CN110241381A - 掩模组装体、掩模组装体的制造方法及显示装置的制造方法 - Google Patents

掩模组装体、掩模组装体的制造方法及显示装置的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了掩模组装体、掩模组装体的制造方法及显示装置的制造方法。本发明的掩模组装体包括：掩模框架；掩模板，以被拉伸的状态配置于上述掩模框架，形成有至少一个开口部以使蒸镀物质通过；阻隔部，以被拉伸的状态配置于上述掩模板与上述掩模框架之间，用于确定上述掩模板的蒸镀区域，上述阻隔部包括：主体部、以及从上述主体部突出的突出部，上述主体部的两端中的至少一端在与上述主体部的长度方向垂直的方向上的宽度与其他部分不同。

Description

掩模组装体、掩模组装体的制造方法及显示装置的制造方法
技术领域
本发明实施例涉及装置及方法，更详细地，涉及掩模组装体、掩模组装体的制造方法及显示装置的制造方法。
背景技术
目前广泛使用着基于移动性的电子设备。作为移动电子设备，除移动电话等小型电子设备之外，最近广泛使用平板电脑。
为了提供多种功能，上述移动电子设备包括用于向用户提供如图像或影像等视觉信息的显示装置。最近，随着用于驱动显示装置的其他部件的小型化，显示装置在电子设备中占据的比重有逐渐增加的趋势，还开发出了在平坦的状态下能够弯曲成规定角度的结构。
发明内容
通常，在制造显示装置时，需要将蒸镀物质准确地蒸镀到显示区域。在这种情况下，需要将为了制造显示装置而使用的掩模组装体制造成与设计值相同或最大限度地类似。本发明的实施例提供可精密地对蒸镀物质进行蒸镀的掩模组装体、掩模组装体的制造方法及显示装置的制造方法。
本发明一实施例的掩模组装体包括：掩模框架；掩模板，以被拉伸的状态配置于上述掩模框架，形成有至少一个开口部以使蒸镀物质通过；阻隔部，以被拉伸的状态配置于上述掩模板与上述掩模框架之间，用于确定上述掩模板的蒸镀区域，上述阻隔部包括：主体部、以及从上述主体部突出的突出部，上述主体部的两端中的至少一端在与上述主体部的长度方向垂直的方向上的宽度与上述主体部的其他部分不同。
在本实施例中，上述主体部的两端中的至少一端的宽度，随着从上述主体部的中央部分朝向上述主体部的两端中的至少一端侧可以逐渐减小。
在本实施例中，上述阻隔部还可以包括配置于上述主体部的基准线。
本发明另一实施例可包括：在掩模框架贴合阻隔部的步骤；在测定上述阻隔部是否发生变形之后，去除上述阻隔部的两端中的至少一端的一部分的步骤；在上述阻隔部上配置掩模板，并在上述阻隔部贴合上述掩模板的步骤。
在本实施例中，上述阻隔部可包括：主体部、以及从上述主体部突出的突出部。
在本实施例中，去除上述阻隔部的两端中的至少一端的一部分的步骤可以去除上述主体部的两端中的至少一端的一部分
在本实施例中，一部分被去除的上述主体部的两端中的至少一端在与上述主体部的长度方向垂直的方向上的宽度可以与上述主体部的其他部分不同。
在本实施例中，一部分被去除的上述主体部的两端中的至少一端的宽度，随着从上述主体部的中央部分朝向上述主体部的两端中的至少一端侧可以逐渐减小。
在本实施例中，可根据上述阻隔部的基准线的位置变化来判断上述阻隔部是否发生了变形。
在本实施例中，还可包括将上述阻隔部拉伸的步骤。
在本实施例中，还可包括将上述掩模板拉伸的步骤。
在本实施例中，还可包括：在母材标记上述阻隔部的步骤；以及切断所标记的上述阻隔部的步骤。
在本实施例中，还可包括在上述阻隔部标记基准线的步骤。
在本实施例中，还可包括将上述母材拉伸的步骤。
在本实施例中，还可包括切断上述阻隔部及上述掩模板中的至少一部分的步骤。
本发明另一实施例可包括：制造并准备掩模组装体的步骤；向腔室内部装入上述掩模组装体及显示基板，通过源部向上述显示基板供给蒸镀物质来使蒸镀物质被蒸镀在上述显示基板的步骤，制造并准备上述掩模组装体的步骤包括：在掩模框架贴合阻隔部的步骤；在测定上述阻隔部是否发生变形之后，去除上述阻隔部的两端中的至少一端的一部分的步骤；在上述阻隔部上配置掩模板，并在上述阻隔部贴合上述掩模板的步骤。
在本实施例中，一部分被去除的上述阻隔部的两端中的至少一端的宽度，随着从上述阻隔部的中央部分朝向上述阻隔部的两端中的至少一端侧可以逐渐减小。
在本实施例中，制造并准备上述掩模组装体的步骤还可包括将上述阻隔部及上述掩模板中的至少一个拉伸的步骤。
在本实施例中，制造并准备上述掩模组装体的步骤还可以包括：在母材标记上述阻隔部的步骤；切断所标记的上述阻隔部的步骤。
在本实施例中，制造并准备上述掩模组装体的步骤还可包括将上述母材拉伸的步骤。
关于除上述之外的其他实施方式、特征、优点，可通过以下的附图、发明要求保护范围及发明的详细说明变得明确。
这种一般且具体的实施方式可以用系统、方法、计算机程序或某种系统、方法及计算机程序的组合来实施。
与本发明实施例相关的掩模组装体能够校正阻隔部的变形。
与本发明实施例相关的掩模组装体的制造方法能够形成最大限度地接近设计值的蒸镀区域。
与本发明的实施例相关的显示装置的制造方法能够制造出具有精密的发光区域的显示装置。
附图说明
图1为示出本发明一实施例的掩模组装体的立体图。
图2为示出在图1所示的掩模板和阻隔部排列的蒸镀区域的平面图。
图3为示出图1所示的掩模组装体的制造顺序的平面图。
图4为示出图1所示的掩模组装体的制造顺序的立体图。
图5为示出图1所示的掩模组装体的制造顺序的立体图。
图6为示出图1所示的掩模组装体的制造顺序的立体图。
图7为示出本发明另一实施例的显示装置的制造装置的剖视图。
图8为示出通过图7所示的显示装置的制造装置制造出的显示装置的平面图。
图9为沿着图8的A-A线截取的剖视图。
附图标记说明
1：母材 152：掩模板
20：显示装置 153：阻隔部
100：显示装置的制造装置 154：支撑框架
110：腔室 160：磁力部
120：第一支撑部 170：摄像部
130：第二支撑部 180：压力调节部
140：源部 181：连接配管
150：掩模组装体 182：泵
151：掩模框架
具体实施方式
本发明可进行多种变换，可具有多种实施例，在图中例示特定实施例并在详细说明中进行详细说明。本发明的效果及特征、实现这些的方法将参照与附图一同详细后述的实施例变得明确。但是，本发明并不限于以下公开的实例，而是可体现为多种形态。
以下，参照附图，详细说明本发明的实施例，当参照附图进行说明时，对相同或对应的结构要素赋予相同的附图标记，并省略对其的重复说明。
在以下的实施例中，第一、第二等的术语并非为限定含义，而是用于区分一个结构要素与其他结构要素。
在以下的实施例中，只要在上下文中并未明确表示，单数的表现可包括复数的表现。
在以下的实施例中，包括或具有等的术语意味着在说明书中记载的特征或结构要素的存在，而并非意味着预先排除一个以上的其他特征或结构要素的附加可能性。
在以下的实施例中，当膜、区域、结构要素等部分形成于其他部分上方时，不仅包括直接在其他部分上方的情况，而且还包括在中间隔着其他膜、区域、结构要素等的情况。
图中，为了方便说明，结构要素的结构可以放大或缩小。例如，图中示出的各个结构要素的大小及厚度为了方便说明而随意示出，本发明并不限于此。
在以下的实施例中，x轴、y轴及z轴并不限于正交坐标上的三个轴，可被解释成包括其的广泛含义。例如，x轴、y轴及z轴可以正交，也可以为不正交的不同方向。
在某一实施例按照不同的方式实现的情况下，特定工序顺序可以按照与说明的顺序不同的顺序执行。例如，连续说明的两个工序实际上可以一同执行，也可以按与说明顺序相反的顺序执行。
图1为示出本发明一实施例的掩模组装体的立体图。图2为示出在图1所示的掩模板和阻隔部排列的蒸镀区域的平面图。
参照图1及图2，掩模组装体150可包括掩模框架151、掩模板152、阻隔部153及支撑框架154。
掩模组装体150以在内部形成空间的方式使多个框架相互连接。作为一实施例，掩模组装体150可呈在中间形成一个开口部的框状。作为另一实施例，掩模组装体150可呈包括多个开口部的窗框似的格子状。以下，为了方便说明，以掩模组装体150在中央形成一个开口的场合为中心进行说明。
掩模板152可包括至少两个以上，至少两个以上的掩模板152以相互隔开的方式设置于掩模框架151。此时，掩模板152可沿着第一方向(例如，图1的Y轴方向)排列。
掩模板152可包括至少一个开口部152-1。尤其，掩模板152可沿着长度方向形成多个开口部152-1。此时，多个开口部152-1可以相互隔开规定间隔配置，形成掩模板152的前部面。
阻隔部153可配置于掩模框架151和掩模板152之间。此时，阻隔部153可形成多个，在掩模框架151相互隔开配置。例如，多个阻隔部153沿着掩模板152的长度方向相互隔开排列。并且，各个阻隔部153可沿着与掩模板152的长度方向垂直的方向排列。
这种阻隔部153可在相互隔开配置的阻隔部153之间确定蒸镀区域S。尤其，上述蒸镀区域S可具有除矩形或正方形之外的形状。例如，蒸镀区域S可具有三角形、多边形、椭圆、圆等形状。
上述阻隔部153能够以不对称形态形成。例如，阻隔部153的一侧面可以平坦，另一侧面可以突出。例如，阻隔部153可包括设置于掩模框架151的主体部153-1、从主体部153-1突出的突出部153-2。
主体部153-1可呈直线形态的板状。此时，主体部153-1可沿着与掩模板152的长度方向(例如，图1的X轴方向)垂直的方向(或第一方向)排列。在这种主体部153-1的两端中的至少一端，其沿着与主体部153-1的长度方向垂直的方向测定的主体部153-1的宽度可以与主体部153-1的其他部分的宽度不同。例如，主体部153-1的两端中的至少一端的宽度可以小于主体部153-1的其他部分的宽度。在这种情况下，主体部153-1的两端中的至少一端的宽度，随着从主体部153-1的中央朝向主体部153-1的两端中的至少一端侧逐渐变小。即，主体部153-1的两端中的至少一端的边缘可以是有倒角的形态。这种主体部153-1的两端中的至少一端可在贴合于掩模框架151之后被去除。对此，以下进行详细说明。
突出部153-2从主体部153-1朝掩模板152的长度方向突出。此时，突出部153-2可以与主体部153-1一同确定蒸镀区域S的形状的边缘。尤其，突出部153-2能够确定蒸镀区域S的边缘中的与主体部153-1形成规定角度的部分、带曲率地形成的部分等。
突出部153-2可遮蔽配置于蒸镀区域S的多个开口部152-1中的一部分。例如，突出部153-2可遮蔽在蒸镀区域S的边缘(或边界)排列的开口部152-1中的一部分。这种情况下，蒸镀物质只能通过开口部152-1中的一部分。
上述阻隔部153和掩模板152可以由不同材质形成。例如，阻隔部153可以包含奥氏体不锈钢(Austenitic Stainless Steels)，掩模板152可以包含镍铁合金(Invar)。
上述阻隔部153和掩模板152可以以被拉伸的状态固定于掩模框架151。此时，阻隔部153和掩模板152可通过焊接固定于掩模框架151。
支撑框架154可配置于相邻的掩模板152之间。支撑框架154的两端可插入设置于掩模框架151。此时，支撑框架154遮蔽掩模板152之间的间隙并支撑掩模板152，由此防止掩模板152的下垂。
图3为示出图1所示的掩模组装体的制造顺序的平面图。图4为示出图1所示的掩模组装体的制造顺序的立体图。图5为示出图1所示的掩模组装体的制造顺序的立体图。图6为示出图1所示的掩模组装体的制造顺序的立体图。
参照图3至图6，可制造准备掩模框架151、掩模板152、阻隔部153及支撑框架154。此时，如上所述，掩模框架151可通过将多个框架相互连接并焊接来制造。
掩模板152可形成为贯通开设一个以上的开口部152-1。此时，掩模板152可呈薄板形态，开口部152-1可配置于掩模板152的中央部分。尤其，在有多个开口部152-1的情况下，多个开口部152-1可沿着掩模板152的长度方向排成一列，多个开口部152-1可相互隔开排列。
阻隔部153可通过母材1制造。具体地，阻隔部153在拉伸母材1的状态下，在母材1标注出阻隔部153的轮廓线。并且，可在阻隔部153内部标注出基准线153-3。此时，对阻隔部153的轮廓线及基准线153-3的标注可在母材1通过激光、墨水等来实施。
如上所述，若完成阻隔部153及基准线153-3的描绘，就可沿着阻隔部153的轮廓线从母材1分离出阻隔部153。在这种情况下，因向母材1施加的拉伸力，母材1和阻隔部153可能会变形。尤其，阻隔部153因突出部153-2，整体形状成为非对称的形状，由此，阻隔部153的至少一部分可向一侧突出变形。在这种情况下，若从母材1分离出阻隔部153，向母材1施加的拉伸力会在阻隔部153留下残留应力，所以阻隔部153不会呈一直线，而是有一部分可能会发生变形。此时，阻隔部153的变形部分可能会向与阻隔部153的长度方向垂直的方向突出。尤其，在这种情况下，基准线153-3不会成为一直线。即，基准线153-3中，配置于阻隔部153的变形部分的基准线153-3部分相比于其他部分将会突出。
如上所述，若将掩模框架151、掩模板152、阻隔部153及支撑框架154准备完毕，就在掩模框架151上配置阻隔部153之后将阻隔部153以被拉伸的状态排列。此时，可确认是否存在阻隔部153的基准线153-3的位置发生改变的部位。
具体地，可通过另行设置的检查摄像部V或传感器(未图示)检查基准线153-3。此时，判断通过检查摄像部V或上述传感器检查的基准线153-3是否与已设定的设定基准线(未图示)相同，以及判断基准线153-3从上述设定基准线突出的距离等。在这种情况下，上述设定基准线可以是一直线。
如上所述，在比较基准线153-3和上述设定基准线之后，从上述设定基准线至突出的基准线153-3的距离可作为阻隔部153的一部分变形的程度来判断。此时，还可判断出基准线153-3从上述设定基准线突出的方向。例如，基准线153-3可以以阻隔部153的长度方向为基准向右侧或左侧突出。在这种情况下，可判断为阻隔部153在基准线153-3突出的部分朝基准线153-3突出的方向发生了变形。
如上所述，在判断出阻隔部153的变形之后，可去除与发生变形的部分相反方向的主体部153-1的边缘一部分。例如，阻隔部153以基准线153-3为基准被划分为两个区域。具体地，阻隔部153可由基准线153-3划分，包括相对的第一区域S1和第二区域S2。此时，在阻隔部153的变形的部分从基准线153-3朝第一区域S1变形的情况下，可去除存在于第二区域S2的主体部153-1的边缘一部分。作为另一实施例，在阻隔部153的变形的部分朝第二区域突出的情况下，可去除存在于第一区域S1的主体部153-1的边缘一部分。在这种情况下，边缘被去除的主体部153-1部分和变形的阻隔部153部分以基准线153-3为基准存在于互相相反的区域。此时，边缘被去除的主体部153-1部分的宽度，可以随着从主体部153-1的中央朝向主体部153-1的两端中的一端而变得不同。具体地，边缘被去除的主体部153-1部分的宽度，随着从主体部153-1的中央朝向主体部153-1的两端中的一端逐渐减小。在这种情况下，被去除的主体部153-1的边缘部分可呈三角形形状。
如上所述，在主体部153-1的边缘一部分被去除的情况下，若主体部153-1朝向长度方向受到拉伸力，主体部153-1的第一区域S1和第二区域S2可能会以不同程度变形。例如，第一区域S1的变形大于第二区域S2的变形。尤其，与第二区域S2的两端相比，第一区域S1的两端将被为了拉伸力而使用的夹具C把持更多部分。在这种情况下，第一区域S1所承受的拉伸力大于第二区域S2所承受的拉伸力。因这种拉伸力的差异，第一区域S1和第二区域S2的变形可能会不同。此时，因第一区域S1和第二区域S2的变形差异，主体部153-1会与前述方式相反地发生变形。具体地，与前述相反地，主体部153-1的变形部分可向第二区域S2侧变形。因此，主体部153-1以抵消母材1被拉伸时发生的变形的方式发生变形，由此，变得与最初设计的形状类似。即，基准线153-3几乎成为一条直线，变得与上述设定基准线相同或类似。
如上所述，若阻隔部153准备完毕，可将阻隔部153固定于掩模框架151。此时，阻隔部153可通过焊接等固定于掩模框架151。
可在拉伸状态下，在阻隔部153上排列的掩模板152。此时，掩模板152可以有多个，多个掩模板152可沿着阻隔部153的长度方向排成一列。并且，各个掩模板152可以排列成与各个阻隔部153形成直角。
若完成上述过程，可将掩模板152焊接在掩模框架151及阻隔部153中的至少一方。并且，在相邻掩模板152之间配置支撑框架154之后，将支撑框架154固定于掩模框架151。
之后，切断并去除主体部153-1的一部分和掩模板152的一部分。例如，可切断边缘部分被去除的主体部153-1的两端，可去除掩模板152的两端。在这种情况下，主体部153-1的两端及掩模板152的两端与掩模框架151的边缘相同，或者配置于掩模框架151上。
如上所述，在制造掩模组装体150的情况下，阻隔部153与相邻的阻隔部153一同遮蔽掩模板152的开口部152-1中的一部分，由此，可形成蒸镀区域(未图示)。
因此，掩模组装体150能够抵消制造阻隔部153时发生的阻隔部153的变形，由此，可使阻隔部153的变形最小化。并且，掩模组装体150能够与上述蒸镀区域的设计相同或类似地形成。
图7为示出本发明另一实施例的显示装置的制造装置的剖视图。
参照图7，显示装置的制造装置100可包括腔室110、第一支撑部120、第二支撑部130、掩模组装体150、源部140、磁力部160、摄像部170及压力调节部180。
腔室110可在内部形成空间，一部分可以开口。此时，在腔室110的开口的部分可设置闸阀110-1。在这种情况下，根据闸阀110-1的动作，腔室110的开口部分开放或关闭。
第一支撑部120可放置显示基板D并进行支撑。此时，第一支撑部120可以是固定于腔室110内部的托架形态。作为另一实施例，第一支撑部120可放置显示基板D，是在腔室110内部进行线性运动的梭子(shuttle)形态。以下，为了方便说明，以第一支撑部120是固定于腔室110内部的托架形态的场合为中心进行说明。
第二支撑部130可放置掩模组装体150。此时，第二支撑部130可配置于腔室110的内部。第二支撑部130可对掩模板状体150的位置进行微调。此时，为了能够向相互不同的方向移动掩模组装体150，第二支撑部130可包括额外的驱动部或对齐单元等。
源部140可以与掩模板状体150相对配置。此时，源部140可收纳蒸镀物质，通过向蒸镀物质加热，能够使蒸镀物质蒸发或升华。
磁力部160以与显示基板D相对的方式配置于腔室110的内部。此时，磁力部160向掩模板152施加磁力，从而朝向显示基板D侧对掩模组装体150施力。尤其，磁力部160不仅防止掩模板152下垂，还能使掩模板152靠近显示基板D。并且，磁力部160可在掩模板152的长度方向上将掩模板152和显示基板D之间的间隔均匀地维持。
摄像部170设置于腔室110，可拍摄显示基板D和掩模组装体150的位置。此时，摄像部170可包括拍摄显示基板D及掩模组装体150的摄像头。根据在摄像部170拍摄的图像能够掌握显示基板D和掩模组装体150的位置，根据上述图像能够在第二支撑部130对掩模组装体150的位置进行微调。
压力调节部180与腔室110连接，调节腔室110内部的压力。例如，压力调节部180可将腔室110内部的压力调节成与大气压相同或类似。并且，压力调节部180可以将腔室110内部的压力调节成与真空状态相同或类似。
压力调节部180可包括与腔室110连接的连接配管181和设置于连接配管181的泵182。此时，根据泵182的工作，通过连接配管181流入外气，或者通过连接配管181向外部引导腔室110内部的气体。
另一方面，上述显示装置的制造装置100可用于制造以下说明的显示装置(未图示)。具体地，若压力调节部180使腔室110内部成为与大气压相同或类似的状态，闸阀110-1就会进行动作，开放腔室110的开口部分。
之后，可从腔室110的外部向内部装入显示基板D。此时，显示基板D可通过多种方式向腔室110装入。例如，显示基板D通过配置于腔室110外部的机械臂等从腔室110的外部向腔室110内部装入。作为另一实施例，在第一支撑部120形成梭子形态的情况下，在第一支撑部120从腔室110内部向腔室110外部搬出之后，通过配置于腔室110外部的额外的机械臂等将显示基板D放置于第一支撑部120，由第一支撑部120从腔室110的外部向腔室110内部装入。以下，为了方便说明，以通过配置于腔室110外部的机械臂将显示基板D从腔室110外部向腔室110内部装入的场合为中心进行说明。
如上所述，掩模组装体150可配置于腔室110的内部。作为另一例，与显示基板D相同或类似地，掩模组装体150从腔室110的外部向腔室110的内部装入。只是以下为了方便说明，以掩模组装体150配置于腔室110内部的状态下，仅显示基板D从腔室110的外部向腔室110内部装入的场合为中心进行说明。
若显示基板D装入腔室110的内部，显示基板D可安装于第一支撑部120。此时，摄像部170可拍摄显示基板D和掩模组装体150的位置。尤其，摄像部170可拍摄显示基板D的第一对齐标记及掩模组装体150的第二对齐标记。
如上所述，根据被拍摄的第一对齐标记和第二对齐标记，可掌握显示基板D和掩模组装体150的位置。此时，显示装置的制造装置100具有额外的控制部(未图示)，可掌握显示基板D和掩模组装体150的位置。
若已掌握显示基板D和掩模组装体150的位置，第二支撑部130可对掩模组装体150的位置进行微调。
之后，源部140工作，向掩模组装体150侧供给蒸镀物质，通过了多个开口部152-1的蒸镀物质可被蒸镀在显示基板D。此时，泵182吸入腔室110内部的气体并向外部排出，由此，将腔室110内部的压力维持成与真空相同或类似。
在上述情况下，蒸镀物质通过配置于蒸镀区域(未图示)的开口部被蒸镀在显示基板D。此时，如上所述，掩模组装体150可提供与设计的蒸镀区域相同或类似的上述蒸镀区域。
因此，在显示基板D上，显示装置的制造装置100能够在与设计的形态相同或类似的区域进行蒸镀物质的蒸镀。并且，显示装置的制造装置100能够制造出精密的显示装置。
图8为示出通过图7所示的显示装置的制造装置制造出的显示装置的平面图。图9为沿着图8的A-A线截取的剖视图。
参照图8及图9，显示装置20在基板21上确定有显示区域DA和显示区域DA外围的非显示区域NDA。在显示区域DA配置发光部，在非显示区域配置电源配线(未图示)等。并且，在非显示区域配置焊盘C。
显示装置20可包括：显示基板D；中间层28-2，配置于显示基板D上；以及相对电极28-3，配置于中间层28-2上。并且，显示装置20可包括形成于相对电极28-3上部的薄膜密封层E。
显示基板D可包括基板21、薄膜晶体管(TFT)、钝化膜27及像素电极28-1。
基板可以使用塑料材料，也可以使用如SUS、Ti之类的金属材料。并且，基板21还可以使用聚酰亚胺(PI，Polyimide)。以下，为了方便说明，以基板21由聚酰亚胺形成的场合为中心进行说明。
在基板21上形成薄膜晶体管，以覆盖薄膜晶体管的方式形成钝化膜27，可在上述钝化膜27上形成有机发光元件28。
在基板21的上表面还形成由有机化合物和/或无机化合物形成的缓冲层22，可以由SiOx(x≥1)、SiNx(x≥1)形成。
在上述缓冲层22上形成以规定图案排列的活性层23之后，活性层23通过栅极绝缘层24被埋入。活性层23具有源区域23-1和漏区域23-3，之间还包括沟道区域23-2。
这种活性层23可形成为包含多种物质。例如，活性层23可包含非晶硅或晶体硅等无机半导体物质。作为另一例，活性层23可包含氧化物半导体。作为又一例，活性层23可包含有机半导体物质。只是以下为了方便说明，以活性层23由非晶硅形成的场合为中心进行说明。
这种活性层23可通过如下方式形成，即，在缓冲层22上形成非晶硅膜之后，使其晶化而形成多晶硅膜，对上述多晶硅膜进行构图而形成活性层23。上述活性层23根据驱动TFT(未图示)、开关TFT(未图示)等TFT种类，上述源区域23-1及漏区域23-3用杂质掺杂。
在栅极绝缘层24的上表面形成有与活性层23相对应的栅极25和埋入所述栅极25的层间绝缘层26。
而且，在层间绝缘层26和栅极绝缘层24形成接触孔H1之后，在层间绝缘层26分别形成源极27-1及漏极27-2，使它们分别与源区域23-1及漏区域23-3接触。
在如此形成的上述薄膜晶体管的上部形成钝化膜27，在上述钝化膜27上部形成有机发光元件28(OLED)的像素电极28-1。上述像素电极28-1通过形成于钝化膜27的通孔H2与TFT的漏极27-2接触。上述钝化膜27可由无机物和/或有机物形成单层或2层以上，可以与下部膜的弯曲无关地使上表面平坦，从而形成平坦化膜，另一方面，也可以形成为根据位于下部的膜的弯曲而具有弯曲。而且优选地，上述钝化膜27由透明绝缘体形成，以实现共振效果。
在钝化膜27上形成像素电极28-1之后，以覆盖上述像素电极28-1及钝化膜27的方式形成像素定义膜27，像素定义膜27由有机物和/或无机物形成，以使像素电极28-1露出的方式开口。
而且，至少在上述像素电极28-1上形成中间层28-2及相对电极28-3。作为另一实施例，相对电极28-3可形成于显示基板D的整个面上。在这种情况下，相对电极28-3可形成于中间层28-2、像素定义膜29上。以下为了方便说明，以相对电极28-3形成于中间层28-2、像素定义膜29上的场合为中心进行说明。
像素电极28-1起到阳极的作用，相对电极28-3起到阴极的功能，当然，这些像素电极28-1和相对电极28-3的极性相反也无妨。
像素电极28-1和相对电极28-3通过上述中间层28-2相互绝缘，通过向中间层28-2施加不同极性的电压而在有机发光层进行发光。
中间层28-2可包括有机发光层。作为选择性的另一例，中间层28-2包括有机发光层(organic emission layer)，此外，还可包括空穴注入层(HIL，hole injection layer)、空穴传输层(hole transport layer)、电子传输层(electron transport layer)及电子注入层(electron injection layer)中的至少一个。本实施例并不限于此，中间层28-2包括有机发光层，还可包括其他各种功能层(未图示)。
此时，上述中间层28-2可通过上述说明的显示装置的制造装置(未图示)形成。
上述中间层28-2可以有多个，多个中间层28-2可形成显示区域DA。尤其，多个中间层28-2可形成矩形、正方形之外的形状的显示区域。此时，多个中间层28-2可在显示区域DA内部相互隔开配置。
这种多个中间层28-2中的一部分面积可以与多个中间层28-2中的另一部分的面积不同。例如，多个中间层28-2中的一部分的面积可以小于多个中间层28-2的另一部分的面积。这种多个中间层28-2中，面积小于其他中间层28-2的中间层28-2可形成于上述说明的阻隔部(未图示)的边界。
另一方面，一个单位像素可以由多个子像素形成，多个子像素可释放多种颜色的光。例如，多个子像素可以有分别发出红色、绿色及蓝色光的子像素，可以有发出红色、绿色、蓝色及白色光的子像素(未图示)。
如上所述的子像素可包括一个中间层28-2。此时，在形成一个子像素的情况下，通过上述说明的显示装置的制造装置100形成中间层28-2。
另一方面，上述薄膜密封层E可包括多个无机层，或者可包括无机层及有机层。
薄膜密封层E的上述有机层由高分子形成，优选地，可以是由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧、聚乙烯及聚丙烯酸酯中的一种形成的单一膜或层叠膜。更优选地，上述有机层可由聚丙烯酸酯形成，具体地，可具有由包含二丙烯酸酯类单体和三丙烯酸酯类单体的单体组合物高分子化而成的材料。上述单体组合物还可包含单丙烯酸酯单体。并且，上述单体组合物还可包含如TPO之类的公知的光引发剂，但并不限于此。
薄膜密封层Eden的上述无机层可以是包含金属氧化物或金属氮化物的单一膜或层叠膜。具体地，上述无机层可包含SiNx、Al2O3、SiO2、TiO2中的一种。
为了防止对有机发光元件的透湿，在薄膜密封层E中向外部露出的最上层由无机层形成。
薄膜密封层E可包括至少一个在至少两个无机层之间插入至少一个有机层的三明治结构。作为另一例，薄膜密封层E可包括至少一个在至少两个有机层之间插入至少一个无机层的三明治结构。作为另一例，薄膜密封层E可包含在至少两个无机层之间插入至少一个有机层的三明治结构、及在至少两个有机层之间插入至少一个无机层的三明治结构。
薄膜密封层E从有机发光元件的上部依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层。
作为另一例，薄膜密封层E从有机发光元件的上部依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层及第三无机层。
作为又一例，薄膜密封层E从上述有机发光元件的上部依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层、上述第二有机层、第三无机层、第三有机层、第四无机层。
在有机发光元件和第一无机层之间可以追加形成包含LiF的卤化金属层。上述卤化金属层在通过溅射方法形成第一无机层时能够防止上述有机发光元件受损。
第一有机层的面积可以小于第二无机层的面积，上述第二有机层的面积也可以小于第三无机层的面积。
因此，显示装置20能够呈现出具有除矩形及正方形之外的形状的显示区域。并且，显示装置20可呈现出与设计的显示区域相同或类似的显示区域。
如上所述，参照附图，对本发明的一实施例进行了说明，这仅是例示性实施例，只要是本发明所属技术领域的普通技术人员，可从上述记载进行多种变形及实施例的变形。因此，本发明的真正要求保护的范围通过要求保护范围的技术思想定义。

Claims (10)

1.一种掩模组装体，其特征在于，包括：
掩模框架；
掩模板，以被拉伸的状态配置于上述掩模框架，形成有至少一个开口部以使蒸镀物质通过；以及
阻隔部，以被拉伸的状态配置于上述掩模板与上述掩模框架之间，用于确定上述掩模板的蒸镀区域，
上述阻隔部包括：主体部、以及从上述主体部突出的突出部，
上述主体部的两端中的至少一端在与上述主体部的长度方向垂直的方向上的宽度与上述主体部的其他部分不同。
2.根据权利要求1所述的掩模组装体，其特征在于，
上述主体部的两端中的至少一端的宽度，随着从上述主体部的中央部分朝向上述主体部的两端中的至少一端侧逐渐减小。
3.根据权利要求1所述的掩模组装体，其特征在于，
上述阻隔部还包括配置于上述主体部的基准线。
4.一种掩模组装体的制造方法，其特征在于，包括：
在掩模框架贴合阻隔部的步骤；
在测定上述阻隔部是否发生变形之后，去除上述阻隔部的两端中的至少一端的一部分的步骤；以及
在上述阻隔部上配置掩模板，并在上述阻隔部贴合上述掩模板的步骤，
上述阻隔部包括：主体部、以及从上述主体部突出的突出部，
去除上述阻隔部的两端中的至少一端的一部分的步骤去除上述主体部的两端中的至少一端的一部分。
5.根据权利要求4所述的掩模组装体的制造方法，其特征在于，
一部分被去除的上述主体部的两端中的至少一端在与上述主体部的长度方向垂直的方向上的宽度与上述主体部的其他部分不同。
6.一种显示装置的制造方法，其特征在于，包括：
制造并准备掩模组装体的步骤；以及
向腔室内部装入上述掩模组装体及显示基板，通过源部向上述显示基板供给蒸镀物质来使蒸镀物质被蒸镀在上述显示基板的步骤，
制造并准备上述掩模组装体的步骤包括：
在掩模框架贴合阻隔部的步骤；
在测定上述阻隔部是否发生变形之后，去除上述阻隔部的两端中的至少一端的一部分的步骤；以及
在上述阻隔部上配置掩模板，并在上述阻隔部贴合上述掩模板的步骤。
7.根据权利要求6所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
一部分被去除的上述阻隔部的两端中的至少一端的宽度，随着从上述阻隔部的中央部分朝向上述阻隔部的两端中的至少一端侧逐渐减小。
8.根据权利要求6所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
制造并准备上述掩模组装体的步骤还包括将上述阻隔部及上述掩模板中的至少一个拉伸的步骤。
9.根据权利要求6所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
制造并准备上述掩模组装体的步骤还包括：
在母材标记上述阻隔部的步骤；以及
切断所标记的上述阻隔部的步骤。
10.根据权利要求9所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
制造并准备上述掩模组装体的步骤还包括将上述母材拉伸的步骤。
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