TW201200243A - Slit nozzle cleaning apparatus and coating apparatus - Google Patents

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201200243 六、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於無旋轉方式之塗佈裝置，尤其關於用以 洗淨無旋轉法之塗佈處理所使用之狹縫噴嘴之吐出口周邊 部的狹縫噴嘴洗淨裝置。 【先前技術】 LCD等之平面顯示器（FPD)之製程中之光微影工程常 使用使具有狹縫形狀之吐出口的長條型之狹縫噴嘴對玻璃 基板等之被處理基板相對性移動，在基板上塗佈處理液或 藥液等之塗佈液例如光阻液的無旋轉之塗佈法。 在典型之無旋轉塗佈法中，一面藉由狹縫噴嘴使光阻 液帶狀地吐出至被固定載置於平台上之基板，一面使狹縫 噴嘴移動至與噴嘴長邊方向正交之水平之一方向。如此一 來，從狹縫噴嘴之吐出口溢流至基板上之光阻液平坦地延 伸至噴嘴後方，而在基板一面形成光阻塗佈膜（例如專利 文獻1)。 就以另外之代表無旋轉塗佈法而言，也使用在平台上 使基板中空浮起之狀態下直接搬運至水平之一方向（平台 長邊方向）之浮起搬運方式爲多。在該方式中，藉由設置 在浮起平台之上方的長條型之狹縫噴嘴朝向通過其正下方 之基板而帶狀地吐出光阻液，在基板搬運方向中從基板之 前端部朝向後端部而在基板上一面形成光阻塗佈膜（例如 專利文獻2)。 -5- 201200243 一般，在狹縫噴嘴中，於停止吐出動作之時，容易於 吐出口附近附著或殘留光阻液，該如此放置而乾燥凝固 時，於下一次之塗佈處理之時，則有妨礙光阻吐出流，或 擾亂，而引起光阻膜厚之變動之虞。於是，在與塗佈處理 部鄰接而被配置之噴嘴待機部，設置有下一次之塗佈處理 所具備用以洗淨狹縫噴嘴之吐出口周邊部之狹縫噴嘴洗淨 裝置（例如，專利文獻3)。 以往之狹縫噴嘴洗淨裝置具備在定位於噴嘴待機部內 之特定位置的狹縫噴嘴之下方於噴嘴長邊方向掃描移動的 噴嘴洗淨頭或支架，在該台架搭載有朝向狹縫噴嘴之吐出 口周邊部而各噴吹洗淨液（例如，稀釋液）及乾燥用氣體 (例如N2氣體）之洗淨噴嘴及乾燥噴嘴。支架一面沿著狹 縫噴嘴之吐出口之周邊部而朝噴嘴長邊方向掃描移動，一 面朝向狹縫噴嘴之吐出口周邊部之各部，首先洗淨噴嘴噴 吹洗淨液，接著乾燥噴嘴噴吹乾燥用氣體。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開平10-156255號公報 [專利文獻2]日本特開2005-236092號公報 [專利文獻3]日本特開2007-1 1 1 612號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 上述般之以往之狹縫噴嘴洗淨裝置藉由一次洗淨掃描 -6- 201200243 難以充分清掃狹縫噴嘴之吐出口周邊部，因此多次重複洗 淨掃描（支架之掃描移動），有噴嘴洗淨處理之產距時間 長，洗淨液消耗量多之問題。 本發明係解決上述般之以往技術之問題點，提供使洗 淨效率及洗淨能力提升，實現洗淨產距時間之縮短化及洗 淨液消耗量之節省的狹縫噴嘴洗淨裝置及具備此之塗佈裝 置。 [用以解決課題之手段] 一種狹縫噴嘴洗淨裝置，其係用以洗淨具有塗佈處理 所使用之狹縫狀吐出口之長條型狹縫噴嘴的吐出口周邊 部，具有：支架，其係沿著上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部 而平行於上述狹縫噴嘴之長邊方向在水平洗淨掃描方向移 動：和第1洗淨單元，其係被搭載在上述支架，一面在上 述洗淨掃描方向移動一面對上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部 噴吹洗淨液；和第1擦拭器單元，其係在上述洗淨掃描方 向位於上述洗淨單元之後而被搭載在上述支架，一面在上 述洗淨掃描方向移動，一面擦取附著於上述狹縫噴嘴之吐 出口周邊部的液體。 在上述之構成中，藉由在洗淨掃描方向中對狹縫噴嘴 之各位置之吐出口周邊部，首先，第1洗淨單元噴吹洗淨 液，附著於該吐出口周邊部之髒污溶於洗淨液，髒污之液 體則殘留於吐出口周邊部。緊接著，第1擦拭器單元通過 該吐出口周邊部，而擦取附著於此之髒污液體》 201200243 本發明之塗佈裝置具有：長條型狹縫噴嘴，其具有於 塗佈處理中對被處理基板帶狀地吐出塗佈液之狹縫狀之吐 出口；和塗佈液供給部，其係於塗佈處理中對上述狹縫噴 嘴供給塗佈液；和基板支撐部，其係用以支撐上述基板； 和塗佈掃描機構，其係在上述狹縫噴嘴和上述基板之間進 行於水平之一方向相對性移動，使得在塗佈處理中上述狹 縫噴嘴在上述基板上進行塗佈掃描；和上述狹縫噴嘴洗淨 裝置，其係用以在塗佈處理之間隔洗淨上述狹縫噴嘴之吐 出口周邊部。 [發明效果] 若藉由本發明之狹縫噴嘴洗淨裝置時，藉由上述般之 構成及作用，關於狹縫噴嘴可以提升洗淨效率，並可以實 現洗淨產距時間之縮短化及洗淨液消耗量之節約。再者， 若藉由本發明之塗佈裝置時，依據本發明之狹縫噴嘴清掃 裝置，可以提升洗淨機能對狹縫噴嘴的洗淨能力，改善塗 佈處理之品質、良率、維修成本。 【實施方式】 以下，參照附件圖面說明本發明之最佳實施型態。 第1圖係表示可適用本發明之狹縫噴嘴清掃裝置之光 阻塗佈裝置之一構成例。 該光阻塗佈裝置具有：藉由氣體之壓力使被處理基板 例如FPD用之玻璃基板G空中浮起之浮起平台10:和在 201200243 該浮起平台10上將空中浮起之基板G般運至浮起平台長 邊方向（X方向）之基板搬運機構20;和將光阻液供給至在 浮起平台10上搬運之基板G之上面的狹縫噴嘴32;和在 塗佈處理之間隔更新狹縫噴嘴32之噴嘴更新部42。 在浮起平台1〇之上面設置將特定氣體（例如空氣）噴 射至上方之多數氣體噴射孔12，構成基板G藉由從該些 氣體噴射孔12所噴射之氣體之壓力從平台上面浮起至一 定高度6 基板搬運機構20具備：夾著浮起平台10而延伸於X 方向之一對導軌22 A、22B ;沿著該些導軌22 A、22 B而 可來回移動之一對滑動件24;以在浮起平台10上可拆裝 地保持基板G之兩側端部之方式設置在滑動件24之吸附 墊等之碁板保持構件（無圖示），藉由直進移動機構（無圖 示）使滑動件24移動至搬運方向（X方向），依此構成在浮 起平台10上進行基板G之浮起搬運。 光阻噴嘴32係在浮起平台10之上方橫斷與搬運方向 (X方向）正交之水平方向（Y方向），在對於通過其正下方 之基板G之上面（被處理面）藉由狹縫狀之吐出口帶狀地吐 出光阻液R。再者，狹縫噴嘴32係藉由含有例如滾珠螺 桿機構或引導構件等之噴嘴升降機構26，構成可升降成 可與支撐該噴嘴之噴嘴支撐構件28—體地在垂直方向（Z 方向）移動。再者，狹縫噴嘴3 2係經光阻供給管3 0而連 接於光阻液容器或送液泵等所構成之光阻供給部（無圖 示）。 -9 - 201200243 鄰接於狹縫噴嘴32而在浮起平台10之上方設置噴嘴 更新部42。該噴嘴更新部42之詳細參照第4圖及第5圖 於後詳細敘述。 在此，說明該光阻塗佈裝置中之光阻塗佈動作。首 先，基板G藉由前段之單元例如熱處理單元（無圖示）經分 類機構（無圖示）而被搬入設置在浮起平台10之前端側之 搬入區域，在此待機之滑動件24保持並收取基板G。在 浮起平台10上基板G係受到藉由氣體噴射孔12所噴射 之氣體（例如高壓氣體）之壓力而以略水平之姿勢保持浮起 狀態。 如此一來，與基板G在水平姿勢下以一定速度朝搬 運方向（X方向）移動之同時，狹縫噴嘴32朝向正下方之 基板G以特定壓力或流量帶狀地吐出光阻液，依此如第2 圖及第3圖所示般從基板G之前端側朝向後端側形成膜 厚均勻之光阻液之塗佈膜。 當基板G之後端通過狹縫噴嘴32之下方時，則在基 板一面形成光阻塗佈膜。接著，基板G之後藉由滑動件 24在浮起平台1〇上被浮起搬運，藉由被設定在浮起平台 10之後端的搬出區域經分類機構（無圖示）而被送至後段之 單元（無圖示）。 如第2圖所示般，狹縫噴嘴32係由平行延伸於噴嘴 長邊方向（Y方向）之前唇部33F及後唇部33R所構成，以 螺栓（無圖示）使該些一對唇部33F、33R緊挨著而一體結 合，並具有狹縫狀之吐出口 32a»與上述狹縫噴嘴32之 -10- 201200243 吐出口 32a平行延伸之兩側之噴嘴側面32f、32r，係被形 成朝向吐出口 32a而從上至下逐漸變尖細的錐形狀。於光 阻塗佈時，不僅吐出口 32a連兩側之噴嘴側面32f、32r 之下端部也被光阻液R浸溼，在光阻塗佈處理結束後之吐 出口 32a及噴嘴側面32f、32r之下端部殘留光阻液R之 髒污。 第4圖表示噴嘴更新部42內之構成。噴嘴更新部42 係在一個殼體44內，並列設置作爲塗佈處理之下準備使 少量光阻液吐出至狹縫噴嘴32而捲取於啓動滾輪46之起 動處理部48;和以防止乾燥爲目的用以將狹縫噴嘴32之 吐出口保持於溶劑蒸氣之環境中的噴嘴匯流排50;和用 以洗淨狹縫噴噴嘴32之吐出口周邊部（吐出口 32a、噴嘴 側面32f、32r)之狹縫噴嘴洗淨部52。 結束第一次之塗佈處理之狹縫噴嘴32，首先藉由狹 縫噴嘴洗淨部52接受洗淨處理，接著在噴嘴匯流排50內 待機，於開始下一個塗佈處理之前藉由起動處理部48接 受起動處理。 爲了使狹縫噴嘴32到達至噴嘴更新部42內之各部 (48、50、52)，在無圖示之控制器之控制下，例如藉由滾 珠螺桿所構成之X方向移動部54’將噴嘴更新部42之全 體即是殼體44在基板搬運方向（X方向）移動，並且藉由 噴嘴升降機構26 (第1圖）’使狹縫噴嘴32在垂直方向（Z 方向）移動。 組裝於噴嘴更新部42之狹縫噴嘴洗淨部52爲本發明 -11 - 201200243 之一實施型態中之狹縫噴嘴洗淨裝置。以下，詳細說明該 狹縫噴嘴洗淨部52之構成及作用。 如第5圖所示般，狹縫噴嘴洗淨部52係經連接構件 62而與Y方向移動部60結合，具有沿著狹縫噴嘴32之 吐出口周邊部而與狹縫噴嘴之長邊方向平行在水平洗淨掃 描方向（Y方向）移動之支架64。Y方向移動部60係由例 如齒條和小齒輪機構所構成，具有延伸於Y方向之齒條 66，和內藏在該齒條66上轉動之齒輪（無圖示）的可動單 元68。支架64係對狹縫噴嘴32之吐出口周邊部而進行 定位之後，移動至洗淨掃描方向（Y方向）。 狹縫噴嘴洗淨部52係在該支架64上從洗淨掃描方向 來看以第1洗淨單元70爲開始，以下依照第1擦拭器單 元72、第2洗淨單元74、第2擦拭器單元76及乾燥單元 78之順序排成一列並予以搭載。各個單元70〜78係以卡 匣式而能拆裝之方式被安裝於支架64上。 第6圖表示從洗淨掃描之斜前方觀看狹縫噴嘴洗淨部 52之重要部分之構成。 第1及第2洗淨單元70、74各具有：於上面擁有凹 形之溝部之塊狀的噴嘴保持部70a、74a:和從該噴嘴保 持部70a、74a之兩側之內壁突出之多對（或一對）之洗淨 噴嘴70b、74b :和經噴嘴保持部70a、74a內之流路而連 接於洗淨噴嘴70b、74b之配管連接器70c、74c»配管連 接器70c、74c各連接於來自洗淨液供給部（無圖示）之洗 淨液供給管（無圖示）。 -12- 201200243 乾燥單元78具有在上面具有凹形溝部之塊狀之噴嘴 保持部78a，和從該噴嘴保持部78a之兩側之內壁突出之 多對（或是一對）之乾燥噴嘴78b，和經噴嘴保持部78a內 之流路而連接於乾燥噴嘴78b之配管連接器78c。配管連 接器78c連接於來自乾燥氣體供給部（無圖示）之氣體供給 管（無圖示）。 第1及第2擦拭器單元72、76各具有在上面擁有V 形之溝部的塊狀之擦拭器保持部、76a，和橫臥在該 噴嘴保持部72a、76a之兩側傾斜面而被安裝的一對（或多 對）之長條型擦拭器構件（72f、72r)、（76f、76〇。 如第6圖所示般，擦拭器構件（72f、72〇、（76f、76r) 係在俯視觀視下延伸成V字狀。仿照擦拭器構件（72f、 72〇、（76f、76〇之V形狀而擦拭器保持部72a、76a之前 部在俯視觀視下被切口成V形狀，該V形狀缺口部72d、 7 6d之下係經支架64之貫通孔而通到殼體44之底下的排 液箱80(第4圖）。如此一來，V形狀缺口部72d、76d構 成狹縫噴嘴洗淨部52之排液口。 第7圖表示在第1及第2擦拭器單元72、76中，擦 拭器保持部72a、76a之單側一半及單側之擦拭器構件 72r、76r之構成。第7圖（a)爲斜視圖，第7圖（b)、（c)爲 在第7圖（a)中各在箭號A、B之方向觀看之向視圖。 擦拭器構件72r(76r)係由例如由Zalak公司（註冊商標） 等之含氟彈性體所構成，具有埋入於擦拭器保持部 72a(76a)之傾斜面的基部P，和從該基部P突出於擦拭器 -13- 201200243 保持部72a(76a)之傾斜面之上而延伸的刮刀部Q。於洗淨 狹縫噴嘴32之時，刮刀部Q之上緣部涵蓋其全長以幾乎 均勻之壓力滑接於狹縫噴嘴32之吐出口周邊部（吐出口 32a、噴嘴側面32f、32r)»在擦拭器保持部72a(76a)之傾 斜面形成有用以可拆裝收納擦拭器構件72r(76〇之基部P 的溝部Μ。 刮刀部Q係以對擦拭器保持部72a(76a)之傾斜面傾斜 豎立之角度而突出。該豎立角度α係以30°〜6 0°之範圍爲 佳，以45°附近爲最佳。 再者，擦拭器構件72r(76r)係以在洗淨掃描方向對水 平面傾斜豎立之角度安裝於擦拭器保持部72a(76a)之傾斜 面。該豎立角度々係以15°〜45°之範圍爲佳，以30。附近 爲最佳。° 擦拭器保持部72a、76a之另一方之單側一半及另一 方之擦拭器構件72f、76f也成爲與上述相同之構成。 第8圖係表示該實施型態之狹縫噴嘴洗淨部52所具 備之定位機構。 爲了使狹縫噴嘴32到達至狹縫噴嘴洗淨部52,如上 述般，藉由X方向移動部54,使噴嘴更新部42之全體在 基板搬運方向（X方向）移動（第4圖），並且藉由噴嘴升降 機構26(第1圖）使狹縫噴嘴32在垂直方向（Z方向）移動。 如此一來，如第8圖所示般，以狹縫噴嘴32之兩噴嘴側 面32f、32i•及吐出口 32a各以適度且均勻之壓力接觸於 第1及第2擦拭器單元72、76之擦拭器構件72以76〇、 -14- 201200243 72r(76r)之方式，在狹縫噴嘴32和狹縫噴嘴洗淨部52之 間自動性地進行定位。 如第8圖所示般，支架64具有：一體結合於來自γ 方向移動部60之連接構件62的底板6 4a;和可在與噴嘴 長邊方向（Y方向）正交之水平方向（X方向）及垂直方向（Z 方向）位移地被安裝在該底板64a上之可動板64b，在可動 板64b上以第1及第2洗淨單元70、74、第1及第2擦 拭器單元72、76及乾燥單元78之配列順序而予以搭載。 在底板64 a及可動板64b，於對應於第1及第2擦拭器單 元72、76之V形缺口部72d、76d之位置各形成有排液 用之貫通孔64c、64d。 在此，可動板64b藉由底板64a從下貫通至上之多數 柱塞82可在垂直方向（Z方向）彈性地位移，並且藉由將固 定於底板64a上面之塊板84從外側貫通至內側的多數柱 塞86可在X方向彈性地位移。各柱塞82、86係驅幹（螺 桿）內藏彈簧（無圖示），成爲以點接觸加壓接觸於可動板 64b之球狀的頭部藉由彈簧力彈性拉引之構造。 當如上述般，藉由X方向移動部5 4 (第4圖）及噴嘴 升降機構26(第1圖），狹縫噴嘴32到達至狹縫噴嘴洗淨 部52時，第1及第2擦拭器單元72、76進而可動板6 4b 藉由柱塞82、86在X方向及z方向彈性地位移使得仿照 狹縫噴嘴之吐出口周邊部（吐出口 32a、噴嘴側面32f、 3 2r)。依此’第1及第2擦拭器單元72、76之擦拭器構 件（72f、72〇、（76f' 76〇涵蓋其全長以適度且均勻之壓力 -15- 201200243 密接於狹縫噴嘴之吐出口周邊部（吐出口 32a、噴嘴側面 32f、32r) « 並且，在擦拭器構件（72f、72r)、（76f、76r)中，不僅 可以個別地交換零件擦取前唇部33F之吐出口 32a及噴嘴 側面32f之擦拭器構件72f、76f和擦取後唇部33R之吐 出口 32a及噴嘴側面32r之擦拭器構件72r、76r，亦可各 別選定各個材質，亦可個別設定或調整各個之材質（尤其 彈性體）之硬度。 例如，如第2圖所示般，平流式之光阻塗佈處理所使 用之狹縫噴嘴32係後唇部33R之噴嘴側面32r較前唇部 3 3F之噴嘴側面32f藉由光阻液R之包覆而髒污之情形還 多。因此，髒污多之後唇部33R側之擦拭器構件72r、 7 6r係使其材質硬度較大之一方增加接觸摩擦，提高擦取 力爲較理想。另外，髒污少之前唇部33F側之擦拭器構件 72f、76f係使材質硬度比較小之一方可以縮小接觸摩擦， 提升耐久性。 同樣，在第1及第2擦拭器單元72、76之間，即使 將在洗淨掃描方向位於前方之第1擦拭器單元72之擦拭 器構件72 f、72r之材質硬度選定高硬度，位於後方之第2 擦拭器單元76之擦拭器構件76f、76r之材質硬度選定低 硬度亦可。 接著，針對第9圖A及第9圖B，說明該實施型態之 狹縫噴嘴洗淨部52中之洗淨作用。 在狹縫噴嘴洗淨部52中，當完成與上述般之狹縫噴 -16- 201200243 嘴3 2之定位時，則一面維持其定位狀態（第8圖之狀 態），一面在無圖示之控制器之控制下，Y方向移動部60 動作，支架64則以一定速度移動至洗淨掃描方向（Y方 向）。在此，狹縫噴嘴32剛完成一次（基板一片分）之光阻 塗佈處理，其吐出口周邊部（吐出口 32a、噴嘴側面32f、 32r)附著光阻液R而髒污。 支架64開始掃描移動幾乎同時，被搭載於支架64的 所有單元開始各個動作。更詳細而言，第1洗淨單元70 係在支架64上之前頭位置，藉由洗淨噴嘴70b吐出洗淨 液例如稀釋液S，一面並將稀釋液S噴吹至狹縫噴嘴32 之吐出口周邊部（吐出口 32a、噴嘴側面32f、32〇，一面 移動至洗淨掃描方向（Y方向）。 第1擦拭器單元72係接續於第1洗淨單元70之後， 使一對擦拭器構件72f、72r滑接於狹縫噴嘴32之吐出口 周邊部（吐出口 32a、噴嘴側面32f、32r)，而移動至洗淨 掃描方向（Y方向）。 第2洗淨單元74係接續於第1擦拭器單元72之後， 藉由洗淨噴嘴74b吐出洗淨液例如稀釋液S，並一面將稀 釋液S噴吹至狹縫噴嘴32之吐出口周邊部（吐出口 32a、 噴嘴側面32f、32r)，一面移動至洗淨掃描方向（Y方向）。 第2擦拭器單元76係接續於第2洗淨單元74之後， 使一對擦拭器構件76f、76r滑接於狹縫噴嘴32之吐出口 周邊部（吐出口 32a、噴嘴側面32f、32〇，而移動至洗淨 掃描方向（Y方向）。 -17- 201200243 乾燥單元78係接續於第2擦拭器單元76之後，藉由 乾燥噴嘴78b吐出乾燥用氣體例如N2氣體，一面將N2氣 體噴吹至狹縫噴嘴32之吐出口周邊部（吐出口 32a、噴嘴 側面32f、3 2〇，一面移動至洗淨液掃描方向（γ方向）。 第9圖A及第9圖B係以一定時間間隔（tl、t2、 t3、…）模式性表示藉由上述般之狹縫噴嘴洗淨部52中之 洗淨掃描，狹縫噴嘴32之吐出口周邊部（吐出口 32a、噴 嘴側面32f、32r)在洗淨掃描方向（Y方向）從一端朝向另— 端連續性洗淨或清掃之樣子。 在該洗淨掃描中，當注目於各位置（例如圖之P6之位 置）之狹縫噴嘴32之吐出口周邊部（吐出口 32a、噴嘴側面 32f、32〇時，首先，藉由第1洗淨單元70噴吹稀釋液S 至該吐出口周邊部，附著於該吐出周邊部之光阻液R溶於 稀釋液S，兩液R、S之混合的髒污液RS殘留於吐出口周 邊部。 緊接著之後，第1擦拭器單元72滑接一對擦拭器構 件72f、72ι•而通過該吐出口周邊部。擦拭器構件72f、 72r係一面以朝向行進方向傾斜之角度召豎立，一面以適 當之壓力滑接於該吐出口周邊部，並邊將髒污液體RS掃 下邊前進。被掃下之髒污液體RS係從排液口 72d落入至 下方之排液箱80。依據第1擦拭器單元72之擦取具有充 分效果，即使在第1擦拭器單元72之通過的痕跡附著擦 拭殘留之髒污液體RS’，也爲少量。 之後，藉由第2洗淨單元74將稀釋液S噴吹至該吐 201200243 出口周邊部，附著於該吐出口周邊部之擦拭難流之髒污液 體RS’被稀釋液s稀釋，相對性地稀釋液s之比率大髒污 少之液體SR殘留在吐出口周邊部。 緊接著之後，第2擦拭器單元76滑接一對擦拭器構 件76f、76r而通過該吐出口周邊部。擦拭器構件76f、 76r係一面以朝向行進方向傾斜之角度沒豎立，一面以適 當之壓力滑接於該吐出口周邊部，並邊將附著液體SR掃 下邊前進。被掃下之液體RS係從排液口 76d落入至下方 之排液箱80。依據第2擦拭器單元76之擦取具有充分效 果，即使在第2擦拭器單元76之通過的痕跡附著擦拭殘 留之液體’SR’，也爲少量。 緊接著之後，藉由乾燥單元78對該吐出口周邊部噴 吹N2氣體，附著於該吐出口周邊部之擦拭殘留液體’SR’ 係以風力被除去，該吐出口周邊部成爲清淨且乾燥之狀 態。 從狹縫噴嘴32之一端至另一端涵蓋全長在狹縫噴嘴 32之洗淨掃描方向（Y方向）中之各位置之吐出口周邊部， 進行上述般之一連串處理（第1次洗淨θ第1次擦取—第 2次洗淨—第2次擦取―乾燥）。 如此一來，藉由一次（一去程）之洗淨掃描，涵蓋狹縫 噴嘴32之全長在各位置充分除去吐出口周邊部（吐出口 32a、噴嘴側面32f、32〇之光阻髒污。因此，當支架64 到達被設定在狹縫噴嘴3 2之另一端附近之終點時，則在 此完成噴嘴洗淨處理。緊接著之後，在控制器之控制下， -19- 201200243 噴嘴升降機構38(第1圖）及X方向移動部5 4(第4圖）動 作，使狹縫噴嘴32從狹縫噴嘴洗淨部52移至旁邊之噴嘴 匯流排50。 如上述般，該實施型態之狹縫噴嘴洗淨部52係在平 行於狹縫噴嘴32之長邊方向而在水平洗淨掃描方向（Y方 向）移動之支架64上，以第1及第2洗淨單元70、74、 第1及第2擦拭器單元72、76及乾燥單元78之特定配列 順序予以搭載，並於洗淨掃描方向（Y方向）之移動中，第 1及第2洗淨單元70、74將洗淨液噴吹至狹縫噴嘴32之 吐出口周邊部，第1及第2擦拭器單元72、76擦取附著 於狹縫噴嘴32之吐出口周邊部之液體（髒污），乾燥單元 78將乾燥氣體噴吹至狹縫噴嘴3·2之吐出口周邊部。依 此，尤其藉由擦拭器單元72、76之動作大大地改善洗淨 效率，藉由一次（一去程）之洗淨掃描可充分洗淨或清掃狹 縫噴嘴32之吐出口周邊部，可以容易達成洗淨產距時間 之縮短化和洗淨液消耗量之節約。 再者，該實施型態之光阻塗佈裝置係藉由在噴嘴更新 部42具備上述般之狹縫噴嘴清掃部52，可以提升洗淨機 能對狹縫噴嘴32之洗淨能力，改善光阻塗佈處理之品 質、良率、維修成本。 以上，雖然說明本發明之較佳實施型態，但本發明並 不限定於上述實施型態，只要在其技術思想之範圍內可作 各種變形或變更。 例如，可以將搭載於支架64之單元之編成形態（洗淨 -20- 201200243 單元、擦拭器單元及乾燥單元之個數、配列順序等）作各 種變形、變更。 例如’第10圖A之變形例（a)般，亦可以將三組洗淨 單元及擦拭器單元[70、72]、[74、76]、[90、92]串聯配 置，在最後尾配置乾燥單元78。 如第1 〇圖A之變形例（b)所示般，將兩組洗淨單元及 擦拭器單元[70、72]、[74、76]串連配置之構成雖與上述 實施型態相同’但亦可設爲例如在第1擦拭器單元72內 設置兩對擦拭器構件72f、72r之構成。 如第1 0圖A之變形例（c)般，亦可設爲將一組之洗淨 單元及擦拭器單元[70、72]和乾燥單元78搭載在支架64 之構成。 再者’如第10圖A之變形例（d)般，亦可設爲省略乾 燥單元78,僅將一組之洗淨單元及擦拭器單元[70、72]搭 載在支架64之構成。 並且，不限於上述變形例（a)〜（d)，即使在上述實施 型態中，使支架64多次往返移動，而重覆多次洗淨掃描 而予以進行亦可。 再者，如第1〇圖B所示般，亦可將去程用之擦拭器 單元72和回程用之擦拭器單元94搭載在支架64而進行 去程洗淨掃描和回程洗淨掃描。此時，在去程之洗淨掃描 方向中，於去程用擦拭器單元72之前配置去程用之洗淨 單元70及乾燥單元96，並在回程之洗淨掃描方向，於擦 拭器單元94之前配置回程用之洗淨單元98及乾燥單元 -21 - 201200243 78，並在兩擦拭器單元72、94之間配置去程/回程兼用之 洗淨單元74。 於進行去程之洗淨掃描之時’藉由例如汽缸使回程用 之擦拭器單元94下降而從狹縫噴嘴32分離或退避（即是 不使用狀態），並且使前進方向前部之回程用乾燥單元96 和前進方向後部之回程用洗淨單元98成爲關閉狀態（即是 不使用狀態）。 於進行回程之洗淨掃描之時’藉由例如汽缸使去程用 之擦拭器單元72下降而從狹縫噴嘴32分離或退避（即是 不使用狀態），並且使前進方向前部之去程用乾燥單元78 和前進方向後部之去程用洗淨單元7〇成爲關閉狀態（即是 不使用狀態）。 第11圖A及第11圖B係表示幾個以單觸控將擦拭 器單元（代表例爲擦拭器單元72)裝拆自如地安裝在支架 64上之構成例。 第1 1圖A之（a)、（b)所構成之構成例係將支架64構 成上面開口之剖面C字形之箱體或殼形狀，使成爲可以從 上在支架64之中插拔擦拭器單元72。較理想爲在支架64 內設置定位用之錐形壁面64a(第11圖A(a))或定位銷 64b(第11圖A(b))即可。亦可以適當採用在支架64之兩 側壁64c安裝柱塞1〇〇，並使柱塞1〇〇之頭部卡合於擦拭 器單元72側之凹槽72η之構成。或是，即使採用如第1 1 圖B(a)、（b)所示般在支架64之兩側壁64c安裝板彈簧 102來取代柱塞1〇0，而使板彈簧1〇2卡合於擦拭器單元 -22- 201200243 72之肩部的構成亦可。 接著，說明狹縫噴嘴洗淨部之第2實施型態》與上述 實施型態相同部分省略說明。第12圖爲狹縫噴嘴洗淨部 152之上面圖。狹縫噴嘴洗淨部152係在該支架64上以 洗淨掃描方向來看以第1洗淨單元179爲開始，以下依照 第1擦拭器單元72、第2洗淨單元180、第2擦拭器單元 76、乾燥單元78及第2乾燥單元1 78之順序排成一列並 予以搭載。各個單元178〜180、72、76係以卡匣式而能 拆裝之方式被安裝於支架64上。 第13圖爲第12圖之A-A的剖面圖。在乾燥單元78 之對向之一方的面上，設置乾燥噴嘴78bl、78b2，從乾 燥噴嘴78bl、78b2吐出乾燥用氣體例如N2氣體。在乾燥 單元78之另一方之面也相同。再者，在乾燥單元178之 對向之一方的面上，設置乾燥噴嘴178bl、178b2，從乾 燥噴嘴178b 1、17 8b2吐出乾燥用氣體例如N2氣體。在乾 燥單元178之另一方之面也相同。 在此，如第1 3圖所示般，當比較位於上側之乾燥噴 嘴78bl和乾燥噴嘴178bl之高度位置時，乾燥噴嘴78bl 被設置在較乾燥噴嘴178bl高之位置。並且，乾燥噴嘴 78b2和乾燥噴嘴178b2之高度位置設置在相同高度。 如此一來，乾燥噴嘴78bl被設置在較乾燥噴嘴 17 8bl高之位置，因從上順序地對噴嘴側面32f、32r噴吹 氣體，故可以更有效率地將附著於噴嘴側面32f、3 2r之 擦取殘留液體噴至下方，並予以乾燥。 -23- 201200243 再者，如第12圖所示般，第1及第2洗淨單元 179、180具有在上面擁有凹形之溝部的塊狀噴嘴保持部 179a、180a，和從該噴嘴保持部179a、180a之兩側之內 壁突出之多對之洗淨噴嘴17 9b、18 0b。 當從上方觀看時，洗淨噴嘴17 9b、18 0b因被配置成 各互相不同，故在例如凹形之溝部無狹縫噴嘴32之狀態 下即使從洗淨噴嘴179b吐出洗淨液，也不會有從洗淨噴 嘴179b吐出之洗淨液彼此對向衝突而飛散之情形。 接著，第14圖爲第12圖之B-B剖面圖（第2洗淨單 元180之剖面圖）》從噴嘴保持部180a之內壁上下兩列地 配置洗淨噴嘴18 Ob。再者，第1洗淨單元179也相同， 上下兩列地配置洗淨噴嘴1 79b。 並且，並不限定於本實施例，第1擦拭器單元72、 第2擦拭器單元係可從支架64容易拆下擦拭器保持部 72a、76d，也可僅更換擦拭器構件（72f、72r)、（76f、 76r)，藉由連擦拭器保持部72a、76d更換成新品，可更 容易進行擦拭器之更換。 再者，擦拭器構件72r(76r)之豎立角度万以15°〜45° 之範圍爲佳，上述敘述在30°左右爲佳，在將豎立角度召 設爲30°和44°而進行實驗之結果，以30°之擦取性能爲 佳。試著硏究該結果。爲了擦取噴嘴側面32f、32r之特 定區域，豎立角度；S越小，則必須越增長擦拭器構件 7 21：(76〇之全長。因此，豎立角度/3=30°較豎立角度沒= 44°擦拭器爲變長，擦取噴嘴側面32f、32r之相同區域之 -24- 201200243 時’因擦拭器長，故可想豎立角度/3 = 3 0°之一方擦取性 能變高。但是，當將豎立角度/3設爲小於30之時，此時 擦拭器之全長過長，增加了擦取阻抗，無法有效率地進行 擦取。因此，豎立角度；5以在30°附近爲佳。 就以本發明中之塗佈液而言，除光阻液以外，亦可爲 層間絕緣材料、介電體材料、配線材料等之塗佈液，亦可 爲各種藥液、顯像液或沖洗液等。本發明中之被處理基板 並不限定於LCD基板，亦可爲其他平面顯示用基板、半 導體晶圓、CD基板、光罩、印刷基板等。 【圖式簡單說明】 第1圖係表示可適用本發明之狹縫噴嘴洗淨裝置之光 阻塗佈裝置之一構成例的斜視圖。 第2圖爲表示在上述光阻塗佈裝置中之狹縫噴嘴之內 部構造及在基板上形成光阻塗佈膜之樣子的剖面圖。 第3圖爲表示在上述光阻塗佈裝置中之狹縫噴嘴之外 觀構造及在基板上形成光阻塗佈膜之樣子的前視圖。 第4圖爲上述光阻塗佈裝置所具備之噴嘴更新部之構 成的一部分剖面前視圖。 第5圖爲表示組裝於上述噴嘴更新部之狹縫噴嘴洗淨 部之構成的斜視圖。 第6圖爲從洗淨掃描之斜前方觀看上述狹縫噴嘴洗淨 部之構成的斜視圖。 第7圖爲表示組裝於上述狹縫噴嘴洗淨部之擦拭器單 -25- 201200243 元之重要部位的構成圖。 第8圖爲在上述狹縫噴嘴洗淨部中進行與狹縫噴嘴之 定位的機構之構成的剖面圖。 第9圖A爲模式性表示上述狹縫噴嘴洗淨部之作用 的側面圖。 第9圖B爲模式性表示上述狹縫噴嘴洗淨部之作用的 側面圖。 第10圖A爲表示在上述狹縫噴嘴洗淨部中搭載於支 架之單元之編成的變形例之圖示。 第10圖B爲表示在上述狹縫噴嘴洗淨部中搭載於支 架之單元之編成的變形例之圖示。 第11圖A爲表示在上述狹縫噴嘴洗淨部中以單觸控 將擦拭器單元安裝於支架之構成例的圖示。 第11圖B爲表示在上述狹縫噴嘴洗淨部中以單觸控 將擦拭器單元安裝於支架之構成例的另外圖示。 第12圖爲表示上述狹縫噴嘴洗淨部之第2實施型態 之構成的上面圖》 第13圖爲表示上述狹縫噴嘴洗淨部之第2實施型態 中之乾燥單元之剖面圖。 第14圖爲第12圖之B-B剖面圖。 【主要元件符號說明】 32 :狹縫噴嘴 52 :狹縫噴嘴洗淨部 26- 201200243 60 : Y方向移動部 70、74 :洗淨單元 72、76 :擦拭器單元 7 8 :乾燥單元 -27-

Claims (1)

1. 201200243 七、申請專利範圍 1. 一種狹縫噴嘴洗淨裝置，用以洗淨具有塗佈處理所 使用之狹縫狀吐出口之長條型狹縫噴嘴的吐出口周邊部， 其特徵爲具有： 支架（Carriage)，其係沿著上述狹縫噴嘴之吐出口周 邊部而平行於上述狹縫噴嘴之長邊方向在水平洗淨掃描方 向移動； 第1洗淨單元，其係被搭載在上述支架，一面在上述 洗淨掃描方向移動一面對上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部噴 吹洗淨液；和 第1擦拭器單元，其係在上述洗淨掃描方向位於上述 洗淨單元之後而被搭載在上述支架，一面在上述洗淨掃描 方向移動，一面擦取附著於上述狹縫噴嘴之吐出口周邊部 的液體。 2. 如申請專利範圍第1項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝 置，其中 具有乾燥單元，該乾燥單元係在上述洗淨掃描方向中 位於上述第1擦拭器單元之後而被搭載於上述支架，一面 移動至上述洗淨掃描方向一面對上.述狹縫噴嘴之吐出口周 邊部噴吹乾燥用之氣體》 3. 如申請專利範圍第1項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝 置，其中 具有：第2洗淨單元，其係在上述洗淨掃描方向位於 上述第1擦拭器單元之後而被搭載在上述支架，一面在上 -28- 201200243 述洗淨掃描方向移動，一面對上述狹縫噴嘴之吐出口周邊 部噴吹洗淨液；和 第2擦拭器單元，其係在上述洗淨掃描方向位於上述 第2洗淨單元之後而被搭載在上述支架，一面在上述洗淨 掃描方向移動，一面擦取附著於上述狹縫噴嘴之吐出口周 邊部的液體。 4·如申請專利範圍第3項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝 置，其中 具有乾燥單元，該乾燥單元係在上述洗淨掃描方向中 位於上述第2擦拭器單元之後而被搭載於上述支架，一面 移動至上述洗淨掃描方向一面對上述狹縫噴嘴之吐出口周 邊部噴吹乾燥用之氣體。 5 ·如申請專利範圍第1項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝 置，其中 與上述狹縫噴嘴之吐出口平行延伸之兩側之噴嘴側 面，係被形成朝向吐出口而從上至下逐漸變尖細的錐形 狀， 上述洗淨單元在上述錐形狀之噴嘴側面具有從兩側噴 吹洗淨液之多根洗淨噴嘴， 上述擦拭器單元具有以對水平面傾斜豎立之角度從兩 側個別地滑接於上述錐形狀之噴嘴側面的一或多數對長條 型擦拭器構件。 6.如申請專利範圍第5項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝 置，其中 -29 - 201200243 上述擦拭器構件對水平面的豎立角度爲15。〜45。。 7.如申請專利範圍第5或6項所記載之狹縫噴嘴洗淨 裝置，其中 上述擦拭器單元具備擁有各與上述狹縫噴嘴之吐出口 及噴嘴側面平行對向之底部及傾斜面的塊狀擦拭器保持 部’在上述擦拭器保持部之傾斜面安裝上述擦拭器構件。 8 _如申請專利範圍第7項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝 置，其中 上述擦拭器構件具有被埋入上述擦拭器保持部之傾斜 面的基部，和從上述基部突出至上述保持部之傾斜面之上 的刮刀部。 9.如申請專利範圍第8項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝 置，其中 上述擦拭器構件之刮刀部係以對上述擦拭器保持部之 傾斜面傾斜豎立之角度而突出。 1 0.如申請專利範圍第9項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝 λ 置，其中 上述刮刀部對擦拭器保持部之傾斜面的豎立角度爲 30° 〜60、 11.如申請專利範圍第10項所記載之狹縫噴嘴洗淨裝 置，其中 在上述擦拭器保持部之傾斜面形成有用以可拆裝地收 納上述擦拭器構件之基部的溝部。 I2·如申請專利範圍第5或6項所記載之狹縫噴嘴洗

   -30- 201200243 淨裝置，其中 上述擦拭器構件係由含氟彈性體所構成。 1 3 .如申請專利範圍第1至6項中之任一項所記載之 狹縫噴嘴洗淨裝置，其中 上述擦拭器單元係可拆裝地被安裝於上述支架。 1 4.如申請專利範圍第1至6項中之任一項所記載之 狹縫噴嘴洗淨裝置，其中 在上述支架上具有使上述擦拭器單元可仿照上述狹縫 噴嘴之吐出口周邊部而彈性地位移的定位機構。 15.—種塗佈裝置，其特徵爲具有： 長條型狹縫噴嘴，其具有於塗佈處理中對被處理基板 帶狀地吐出塗佈液之狹縫狀之吐出口； 塗佈液供給部，其係於塗佈處理中對上述狹縫噴嘴供 給塗佈液； 基板支撐部，其係用以支撐上述基板； 塗佈掃描機構，其係在上述狹縫噴嘴和上述基板之間 進行於水平之一方向相對性移動，使得在塗佈處理中上述 狹縫噴嘴在上述基板上進行塗佈掃描；和 如申請專利範圍第1至6項中之任一項所記載之狹縫 噴嘴洗淨裝置，其係用以在塗佈處理之間隔洗淨上述狹縫 噴嘴之吐出口周邊部。