KR100792303B1 - 플라즈마를 수용하는 개방형 공진기에 고정된 마이크로파발진기를 사용하는 전자밀도측정과 플라즈마 공정제어시스템 - Google Patents

플라즈마를 수용하는 개방형 공진기에 고정된 마이크로파발진기를 사용하는 전자밀도측정과 플라즈마 공정제어시스템 Download PDF

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Abstract

플라즈마 전자밀도(예를 들면, 1010cm-3에서 1012cm-3의 범위의)를 측정하고 플라즈마 발생기(240)을 제어하기 위한 시스템. 플라즈마 밀도의 측정은, 증착과 식각과 같은 플라즈마 지원공정등이 회귀제어를 사용하여 적절하게 제어된다면 필수적이다. 이어서, 플라즈마 측정방법과 시스템은 모두 플라즈마 전자밀도를 미리 설정된 값으로 유지하도록 플라즈마 발생기(240)를 제어하는 제어전압을 발생한다. 시스템은, 공진주파수가 개방형공진기 내로 플라즈마를 도입함에 의해 변화할 때, 개방형 마이크로파 공진기(245)의 공진주파수로 국부 발생기(100)의 주파수를 고정하기 위해 주파수 안정화 시스템을 사용한다. 제 2 마이크로파 주파수 판별기의 증폭된 출력전압은 플라즈마 발생기(240)를 제어하기 위해 사용될 수 있다.

Description

플라즈마를 수용하는 개방형 공진기에 고정된 마이크로파 발진기를 사용하는 전자밀도측정과 플라즈마 공정제어 시스템{ELECTRON DENSITY MEASUREMENT AND PLASMA PROCESS CONTROL SYSTEM USING A MICROWAVE OSCILLATOR LOCKED TO AN OPEN RESONATOR CONTAINING THE PLASMA}
본원은 대리인 서류번호 2312-0711-2YA PROV의 ‘마이크로파 발진기의 플라즈마 -유도 주파수 변화를 사용하는 전자밀도측정과 제어시스템’과, 대리인 서류번호 2312-0710-2YA PROV의 ‘플라즈마를 수용하는 개방형 공진기의 공진주파수의 변화를 사용하는 전자밀도측정과 플라즈마 공정제어시스템’이란 명칭의 함께 진행중인 출원과 관련되어 있으며, 상기 두 개의 출원은 본 출원과 동시에 함께 출원되었다. 상기 양 출원들은 전체로서 본 출원의 참고자료로서 일체가 된다.
본원 발명은 반도체 공정시스템과 같은 플라즈마 공정시스템 내의 전자밀도를 측정하기 위한 방법과 시스템을 제공한다.
세계 2차대전 이후, 몇몇 대학연구단체는 전쟁중에 부분적으로 이온화된 가스를 연구하기 위해 개발된 마이크로파 기술을 사용했다. 특히, 메사츄세츠 공과대학 (Massachusetts Institute of Technology)의 샌본 씨. 브라운(Sanborn C. Brown )교수팀은 플라즈마로 불려지게된, 부분적으로 이온화되고 전기적으로 준-중성의 가스 내의 전자밀도측정을 위한 소위 ‘공동기술(Cavity Technique)’을 개발하여 이용했다.
이러한 과정에서, 마이크로파 공동의 공진행태의 변화는 그 내부의 플라즈마의 존재의 결과인 것으로 연구되었다. 전형적으로, 최저차 또는 거의 최저차 공진 모드에서 동작하는 직각의 원통형 공동이 사용되며, 가스는 동축 파이렉스(PyrexTM) 또는 석영튜브 내에 수용된다. 공동을 통한 튜브의 도관을 형성하기 위해 창 (aperture)이 각 평평한 끝 표면에 설치된다.
마이크로파 공동 내에 플라즈마의 존재는 일반적으로, 특정 공동모드의 공진주파수와 공진의 첨예도(Sharpness, Q) 양자에, 즉, 공진모드가 상당하게 여기된다면 마이크로파 주파수가 고정되어야 하는 정확도에 영향을 미친다. 섭동이론 (Perturbation Theory)의 한 형태를 사용하여, 전자밀도와 플라즈마 내의 전자충돌빈도에 이러한 매개변수의 변화를 관련시키는 것이 가능하다. 섭동이론은 오직 아래의 조건을 만족시키는 주파수(ω,단위는 radian)의 경우에만 유효하다.
Figure 112002001573732-pct00001
여기서, ωp는 플라즈마 주파수(단위는 radian)이고, Ne는 전자밀도(단위는 전자수/cm3)이다. 결과적으로, 1012 cm-3 차수의 전자밀도를 가진 플라즈마의 분석과, 여기서 관계되는 크기, GHz의 수십배를 넘는 마이크로파 신호주파수(ω/2π)가 요구된다.
GHz의 수십배 차수의 신호주파수의 요구는 중요한 문제를 야기한다. 최저차 또는 거의 최저차의 공진모드에서 공진하도록 고안된 공동의 물리적크기는 신호의 파장의 크기이다. 그러므로, 35 GHz에서 공진하도록 고안된 공동은 단 1 cm 차수상의 크기를 가진다. 전자밀도측정을 위해 그렇게 작은 공동을 사용하는 것은 어렵다.
원칙적으로, 최저차 또는 저차 모드 작은 물리적크기와 관련된 문제를 극복하기 위해 “고차(high order)”에서 진동하도록 고안된 공동을 사용하는 것이 가능하다. 그러나, 이러한 접근이 채택된다면, 특정의 여기된 공동모드의 실체를 확실히 파악하는 것은 극도로 어렵게된다. 결과적으로, 전자밀도와 전자충돌빈도를 결정하기 위해 섭동이론을 적용하는 것은, 불가능하지는 않을지라도, 실질적으로 매우 어렵게된다.
이러한 문제를 피하는 하나의 방법은 “개방형”공진기, 즉 도전체 표면을 (거의) 완전하게 둘러쌈에 의해서 전자기장이 한정되지 않는 공진기를 사용하는 것이다. 개방형 공진기의 실제적인 예는 평면 또는 곡면을 가지며 그 사이에 원형대칭의 도전체 표면을 한정하지 않는, 원형대칭의 끝단의 거울, 한 쌍의 큰 창이다. 이러한 형태의 개방형 공진기는 벨시스템 기술저널, 1961년 3월, 40권(vol) 453∼488 페이지의 “메이저 (MASER) 간섭계에서의 공진모드들”에서 폭스(A.G. Fox)와 리(T.Li)에 의해 자세하게 검토되었다. 그들은 대칭축에 관하여 유효한 각으로 전파하는 평면파요소를 포함하는 것으로 간주될 수 있는 여하의 모드는 상당하게 여기되지 않을 수 있음, 즉 매우 낮은 첨예도(Q)를 가질 수 있음을 보였다. 실제로, 개방형 공진기에 대하여, 특정의 주파수 범위에서 공진주파수를 가진 실제 적으로 유용한 모드의 수는 비슷한 크기의 밀폐형 공진기에 대한 등가의 수 보다 훨씬 작다. 이러한 개방형 공진기의 성질은 연구원들에게 공진 플라즈마 진단기술을 35 GHz이상의 주파수에 까지 확장할 수 있는 거대한 기회를 제공했다.
마이크로파 에너지는, 도파관 공급으로부터 밀폐형 공진기에 결합을 다스리는 원리와 같은 원리를 사용하여 도파관 공급으로부터 개방형 공진기에 결합될 수 있다. 공진기 거울에서 결합창의 크기와 위치 및 공간회전은 원하는 공진기 모드에 대한 전자기장의 조성과 적절하게 관련되어야 한다. 입력과 출력 결합창은 둘다 같은 거울 위에 있을 수 있고, 또는 입력창이 하나의 거울 위에 있고 출력창은 다른 거울 위에 있을 수 있다.
공지의 전자적으로 동조가능한 마이크로파 발진기들은 공진동공과 마이크로파 주파수 판별기에 의해 안정된 주파수이다. 기본적인 개념들은 1947년 맥그로-힐 (McGraw-Hill)에 의해 출판된 방사실험시리즈와 다양한 엠아티(M.I.T) 방사연구보고서에 자세하게 실려있다. 그러한 발진기중 하나의 사용은 전자적으로 동조가능한 발진기가 주파수가 변할 때 마이크로파 진동기의 진동주파수를 추적하도록 하는 것이다. 그러한 기술의 광범위한 토론은, 마이크로파 측정기술, M.I.T 방사실험시리즈, 캐롤(Carol H). 몽고메리, 출판자, 맥그로-힐(McGraw-Hill) 출판사, 뉴욕, 1947, 페이지 58∼78(이후 “몽고메리 (Montgomery)”라함), 11권(vol)에 제시되어있다. 몽고메리의 전 내용은 여기에서 참고로 합체되어있다. 제어회로(102)에 대한 블럭도가 도1에 나타나있다. 도1은 몽고메리의 페이지 60의 도 2.29와 같다. 마이크로파 간섭계의 사용은 또한 두 개의 공지된 출판물인 : (1) 재료연구학회 심포지움 회보, 117권(헤이즈(Eds, Hays)등 편저), 1988, 페이지 311∼317, 피어슨 (Pearson)등에 의한 “공정플라즈마에서 밀도측정 안정화에 대한 마이크로 간섭계”,와 (2)Rev.학회. 인스트룸(Instrum). 56(5), 1985년 5월, 페이지 908∼910.의 에프티미온(Efthimion)등에 의한 “TFTR상의 선적분 전자밀도의 측정에 대한 1 밀리미터파 간섭계”에 설명되어있다.
발진기(100)의 주파수가 마이크로파 공동(105)의 공진주파수와 다를 때, 신호는 마이크로파 주파수 판별기(110)에 의해 발생된다. 마이크로파 주파수 판별기(110)의 출력은 증폭기(115)에 의해 증폭된다. 그때, 증폭된 판별신호(120)는 마이크로파 공동(105)의 공진주파수를 향해 발진기(100)의 주파수가 이동하기 위해 요구되는 극을 가진 발진기(100)에 공급된다.
만약 발진기(100)의 주파수가 제어회로(102)를 사용하는 마이크로파 공동 (105)의 공진주파수로 고정되면, 마이크로파 공동(105)의 동조는 발진기(100)가 증폭기 (115)의 전자동조능력과 보조의 마이크로파 회로도의 주파수 민감도에 의해 제한될 범위내로 공진주파수를 추적하도록 한다. 몽고메리의 69페이지는 동조가능한 발진기를 설명한다.
도 1에 나타난 것처럼, 제어회로(102)의 주된 구성부는 마이크로파 주파수 판별기(110)와 증폭기(115)이다. 마이크로파 주파수 판별기(110)에 대한 두 개의 구성이 존재한다. 도 2는 마이크로파 브릿지(bridge, 160)(매직 티(Magic Tee)형체로 알려진)와 지향결합기(150)을 포함하는 마이크로파 주파수 판별기(110)의 첫 번째 실시예를 나타낸다. 마이크로파 브릿지(160)는 길이 x의 단락된 회로의 도파관(165)에 의해 반사되는 신호와 길이 x - λg/8의 선(175)에 의해 공급되는 마이크로파 공동(105)로부터 반사되는 신호를 비교한다. 마이크로파 신호는 지향결합기(150)을 거쳐 암(180, H-평면 암)에서 마이크로파 브릿지(160)에 들어간다. 지향결합기(150)의 암은 발진기(100)로부터 마이크로파 주파수 판별기에의 입력이다. 마이크로파 브릿지 (160)의 티(Tee)형접합에서, 접합으로부터 전송되는 동일한 진폭과 위상의 파는 단락된 회로의 도파관(165)과 선(175, 총체적으로 S암이라 불리는)에서 여기된다.
두 번째 실시예에서, 마이크로파 주파수 판별기(110)는 또한 지향결합기(150)을 제 2 매직티(Magic Tee)형체로 대치하여 얻어질 수 있다. 이것은 매직 티(Tee)형체가 3dB 지향결합기와 동등하기 때문에 놀라운 것은 아니다. 그러므로 분석은 같고 여기서 더 고려되지 않을 것이다.
본 발명의 목적은 플라즈마를 수용하는 개방형 공진기에 고정된 마이크로파 발진기를 사용하는 개선된 플라즈마 전자밀도 측정장치와 제어시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 발진기가 하나의 공진모드 상에서의 고정을 잃어버릴 때, 또 다른 공진모드를 추적함에 의해 플라즈마 전자밀도의 확실한 제어를 제공하는 것이다.
본 발명의 이러한 목적과 또 다른 목적은 공진주파수가 개방형 공진기 내의 플라즈마의 도입으로 인하여 변화할 때, 개방형 공진기의 미리 선정된 공진주파수로 국부발진기의 주파수를 고정하기 위하여 주파수 안정화시스템을 사용함에 의해 달성된다.
본 발명의 보다 완전한 이해와 그에 부수되는 많은 장점은 이하의 상세한 설명을 참고로 하여, 특히 첨부되는 도면과 관계하여 고려할 때, 쉽게 분명해질 것이다. 여기서:
도 1은 마이크로파 공동의 주파수와 국부발진기를 매칭하기 위한 공지의 제어회로의 블럭도이다.
도 2는 도 1의 제어회로의 사용을 위한 공지의 마이크로파 주파수 판별기의 도식적인 도면이다.
도 3은 개방형공진기가 안정화 공진기의 역할을 하는, 플라즈마를 수용하는 개방형공진기에 적용되는 도 2의 마이크로파 주파수 판별기의 도식적인 도면이다.
도 4는 변화하는 주파수에 기초한 마이크로파 주파수 판별기(110)의 출력그래프이다.
도 5는 본 발명에 따른 발진기 제어회로의 도식이다.
도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 발생제어시스템의 첫 번째 실시예의 블럭도이다.
도 7은 본 발명에 따른 디지털신호처리기를 사용하는 플라즈마 발생제어시스템의 두 번째 실시예의 블럭도이다.
도 8은 본 발명에 따른 제어시스템의 부분을 구현하기 위한 컴퓨터의 블럭도이다.
도 9는 본 발명에 따른 하나의 실시예에 따른 마이크로파 브릿지로부터 얻어진 오실로스코프 궤적을 나타낸다.
지금 수 개의 도면을 통하여 같은 참고번호가 동일하고 대응하는 부분을 나타내는 도면을 참고로 하여, 도 3은 개방형공진기가 안정화공진기로서의 역할을 하는, 플라즈마를 수용하는 개방형공진기에 적용되는 도 2의 마이크로파 주파수 판별기의 도식적인 도면이다. 도 3의 대부분의 구성요소들은 도 2를 참고로 하여 상기에 설명되어있으며, 그 상세한 설명은 여기에서 반복하지 않는다. 그러나, 도 2의 마이크로파공동(105)을 플라즈마를 수용하는 개방형공진기(170)로 대치하는 총체적인 시스템의 동작은 이후에 설명된다.
그 공진주파수의 하나와 상당히 떨어진 주파수에서, 개방형 공진기(170)는 결합조리개, 즉 선(175)과 개방형 공진기(170)사이의 계면의 역할을 하는 구형 거울내부의 원형의 구멍, 의 평면에서 단락회로가 있는 것처럼 거의 정확하게 반사한다. 본 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 이해될 수 있는 것처럼, 구멍의 크기와 형태는 실험에 의해 결정될 수 있다. 더욱이, 구형거울 위의 결합조리개의 위치는 개방형 공진기(170)의 내부에 원하지 않는 공진모드를 여기하지 않도록 되어있다. 결과적으로, 그러한 주파수에서, 단락회로의 도파관(165)와 선(175)의 접합(185)을 향하여 뒤로 반사하는 파는 접합(185)에서 π/2의 위상불일치의 상태로 도달한다. 그러므로, 단자(200과 205)들에 결합된 매치된 검출기(도시되지 않음)들은 동일한 출력전압을 발생한고, 전압간의 차는 영(zero)이다.
그러나, 개방형 공진기(170)의 공진주파수에서, 개방형 공진기(170)의 어드미턴스 (admittance)는 결합조리개의 평면에 위치하는 순수한 전도도(conductance)인 것과 같은 역할을 한다. 개방형 공진기(170)로부터 반사된 파는 단락회로의 도파관(165)으로부터 반사된 파와 결합하여, 동일한 진폭의 파들이 단자(200과 205)들에서 티(Tee)형체에 나타난다. 검출기들의 출력은 일단 다시 같을 것이다(공진으로부터 떨어진 공진주파수에서의 값과 다를지라도). 공진주파수로부터 이동된 주파수에서, 개방형 공진기(170)의 어드미턴스는, 공진주파수 보다 작은 주파수에서 유도성(inductive)이고, 공진주파수 보다 큰 주파수에서 용량성(capacitive)인, 영이 아닌 서셉턴스(susptance)를 가진다. 공진의 한 측면에서, 단자(205)에 결합된 검출기는 보다 많은 전력을 받으며, 단자(200)에 결합된 단자는 보다 적은 전력을 받아서, 출력전압이 같지않다. 결과적으로 그들 사이의 차이는 영이 아니다. 공진의 다른 측면에서, 단자(205)에 결합된 검출기는 보다 적은 전력을 받으며, 단자(200)에 결합된 검출기는 보다 많은 전력을 받는다. 그 차이는 다시 영이 아니지만, 수치적으로 반대부호를 가진다. 수학적인 분석은 몽고메리의 64페이지에 제시되어있다. 마이크로파 주파수 판별기(110)로부터의 대표적인 출력전압은 도 4에 나타나있다.
국부발진기의 안정화는 도 4에 나타난 마이크로파 주파수 판별기 특성곡선의 극한 VA와 VB에 대응하는 fA와 fB 사이의 주파수에서 가능하다. 주파수제어기의 분석은 이후에 설명된다. fA와 fB 사이의 마이크로파 주파수 판별기(110)의 출력의 기울기는 -p 로 근사화 할 수 있으며, 여기서 p는 V/Hz(volts/hertz)단위의 양수이다. 발진기(100)가 단조로운 주파수 동조특성을 가지고, 동조입력에 적용되는 전압이 보다 양(positive)이 될수록 주파수가 증가할 때, 동조특성은 V/Hz(volts/hertz)의 단위의 양수인 R의 기울기를 가진 직선으로 근사화 할 수 있다. 더하여, 도 1에 나타낸 증폭기(115)의 이득은 이후 G로 표시된다. 시스템이 (1) 마이크로파 주파수 판별기(110)의 출력전압이 도 4에 도시된 것처럼 주파수 fo에 대하여 영(zero)고, (2) 발진기(100)가 fo에서 개방형 공진기(170)의 공진주파수에 고정되며, (3) 개방형 공진기(170)의 공진주파수가 플라즈마의 도입에 의해 증가하도록 조절되면, 그때 마이크로파 주파수 판별기 특성상의 효과는 영교차점이 fo에서 주파수 fo′> fo로 이동하도록 그것을 보다 고주파수를 향해 바꾸는 것일 것이다. 결과적으로, 마이크로파 주파수 판별기(110)의 출력은 고정된 발진기(100)의 주파수가 증가하도록 할 것이다. 시스템이 안정화된 후에, 마이크로파 주파수 판별기(110)의 출력전압은
Vdisc = p(f′- fo′)
일 것이다. 단, 여기서 f′는 공동 공진주파수상의 변화로부터 기인하는 발진기 주파수이다. 주파수 f′는 반드시 fo′보다 작아야 한다는 점을 주의해야 한다. 그렇지않으면, 보정전압은 있을 수 없고, 발진기 주파수는 fo로 유지될 것이다. 증폭된 전압은
Vamp = GVdisc = Gp(fo′- f′)
로 주어진다. 증폭된 전압은 주파수변화에 대한 원인이다. 그리하여, Vamp 는 또한 다음과 같이
Vamp = R(f′- fo)
로 쓰여질 수 있다. 만약 증폭기의 이득이 매우 커서 R/pG << 1이라면, 다음의 식
Figure 112002001573732-pct00002
을 이끈다. 이것은 고정된(즉, 안정된) 발진기주파수의 주파수변화는 개방형공진기 (170)의 공진주파수에서의 변화와 실질적으로 같다는 것을 의미한다.
도 5는 주파수 결정소자로서 개방형공진기를 사용하는 발진기 제어회로의 도식적인 그림이다. 개방형공진기(170)에 연결된 소자는 도 3의 마이크로파 주파수 판별기와 같은 판별기로서의 역할을 한다. 본 실시예에서, 개방형 공진기는, 마이크로파 신호의 주파수가 개방형공진기(즉, 공진기(Q)에 의해 결정되는 한계내의)의 공진주파수의 하나와 일치할 때를 제외하고는 입력조리개로부터 분리되고 그것으로부터 결합이 해제된 출력조리개를 가진다. 비록 결합창이 오직 원하는 공진모드에서만 여기될 것을 보증하는 것이 실질적으로 불가능할지라도, 거울의 곡률반경과 직경, 및 거울간의 거리는 모드축퇴(degeneracy)의 측정을 이끌도록 선정될 수 있으며, 그럼으로써 다른 공진주파수들에 의해 특정지워지는 모드들의 여기와 연관된 복잡성을 감소시킨다.
본 발명의 한 실시예에서, 개방형공진기에 입출력 양자의 마이크로파 의 접속은 같은 반사기에 만들어진다. 이것은, 입력마이크로파 접속이 하나의 반사기 위에 있고 출력마이크로파 접속이 다른 반사기 위에 있는 회로에서 보다 여기서 고안 된 목적을 위해 설계하기에 더욱 편리하다. 그러나, 두 개의 구성의 전기적 성능면에서의 중요한 차이는 없다. 그러므로, 대체적인 실시예에서, 접속들은 반대편 반사기 위에 만들어진다.
도 5에 나타난 마이크로파 주파수 판별기의 구성은 도 3에 나타난 마이크로파 주파수 판별기에 비해 월등하다. 도 3의 마이크로파 주파수 판별기에서, 만약 공진기 결합이 임계치에 가깝지 않다면, 안정화 공진기로부터 반사된 마이크로파 신호는 공진시나 비공진시 두 경우에 모두 크다. 실질적으로, 이것은 추적이 종종 큰 신호에서 상대적으로 작은 변화를 가지고 실행된다는 것을 의미한다. 도 5의 송신공진기와, 전송된 마이크로파 신호는 실질적으로 비공진시 영(zero)이고 공진시에 크기 때문에, 공진시의 큰 신호와 비 공진시의 작은 신호 사이에 유사점이 있다.
도 5의 구조는 개방형공진기(170)가 출력조리개를 거쳐 매직 티(Tee) 형체 (160)의 바닥 암(E 암)에 결합되도록 되어있다. 입력은 H 또는 E에 넣어질 수 있다. 어느 것이 연결되는냐에 따라, 도파관 길이는 매직 티(Tee)형체(160)의 번갈은 방향을 조절하도록 조정된다. 검출기(500A와 500B)는 매직 티형체(160)의 좌우 암에 각각 연결된다. 검출기(500A와 500B)는 각각 차동증폭기(510)의 양과 음의 입력단자에 연결된다. 하나의 실시예에서, 차동증폭기(510)은 직접결합된 증폭기이다. 또 다른 실시예에서, 차동증폭기(510)는 IF 증폭기이고 몽고메리의 “I-F 안정화시스템”이란 제목의 2-17절에 설명되어진 것으로 사용된다. 차동증폭기(510)의 출력은 블럭(520)(예를들면, 35GHz 블럭)에 인가되는 주파수조절전압으로서의 역할을 한다. 블럭(520)의 출력은 위상변환기 (540)에 신호를 결합하는 지향결합기(530)에 접속된다. 결합된 신호의 위상을 변환한 후, 위상변환기(540)는 변환된 신호를, 매직티(Tee)형(160)의 H 암에 인가되는 변환된 감쇄신호를 발생하는 제 1 감쇄기 (550A)에 인가한다.
마이크로파 브릿지의 작동은 도 5에 나타난 바와 같이 하나의 참조신호와 개방형공진기를 통과한 후 그로부터 전송되는 다른 신호의 두 개의 마이크로파 신호의 간섭중첩에 의존한다. 마이크로파 브릿지의 적절한 동작을 위해, 참조와 신호통로(path)의 전기적길이(즉, 대응하는 물리적길이에 관련된 위상변화)는 적절하게 관련되어야 하고, 이상적으로, 이러한 관계는 실질적으로 주파수에 독립이어야 한다. 더욱이, 두 통로의 전기적길이는 마이크로파 브릿지 내에 사용되는 매직티형의 참조평면의 물리적위치의 관점에서 결정되어야 한다는 것을 인식하는 것은 중요하다. 만약, 이러한 점에서 충분한 주의가 기울여지지 않는다면, 마이크로파 브릿지 출력신호는 주파수의 함수로서의 원하는 특징을 나타내지 않을 것이며, 마이크로파브릿지는 원하는 바대로 작용하지 않을 것이다. 비록, 단지 기계적차원들이 적당하게 관련된다면, 회로가 구성될 수 있을지라도, 단지 전기적길이가 또한 적당하게 관련되기만 하면, 적절하게 동작될 것이다.
더하여, 개방형공진기의 출력포트로부터의 또는 단지 불일치된 결정검출기에 의한 매직티형에 되돌아 반사되는 의사(擬似)신호들은 또한 문제를 일으킬 잠재성을 가지며, 실제 마이크로파 브릿지출력특성이 원하는 형태와 상당하게 다를 수 있게 할 우려가 있다. 하나의 실시예에서, 매직티형의 입력암에 위치한 분리기는 이러한 문제를 완화하기 위해 사용된다.
참조와 신호통로의 물리적길이가 짧을 때, 두 개의 통로(path)와 관련된 위상차가 본질적으로 관심있는 주파수들에서의 주파수변화에 민감하지 않아야 한다는 요구는 종종 큰 어려움 없이 만족될 수 있다. 한편, 물리적인 제약 때문에 몇 개의 중요한 소자들이 부득이 길어야 할 때, 문제는 더욱 어려워진다. 이러한 경우, 두 개의 통로의 전기적길이에 관련된 요구되는 위상차가 가능한 가장 큰 정도로 유지되도록 물리적회로를 설계하는 것이 중요하다. 예를들면, 만약 회로상에서 두 개의 통로들이 1/4 파장의 길이 차(π/2 라디안 또는 90도의 위상차)가 있어야 한다면, 비록, 하나의 지로 (branch)를 다른 지로보다 설계주파수에서 파장의 정수배 만큼 상당히 짧게 만드는 것이 가능할 지라도, 두 개의 통로를 단지 1/4파장 차를 제외하고는 가능한 비슷하게 구현하는 것이 바람직할 것이다. 비록, 후자의 선택은 설계주파수에서 실제적인 전기적 중요성을 가지지 않을 지라도, 두 통로사이의 위상차에의 주파수의존성은 거의 똑같은 전기적길이의 통로에 대한 것보다 보다 커질 것이다.
마이크로파 브릿지 회로의 하나의 실시예에서, 위상변환기는 참조와 신호통로 사이에 요구되는 위상차를 발생하기 위해 사용된다. 시스템은 또한 전송이 개방형공진기로부터 매직티형을 항하여만 허가되도록 신호통로내에 분리기를 포함한다. 이것은 신호통로내의 매직티형포트에서 발생하는 반사로 인한 원하지 않는 효과의 발생가능성을 제거한다. 제 2 분리기는 같은 이유로 참조신호통로내에 포함될 수 있다. 두 개의 감쇄기는 참조통로내에 포함되어 참조와 신호통로들을 경우하여 매직티형에 입사하는 신호의 진폭이 동일하도록 작동한다.
도 9의 오실로스코프 궤적은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 마이크로파 브릿지로부터 얻어진 신호를 나타낸다. 마이크로파 주파수 판별기출력은 가장 아래의 Vsum - Vdiff로 지시된 곡선에 의해 나타내진다. 곡선상의 두 개의 큰 파형들은 원하는 개방형공진기 모드에 대응하는 마이크로파 주파수 판별기의 출력을 나타낸다. 두 개의 큰 파형들 사이에 보다 작은 마이크로파 주파수 판별기와 같은 출력은 소위 “축이탈(Off-axis)”모드라 불리우는 원하지 않는 여기에 기인한 것으로 생각된다. 또 다른 실시예에서, 거울직경은 감소된다. 흡수창이 거울에 추가된다, 또는 결합창이 원하지 않는 여기를 줄이기 위해 거울의 정확한 중심에 위치된다.
그러나, 전체 신호처리는 전압제어발진기(520)의 출력을 위상변환기(540) 뿐만 아니라 제 2 감쇄기(550B)와 주파수측정기(570)에 결합함에 의해 제어된다. 제 2 감쇄기(550B)의 감쇄된 출력은 개방형공진기에 인가되고, 결과적인 내부 장(field)은 출력조리개를 사용하여 표본추출된다.
도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 발생제어시스템의 첫 번째 실시예의 블록도이다. 본 제어시스템을 제공하기 위해, 다음의 추가적인 제한이 고려될 필요가 있다.
1. 고정된 발진기의 주파수변화는 항상 공진기의 공진주파수에서의 변화보다 작아야 할 것이나, 그 차이는 증폭기 이득이 충분히 크다면, 상당히 작게 만들어질 수 있다. 그러나 불안정한 문제를 해결하기 위해, 증폭기 이들은 너무 크기 않게 선정되어야 한다.
2. 발진기는 주어진 동작중에 관심있는 플라즈마 전자밀도의 전 범위를 통하여 같은 공진모드(즉, 공진주파수)에 고정(즉, 안정화)되는 것이 바람직하다. 본 발명에서는, 마이크로파 주파수 판별기에 의해 1010cm-3에서 1012cm-3의 범위의 전자밀도가 측정되어진다. 적절한 발진기(100)(예를 들면, 고상(solid-state) 발진기)의 제어전압은 여기서 설명되는 주파수범위에 대하여 +/- 5 V(volts)의 차수의 범위를 가지는 것이 요구된다. 이것은 증폭기의 출력은 +/- 20 V(volts)의 차수의 선형능동범위를 가져야 할 것을 의미한다.
3. 발진기(100)은, 비록 발진기(100)이 고정되는 특정모드를 알 필요는 없을지라도, 특정 공정에서 다른 공진기 모드로 변환되지 않는 것이 바람직하다. 모드변환은 발진기(100)의 동조소자에 인가되는 전압에서의 쉽게 식별할 수 있는 변화를 발생할 것이다. 동조전극전압은 발진기(100)에 인가되는 전압변화를 검사함에 의해 쉽게 조절될 수 있다.
모드 수는 개방형공진기의 공진주파수들 사이의 관련 때문에 알려질 필요가 없다. 예를 들면, 초점이 같은 발진기에 대하여, 공진주파수는 다음과 같이 주어진다.
Figure 112002001573732-pct00003
여기서, n은 개방형 공진기에서의 매체의 굴절율, c는 진공에서의 빛의 속도, d는 반사기(175)(도 6에 나타난)들 사이의 거리이며, q는 축모드수이다. 이러한 표현으로부터, 다음 식을 이끌수 있다.
Figure 112002001573732-pct00004
여기서, n은 모드 수에 관련되지 않기 때문에, 위식은 축모드 수 q에 독립이다. 그러나, q는 발진기가 전체적으로 같은 모드에 고정되는 것을 나타내는 분자와 분모에서 같은 값을 가져야한다.
굴절율이 반사기 사이의 영역에서 일정하지 않다면, f(q,n)은 f(q,<n>)으로 대치되어야 한다. 여기서, <n>은 동작주파수에서 두 개의 반사기 사이의 통로에서의 굴절율의 평균값이다. 결과적으로,
Figure 112002001573732-pct00005
굴절율과 플라즈마 밀도 N은 다음에 의한 근사화에 의해 관련되어진다는 것은 주지되어있다.
Figure 112002001573732-pct00006
여기서, e는 전자전하의 크기, m은 전자질량, εo는 자유공간의 유전율, f는 신호주파수이며 fp는 플라즈마주파수이다. 만약
Figure 112002001573732-pct00007
이것은 다음 식을 이끈다 :
Figure 112002001573732-pct00008
그리고, 결과적으로 :
Figure 112002001573732-pct00009
아래 식에 의해 이미 얻어진 값으로부터
Figure 112002001573732-pct00010
다음 식을 이끈다 :
Figure 112002001573732-pct00011
상기 표현식은 상기에 설명된 간단한 주파수측정에 관한 반사기 사이의 통로를 따른 플라즈마밀도에 대한 값을 제공한다. 반면에, 단 하나(single)의 측정시스템은 그 시스템에 대한 반사기 사이에서의 통로를 따는 평균 플라즈마밀도에 대한 값을 제공한다. 본 발명에서는, 마이크로파 주파수 판별기에 의해 1010cm-3에서 1012cm-3의 범위의 플라즈마 밀도를 측정하게 된다. 동일한 공정챔버 내의 다중(multiple), 예를 들면, 둘 또는 그 이상의, 시스템은, 본질적으로 동시에, 플라즈마밀도의 공간변위에 대한 추가적인 정보를 제공한다. 두 개의 완전히 독립적인 측정시스템을 사용하는 것보다는 오히려, 다른 실시예는 (1) 공정챔버의 외부에 동일한 측정시스템과 (2) 챔버 외부의 측정시스템에 연결된 챔버 내부의 다른 거울셋을 사용한다. 또 다른 실시예는 공정챔버외부에 제어기를 사용하여 공정챔버 내부의 이동가능한 반사기들을 구비한다. 이와 같은 이동은 공정챔버 내에서 비경질 도파관이 사용된다면 가능하다.
마이크로파 주파수 판별기 회로가 발진기주파수의 제어를 잃을 가능성은 추가적인 복잡한 문제를 야기한다. 만약, 발진기 주파수가 고정되지 않는다면, 제어가 안될 때의 값, f(q,<n>)에서 f(q,1)로의 이동이 예측된다. 이러한 상황이 발생하면, 개방형공진기 내의 전자기장은 발진기 주파수가 f(q-1,<n>)에 근접할 때까지 감쇄한다. 이러한 시점에서, 개방형공진기 내의 전자기장은 증가할 것이고, 주파수제어회로는, f(q-1,<n>)에서 발진기 주파수를 안정화하는, 제어가 회복된다. 만약 제어가 f(q-1,<n>)에서 회복되지 않는다면, 주파수의 감쇄는 발진기 주파수가 f(q-2,<n>)에 근접할 때까지 계속될 것이다. 이러한 공정은, 발진기 주파수가 일단 다시 공진주파수 f(q-w,<n>)에서 고정될 때까지 계속될 것이 예측된다. 여기서, w는 1부터 3까지의 범위에 있을 것으로 예측되는 정수이다.
이러한 시스템으로부터 얻어진 실험데이터를 해석하기 위해, 정수 w는 알려져야 한다. w를 결정하기 위해, 적은 전력양이 개방형공진기(170)으로부터 결합되고, 검출기 (220)(예를 들면, 결정검출기)와 도 6에 나타난 계수기(230)에 공급된다. 만약, 개방형공진기(170) 내의 장(field)이 발진기주파수 제어의 상실로 붕괴되면, 검출기 (220)의 출력은 영(zero)로 갈 것이고, 계수기(230)은 사건(event) 1을 기록할 것이다. 예를 들면, 만약 발진기(100)가 f(q,<n>)에서 제어상태로부터 빠지면, 계수기(230)은 사건 2를 기록할 것이다. 제어는 검출기(220)의 출력이 영 (zero)이 되면 다시 설정될 수 없을 것이다.
주파수제어의 일시적 상실이 모드 q에서 모드 q-w로의 변화를 이끈다는 것을 가정하자. 이러한 경우에, 평균 굴절율<n>은 다음과 같이 표현된다.
Figure 112002001573732-pct00012
공백의 공초점 공진기에서, f(q-w)는 다음과 표현될 수 있다는 것은 주지되어있다.
Figure 112002001573732-pct00013
결과적으로,
Figure 112002001573732-pct00014
<n>을 결정하기 위해 필요한 모든 정보가 알려졌기 때문에, 본 발명의 시스템(그리고 방법)은 제어전압을 발생하기 위해, 그럼으로써, 플라즈마 발생기(240)(제어전압신호의 형태를 사용하거나 사용하지 않고)의 제어에 사용될 수 있다. 도 6의 실시예에서 나타난 바와 같이, 플라즈마발생기(240)는 제 2 마이크로파 주파수 판별기(110′)를 사용하여 제어된다. 이러한 제 2 마이크로파 주파수 판별기(110′)는 발진기(100)의 주파수와, 아래 식에 의해 주어지는 우너하는 고정된 발진기주파수에 컴퓨터를 사용하여 설정된 플라즈마발생기 참조공진기(245)(예를 들면, 주파수측정기)의 공진주파수를 비교한다.
Figure 112002001573732-pct00015
여기서, <nd>는 공정에서의 평균굴절율이다. 발진기(100)가 전 공정중에 동일한 공진모드에 고정어 유지되는 동작의 바람직한 실시예에서, w=0이다. 그러나, 보편성을 위해, 발진기(100)의 주파수는 처음에 모드 q의 주파수에 고정되고, 이어서 모드 q-w의 주파수에 고정된다는 것이 가정된다. 상기에서 논의한 대로, w는 알려진 것으로 가정된다.
제 2 마이크로파 주파수 판별기(110′)는 플라즈마 발생제어판별기로서 작동하고, 도 4에 나타난 것과 비슷한 특성을 가지는 출력을 가진다. 제 2 마이크로파 주파수 판별기(110′)는 f(q-w,<n>) < fosc′에 대하여 양의 전압을 가지고, f(q-w,<n>) > fosc′에서 음의 전압을 가지며, f(q-w,<n>) = fosc′에서 영의 전압을 가지도록 선정될 수 있다.
본 발명에 의해서, 시스템은 다음과 같이 제어될 수 있다:
1. 플라즈마 발생기(240)의 전력을 공급하지 않고, 마이크로파 주파수 판별기(110), 증폭기 (115) 및 플라즈마 발생기(240)를 조절하여, 발진기(100)가 개방형공진기의 편리한 모드로 고정되도록 한다.
2. <n>의 원하는 값, <nd>에 대응하는 발진기(100)의 주파수를 계산한다.
3. 플라즈마발생기 제어회로(102′)를 풀어놓고, 플라즈마발생기 참조공진기 (245)를 상기 2단계에서 계산된 주파수로 설정한다.
4. (1) 컴퓨터(250), (2) 제어회로소자들 및 플라즈마발생기(240)을 활성화 시킨다.
5. 전 제어시스템이 적절히 동작하는 것을 보증하기 위해 플라즈마발생기 제어 증폭기(115′)의 출력전압을 감시한다.
도 7에 나타난 본 발명의 다른 실시예에서, 도 6의 실시예의 한 부분은 디지털신호처리기(이하 DSP, 290)와 예비회로에 의해 대치된다. 특히, (1) 컴퓨터, (2) 제어회로(102′) 및 (3) 플라즈마발생기 참조공진기(245)가 (1) DSP(290), (2) 최소한 하나의 아날로그/디지털 변환기(이하 A/D변환기)(예를 들면, 270A) 및 (3) 두 개의 디지털/아날로그 변환기(이하 D/A변환기)들(280A, 280B)로 대치된다. DSP (290)은 세 개의 입력: (1) 원하는 플라즈마밀도에 대응하며, 데이터입력장치(275) 를 통해(예를 들면, 키보드 또는 A/D 변환기(270B)를 통해 전위차계를 거쳐) 입력 되는 발진기주파수에 대한 발진기제어전압 (2) A/D 변환기(270A)에 의해 변환된 제어회로(102)의 디지털등가전압 및 (3) 개방형공진기(170)의 출력라인에 연결되는 검출기(220)에 의해 공급되는 계수기(230)의 출력에 대응한다.
만약, 개방형공진기(170)에서의 전자기장이 발진기주파수의 제어의 상실로 인하여 붕괴되면, 개방형공진기(170)의 출력라인에서의 검출기(220)의 출력은 영으로 떨어질 것이고, 계수기(230)는 사건(event)을 기록할 것이다. 고정(lock)의 풀림은 DSP (290)에 아래에 설명될 고정을 재설치하기 위한 알고리즘을 기동하도록 알리고, 장비의 오동작의 가능성과 고정의 풀림을 설비관리자에게 경고하는데 사용될 수 있다. 검출기 (220)로부터 영(zero)출력은 발진기주파수가 개방형공진기 (170)의 공진주파수에 고정되지 않는 것을 의미한다는 것을 유념해야한다.
DSP(290)의 하나의 출력은 D/A 변환기(280A)에 의해 그후 발진기(100)의 제어전압으로 사용되는 아날로그신호로 변환된다. DSP(290)의 두 번째 출력은 제 2의 D/A 변환기(280B)에 의해 플라즈마발생기(240)을 제어하기 위해 사용되는 아날로그신호로 변환된다.
플라즈마발생기 제어전압의 변화는 플라즈마밀도가 변하도록 하며, 이어서 마이크로파 주파수 판별기(110), 증폭기(115) 및 A/D 변환기(270A)의 출력이 변하도록 한다. DSP(29)은 D/A 변환기(280A)를 경유하여 제어전압을 변화함에 의해 응답하고, 그러므로 발진기 (100)의 주파수도 또한 변한다. 발진제어전압의 갱신된 값은 갱신된 플라즈마밀도의 척도이다. DSP(290)은 발진기(100)의 제어단자에 공급되는 전압의 등가 디지털값과 입력장치(275)를 경유하여 입력되는 데이터를 비교하고, 적절한 제어신호를 D/A변환기 (280B)를 통하여 플라즈마발생기(240)에 보낸다. 고정된 발진기(100)의 출력은 그때 플라즈마 챔버에 인가된다.
시스템의 샘플링주기는 비고정조건이 DSP(290)에 의해 인지되어질 것이라는 것을 보증하기 위해 선택된다. DSP(290)은 그때 발진기 주파수와 개방형공진기 공진주파수 사이에서 고정을 재설정하기 위한 다양한 알고리즘을 사용할 수 있다. 그러한 알고리즘의 첫 번째는 무선주파수(RF)전력, 가스압, 가스유속, 챔버온도 및 플라즈마 광학기호와 같은 하나 이상의 측정된 매개변수에 기초하여 기대되는 플라즈마밀도를 계산한다. DSP(290)은 그리고 나서 계산된 주파수한계내의 식별자 영 (zero)을 찾는다. 그러한 알고리즘의 두 번째는 플라즈마밀도를 결정하기 위한 모드간 거리를 측정하고 나서, 결정된 밀도에서 식별자 영(zero)의 수색을 행한다.
도 8은 플라즈마발생기(240)을 제어하기 위한 도 6에 나타난 컴퓨터(250)의 한 실시예의 도식적인 도면이다. 컴퓨터(250)은 중앙처리장치(CPU, 406), 메모리 (408)(예를 들면, DRAM, ROM, EPROM, EEPROM, SRAM, SDRAM 과 플래쉬 RAM) 및 다른 선택적인 특정목적의 논리소자(예를 들면, ASICs) 또는 구성논리소자(예를 들면, GAL 과 재 프로그램밍이 가능한 FPGA)를 수용하는 마더보드(404)를 수용하는 컴퓨터 수납체(402)를 포함한다. 컴퓨터(250)는 또한 복수의 입력소자(예를 들면, 키보드(422) 와 마우스(424))와 모니터(420)을 제어하기 위한 디스플레이카드(410)를 포함한다. 더하여, 컴퓨터 시스템 (250)은 더욱 플로피디스크 드라이브(414); 다른 제거가능한 매체장치(예를 들면, 컴팩트디스크(419), 테잎, 및 제거 가능한 광자기매체(도시되지 않음)); 및 하드디스크 (412) 또는 또 다른 고정된 적절한 장치 버스(예를 들면, SCSI 버스, 개량된 IDE 버스, 초고(ultra)DMA버스)를 사용하여 연결된 고밀도 매체드라이브를 포함한다. 또한, 같은 장치버스나 다른 장치버스에 연결된 컴퓨터(250)는 추가적으로 컴팩트디스크 판독기 (418)와 컴팩트디스크 입/출력장치(도시되지 않음) 또는 컴팩트디스크 자동전축 (Jukebox)(도시되지 않음)을 포함할 수 있다. 비록 컴팩트디스크(419)가 CD 상자 (Caddy)에 나타나 있지 않을 지라도, 컴팩트디스크(419)는 직접 상자(Caddy)가 필요하지 않은 CD-ROM 드라이브에 삽입될 수 있다. 더하여, 프린터(도시되지 않음)도 또한 발진기(100)의 주파수와 개방형 공진기(170)가 얼마나 잘 일치하는가의 인쇄된 리스트를 제공한다.
상기에서 언급한 바대로, 시스템은 최소한 하나의 컴퓨터 판독가능한 매체를 포함한다. 컴퓨터 판독가능한 매체의 예들은 컴팩트디스크(419), 하드디스크(412), 플로피디스크, 테잎, 광자기디스크, PROMs(EPROM, EEPROM, 플래쉬 EPROM), DRAM, SRAM, SDRAM 등이다. 컴퓨터 판독가능한 매체의 어느 하나 또는 조합에 저장되어, 본 발명은 컴퓨터(250)의 하드웨어 양자간을 제어하고, 컴퓨터(250)가 사용자와 상 호작용하는 것이 가능한 소프트웨어를 포함한다. 그러한 소프트웨어는 개발도구와 같은 운영체계와 사용자 응용프로그램, 장치드라이버등을 포함 할 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. 그러한 컴퓨터 판독가능한 매체는 플라즈마발생기(240)을 제어하기 위한 본 발명의 컴퓨터 프로그램 제품을 더욱 포함한다. 본 발명의 컴퓨터 부호 (code)장치는 판독기, 동적연결라이브러리, 자바유형(Java class) 및 완전히 실행가능한 프로그램을 포함하나 이에 한정되지 않는, 여하의 해석가능하고 실행가능한 부호화체계일 수 있다. 더욱이, 분리된 DSP(290)으로서 앞에서 설명한, 컴퓨터 (250)은 실제적으로 DSP를 상기에서 설명된 기능들을 수행하기 위해 프로그램되어진 것으로 대치할 수 있다. 컴퓨터(250)은 추가적으로 발명의 기술적사상을 넘어서지 않고 한 번에 하나이상의 공정을 제어할 수 있다.
분명하게, 본 발명의 수많은 수정과 변화가 상기 시사된 범주에서 가능하다. 그러므로 첨부되는 청구항들의 범주내에서, 발명은 여기서 특별히 언급한 것 이외의 다른 방법으로 실행될 수있다는 것이 이해되어야 한다.

Claims (11)

  1. 공진주파수에서 공진하는 개방형 공진기와;
    변화하는 주파수를 가지는 출력을 가진 발진기와;
    공진주파수와 변화하는 주파수 사이의 차이를 측정하기 위한 마이크로파 주파수 판별기를 포함하고, 변화하는 주파수를 실질적으로 공진주파수와 일치시키기 위해 보정신호를 발진기에 인가하는 제어회로로 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마발생기를 제어하기 위한 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 마이크로파 주파수 판별기는 1010cm-3에서 1012cm-3의 범위의 플라즈마 밀도를 측정하기 위한 마이크로파 주파수 판별기로 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마발생기를 제어하기 위한 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서, 마이크로파 주파수 판별기는 1010cm-3에서 1012cm-3의 범위의 전자밀도를 측정하기 위한 마이크로파 주파수 판별기로 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마발생기를 제어하기 위한 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서, 개방형공진기가 플라즈마에 주입된 것을 특징으로 하는 플라즈마발생기를 제어하기 위한 시스템.
  5. 제 1 항에 있어서, 개방형공진기는 입력과 출력 마이크로파 접속을 받아들이기 위한 반사기를 더욱 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마발생기를 제어하기 위한 시스템.
  6. 제 1 항에 있어서, 제어회로는:
    마이크로파 주파수 판별기에 접속되고, 보정신호를 출력하는 증폭기를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마발생기를 제어하기 위한 시스템.
  7. 제 1 항에 있어서, 제어회로는 플라즈마 발생기 참조 공진기를 더 포함하여 구성되며;
    상기 마이크로파 주파수 판별기는 보정된 신호를 발생하기 위해 플라즈마발생기 참조공진기의 공진주파수를 상기 공진기의 변화하는 주파수와 비교하는 것을 특징으로 하는 플라즈마발생기를 제어하기 위한 시스템.
  8. 제 7 항에 있어서, 제어회로는 플라즈마 발생기에 제어신호를 인가하기 전에 보정신호를 처리하기 위한 컴퓨터를 더욱 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마발생기를 제어하기 위한 시스템.
  9. 제 7 항에 있어서, 제어회로는 플라즈마 발생기를 제어하기 위해 입력데이터와 마이크로파 주파수 판별기의 출력을 비교하기 위한 디지털 신호처리기를 더욱 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마발생기를 제어하기 위한 시스템.
  10. 제 1 항에 있어서, 개방형공진기는 입력 및 출력 마이크로파 접속의 복수의 독립적 제어가능한 집합체를 받아들이기 위한 복수의 반사기들의 집합체를 더욱 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마발생기를 제어하기 위한 시스템.
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