KR100270000B1 - 승압펄스 발생회로 - Google Patents
승압펄스 발생회로 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100270000B1 KR100270000B1 KR1019960064181A KR19960064181A KR100270000B1 KR 100270000 B1 KR100270000 B1 KR 100270000B1 KR 1019960064181 A KR1019960064181 A KR 1019960064181A KR 19960064181 A KR19960064181 A KR 19960064181A KR 100270000 B1 KR100270000 B1 KR 100270000B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mos transistor
- node
- potential
- circuit
- channel mos
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F1/00—Automatic systems in which deviations of an electric quantity from one or more predetermined values are detected at the output of the system and fed back to a device within the system to restore the detected quantity to its predetermined value or values, i.e. retroactive systems
- G05F1/10—Regulating voltage or current
- G05F1/46—Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc
- G05F1/462—Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc as a function of the requirements of the load, e.g. delay, temperature, specific voltage/current characteristic
- G05F1/465—Internal voltage generators for integrated circuits, e.g. step down generators
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F3/00—Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
- G05F3/02—Regulating voltage or current
- G05F3/08—Regulating voltage or current wherein the variable is dc
- G05F3/10—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
- G05F3/16—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
- G05F3/20—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
- G05F3/24—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only
- G05F3/242—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only with compensation for device parameters, e.g. channel width modulation, threshold voltage, processing, or external variations, e.g. temperature, loading, supply voltage
- G05F3/247—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations wherein the transistors are of the field-effect type only with compensation for device parameters, e.g. channel width modulation, threshold voltage, processing, or external variations, e.g. temperature, loading, supply voltage producing a voltage or current as a predetermined function of the supply voltage
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/14—Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
- G11C5/145—Applications of charge pumps; Boosted voltage circuits; Clamp circuits therefor
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/14—Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
- G11C5/145—Applications of charge pumps; Boosted voltage circuits; Clamp circuits therefor
- G11C5/146—Substrate bias generators
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H11/00—Networks using active elements
- H03H11/02—Multiple-port networks
- H03H11/24—Frequency-independent attenuators
- H03H11/245—Frequency-independent attenuators using field-effect transistor
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
- H03K17/06—Modifications for ensuring a fully conducting state
- H03K17/063—Modifications for ensuring a fully conducting state in field-effect transistor switches
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Dram (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
- Dc-Dc Converters (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Control Of Electrical Variables (AREA)
Abstract
승압 펄스 발생 회로는 제 1 전위 노드와 제 2 전위 노드 사이에 접속되고 입력 신호를 받는 제 1 인버터 회로와, 상기 제 1 전위 노드와 상기 제 2 전위 노드 사이에 다이오드 접속된 MOS 트랜지스터를 거쳐서 접속되고 입력 단자 및 출력 단자에 접속하는 제 2 인버터 회로와, 상기 제 1 인버터 회로의 출력 단자와 상기 다이오드와 상기 제 2 인버터 회로의 접속 노드 사이에 접속된 캐패시터를 포함하며, 상기 MOS 트랜지스터의 백 게이트가 그의 게이트에 접속되는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 반도체 집적 회로에 관한 것으로, 특히 다이오드 접속된 MOS트랜지스터의 문턱값 전압을 이용해서 승압 펄스 발생 회로를 설계하는 반도체 집적 회로에 관한 것이다.
현재, 노트북형 퍼스널컴퓨터, 셀식 무선전화, 휴대전화 등의 휴대기기가 널리 급속하게 보급됨에 따라서 저소비전력형 반도체 집적 회로의 수요가 증가하고 있다. 저소비전력화의 수단으로서 가장 일반적인 것이 반도체 집적 회로를 저전압 전원으로 동작시키는 방법이다. 반도체 집적 회로를 저전압 전원으로 구동하면, MOS트랜지스터의 문턱값 전압에 의한 전압 강하의 전원 전위에 대한 비율이 커지고, MOS트랜지스터의 문턱값 전압에 의한 전압 강하를 이용한 전위 조정이 곤란하게 되어 회로 설계에 큰 영향을 미치게 되었다.
제7도는 예를 들면, 일본국 실용신안 공보 소 61-166627에 기술된 종래의 승압 펄스 발생 회로의 회로도이다.
제7도에 있어서, 기준 전위 노드(1)는 접지 전위VSS에 접속되고, 기준 전위 노드(3)는 전원 전위VCC에 접속된다. 출력 노드(8)는 승압 펄스OUT를 발생하는 단자이고, 입력 노드(14)는 제8a도에 도시한 바와 같이, 고레벨에서 저레벨로 변화하는 입력 신호를 받는 단자이다. 전원 전위 노드(3)와 접지 전위 노드(1) 사이에는, P채널 MOS트랜지스터(17)와 N채널 MOS트랜지스터(18)를 포함하는 인버터회로(2)가 접속된다. 인버터(2)의 입력 단자(13)는 입력 노드(14)에 접속되고, 인버터(2)의 출력 단자(4)는 캐패시터(6)를 거쳐서 노드(7)에 접속된다. 전원 전위 노드(3)와 노드(7) 사이에는 다이오드가 접속되고, 노드(7)와 접지 전위 노드(1) 사이에는 P채널 MOS트랜지스터(19)와 N채널 MOS트랜지스터(20)를 포함하는 다른 인버터회로 (16)가 접속된다. 인버터(16)의 입력 단자는 입력 노드(14)에 접속되고, 인버터 (16)의 출력 단자는 출력 노드(8)에 접속된다.
제7도에 도시한 종래의 승압 펄스 발생 회로의 동작을 제8도의 타이밍도를 참조로 하여 설명한다. 입력 신호IN가 고레벨이면, P MOS 트랜지스터(17)는 오프상태로 되고 NMOS 트랜지스터(18)는 온상태로 되어 인버터(2)의 출력이 저레벨로 된다. 마찬가지로, P MOS 트랜지스터(19)가 오프상태로 되고 N MOS 트랜지스터(20)가 온상태로 되므로, 인버터(16)의 출력은 저레벨로 유지된다. 이때, 캐패시터(6)는 다이오드(5)와 트랜지스터(18)를 거쳐서 전원 전위Vcc로부터 충전되므로, 노드(4)는 전위는 0으로 되고 노드(7)의 전위V7은 다음 식, 즉 V7 = Vcc - Vf = Vcc - 0.7과 같이 된다.
다음에, 입력 신호IN이 고레벨에서 저레벨로 변화하면, 트랜지스터(17)는 온상태로 되고, 트랜지스터(18)는 오프상태로 되어 노드(4)의 전압이 Vcc로 상승한다. 그 결과, 노드(7)의 전위V7은 다음식, 즉 V7 = Vcc - Vf + Vcc = 2Vcc - Vf와 같이 상승한다. 이때, 입력신호IN의 변화로 인해, 트랜지스터(19)는 온상태로 되고 트랜지스터(20)는 오프상태로 되어 노드(7)의 전압이 출력 단자(8)로 전달된다. 따라서, 노드(8)의 전위V8은 다음식, 즉 V8 = V7 = 2Vcc - Vf로 나타내진다.
일반적으로, 이와같은 동작을 수행하는 회로를 승압 펄스 발생 회로라 한다. 그러나, 1.5 내지 2.0V등의 저전압 전원을 사용하면, MOS 트랜지스터의 문턱값 전압 |Vth|은 통상 0.7V등의 값을 가지므로, 전원 전압에 있어서 MOS트랜지스터의 전압 강하가 차지하는 비율이 커져서 효율이 떨어지게 된다.
그러므로, 상술한 종래의 승압 펄스 발생 회로에 있어서는, 특히 저전압 전압에 의한 동작에 있어서는 전원 전압 Vcc에 대한 MOS트랜지스터의 문턱값 전압 |Vth|의 비율이 크기 때문에 승압 펄스 발생 회로의 효율이 매우 불충분하다는 문제점이 있었다.
본 발명 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 이루어진 것으로서, 특히 저전압 전원에 의한 동작에 있어서 전원 전압에 대해서 효율 좋은 승압 펄스 발생 회로를 제공하는 것이다.
또, 본 발명의 다른 목적은 신속하게 소정의 전위를 발생할 수 있는 승압 펄스 발생 회로를 제공하는 것이다.
또, 본 발명의 또 다른 목적은 구동되는 회로에 있어서 동작 마진을 증가시킬 수 있는 승압 펄스 발생 회로를 제공하는 것이다.
제1도는 본 발명이 적용되는 DRAM의 블럭도.
제2도는 본 발명에 있어서의 MOS트랜지스터의 문턱값 전압의 백게이트-소오스간 전압에 대한 특성을 도시한 그래프.
제3도는 본 발명의 실시예에 따른 승압 펄스 발생 회로의 회로도.
제4도는 본 발명에 따른 VBB발생 회로의 동작을 도시한 타이밍도.
제5도는 본 발명에 따른 승압 펄스 발생 회로의 다른 예를 도시한 회로도.
제6도는 본 발명에 따른 승압 펄스 발생 회로의 동작을 도시한 타이밍도.
제7도는 종래의 승압 펄스 발생 회로의 회로도.
제8도는 종래의 승압 펄스 발생 회로의 동작을 도시한 타이밍도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
100 : DRAM 140 : 행디코더
150 : 행디코더 160 : 워드드라이버
210 : POR회로
본 발명의 전반적인 특징에 따르면, 승압 펄스 발생 회로는 제 1 전위 노드와 제 2 전위 노드 사이에 접속되고 입력 신호를 받는 제 1 인버터 회로와ㅣ, 상기 제 1 전위 노드와 상기 제 2 전위 노드 사이에 다이오드 접속된 MOS 트랜지스터를 거쳐서 접속되고 입력 단자 및 출력 단자에 접속하는 제 2 인버터 회로와, 상기 제 1 인버터 회로의 출력 단자와 상기 다이오드와 상기 제 2 인버터 회로의 접속 노드 사이에 접속된 캐패시터를 포함하며, 상기 MOS 트랜지스터의 백 게이트가 그의 게이트에 접속되는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조로 설명한다.
제1도는 본 발명이 적용되는 DRAM(Dynamic Random Access Memory)(100)의 블럭도를 도시한 도면으로서, 제1도에 있어서 DRAM(100)은 내부전위 발생 회로군 (200), POR(파워온 리세트(Power On Reset))회로(210), 여러개의 행렬형상으로 배치된 여러개의 메모리 셀로 구성된 메모리 셀 어레이(101)를 포함한다. (110)은 외부에서 인가되는 외부 /RAS신호를 받고 어드레스 버퍼(130)에 /RAS신호를 출력하는 /RAS(행 어드레스 스트로브(Row Address Strobe))버퍼, (120)은 외부에서 인가되는 외부 열어드레스 스트로브신호ext /CAS를 받고 어드레스 버퍼(130)에 /CAS신호를 출력하는 /CAS버퍼, (130)은 외부 어드레스신호ext Ai(i=0,1,2, , , )와 /RAS신호를 받고 외부어드레스신호ext Ai(i=0,1,2 , , )와 /CAS신호를 받고 외부어드레스신호ext Ai를 래치하고 내부회로를 위한 열어드레스신호CAi, /CAi를 출력하는 어드레스버퍼이다.
(140)은 어드레스버퍼(130)으로부터의 행어드레스신호RAi, /RAi를 받고 대응하는 워드선을 선택하는 행디코더, (150)은 어드레스버퍼(130)으로부터의 열어드레스신호CAi, /CAi를 받고, 비트선에 리드된 메모리 셀(101)의 전위를 증폭하고 비트선에 리드된 메모리 셀(101)의 데이타를 전송하기 위한 대응하는 센스앰프와 I/O회로(170)를 선택하는 열디코더, (160)은 행디코더(140)에 의해서 선택된 워드선의 전위를 승압하는 워드드라이버, (180)은 외부에서 인가되는 라이트 인에이블신호 ext /WE 및 출력 인에이블신호ext /OE를 받고 내부회로의 리드 및 라이트제어를 실행하는 신호 WO를 출력하는 라이트리드 제어 회로, (190)은 라이트리드 제어 회로(180)에서 출력되는 신호 WO를 받고, 라이트의 경우에는 외부에서 인가되는 데이타 ext Din을 데이타선을 거쳐서 센스앰프와 I/O회로(170)으로 전달하고, 리드의 경우에는 메모리 셀로부터의 리드 데이타를 센스앰프와 I/O회로(170) 및 데이타선을 통해서 입출력핀에 데이타 ext Dout로서 출력하는 입출력버퍼이다.
제3도는 본 발명의 바람직한 실시예를 도시하는 승압 펄스 발생 회로(194)의 개략도이고, 제4도는 그의 동작 타이밍도이다. 제3도에 있어서, 승압 펄스 발생 회로가 제7도에 도시한 종래의 것과 다른 점은 다이오드가 다이오드 접속된 MOS트랜지스터(15)(백 게이트가 그의 게이트에 접속되어 있음)로 대체되어 있는 점이다. 이 MOS트랜지스터는 N채널 MOS트랜지스터나 P채널 MOS트랜지스터일 수도 있다.
여기에서, 백게이트와 자신의 게이트가 접속된 MOS트랜지스터의 문턱값 전압에 대해서 제2도를 사용해서 설명한다. 제2도는 MOS트랜지스터의 문턱값 전압Vth의, MOS트랜지스터의 백게이트와 소오스 사이의 전위차 VBS에 대한 변화를 개략적으로 나타낸 그래프로서, 전위차는 다음의 식(1)에 의해 주어진다.
식(1)에 있어서 VBS는 백게이트전압(소오스전압을 기준으로 한다), K는 기판효과정수, ψF는 기판표면의 전위, VO는 VBS=0V일 때의 문턱값 전압이다.
제2도의 그래프에 있어서 (d)는 MOS트랜지스터의 백게이트와 소오스 사이의 전위차VBS와 MOS트랜지스터의 문턱값 전압Vth가 동일하게 되는 포인트를 도시한 것이다. 제2도에 명확한 바와 같이 VBS=Vth로 하는 것에 의해 종래의 VBS=-1.5V인 경우의 MOS트랜지스터의 문턱값 전압 0.7V가 0.25V로, 또 VBS=0V인 경우의 MOS트랜지스터의 문턱값 전압 0.35V에 비해서도 0.1V 작게하는 것이 가능하게 되는데, 그 이유는 VBS가 Vth와 동일하게 되기 때문이다. VBS=Vth로 하기 위해서는 MOS트랜지스터에 있어서 백게이트와 게이트를 접속하면 좋다. 이후, 이 때의 백게이트와 게이트가 접속되었을 때의 MOS트랜지스터의 문턱값 전압의 절대값을 |VthO|, 종래의 VBSO=-1.5V 인 경우를 |Vth|로 하여 구별한다.
이하, 제3도에 도시한 승압 펄스 발생 회로의 동작에 대해서 제4도의 타이밍도를 참조로 하여 설명한다. 제4도에 있어서는 (a)는 입력 신호IN의 전위의 변화를, (b)는 노드(7)의 전위의 변화를, (c)는 제3도에 도시한 승압 펄스 발생 회로에 있어서의 출력 노드(8)의 승압 출력OUT의 변화를 나타낸다.
우선, 입력 신호IN이 Vss 레벨에서 Vcc레벨로 상승하면, 인버터회로(2), (16)의 동작은 종래와 동일하지만, 문턱 전압값의 차이 때문에, 노드(7) 및 출력 노드(8)의 전위는 각각 종래와는 다르게 되어, 전압 진폭이 큰 승압 펄스가 발생하게 된다.
제5도에는 승압 펄스 발생 회로를 내장한 제1도의 입출력 버퍼(190)의 회로를 상세히 도시한 것이다. 제6도는 입출력 버퍼(190)의 회로의 동작을 도시한 타이밍도이다. 제5도에서, 이 입출력버퍼(190)는 메모리 셀 어레이(101)의 메모리 셀로부터 리드되어 입력 노드(190c)에 인가되는 리드 데이타에 응답하여 출력데이타를 데이타 입출력 노드N4로 출력하는 출력버퍼(196)와, 데이타 입출력 노드N4에 입력된 입력데이타에 응답하여 메모리 셀 어레이(101)의 메모리 셀에 기록될 라이트데이타를 노드(190c)에 인가하는 입력버퍼(197)을 갖는다.
그리고, 출력버퍼(196)는 전원 전위 노드(190a)와 데이타 입출력 노드N4 사이에 접속된 N채널 MOS트랜지스터(195n1) 및 데이타 입출력 노드 N4와 접지 전위 노드(190b)사이에 접속된 N채널 MOS트랜지스터(195n2)를 갖고 있다. 출력버퍼(196)는 데이타 출력 제어 회로(191), (192)와 승압 펄스 발생 회로(194)를 더 포함한다. 이 데이타 출력 제어 회로(191)에 있어서, 메모리 어레이의 메모리 셀에서 리드된 리드 데이타 및 라이트/리드 제어 회로(180)로부터의 라이트/리드 제어 신호WO에 따라서 이 라이트/리드 제어 신호WO가 리드를 나타내는 H레벨일 때 리드 데이타가 2진 레벨중의 한쪽의 H레벨이면 N채널 MOS트랜지스터(195n2)를 비도통상태로 하고, 리드 데이타가 2진 레벨중의 다른쪽의 L레벨이면 N채널 MOS트랜지스터 (195n2)를 도통상태로 하며, 한편 라이트/리드 제어 신호WO가 라이트를 나타내는 L레벨일 때에는 리드 데이타에 관계없이 N채널 MOS트랜지스터(195n2)를 비도통상태로 한다. 그리고, 이 데이타 출력회로(191)는 논리회로(191a)를 포함한다.
또, 데이타 출력 제어 회로(192)에 있어서는, 메모리 셀 어레이의 메모리 셀에서 리드된 리드 데이타 및 라이트/리드 제어 회로(180)로부터의 라이트/리드 제어 신호WO에 따라서 이 라이트/리드 제어 신호WO가 리드를 나타내는 H레벨일 때, 리드 데이타가 2진 레벨중의 한쪽의 L레벨이면 N채널 MOS트랜지스터(195n2)를 비도통상태로 하도록 노드N1로 데이타 출력 제어 신호를 출력하고, 리드 데이타가 2진 레벨중의 다른쪽의 H레벨이면 N채널 MOS트랜지스터(195n2)를 도통상태로 하도록 노드N1로 데이타 출력 제어 신호를 출력하고, 한편 라이트/리드 제어 신호WO가 라이트를 나타내는 L레벨일 때에는 리드 데이타에 관계없이 N채널 MOS트랜지스터 (195n2)를 비도통상태로 하도록 노드N1로 데이타 출력제어 신호를 출력한다. 그리고, 이 데이타 출력 제어 회로(192)는 라이트/리드 제어 신호WO 및 리드 데이타에 따라서 노드N1로 데이타 출력 제어 신호를 출력하는 논리회로(192a)를 포함하고 있다.
또, 승압 신호 발생 회로(194)는 데이타 출력 제어 회로(192)로부터의 데이타 출력제어 신호를 받고, 이 데이타 출력 제어 신호가 N채널 MOS트랜지스터 (195n1)를 도통상태로 하도록 지시하면 N채널 MOS트랜지스터(195n1)의 게이트전위를 이 N채널 MOS트랜지스터(195n1)가 접속되어 있는 전원 전위 노드(190a)에 인가되는 전원 전위Vcc보다 높은 전위로 해서 이 N채널 MOS트랜지스터(195n1)를 도통시키고, 데이타 출력 제어 신호가 N채널 MOS트랜지스터(195n1)를 비도통상태로 하도록 지시하면 N채널 MOS트랜지스터(195n1)의 게이트전위를 접지 전위Vss로 해서 이 N채널 MOS트랜지스터(195n1)을 비도통상태로 한다.
그리고, 승압신호 발생 회로(194)는 데이타 출력 제어 회로(192)에서 출력된 데이타 출력 제어 신호를 반전시키는 인버터(192ba) 및 지연회로(192bb)를 포함하는 반전 회로(192b), 전원 전위 노드(190a)와 승압노드(194q) 사이에 전원 전위 노드(190a)에서 승압노드(194q)를 향해서 순방향으로 되도록 다이오드 접속되고 게이트와 백게이트가 접속되는 N채널 MOS트랜지스터(194n2), 한쪽의 전극이 승압노드 (194q)에 접속되고 데이타 출력 제어 회로(192)에서 출력된 데이타 출력 제어 신호가 N채널 MOS트랜지스터(195n1)을 도통상태로 하도록 지시하면 반전 회로(192b)에서 노드N2로 출력되는 데이타 출력 제어 신호의 반전 또한 지연신호가 승압노드 (194q)의 전위를 용량 결합에 의해 승압하는 승압캐패시터(194c), 승압노드(194q)와 N채널 MOS트랜지스터(195n1)의 게이트 사이에 접속되고 데이타 출력 제어 회로(192)에서 노드N1로 출력되는 데이타 출력 제어 신호가 N채널 MOS트랜지스터 (195n1)를 도통상태로 하도록 지시하면 개방회로(open-circuited)상태로 되고 비도통상태로 하도록 지시하면 비도통상태로 되는 P채널 MOS트랜지스터(194p1) 및 N채널 MOS트랜지스터(195n1)의 게이트와 접지 전위 노드(190b) 사이에 접속되고 데이타 출력 제어 회로(192)에서 노드N1로 출력되는 데이타 출력 제어 신호가 N채널 MOS트랜지스터(195n1)를 도통상태로 하도록 지시하면 폐회로(closed-circuited)상태로 되고 비도통상태로 하도록 지시하면 도통상태로 되는 N채널 MOS트랜지스터 (194n1)를 포함하고 있다.
다음에, 제5도에 도시된 승압 펄스 발생 회로의 동작에 대해서 제6도의 타이밍도에 따라서 설명한다. 제6도에 있어서 (a)는 입력 노드(190c)에 나타나는 리드 데이타가 H레벨일 때의 전위N190c의 변화, (b)는 라이트/리드 제어 신호WO의 전위 변화, (c)는 데이타 출력회로(191)의 출력 노드N1의 전위 변화, (d)는 승압 펄스 발생 회로(194)의 출력 노드N3의 전위 변화, (e)는 승압노드(194q)의 전위 N194q의 변화, (f)는 데이타 입출력 노드N4의 전위 변화를 도시한 것이다.
승압 펄스 발생 회로는 노드N4에서의 리드 데이타가 2진 레벨중의 한쪽의 H레벨일 때에만 그 효과를 발휘한다. 메모리 셀 어레이(101)에 있어서의 메모리 셀에서 리드된 리드 데이타가 제6도의 (a)에 도시한 바와 같이 2진 레벨중의 한쪽의 H레벨로 되고, 제6도의 (b)에 도시한 바와 같이 라이트/리드 제어 회로(180)로부터의 라이트/리드 제어 신호WO가 리드를 나타내는 H레벨로 되면, 데이타 출력 제어 회로(192)에서 노드N1의 전위가 H레벨에서 L레벨로 된다. 이것에 의해, N채널 MOS트랜지스터(195n1)의 게이트의 노드인 N3의 전위가 그 때의 노드(194q)의 전위 레벨 즉 Vcc-|VthO|으로 상승한다.
이것에 의해서, N채널 MOS트랜지스터(195n1)이 도통해서 제6도의 (f)에 도시한 바와 같이 노드N4의 레벨이 하이 임피던스 상태에서 H레벨로 되려고 하는 그의 전위 레벨은 노드N3의 전위 레벨이 Vcc-|VthO|이므로 Vcc-|VthO|-|Vth|까지가 한계로 된다. 그 후, 노드N1의 전위 변화가 반전 회로(192b)에 의해 반전, 지연되어 노드N3에 전달되면 캐패시터(194c)의 용량 결합에 의해 제6도의 (e)에 도시한 바와 같이 노드194q의 전위가 미리 충전된 전위Vcc-|Vth|에서 더욱 승압된다. 이 승압된 전위가 P채널 MOS트랜지스터(194p1)를 거쳐서 제6도의 (d)에 도시한 바와 같이 노드N3로 전달되고, 노드N3의 전위가 상승하면 그것에 따라서 제6도의 (f)에 도시된 바와 같이 출력 노드N4의 전위가 Vcc까지 상승한다. 또, 승압 펄스 발생 회로(194)가 마련되어 있지 않은 경우에는 제6도의 (f)의 점선으로 도시된 바와 같이 Vcc-|VthO|-|Vth|의 전위까지밖에 상승하지 않는다.
이상과 같이 구성된 승압 펄스 발생 회로에서는 전원 전압에 대해서 효율 좋은 승압을 실행할 수 있게 된다. 또, 상기 승압 펄스 발생 회로의 N채널 MOS트랜지스터로 구성할 수도 있다.
본 발명에 의하면, 특지 저전압 전원에 의한 동작에 있어서 전원 전압에 대해서 효율 좋은 승압 펄스 발생 회로를 제공할 수 있다.
또, 본 발명에 의하면, 신속하게 소정의 전위를 발생하는 승압 펄스 발생 회로를 제공할 수 있다.
또, 본 발명에 의하면 구동되는 회로에 있어서 동작 마진을 증가시킬 수 있는 승압 펄스 발생 회로를 제공할 수 있다.
금번 개시된 실시예는 모든 점에서 예시로서 제한적인 것은 아닌 것으로 고려되어져야 한다. 본 발명의 범위는 특허 청구의 범위에 의해서 도시되고 특허 청구의 범위와 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.
Claims (3)
- 입력 신호를 받는 입력 단자와, 제 1 전위 노드와 제 2 전위 노드 사이에 접속되고 상기 입력 신호를 받는 제 1 인버터 회로와, 상기 제 1 번위 노드와 상기 제 2 전위 노드 사이에 다이오드 접속된 MOS 트랜지스터를 거쳐서 접속되고 상기 입력 단자 및 출력 단자에 접속된 제 2 인버터 회로와, 상기 제 1 인버터 회로의 출력 단자와, 상기 다이오드 접속된 MOS 트랜지스터 및 상기 제 2 인버터 회로의 접속 노드 사이에 접속된 캐패시터를 포함하며, 상기 MOS 트랜지스터의 백 게이트가 그의 게이트에 접속되어 있으며, 상기 MOS 트랜지스터의 백 게이트 및 소스 간의 전압이 상기 MOS 트랜지스터의 문턱값 전압과 동일한 것을 특징으로 하는 승압 펄스 발생 회로.
- 제1항에 있어서, 상기 MOS 트랜지스터는 P 채널 MOS 트랜지스터인 승압 펄스 발생 회로.
- 제1항에 있어서, 상기 MOS 트랜지스터는 N 채널 MOS 트랜지스터인 승압 펄스 발생 회로.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP95-321760 | 1995-12-11 | ||
JP7321760A JPH09162713A (ja) | 1995-12-11 | 1995-12-11 | 半導体集積回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970051173A KR970051173A (ko) | 1997-07-29 |
KR100270000B1 true KR100270000B1 (ko) | 2000-10-16 |
Family
ID=18136144
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960064183A KR100270002B1 (ko) | 1995-12-11 | 1996-12-11 | 중간 전위 발생회로 |
KR1019960064182A KR100270001B1 (ko) | 1995-12-11 | 1996-12-11 | 전위 발생 회로 |
KR1019960064181A KR100270000B1 (ko) | 1995-12-11 | 1996-12-11 | 승압펄스 발생회로 |
KR1019960064180A KR100231951B1 (ko) | 1995-12-11 | 1996-12-11 | 반도체 집적회로 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960064183A KR100270002B1 (ko) | 1995-12-11 | 1996-12-11 | 중간 전위 발생회로 |
KR1019960064182A KR100270001B1 (ko) | 1995-12-11 | 1996-12-11 | 전위 발생 회로 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960064180A KR100231951B1 (ko) | 1995-12-11 | 1996-12-11 | 반도체 집적회로 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US5726941A (ko) |
JP (1) | JPH09162713A (ko) |
KR (4) | KR100270002B1 (ko) |
CN (4) | CN1096118C (ko) |
TW (4) | TW293124B (ko) |
Families Citing this family (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
USRE40552E1 (en) | 1990-04-06 | 2008-10-28 | Mosaid Technologies, Inc. | Dynamic random access memory using imperfect isolating transistors |
JP3378457B2 (ja) * | 1997-02-26 | 2003-02-17 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US6300819B1 (en) * | 1997-06-20 | 2001-10-09 | Intel Corporation | Circuit including forward body bias from supply voltage and ground nodes |
US6593799B2 (en) | 1997-06-20 | 2003-07-15 | Intel Corporation | Circuit including forward body bias from supply voltage and ground nodes |
JP3022815B2 (ja) * | 1997-07-24 | 2000-03-21 | 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 | 中間電位生成回路 |
US5939928A (en) * | 1997-08-19 | 1999-08-17 | Advanced Micro Devices, Inc. | Fast high voltage NMOS pass gate for integrated circuit with high voltage generator |
US5942925A (en) * | 1997-09-30 | 1999-08-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Power-on detection and enabling circuit with very fast detection of power-off |
US5959444A (en) * | 1997-12-12 | 1999-09-28 | Micron Technology, Inc. | MOS transistor circuit and method for biasing a voltage generator |
US6232826B1 (en) * | 1998-01-12 | 2001-05-15 | Intel Corporation | Charge pump avoiding gain degradation due to the body effect |
JP3385960B2 (ja) * | 1998-03-16 | 2003-03-10 | 日本電気株式会社 | 負電圧チャージポンプ回路 |
JP3935266B2 (ja) * | 1998-05-08 | 2007-06-20 | 松下電器産業株式会社 | 電圧検知回路 |
IT1301936B1 (it) * | 1998-08-27 | 2000-07-07 | St Microelectronics Srl | Circuito a pompa di carica per dispositivi integrati di memoria |
JP2000149582A (ja) * | 1998-09-08 | 2000-05-30 | Toshiba Corp | 昇圧回路,電圧発生回路及び半導体メモリ |
US6473852B1 (en) | 1998-10-30 | 2002-10-29 | Fairchild Semiconductor Corporation | Method and circuit for performing automatic power on reset of an integrated circuit |
JP3799869B2 (ja) * | 1999-03-30 | 2006-07-19 | セイコーエプソン株式会社 | 電源回路を搭載した半導体装置並びにそれを用いた液晶装置及び電子機器 |
US6191643B1 (en) * | 1999-03-31 | 2001-02-20 | Sony Corporation | Voltage boost circuitry for hard drive write preamplifiers |
JP4960544B2 (ja) * | 2000-07-06 | 2012-06-27 | エルピーダメモリ株式会社 | 半導体記憶装置及びその制御方法 |
US6636103B2 (en) * | 2001-04-18 | 2003-10-21 | Analog Devices, Inc. | Amplifier system with on-demand power supply boost |
US7049855B2 (en) * | 2001-06-28 | 2006-05-23 | Intel Corporation | Area efficient waveform evaluation and DC offset cancellation circuits |
JP2003168290A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-13 | Fujitsu Ltd | 電源回路及び半導体装置 |
WO2003071373A1 (fr) * | 2002-02-22 | 2003-08-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Circuit generateur de tension |
US6670845B1 (en) * | 2002-07-16 | 2003-12-30 | Silicon Storage Technology, Inc. | High D.C. voltage to low D.C. voltage circuit converter |
US6784722B2 (en) * | 2002-10-09 | 2004-08-31 | Intel Corporation | Wide-range local bias generator for body bias grid |
AU2003292487A1 (en) * | 2003-01-17 | 2004-08-13 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | A charge pump circuit |
DE602004023293D1 (de) * | 2003-06-30 | 2009-11-05 | Nxp Bv | Schutzvorrichtung für integrierte schaltungsanordnung |
KR100691485B1 (ko) * | 2003-07-29 | 2007-03-09 | 주식회사 하이닉스반도체 | 액티브 모드시에 전류소모를 줄일 수 있는 반도체 메모리장치 |
KR100539252B1 (ko) * | 2004-03-08 | 2005-12-27 | 삼성전자주식회사 | 데이터 버스 및 커맨드/어드레스 버스를 통해 전송되는신호의 충실도를 향상시킬 수 있는 메모리 모듈 및 이를포함하는 메모리 시스템 |
WO2006034658A1 (fr) * | 2004-09-30 | 2006-04-06 | Huawei Technologies Co., Ltd. | Procede et systeme de realisation de communication |
US7996590B2 (en) * | 2004-12-30 | 2011-08-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor memory module and semiconductor memory system having termination resistor units |
US8335115B2 (en) * | 2004-12-30 | 2012-12-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor memory module and semiconductor memory system having termination resistor units |
US7621463B2 (en) * | 2005-01-12 | 2009-11-24 | Flodesign, Inc. | Fluid nozzle system using self-propelling toroidal vortices for long-range jet impact |
US7737765B2 (en) * | 2005-03-14 | 2010-06-15 | Silicon Storage Technology, Inc. | Fast start charge pump for voltage regulators |
US7362084B2 (en) | 2005-03-14 | 2008-04-22 | Silicon Storage Technology, Inc. | Fast voltage regulators for charge pumps |
JP4712519B2 (ja) * | 2005-05-27 | 2011-06-29 | フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド | ハイサイド駆動回路用チャージポンプ回路及びドライバ駆動電圧回路 |
JP2007043661A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-02-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 遅延回路 |
JP4800700B2 (ja) * | 2005-08-01 | 2011-10-26 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびそれを用いた半導体集積回路 |
JP4940797B2 (ja) * | 2005-10-03 | 2012-05-30 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US7605618B2 (en) * | 2006-01-12 | 2009-10-20 | Qualcomm, Incorporated | Digital output driver and input buffer using thin-oxide field effect transistors |
WO2008001255A1 (en) * | 2006-06-26 | 2008-01-03 | Nxp B.V. | A constant voltage generating device |
KR100928932B1 (ko) | 2007-08-08 | 2009-11-30 | 엘에스산전 주식회사 | 무선 주파수 식별 태그 칩용 전압 증배기 및 이를 이용한무선 주파수 식별 태그 |
TW200919959A (en) * | 2007-10-31 | 2009-05-01 | Au Optronics Corp | Charge pump system and method of operating the same |
KR100902060B1 (ko) * | 2008-05-08 | 2009-06-15 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 장치의 펌핑 전압 생성 회로 및 방법 |
TWI410185B (zh) * | 2009-01-05 | 2013-09-21 | Himax Tech Ltd | 參考電壓/電流產生系統之佈局 |
CN102148614B (zh) * | 2010-02-10 | 2015-11-11 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 脉冲产生电路及方法、基准电压产生及其推动电路及方法 |
US8947158B2 (en) | 2012-09-03 | 2015-02-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and electronic device |
CN103092245B (zh) * | 2013-01-09 | 2014-08-20 | 卓捷创芯科技(深圳)有限公司 | 一种超低功耗的低压差稳压电源电路与射频识别标签 |
US9385592B2 (en) | 2013-08-21 | 2016-07-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Charge pump circuit and semiconductor device including the same |
KR102267237B1 (ko) | 2014-03-07 | 2021-06-18 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 전자 기기 |
JP2016021638A (ja) * | 2014-07-14 | 2016-02-04 | 株式会社ソシオネクスト | 半導体装置 |
US9312280B2 (en) | 2014-07-25 | 2016-04-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
TWI551044B (zh) * | 2015-05-15 | 2016-09-21 | 華邦電子股份有限公司 | 電源閘電路及其電源閘開關控制方法 |
JP6811084B2 (ja) * | 2015-12-18 | 2021-01-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
CN109427309A (zh) * | 2017-08-22 | 2019-03-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 源极驱动增强电路、源极驱动增强方法、源极驱动电路和显示设备 |
JP7000187B2 (ja) * | 2018-02-08 | 2022-01-19 | エイブリック株式会社 | 基準電圧回路及び半導体装置 |
CN110667334B (zh) * | 2019-10-11 | 2021-03-19 | 广东美的制冷设备有限公司 | 车载空调器及其低功耗待机方法和电路 |
KR102520454B1 (ko) * | 2021-11-25 | 2023-04-11 | 재단법인대구경북과학기술원 | 차동 바이폴라 구조에 기반하는 펄스 부스트 장치 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6316716A (ja) * | 1986-07-09 | 1988-01-23 | Toshiba Corp | 昇圧回路 |
JPH07230348A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Toshiba Corp | 出力回路 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3823332A (en) * | 1970-01-30 | 1974-07-09 | Rca Corp | Mos fet reference voltage supply |
US3805095A (en) * | 1972-12-29 | 1974-04-16 | Ibm | Fet threshold compensating bias circuit |
JPS57157315A (en) * | 1981-03-24 | 1982-09-28 | Nec Corp | Intermediate voltage generating circuit |
US4559548A (en) * | 1981-04-07 | 1985-12-17 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | CMOS Charge pump free of parasitic injection |
US4422163A (en) * | 1981-09-03 | 1983-12-20 | Vend-A-Copy, Inc. | Power down circuit for data protection in a microprocessor-based system |
JPS60103827A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-08 | Fujitsu Ltd | 電圧変換回路 |
JPS60122416A (ja) * | 1984-07-25 | 1985-06-29 | Hitachi Ltd | 基板バイアス電圧発生回路 |
US4698789A (en) * | 1984-11-30 | 1987-10-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | MOS semiconductor device |
JPS61221812A (ja) * | 1985-03-27 | 1986-10-02 | Mitsubishi Electric Corp | 電圧発生回路 |
US4663584B1 (en) * | 1985-06-10 | 1996-05-21 | Toshiba Kk | Intermediate potential generation circuit |
US4788455A (en) * | 1985-08-09 | 1988-11-29 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | CMOS reference voltage generator employing separate reference circuits for each output transistor |
JPH0612797B2 (ja) * | 1985-09-09 | 1994-02-16 | オムロン株式会社 | 半導体装置 |
JPH072005B2 (ja) * | 1985-10-08 | 1995-01-11 | ソニー株式会社 | 昇圧回路 |
JPS62188255A (ja) * | 1986-02-13 | 1987-08-17 | Toshiba Corp | 基準電圧発生回路 |
JP2509596B2 (ja) * | 1987-01-14 | 1996-06-19 | 株式会社東芝 | 中間電位生成回路 |
NL8701278A (nl) * | 1987-05-29 | 1988-12-16 | Philips Nv | Geintegreerde cmos-schakeling met een substraatvoorspanningsgenerator. |
JPS6427094A (en) * | 1987-07-23 | 1989-01-30 | Mitsubishi Electric Corp | Mos-type semiconductor memory |
JPS6432715A (en) * | 1987-07-29 | 1989-02-02 | Seiko Instr & Electronics | Semiconductor integrated circuit device |
JPH0690655B2 (ja) * | 1987-12-18 | 1994-11-14 | 株式会社東芝 | 中間電位発生回路 |
JPH0673092B2 (ja) * | 1988-04-12 | 1994-09-14 | 日本電気株式会社 | 定電圧発生回路 |
JPH0355613A (ja) * | 1989-07-25 | 1991-03-11 | Toshiba Corp | 中間電位生成回路 |
KR940003153B1 (ko) * | 1991-04-12 | 1994-04-15 | 금성일렉트론 주식회사 | 백바이어스 발생회로 |
US5160860A (en) * | 1991-09-16 | 1992-11-03 | Advanced Micro Devices, Inc. | Input transition responsive CMOS self-boost circuit |
JP2771729B2 (ja) * | 1992-04-16 | 1998-07-02 | 三菱電機株式会社 | チャージポンプ回路 |
JP3381937B2 (ja) * | 1992-05-22 | 2003-03-04 | 株式会社東芝 | 中間電位発生回路 |
KR0135735B1 (ko) * | 1992-11-04 | 1998-05-15 | 기다오까 다까시 | 소음발생을 억제하는 개량된 출력 드라이버 회로 및 번인테스트를 위한 개량된 반도체 집적회로 장치 |
JPH06223568A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-12 | Mitsubishi Electric Corp | 中間電位発生装置 |
JP3307453B2 (ja) * | 1993-03-18 | 2002-07-24 | ソニー株式会社 | 昇圧回路 |
JP3148070B2 (ja) * | 1994-03-29 | 2001-03-19 | 株式会社東芝 | 電圧変換回路 |
US5644266A (en) * | 1995-11-13 | 1997-07-01 | Chen; Ming-Jer | Dynamic threshold voltage scheme for low voltage CMOS inverter |
-
1995
- 1995-12-11 JP JP7321760A patent/JPH09162713A/ja active Pending
-
1996
- 1996-06-19 TW TW085107407A patent/TW293124B/zh active
- 1996-09-03 TW TW085110768A patent/TW409395B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-09-03 TW TW085110769A patent/TW381206B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-09-16 TW TW085111317A patent/TW321805B/zh active
- 1996-12-10 US US08/762,903 patent/US5726941A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-10 US US08/763,283 patent/US5717324A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-10 US US08/763,119 patent/US5812015A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-10 US US08/763,120 patent/US5815446A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-11 CN CN96119756A patent/CN1096118C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-11 KR KR1019960064183A patent/KR100270002B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-12-11 KR KR1019960064182A patent/KR100270001B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-12-11 CN CN96123112A patent/CN1090819C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-11 KR KR1019960064181A patent/KR100270000B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-12-11 CN CN96119754A patent/CN1079981C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-12-11 KR KR1019960064180A patent/KR100231951B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-12-11 CN CN96119753A patent/CN1091974C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6316716A (ja) * | 1986-07-09 | 1988-01-23 | Toshiba Corp | 昇圧回路 |
JPH07230348A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Toshiba Corp | 出力回路 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW321805B (ko) | 1997-12-01 |
TW381206B (en) | 2000-02-01 |
US5815446A (en) | 1998-09-29 |
TW293124B (en) | 1996-12-11 |
CN1158516A (zh) | 1997-09-03 |
CN1158501A (zh) | 1997-09-03 |
KR100270002B1 (ko) | 2000-10-16 |
KR970051145A (ko) | 1997-07-29 |
KR970051173A (ko) | 1997-07-29 |
US5717324A (en) | 1998-02-10 |
JPH09162713A (ja) | 1997-06-20 |
KR100231951B1 (ko) | 1999-12-01 |
CN1090819C (zh) | 2002-09-11 |
KR100270001B1 (ko) | 2000-10-16 |
CN1079981C (zh) | 2002-02-27 |
US5812015A (en) | 1998-09-22 |
TW409395B (en) | 2000-10-21 |
CN1159656A (zh) | 1997-09-17 |
US5726941A (en) | 1998-03-10 |
KR970051294A (ko) | 1997-07-29 |
CN1091974C (zh) | 2002-10-02 |
CN1158500A (zh) | 1997-09-03 |
CN1096118C (zh) | 2002-12-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100270000B1 (ko) | 승압펄스 발생회로 | |
KR950010621B1 (ko) | 반도체 기억장치 | |
US5119334A (en) | Dynamic random access memory having improved word line control | |
US5243573A (en) | Sense amplifier for nonvolatile semiconductor storage devices | |
US6538915B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US7019561B2 (en) | Low-voltage sense amplifier and method | |
US8036058B2 (en) | Symmetrically operating single-ended input buffer devices and methods | |
US9735780B2 (en) | Tri-state driver circuits having automatic high-impedance enabling | |
US5818790A (en) | Method for driving word lines in semiconductor memory device | |
KR100297717B1 (ko) | 반도체메모리의입출력선프리차아지회로및이를사용하는반도체메모리 | |
US6181611B1 (en) | Techniques of isolating and enabling higher speed access of memory cells | |
US8111570B2 (en) | Devices and methods for a threshold voltage difference compensated sense amplifier | |
US7804326B1 (en) | Voltage level shifter | |
KR950009074B1 (ko) | 다이너믹형 반도체 기억장치 | |
JP2004055099A (ja) | 差動増幅回路およびそれを用いた半導体記憶装置 | |
KR100294020B1 (ko) | 레벨쉬프터및이를이용한반도체메모리장치 | |
US6292418B1 (en) | Semiconductor memory device | |
US5420869A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US5646892A (en) | Data reading circuit | |
US4764693A (en) | Semiconductor sense circuit suitable for buffer circuit in semiconductor memory chip | |
KR0164808B1 (ko) | 반도체 메모리 장치의 센스앰프 회로 | |
US5978299A (en) | Semiconductor memory device having a voltage lowering circuit of which supplying capability increases when column system is in operation | |
US4870620A (en) | Dynamic random access memory device with internal refresh | |
US5694361A (en) | Output circuit | |
JP2002246891A (ja) | 入力バッファ回路および半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20070723 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |