KR100586387B1 - 플라즈마 모니터링 방법, 플라즈마 모니터링 장치 및플라즈마 처리장치 - Google Patents
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- H01L21/31111—Etching inorganic layers by chemical means
- H01L21/31116—Etching inorganic layers by chemical means by dry-etching
Abstract
Description
Claims (26)
- 플라즈마의 생성 또는 도입이 가능한 챔버의 실내에 투명한 절연관을 삽입하여 부착하는 공정과,선단부에 수광면을 갖는 로드형상의 광 전송 프로브를 상기 절연관의 관내에 삽입하고, 상기 챔버내의 플라즈마에 의해 발생되는 빛을 상기 절연관을 통하여 상기 프로브의 수광면에 입사시키는 공정과,상기 프로브의 타 단면으로부터 방사된 광에 근거하여 상기 플라즈마부터의 발광을 계측하는 공정을 갖는플라즈마 모니터링 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 프로브를 상기 절연관 안에서 축방향으로 이동시키고, 축방향에 있어서의 공간 분포로서 상기 플라즈마광을 계측하는플라즈마 모니터링 방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 프로브의 축방향을 상기 챔버의 직경방향에 일치시키는플라즈마 모니터링 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 프로브를 상기 절연관과 일체로 높이 방향으로 이동시키고, 높이 방향에 있어서의 공간 분포로서 상기 플라즈마광을 계측하는플라즈마 모니터링 방법.
- 플라즈마의 생성 또는 도입이 가능한 챔버의 측벽에 개폐 가능한 개구부를 마련하는 공정과,상기 개구부를 개방 상태로 하여, 선단부에 수광면을 갖는 로드형상의 광 전파 프로브를 감압공간의 안에서 상기 개구부로부터 상기 챔버내에 삽입하는 공정과,상기 프로브의 타 단면으로부터 방사된 광에 근거하여 상기 플라즈마로부터의 발광을 계측하는 공정을 갖는플라즈마 모니터링 방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 프로브를 상기 챔버내에서 축방향으로 이동시키고, 이동 거리에 대한 상기 플라즈마 광의 변화분을 구하고, 상기 프로브의 축방향에 있어서의 상기 챔버내의 공간 분포로서 상기 플라즈마 광을 계측하는플라즈마 모니터링 방법.
- 제 6 항에 있어서,상기 프로브의 축방향을 상기 챔버의 직경방향에 일치시키는플라즈마 모니터링 방법.
- 플라즈마의 생성 또는 도입이 가능한 챔버의 실내에 삽입하여 부착되는 투명한 절연관와,선단부에 수광면을 갖고, 상기 절연관의 한쪽 단부로부터 관내에 삽입되는 로드형상의 광 전송 프로브와,상기 프로브의 타 단면으로부터 방사된 광에 근거하여 상기 플라즈마로부터의 발광을 계측하는 계측부를 갖는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 프로브가 석영 또는 사파이어로 이루어지는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 프로브가, 석영 또는 사파이어로 이루어지는 코어와, 상기 코어의 주위면을 둘러싸는 클래드를 갖는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 프로브가 차광성의 피막을 갖는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 프로브가, 일체로 묶여진 복수개의 광 화이버와, 그들의 광 화이버 주위를 둘러싸는 내열성의 비금속부재를 갖는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 비금속부재가 폴리이미드로 이루어지는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 절연관이 석영 또는 사파이어로 이루어지는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 프로브의 선단부에, 소망하는 방향으로부터의 상기 플라즈마 광을 반사하여 상기 프로브의 수광면에 입사시키기 위한 미러를 마련하는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 미러의 반사면이 알루미늄으로 이루어지는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 15 항에 있어서,상기 프로브의 선단부에 상기 수광면과 상기 미러를 포위하는 차광부재를 부착하고, 상기 차광부재에 상기 소망하는 방향으로부터의 플라즈마 광을 상기 미러를 향하여 통과시키기 위한 창을 마련하는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 17 항에 있어서,상기 프로브의 수광면의 법선이 축방향에 대하여 상기 창측으로 소정의 각도만큼 기울도록, 상기 프로브의 단부를 비스듬하게 컷트하는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 챔버의 측벽에 서로 대향하여 마련한 제 1 지지부와 제 2 지지부 사이에 상기 절연관을 실질적으로 걸쳐놓은플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 프로브를 축방향으로 이동시키기 위한 엑츄에이터를 갖는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 프로브의 수광면의 위치를 검출하기 위한 위치 검출 수단을 갖는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 계측부가, 상기 프로브의 타 단면으로부터 출사된 광으로부터 소정 파장의 스펙트럼을 취출하기 위한 분광부와, 상기 분광부에 의해 출력된 상기 스펙트럼의 강도를 측정하는 스펙트럼 강도 측정부를 갖는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 8 항에 있어서,상기 프로브의 타 단면으로부터 방사된 광을 소망하는 개구수로 수광하여 상기 계측부로 유도하는 다발 화이버를 갖는플라즈마 모니터링 장치.
- 플라즈마의 생성 또는 도입이 가능한 챔버의 측벽에 마련된 개폐 가능한 개구부와,선단부에 수광면을 갖고, 감압 공간 안에서 개방 상태의 상기 개구부로부터 상기 챔버내에 삽입되는 로드형상의 광 전송 프로브와,상기 프로브의 타 단면으로부터 방사된 광에 근거하여 상기 플라즈마부터의 발광을 계측하는 계측부를 갖는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 24 항에 있어서,상기 챔버의 직경방향으로 신축 가능하게 마련되고, 상기 개구부의 밖에서 상기 프로브 주위에 밀폐의 공간을 형성하는 벨로우즈와, 상기 밀폐 공간내를 감압하는 배기부를 갖는플라즈마 모니터링 장치.
- 제 25 항에 있어서,상기 밀폐 공간내에서 상기 프로브를 소정의 온도로 가열하기 위한 가열부를 갖는플라즈마 모니터링 장치.
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