B(阻止片),对应于多个(例如四个)显示面板。
蒸镀掩模1B是蒸镀4块显示面板的4块装蒸镀掩模。蒸镀掩模1B具备为了把多个蒸镀孔5分割成4块显示面板而跨框架开口4地架设的防污片8B。防污片8B沿着框架2的彼此相对的长边的各边遮蔽框架开口4的端部。
在框架开口4的中央部配置覆盖片12以及防污片8B,将框架开口4分割成四部分。
在框架2上以形成分别与多个显示面板7对应的多个蒸镀区域的方式设有覆盖片12以及防污片8B,该覆盖片12和防污片8B设于蒸镀孔5与被蒸镀面19之间,阻止从蒸镀孔5喷出的蒸镀材料蒸镀于被蒸镀面19。
在该多个倒角的蒸镀掩模1B的情况下,在宽幅的掩模片不能对应的面板尺寸的情况下,也能够使用覆盖片12、防污片8B来应对。例如,能够利用G6H尺寸的蒸镀装置进行30型的四倒角。
(实施方式4)
图23是表示实施方式4涉及的蒸镀掩模3C的掩模片的制造方法的平面图。图24是比较例涉及的掩模片93的平面图。图25是表示掩模片93的边框区域的形成方法的平面图。图26是用于说明掩模片3的边框区域的图。对与所述的构成要素相同的构成要素标注相同的附图标记,不重复这些详细说明。
仅通过作为FMM制造工序的蚀刻,就能够以图6所示的高精度形成窄边框的掩模片3,但有时最端部的蒸镀孔5的尺寸无法达到规定的公差。因此,如图24及图25所示,在蒸镀孔5中断的边框区域A4的边缘96附近,为了确保蒸镀孔5的尺寸,设置有1列
Figure BDA0003836605550000221
2列无助于OLED的点亮的虚拟图案17。
另外,蒸镀孔5的截面形状与FMM外周部的边缘96的截面形状不同,因此产生阴影的区域也在配置蒸镀孔5的中央部和边缘96的边缘部发生变化。
因此,如图23所示,实施方式4涉及的蒸镀掩模3C的通常边框宽度的掩模片93的蒸镀孔5的位置通过利用激光等沿Y方向分割而形成。因此,掩模架设后的掩模片3C之间的接缝也成为用同样的激光等分割的周期性凹凸图案。
图27是比较例涉及的相互邻接的掩模片3的平面图。图28是沿着图27中的线FF的剖视图。图29是实施方式4涉及的相互邻接的掩模片3C的平面图。图30是沿着图29中的线GG的剖视图。对与所述的构成要素相同的构成要素标注相同的附图标记,不重复这些详细说明。
在相邻的两个掩模片3C中,在相互对置的边缘6C(边缘部),在与蒸镀孔组5G中的相邻的两个蒸镀孔5之间设置的肋16(肋部)的形成位置在X方向上相同的位置,设置有向对置的掩模片3C突出的突出部21。
在该突出部21中,Y方向上的宽度尺寸W6与肋16的Y方法中的宽度尺寸W7相同。而且,在该突出部21中,X方向上的突出尺寸T1小于肋16的X方向上的尺寸T2的1/2。
由相邻的掩模片3之间的边缘6的接缝部产生的阴影比蒸镀孔5的阴影大。与此相对,相邻的掩模片3C之间的边缘6C的接缝部产生的阴影可以为与通常的蒸镀孔5的阴影同样的大小。因此,用激光等分割的掩模片3C产生阴影的方式变得良好。
图31是表示与掩模片3C的接缝附近对应的显示面板7C的蒸镀图案的平面图。对与所述的构成要素相同的构成要素标注相同的附图标记,不重复这些详细说明。
显示面板7C具有:沿着Y方向隔开规定的间隔地形成多个蒸镀区域14R、14G、14B(蒸镀部)的第一蒸镀区域A1;以及沿着Y方向连续地形成单一的蒸镀区域18R、18G、18B(蒸镀部)的第二蒸镀区域A2。
蒸镀区域18R、18G、18B分别与形成有边缘6C的掩模片3C对应地形成为沿Y方向周期性重复宽幅部位和窄幅部位的形状。
如图2所示,显示面板7C是具备进行红色显示的红色像素Rpix(红色像素)、进行绿色显示的绿色像素Gpix(绿色像素)以及进行蓝色显示的蓝色像素Bpix(蓝色像素)的显示面板,具备:红色像素组,由沿着Y方向相互以规定的间隔排列的多个红色像素Rpix构成;绿色像素组,由相对于红色像素Rpix在与Y方向正交的X方向上平行地设置,并且沿着Y方向相互以规定的间隔排列的多个绿色像素Gpix构成;蓝色像素组,由相对于红色像素Rpix在X方向上平行地设置,并且沿着Y方向相互以规定的间隔排列的多个蓝色像素Bpix构成。所述红色像素组、所述绿色像素组及所述蓝色像素组沿着X方向以规定的顺序排列有多个。
在至少一个上述红色像素组中,如图31所示,横跨与该多个红色像素Rpix对应的多个堤部15R,红色的发光材料沿着Y方向与蒸镀区域18R重叠。
在至少一个上述绿色像素组中,如图31所示,横跨与该多个绿色像素Gpix对应的多个堤部15G,绿色的发光材料沿着Y方向与蒸镀区域18G重叠。
在至少一个上述蓝色像素组中,如图31所示,横跨与该多个蓝色像素Bpix对应的多个堤部15B,蓝色的发光材料沿着Y方向与蒸镀区域18B重叠。
本发明不限于上述各实施方式,能在权利要求所示的范围中进行各种变更,将不同的实施方式中分别公开的技术手段适当组合得到的实施方式也包含于本发明的技术范围。而且,能够通过组合各实施方式分别公开的技术方法来形成新的技术特征。
1 蒸镀掩模
2 框架(掩模框架)
3 掩模片
4 框架开口
5 蒸镀孔
5G 蒸镀孔组
6 边缘
7 显示面板
8 防污片(遮蔽片)
8B 防污片(阻止片)
12 覆盖片(阻止片)蒸镀孔组
A1 第一蒸镀区域
A2 第二蒸镀区域
W1 间隔开口宽度
W2 开口宽度
W3 边框宽度
W4 间隔距离
W5 间隔
W6 宽度尺寸
W7 宽度尺寸
T1 突出尺寸
T2 尺寸
pix 像素
Rpix 红色像素(红色像素)
Gpix 绿色像素(绿色像素)
Bpix 蓝色像素(蓝色像素)

Claims (15)

1.一种蒸镀掩模,用于制造显示面板,其特征在于,包括:
掩模框架;以及
多个掩模片,其以堵塞所述掩模框架的框架开口的方式沿与该掩模框架的彼此相对的两边正交的正交方向架设,并分别固定于该两边,
所述多个掩模片各自具有由多个蒸镀孔构成的蒸镀孔组,所述多个蒸镀孔沿着所述正交方向彼此隔开规定间隔而形成,
所述多个掩模片的各自中,
多个所述蒸镀孔组沿与所述两边平行的平行方向设置,并且,
所述掩模片的边缘与最接近于该边缘的所述蒸镀孔组之间的所述平行方向上的边框宽度相对于相邻的两个所述蒸镀孔组在所述平行方向上的间隔距离的比率被设定为规定的第一范围内的值,
所述多个掩模片中,
相邻的两个所述掩模片之间的所述平行方向上的间隔开口宽度相对于所述蒸镀孔的所述平行方向上的开口宽度的比率设定为规定的第二范围内的值。
2.如权利要求1所述的蒸镀掩模,其特征在于,所述第一范围内的值在0.85以上且1.15以下。
3.如权利要求1所述的蒸镀掩模,其特征在于,所述第二范围内的值在0.85以上且1.15以下。
4.如权利要求1所述的蒸镀掩模,其特征在于,所述第一范围内的值和所述第二范围内的值分别在0.85以上且1.15以下。
5.如权利要求1至4中任一项所述的蒸镀掩模,其特征在于,所述第一范围内的值及所述第二范围内的值中的一个值设定成小于1的情况下,所述第一范围内的值及所述第二范围内的值中的另一个值设定成1以上。
6.如权利要求1至5中任一项所述的蒸镀掩模,其特征在于,所述多个掩模片中,对于被蒸镀面,从相邻的两个所述掩模片之间的间隔开口吐出蒸镀材料,形成一列蒸镀图案。
7.如权利要求1至6中任一项所述的蒸镀掩模,其特征在于,在所述掩模框架上分别设置有沿该掩模框架的彼此相对的所述两边的各边遮蔽所述框架开口的端部的两个遮蔽片。
8.如权利要求1至7中任一项所述的蒸镀掩模,其特征在于,在所述掩模片中,在所述平行方向上相邻的两个所述蒸镀孔组中,所述蒸镀孔在所述正交方向上的形成位置不同。
9.如权利要求8所述的蒸镀掩模,其特征在于,在所述掩模片中,从一个所述蒸镀孔中喷出的蒸镀材料用于形成所述显示面板所含的在所述正交方向上相邻的两个像素。
10.如权利要求1至9中任一项所述的蒸镀掩模,其特征在于,在所述掩模框架上以形成与多个所述显示面板分别对应的多个蒸镀区域的方式设置阻止片,所述阻止片设置在所述蒸镀孔与被蒸镀面之间,阻止从该蒸镀孔喷出的蒸镀材料蒸镀在所述被蒸镀面上。
11.如权利要求1至10中任一项的蒸镀掩模,其特征在于,在相邻的两个所述掩模片中,在相互对置的缘部,在所述蒸镀孔组中相邻的两个蒸镀孔之间设置的肋部的形成位置在所述平行方向上相同的位置上,设置有向对置的掩模片突出的突出部。
12.如权利要求11所述的蒸镀掩模,其特征在于,所述突出部在所述正交方向上的宽度尺寸与所述肋部在所述正交方向上的宽度尺寸相同。
13.如权利要求11或12所述的蒸镀掩模,其特征在于,所述突出部在所述平行方向上的突出尺寸小于所述肋部的所述平行方向上的尺寸的1/2。
14.一种显示面板,具备进行红色显示的红色像素;进行绿色显示的绿色像素;以及进行蓝色显示的蓝色像素,其特征在于,具备:
红色像素组,其由沿第一方向彼此以规定的间隔排列的多个所述红色像素构成;
绿色像素组,其相对于所述红色像素在与所述第一方向正交的第二方向平行地设置,并且沿所述第一方向彼此以规定的间隔排列的多个所述绿色像素构成;以及
蓝色像素组,其由相对于所述红色像素在所述第二方向上平行设置并且沿所述第一方向以规定的间隔排列的多个所述蓝色像素构成,
所述红色像素组、所述绿色像素组及所述蓝色像素组沿所述第二方向以规定的顺序排列,
在至少一个所述红色像素组中,红色的发光材料跨越该红色像素组的所述多个红色像素沿所述第一方向重叠,
在至少一个所述绿色像素组中,绿色发光材料跨越所述绿色像素组的所述多个绿色像素沿所述第一方向重叠,
在至少一个所述蓝色像素组中,蓝色的发光材料跨所述蓝色像素组的所述多个蓝色像素沿所述第一方向重叠。
15.一种显示面板的制造方法,其蒸镀蒸镀材料,其特征在于,
包括使用权利要求1至13中任一项所述的蒸镀掩模蒸镀所述蒸镀材料的工序。
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Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101015234A (zh) * 2004-09-08 2007-08-08 东丽株式会社 有机电场发光装置及其制造方法
CN102162082A (zh) * 2010-02-12 2011-08-24 株式会社爱发科 蒸镀掩模、蒸镀装置、薄膜形成方法
CN103210113A (zh) * 2010-12-21 2013-07-17 夏普株式会社 蒸镀装置、蒸镀方法和有机el显示装置
US20140041586A1 (en) * 2012-08-10 2014-02-13 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Masking Device for Vapor Deposition of Organic Material of Organic Electroluminescent Diode
US20140251210A1 (en) * 2013-03-06 2014-09-11 Samsung Display Co., Ltd. Mask structure, mask assembly including the same, and mask structure manufacturing method
CN203834004U (zh) * 2014-03-13 2014-09-17 昆山允升吉光电科技有限公司 一种配套掩模板
JP2015196874A (ja) * 2014-03-31 2015-11-09 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法
CN106521412A (zh) * 2016-11-30 2017-03-22 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀掩模板及蒸镀方法
WO2018051443A1 (ja) * 2016-09-14 2018-03-22 シャープ株式会社 マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法
CN108695361A (zh) * 2017-03-29 2018-10-23 天马日本株式会社 Oled显示装置的制造方法、掩模及掩模的设计方法
CN109385601A (zh) * 2017-08-09 2019-02-26 株式会社饭沼Gauge制作所 掩膜装置以及掩膜制造方法
CN109689920A (zh) * 2016-09-14 2019-04-26 夏普株式会社 掩模片、蒸镀掩模、显示面板的制造方法
CN109790615A (zh) * 2016-10-06 2019-05-21 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法、及有机el显示器的制造方法
CN110241381A (zh) * 2018-03-08 2019-09-17 三星显示有限公司 掩模组装体、掩模组装体的制造方法及显示装置的制造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN206902222U (zh) * 2017-04-27 2018-01-19 京东方科技集团股份有限公司 掩模片和掩模板
CN207109080U (zh) * 2017-08-30 2018-03-16 信利(惠州)智能显示有限公司 掩膜板
KR102341448B1 (ko) * 2017-09-15 2021-12-21 도판 인사츠 가부시키가이샤 증착 마스크의 제조 방법, 표시 장치의 제조 방법, 및 증착 마스크

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101015234A (zh) * 2004-09-08 2007-08-08 东丽株式会社 有机电场发光装置及其制造方法
CN102162082A (zh) * 2010-02-12 2011-08-24 株式会社爱发科 蒸镀掩模、蒸镀装置、薄膜形成方法
CN103210113A (zh) * 2010-12-21 2013-07-17 夏普株式会社 蒸镀装置、蒸镀方法和有机el显示装置
US20140041586A1 (en) * 2012-08-10 2014-02-13 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Masking Device for Vapor Deposition of Organic Material of Organic Electroluminescent Diode
US20140251210A1 (en) * 2013-03-06 2014-09-11 Samsung Display Co., Ltd. Mask structure, mask assembly including the same, and mask structure manufacturing method
CN203834004U (zh) * 2014-03-13 2014-09-17 昆山允升吉光电科技有限公司 一种配套掩模板
JP2015196874A (ja) * 2014-03-31 2015-11-09 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、多面付け蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法
WO2018051443A1 (ja) * 2016-09-14 2018-03-22 シャープ株式会社 マスクシート、蒸着マスク、表示パネルの製造方法
CN109689920A (zh) * 2016-09-14 2019-04-26 夏普株式会社 掩模片、蒸镀掩模、显示面板的制造方法
CN109790615A (zh) * 2016-10-06 2019-05-21 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模的制造方法、有机半导体元件的制造方法、及有机el显示器的制造方法
CN106521412A (zh) * 2016-11-30 2017-03-22 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀掩模板及蒸镀方法
CN108695361A (zh) * 2017-03-29 2018-10-23 天马日本株式会社 Oled显示装置的制造方法、掩模及掩模的设计方法
CN109385601A (zh) * 2017-08-09 2019-02-26 株式会社饭沼Gauge制作所 掩膜装置以及掩膜制造方法
CN110241381A (zh) * 2018-03-08 2019-09-17 三星显示有限公司 掩模组装体、掩模组装体的制造方法及显示装置的制造方法

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