JP4581918B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1に係るプラズマ処理装置を示す概略断面図であり、図2は図1の要部Aを拡大して示す断面図である。
102 インナチャンバ
103 誘電体
104 支柱
105 第3電極
106a 第1電極
106b 第2電極
107 ガス導入口
108 ガス供給装置
109 調圧弁
110 排気口
111 排気機構
112a マッチング回路
112b マッチング回路
113a 第1電極用高周波電源
113b 第2電極用高周波電源
114 第3電極用高周波電源
115 集光装置
116 終点検出器
117 電極カバー
118 接地点
W 半導体ウエハ
Claims (4)
- 真空処理室内に被処理体を載置する下部電極を備え、前記真空処理室内にガスを給排気する手段と、前記下部電極と対向して誘電体が設けられ、前記誘電体上に第1電極を具備したプラズマ処理装置であって、前記誘電体の直上、かつ、前記誘電体と前記第1電極との間に第2電極を配置すると共に前記誘電体の側面にプラズマの発光を検出するための集光装置を有し、前記集光装置は、前記第1電極及び前記第2電極を覆う電極カバーの外壁面のうち、前記誘電体と前記集光装置との間の前記電極カバーに形成された穴を覆うように取り付けられ、受光素子を不透過性の樹脂で構成される部材と前記電極カバーとで囲うように構成されることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 前記第1電極は、13.56MHz〜100MHzの周波数の高周波電源に接続されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記誘電体は、石英若しくはサファイアで構成されることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第2電極は高周波電源と整合器もしくは前記第2電極はアースとの間に1個以上のコンデンサと1個以上のコイルで構成される整合器を具備することを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
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