JP5162269B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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Description
この真空処理装置105では、真空槽111の内部に複数の石英ドーム121が突き出されており、各石英ドーム121内にはそれぞれアンテナ122が配置されている。
また、本発明は、前記プラズマ形成装置は、前記真空槽の内部に突出され、マイクロ波を放射可能な複数のアンテナを有する真空処理装置である。
また、本発明は、前記真空槽の内部と前記測定室の内部の間にはシャッタが設けられた真空処理装置である。
また、本発明は、前記アンテナはそれぞれ誘電体のアンテナ容器内に配置され、前記アンテナ容器と共に前記真空槽内に突き出され、前記アンテナ容器と前記真空槽との間は気密に構成され、前記アンテナは大気雰囲気に置かれた真空処理装置である。
真空処理を行なう際にはシャッタを閉じておくことができるので、エッチングガス等の処理ガスのプラズマによって探針が損傷を受けないで済む。
この真空処理装置5は、真空槽11と、複数のプラズマ形成装置16を有している。
各プラズマ形成装置16は、石英ドームから成るアンテナ容器21と、アンテナ容器21内に納められたアンテナ22とを有しており、真空槽11の天井には複数のアンテナ孔15が設けられ、アンテナ容器21がそれぞれアンテナ孔15内に挿通され、各アンテナ22は、アンテナ容器21内に配置された状態で真空槽11の内部に突出されている。各アンテナ容器21と真空槽11の間は気密に構成されており、アンテナ容器21の内部を大気雰囲気にし、アンテナ22を大気雰囲気中に置きながら真空槽11の内部を真空排気できるように構成されている。
真空槽11の底壁上には基板ホルダ13が配置され、基板ホルダ13上には処理対象物である基板17が配置されている。
真空槽11の外部には、高周波電源41と、高周波電源41に接続されたマッチングボックス42とが配置されており、各アンテナ22はそれぞれマッチングボックス42に接続され、マッチングボックス42を介して高周波電源41に接続されている。
本発明では、エッチング等の真空処理を行なう前に、予め、形成されたプラズマのインピーダンスを測定している。
一台のプラズマ形成装置16が形成するプラズマのインピーダンスの測定が終了した後、高周波電源41からの高周波電圧の出力と探針31,32からの測定信号の出力を停止し、中間回路52を探針31,32から取り外す。
上記アンテナ22は石英ドームから成る容器内に配置したが、アンテナ22を配置する容器は他の材料で構成することができる。
11……真空槽
12……測定室
16……プラズマ形成装置
21……アンテナ容器
22……アンテナ
31,32……探針
35……シャッタ
Claims (4)
- 真空排気可能な真空槽と、
前記真空槽内に導入されたガスをプラズマ化するプラズマ形成装置と、
前記真空槽に接続された複数の測定室と、
前記各測定室にそれぞれ配置され、先端が前記測定室内部に突き出され、前記測定室の外部に電気的に導出可能な、プラズマのインピーダンスを測定するための探針と、
を有する真空処理装置。 - 前記プラズマ形成装置は、前記真空槽の内部に突出され、マイクロ波を放射可能な複数のアンテナを有する請求項1記載の真空処理装置。
- 前記真空槽の内部と前記測定室の内部の間にはシャッタが設けられた請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の真空処理装置。
- 前記アンテナはそれぞれ誘電体のアンテナ容器内に配置され、前記アンテナ容器と共に前記真空槽内に突き出され、前記アンテナ容器と前記真空槽との間は気密に構成され、前記アンテナは大気雰囲気に置かれた請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の真空処理装置。
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