TWI266948B - Lithographic apparatus and device manufacturing method - Google Patents

Description

1266948 φ 九、發明說明： : 【發明所屬之技術領域】 ，- 本發明係關於一種微影裝置及器件製造方法。 【先前技術】 一微影裝置為一種將所要圖案施加於一基板之目標部分 上之機器。微影裝置可用於（例如）積體電路（IC)之製造中。 在彼情況中，一諸如光罩之圖案化構件可用於產生一對應 於ic之個別層之電路圖案，且可使該圖案成像於一位於具 有一輻射敏感材料（光阻）層的基板（例如一石夕晶圓）上之目 標部分（例如包括一或多個晶粒之部分）。大體而言，單一基 板將含有一連續得到曝光之相鄰目標部分之網路。已知之 微影裝置包含：所謂的步進器，其中藉由將整個圖案一次 性曝光至目標部分上而照射每一目標部分；及所謂的掃描 器，其中藉由經由投影射束在一特定方向（”掃描”方向）掃描 圖案，同時平行或逆平行於此方向同步掃描基板而照射每 一目標部分。 已提議過浸沒微影投影裝置中之基板於一具有相對高折 射率之液體中，例如水，以使得填充投影系統之最終元件 與該基板之間的間隙。此可使較小元件成像，因為曝光鲈 射將在液體中具有一較短波長。（該液體之效應亦可視作2 加系統之有效NA且亦增加聚焦之深度。） 然而，將該基板，或基板及基板台浸沒於液 $、 又次泡劑 中（翏看，例如美國專利案4,509,852，該案之全令 ^ ^ ^ 人以引用的 方式併入本文中）意謂有大量液體必須在掃描曝 〜％期間加 99451.doc 1266948 速。此需要額外或更強功率之馬達，且液體中之擾流可導 致不良及不可預測之影響。 一所提議之解決方法為使一液體供給系統僅在基板之局 部化部分域上及在投影系統之最終元件與使用一液體限制 系統之基板之間（該基板通常具有一比投影系統之最終元 件更大的表面面積）提供液體。在W0 99/49504中揭示了一 用於此目的之經提議之方式，其以全文引用的方式倂入本 文中如圖2及3所不’將液體經由至少一入口爪較佳地沿 相對於最終元件之基板之移動方向供給至基板W上，且在 =過投影系統PL下方後經由至少-出口 OUT將液體移除。 思即’當在最終元件正下方以_χ方向掃描基板時，在最終 兀件之+Χ側供給液體且在_χ側將其吸收。圖2示意性展示 了 4配置，其中經由入口爪供給液體且在該元件之另一側 經由：接至-低壓源的出口 OUT將其吸收。在圖2之圖解 才對於最終元件之基板之移動方向供給液體，儘管 情況未：必需如此。定位於最終元件周圍之入口與出：可 有口種疋向及數目。圖3中展示了 一實例，其中在最終元件 周圍：規則圖案提供四組入口及在其任一側之出口。 所提：之另一解決方法係為液體供給系統提供一密封部 一立’ 2沿投影系統之最終元件與基板台之間的間隙之至少 大° _封部件相對於XY平面中之投影系統 <於舲止中，儘管在2方向中（在光軸之方向中）可有一 移動。密封件形成於密封部件與基板之表面之間。 苹乂 Ί土地，兮 女溶主4达 μ *封為一諸如氣體密封件之非接觸密封件。歐 99451.doc 1266948 洲專利申請案£^^420,298^示了該種系統，其以全文引 用的方式併入本文中。 其它類型之密封部件顯然有可能，包含彼等具有不同入 口及出口之配置的密封部件及彼等不對稱之密封部件。 已發現，浸沒微影方法中之困難在於浸沒液體中存在氣 泡。該等氣泡可為任何尺寸，但約幾μιη之氣泡使—特定問 題出現。當幾微米之氣泡位於基板或待成像之感應器的表

面時尤其如此，因為在此位置中氣泡純影射束具有最大 干擾影響。 【發明内容】 、本發明之-目標係降低浸沒液體中之氣泡對浸沒微影方 法中之成像品質的影響。 根據本發明之-態樣，提供一種微影裝置，包括·· 一用以提供輻射之-投影射束之照明系統； 一用以支撐圖案化構件之古# 支撐…構，该圖案化構件用以 在該投影射束之截面巾μ該投影射束-圖案； 一用以固持一基板之基板台； 一用以將圖案化射束投影 系統· ’、边基板之一目標部分之投影 一用以用一浸沒液體至少 开填充该投影系統之最終 與该基板之間的間隙的液體供給系統；及 :用以將一第一電位施加於—有效 氣泡及/或粒μ ρ % ㈣^ 、又辰^之 向而施加一力 以此方式’可以朝向或遠離第一物件之方 99451.doc 1266948 於浸沒液體中之氣泡上。此係因為浸沒液體中之氣泡將具 有一自然電動電位，其為氣泡表面與液體中之完全解離之 離子/辰度之間的電位差。因此，藉由將該第一電位選擇為 與氣泡之電動電位極性相同或相反，可判定該氣泡是否朝 向或返離該第一物件移動。因此，該系統可用於將浸沒液 體中之氣泡移動至其對該裝置之成像品質之影響降至最低 之處。本發明對較小粒子起作用之方式與其對氣泡起作用 之方式相同。

^佳地，該第一物件形成該間隙之一邊、緣，使得間隙夺 。亥〜又液體中之氣泡的位置可受到控制。或者，該第一彩 件可與間隙上游的供給通道中之浸沒液體接觸。以此方# 可避免在該間隙中產生過多電位場，由於在該投影系统7 之物件的有限空間，其可對間隙中之感應器 以安排。 此辨 一 2 ]以將一第二電位施加於-與浸沒液體接觸的 一物件之第二構件是右 、 勺。以此方式，由於可使兮楚 電位有效排斥氣泡而可使該第—+ ^ + + & 弟一電位有效吸引氣泡，或 之亦然，氣泡上之力可增加。 〆 在一實施財，可㈣基板作 斥在另一貫施例中，可使第-物 作為該投弟—物 此遠離該基板…第^传氧泡可被吸引向此並 田然弟一與第二物件可互換。 在m例中’第—物件仍形 之 位於遠離該裝置之光 '、邊緣，但 匕方式，軋泡可自該裝置之 99451.doc

1266948 :射括〜外(UV)輻射(例如，具有祕·m、ί93 _或126 nm之波長）。 本文中所用之街古五”岡安 w，、構件’應廣泛地理解為可用 在该投影射束之截面中賦 用於 辦于°亥投衫射束一圖案之構件，諸 土反之目標部分創建一圖案。應注意，騎予投影射束 二圖^可不完全對應於基板之目標部分中所要之圖案。大 -而:’賦予投影射束之圖案將對應於一創建於目標部分 之益件中之特定功能層，諸如一積體電路。 人圖案化構件可為透射或反射性的。圖案化構件之實例包 各光罩、T程式化鏡面陣列及可程式化lcd面板。在微影 方法中’已熟知光罩，I包含例如二進制、交變相移及衰 減相移之光罩類型以及各種混合光罩類型。一可程式化鏡 面陣列之實例使用小鏡面之矩陣排列，其每_者可獨立: 傾斜以使得以不同方向反射入射輻射射束；以此方式，圖 案化經反射之射束。在圖案化構件之每一實例中，支撐結 構可為一框架或台，例如其按要求可固定或可移動且其可 確保該圖案化構件處於所要位置，例如相對於該投影系 統。可認為本文中之術語”主光罩"或"光罩，，之任何用更 常用之術語’’圖案化構件”同義。 本文中所用之術語，，投影系統”應廣泛地理解為涵蓋各種 類型之投影系統，包含折射光學系統、反射光學系統及反 射折射光學系統（catadioptric optical system)，適於（例如） 所使用之曝光輻射或其它諸如浸沒液體之使用或真空之使 用的因素。可認為本文中之術語”透鏡”之任何用法與更常 99451.doc -11 - 1266948 用之術語"投影系統，，同義。 照明系統亦可涵蓋各種類型之光學組件，包含用以偵 :’則、成形或控制輻射之投影射束的折射、反射及反射折射 光學組件，且該等組件亦可在下文中共同或單個地稱為"透 . 鏡π 〇 該微影裝置可為具有兩個（雙平臺）或兩個以上基板台（及 /或兩個或兩個以上光罩台）之類型。在該等，，多平臺，，機器中 Τ並打使用額外台，或可在—或多個臺上執行預備步驟， 同時一或多個其它台用於曝光。 【實施方式】 圖1示意性地描述了根據本發明之一特定實施例之微影 裝置。該裝置包括： 一用以提供輻射（例如UV輻射）之一投影射束ΡΒ之照明 系統（照明器）IL。 用以支樓圖案化構件（例如一光罩）MA之第一支撐結 φ 構（例如一光罩台）MT，並連接至用以相對於物件pL準確定 位该圖案化構件之第一定位構件PM ; 一用以固持一基板（如一塗覆有光阻之晶圓）界之基板台 (例如一晶圓臺）WT，並連接至用以相對於物件？乙準確定位 該基板之第二定位構件PW ;及 一用以藉由圖案化構件MA將賦予投影射束pB之圖案成 像至基板W的目標部分C (例如包括一或多個晶粒）上之投影 系統（例如一折射投影透鏡）PL。 如此處所述，该裝置為一透射之類型（例如使用一透射光 99451.doc -12- 1266948 罩）。或者，該裝置可為—反射之類型（例如使用—如上文所 述之類型之可程式化鏡面陣列）。 照明器IL自輕射源以接收輕射之射束。例如當源為準分 子雷射器時，該源及微影裝置可為獨立實體。在該等狀況 下，不認為該源形成微影裝置之部分，且輕射射束在一包 括（例如）適當之指向鏡及/或射束放大器之射束傳遞系統Ex 輔助下自源LA穿過而至照明訊。在其它狀況下，例如當 源為汞燈時，該源可為該裝置之整體部分。源LA與照明I IL以及（若需要）射束傳遞系統Ε χ可稱為輻射系统。 照明1HL可包㈣以調節射束之角強度分佈的調節構件 趨。大體而言，至少在照明器之睛孔平面中的強度分佈之 外部及/或内部徑向範圍（通常分別稱為&外部及㈣部）可 調節。此外，照明器IUt常包括諸如一積光器職聚光器 C〇之各種其它組件。照明器提供_稱為投影射束pB之改良 性之輕射射束，其在其截面中具有一所要之均句性及強度 分佈。 2影射束PB在固持於光罩台MT上之光罩财上為入射。 在穿過光罩MA後’投影射束pB穿過將射束聚焦至基板界之 目標部分C的透鏡PL。在第二定位構件請及位置感應器 列如干涉器件）之辅助下，基板台⑽可準確移動，（例岣 =在射束PB之路徑中定位不同目標部分c。同樣地，第 疋位構件PM及另-位置感應器（其在圖i中未明確描述） 可用於〇j如）當自光罩庫中以機械方式取得之後或在掃描 期間，相對於射束PB之路徑而準確定位光罩财。大體而 99451.doc -13- 1266948 «載物口 MT及WT之移動在形成定位構件pM及pw之部分 之長衝程模組（粗定位）及短衝程模組（精細定位）之輔助下 實現。然而，在步進器（與掃描儀相 MT可僅連接至短衝程致動器或可固定。光罩MA二板; 可使用光罩對準標記]νπ、⑽及基板對準標記ρι、P2對準。 所描述之裝置可以下列較佳模式使用： 1·在步進权式中’光罩台Μτ及基板台资大體上保持固 定’同時賦予投影射束之整個圖案一次性（即單次靜態曝幻 才又心至目分C上。接著，基板台资以乂及/或Y方向移 位’使得-不同目標部分C可被曝光。在步進模式中，曝光 領域之最大尺寸限制在單次靜態曝光中成像之目標部分c 之尺寸。 2·在掃“;’同步掃描光罩台奶及基板台wT，同 時將賦予投影射束之圖案投影至目標部分C上（即-單次動 態曝幻。基板台WT相對於光罩台Μτ之速度及方向由投影 系統PL之放大（縮小）及影像反向特徵判^ 中’曝光部分之最大尺寸限制了—單次動態曝光中之= 部分之見度（在非掃描方向中），而掃描運動之長度判定目標 部分之尚度（在掃描方向中）。 3·在另一模式中，光罩台MT大體上保持固定，固持一可 私式化圖案化構件，且移動或掃描基板台，同時將一賦 予投影射束之圖案投影至目標部分C上。在此模式中，通常 使1脈衝輪射源，且按需要在基板台资每一移動之後或 在知“期間之連㈣射脈衝之間更新可程式化構件。此操 99451.doc -14- 1266948 作模式可不難應用於利用諸如如上述類型的可程式化鏡面 陣列的可程式化圖案化構件之無光罩之微影。 亦可使用上述使用之模式之組合及/或變化或完全不 使用之模式。 5 本發明可應用於任何類型之液體供給系統。該供給系統 可用以供給任何類型之浸沒液體，且可使用任何類型之用 以限制投影系統P L與基板W之間的浸沒液體的系統。 圖4說明了一種液體限制系統類型，儘f本發明不限㈣ 實知例。舉例而言’本發明可應用於圖2及圖3中之液體供 給糸雜.。 ' 圖4中之液體供給系統包括一定位於投影系統札之最铁 凡件之下方及周圍的障壁部件1Q。將液料人投影系統 了方及障壁部件10内之間隙5中。障壁部㈣較佳地在投影 糸統PL之最高元件上方延伸。視需要，可在障壁部㈣之 ^部與基板W之間提供—密封構件。該密封構件可（例如） 為乳體㈣件或靜液壓密封件（h咖咖以“叫。障壁部件 ==透鏡PL或裝置之基底框架或以包含在基板…上 支撐/、自身重量之任何其它方式支撐。 將浸沒液體經由營〗酋^ Λ Μ 的間隙。接著，自該間㈣影系統PL與基板W之間 人隙移除改沒液體。未說明液體之移 牙'二可以任何方式(例如)藉由-低·源移除液體。 微氣泡及小粒子可在m體巾出現，且 =接近基板W之表面，可對投影影像及所得產物之= 不利影響。本發明利用由礦業上在液體中小固體粒子 99451.doc 1266948 f附於氣泡表㈣發現處理該問題。已發現，微米尺寸之 軋泡與固體粒子之間的電力在黏著中起重要作用。已發 2液體中之氣泡在其表面具有一導致氣泡表面與液體中 完全解離之離子濃度之間的電位差的電動(或她)電位。此 亦可應用於小粒子。 θ在本發明中，一電源或電塵供給器v(或電荷、電塵、電 眾或屯位差產生器或供給器)用於將-電位施加於浸沒裝 m多個物件。操作之原則為’若需要排斥，則產生 液體之完全解離之離子濃度與物件之間的電位差，里與液 體中完全解離之離子濃度與氣泡表面之間的電位差具有相 同極性1需要物件與氣泡之間的吸引，則電位差應且有 相同極性。以此方式，可在氣泡上產生朝向或遠離與浸沒 液體接觸之物件（電極）之力。 在圖4中右干不同物件具有一施加於其之電位或電荷。 本發明將對僅該種物件之—者及物件之任何組合起作用， 且確亦可或替代性用於其它未說明之物件。 在取可此用作在193 nm投影射束之波長時的浸沒液體的 純水中，已發現’微米尺寸氣泡之表面電位為大約，. *亥電位將隨氣泡尺寸及浸沒液體之類型變化。然而，與此 處所述之相同之原則可用於其它浸沒液體及氣泡尺寸，且 本發明完全可應用於該等物體。添加劑可添加於浸沒液 體，以改變表面電位之作用。為此目的，CaC^NaCi為適 當之候選加成劑。 在圖4中，說明了可將電位或電壓或電荷施加於其之隨 99451.doc -16- 1266948 不同物件。較佳地，該等物件與浸沒液體接觸，雖然原則 上不必要如此。此等物件之一者為基板w，其較佳地充電 至使其電位與氣泡表面之電位同極。以此方式，氣泡在其 上具有-直接遠離基板w之力，使得其對投影影像之影響 降至最低。與在基板之負電位組合，或其單獨，㈣ 系統之最終元件或—接近投影系統pL之最終元件2〇之物件 J充电至與氣泡表面之電位反極的電位。此將具有吸引 氣泡朝向投料統PL之最終元件2G並進而遠離基板以的作 用接近投影系統PL之最終元件2〇的物件（例如電極）可為 任何形狀。其可為類似盤狀或環狀，使得投影射束職由 物件之中心穿過。 立或者’待充電或具有一施加於其之電壓的物件可附接至 障壁部件1G之表面。在圖4中，此等物件附接至障壁1()之内 表面。如說明1電極12、14各出現於障壁部件之對側， 亚^電至相反電位。以此方式，氣泡可被引至電極12、14 之-或另一，可能以浸沒液體出口之方向。或I，可在密 封部件__(與浸沒液體接觸）提供—或多個物件，其充 電至-與氣泡表面之電位不同極性之電位。以此方式，在 投影系統PL之最終元件2〇與基板w之間的間隙5中的浸沒 液體中之氣泡將被引離穿詈 、之先軸，進而使投影射束抑至 基板W之路徑大體上不被氣泡阻礙。 2用本發明之另一處為液體供給系統中之投影系統PL之 ::π 4牛20與基板w之間的間隙5之上游。在此狀況下，當 ❸又液體沿管道3〇經由外殼4〇穿過時，當浸沒液體處於間 99451.doc -17- 1266948 隙5中打，反向充電及相對板（例如電極）42、44在氣泡上產 生一有效使氣泡移動之力，使得氣泡較未施加電場於間隙5 之上游時更遠離基板W。該具有高濃度之氣泡之浸沒液體 (即位於電極44附近）甚至可被移除或不供給至間隙5。被移 除之液體在&體供給系、统中再循環之前可經受氣泡移除處 理。 在以上所有實例中，由電壓產生器V施加之電壓愈高，在 氣泡上之力愈大。在物件上之電位不應如此高使得導致浸 沒液體之解離，但應足夠高以提供一在氣泡上之力，使得 本發明有效。對一主要包括水的浸沒液體而言，施加於物 件之典型電位差為511^至5 V，較佳為1〇111¥至5〇〇11^。歸 因於電位之施加，一5 mV/mm至500 mv/mm之電場受到青 昧0 在圖5中，提供一第二電源/電壓供給/電荷/電壓/電場或 電位差產生器或供給器V2。第二電源¥2供給或產生一與由 鲁 电源V供給或產生之電位極性相反之第二電位。第二電位可 與氣泡及/或浸沒液體中的粒子之表面之電動電位同極。儘 官展示電源V將電位施加於物件12、20、42、44，且展示第 二電源V2為將第二電位施加於物件W、14，應瞭解第一及 • 第二電源v、V2可將電位施加於任何組合之物件。 雖然上文已描述本發明之具體實施例，應瞭解本發明亦 ▼ 可以不同於所描述之實施方法實施。本說明不希望限制本 ' 發明。 【圖式簡單說明】 99451.doc -18- 1266948 圖1描述了根據本發明之一實施例之微影裝置； 圖2以截面說明了根據本發明之一實施例之液體供給系 統； 圖3以平面說明了圖2之液體供給系統；及 圖4說明了本發明之一實施例；及 圖5說明了本發明之另一實施例。 【主要元件符號說明】

AM 調節構件 C 目標部分 CO 聚光器 Ex 射束傳遞系統 IF 位置感應器 IL 照明器 IN 積光器 LA 輻射源 Ml 光罩對準標記 M2 光罩對準標記 MA 圖案化構件 MT 光罩台 PI 基板對準標記 P2 基板對準標記 V 第一電源 V2 第二電源 WT 基板台 99451.doc

Claims (1)

1. W年^月Κ日修(更)正本 I266$4^1G3847號專利申請案 .中文申請專利範圍替換本(95年2月） 十、申請專利範圍·· ， 1 · 一種微影裴置，其包括： ‘ 一用以提供一輻射之投影射束之照明系統； 一’用以支撐圖案化構件之支撐結構，該圖案化構件用 以在該投影射束之截面中賦予該投影射束一圖案； 一用以固持一基板之基板台； 用以將遠圖案化射束投影至該基板之一目標部分之 投影系統； • 一用以由一浸沒液體至少部分地填充該投影系統與該 基板之間的一間隙的液體供給系統；及 用以在由該液體供給系統供給之該浸沒液體兩端施 加第一電位以移動該浸沒液體中之氣泡及/或粒子的電 源。 2.如明求項1之裝置，其中該第一電位係施加於一第一物 件。 3 .如咕求項2之裝置 > 其中該第一物件與該浸沒液體接觸。 春4·如明求項2之裝置，其中該第一物件形成該間隙之一邊 緣。 5 ·如咕求項1之裝置，其中該第一電位係施加在該間隙中之 該浸沒液體兩端。 • 6· 士明求項2之裝置，其中該第一物件與在該間隙上游之一 供給通道中之該浸沒液體接觸。 7· 士明求項1之裝置，其中該第一電位係施加在該間隙以外 之該浸沒液體兩端。 8·如請求項7之裝置，其中該第一電位係施加在該液體供給 99451-950216.doc i^b6948 _丨丨_ 丨物

   系統中之該浸沒液體兩端。 如凊求項1之裝置，复 向古4 一中该第一電位以一遠離該基板之方 °有政地在該浸沒液體 10·如請求们之裝ϋ 一氣泡及/或粒子上施加一力。 为_唾 ^包括用以在該浸沒液體兩端施 σ 一第二電位之第二構件。 •如印求項10之裝置， 相反。 八中該第一電位與該第二電位極性 12·如請求項10之梦罟，甘& ._ /、中該第二電位係施加在該間隙中 <該浸沒液體兩端。 1 3 ·如請求項j 〇之梦晉，甘 . 、 /、中該第二電位係施加在該間隙以 外之該浸沒液體兩端。 14·如請求項1〇之裝置，复 从 ，、中该第二電位係施加於一第二物 件0 15.:明求項14之裝置，其中該第二物件形成該間隙之一邊 以如請求項14之裝置，其中該第二物件與在該間隙上游之 一供給通道中之該浸沒液體接觸。 月求項1之裝置，其中該第一電位有效地在該浸沒液體 中之氣泡及/或粒子上施加一力，該力之一方向使得當在 :間隙中時，該等氣泡及/或粒子將比若不施加電位時更 退離該基板。 18·如請求们之裝置’其中該第—電位為在士⑽與士$ v之 間’較佳地在10瓜卩與500 mV之間。 19.如請求们之裝置，其中該第一電位有效設定一高達5〇〇 99451-950216.doc 1266948 20. 21. 22. 23.

   24. 25. 26. 27.

   1?^ ^：π| ：Κ；,ίΕ；^ I 1 XJ t 一.一「” '…™'...，…… mV/mm之電場。 ::求項1之裝置’其中該第一電位與在該浸沒液體中之 I及/或粒子之該表面的該電動電位極性不同。 如，求項H)之裝置，其中該第二電位與在該浸沒液體中 之乳泡及/或粒子之該電動電位極性相同。 月求項2之裝置’其中該第一物件為該基板。 :請求項1〇之裝置，其中該第二物件為該投影系統之一 最終元件。 如吻求項2之裝置’其中該第一物件位於該裝置之該光 中。 月求員2之裝置，其中該第一物件形成該間隙之一邊 緣，且定位於該裝置之該光軸之末端。 如:月求項2之裝置，其中該第-元件定位於-沿該間隙之 /邊界之至少一部分延伸的障壁部件上。 一種微影裝置，其包括： 用以提供一輻射之投影射束之照明系統； 、一用以支撐圖案化構件之支律結構，該圖案化構件用 、在忒杈衫射束之截面中賦予該投影射束一圖案·， 一用以固持一基板之基板台； 用以將該圖案化射束投影至該基板之一目標部分之 投影系統； 乂由一次沒液體至少部分地填充該投影系統與該 基板之間的-間隙的液體供給系統；及 體供給系統具有用以藉由一電壓之施加而移動由 99451-950216.doc 1266948 ’ ψ ^ \ 该液體供給系統供給的該浸沒液體中之氣泡及/或粒子之 構件。 28· —種微影裝置，其包括： 一用以提供一輻射之投影射束之照明系統； 一用以支撐圖案化構件之支撐結構，該圖案化構件用 以在該投影射束之截面中賦予該投影射束一圖案； 一用以固持一基板之基板台； 一用以將該圖案化射束投影至該基板之一目標部分之 投影系統；及 一用以由一浸沒液體至少部分地填充該投影系統與該 基板之間的一間隙的液體供給系統； 其中該液體供給系統包括用以將一電荷施加於一物件 之構件，該電荷與該浸沒液體中之氣泡之一電動電位的 極性相反，使得由該液體供給系統供給的該浸沒液體中 之氣泡及/或粒子上具有一在一遠離或朝向該物件之方向 上之力。 29· —種微影裝置，其包括： 一用以提供一輻射之投影射束之照明系統； 一用以支撐圖案化構件之支撐結構，該圖案化構件用 以在該投影射束之截面中賦予該投影射束一圖案； 一用以固持一基板之基板台； 一用以將該圖案化射束投影至該基板之一目標部分之 投影系統；及 一用以由一浸沒液體至少部分地填充該投影系統與該 99451-950216.doc 1266948 χ 丨‘ ' 基板之間的一間隙的液體供給系統；及 該液體供給系統具有一用以在由該液體供給系統供給 的該浸沒液體中產生一有效移動該浸沒液體中之氣泡及/ 或粒子之電場的電位場產生器。 30· —種器件製造方法，其包括： 使用一投影系統將一輻射之圖案化射束投影至該基板 之一目標部分上； g 自一液體供給系統將一浸沒液體提供至一在該投影系 統與該基板之間的間隙；及 藉由將一電荷施加於一物件而將一力施加於由該液體 供給系統提供的該浸沒液體中之氣泡及/或粒子上。 3 1 ·如凊求項30之方法，其中該物件形成該間隙之一邊緣。 32.如喷求項3〇之方法，其中該物件與該間隙上游之一供給 通道中之該浸沒液體接觸。

   99451-950216.doc 1266948 第094103847號專利申請案 中文圖式替換頁(95年2月） q坏么月戌日修(叟)正替換頁1

   圖1