JPWO2014045783A1 - 平版印刷版原版及び製版方法 - Google Patents

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Abstract

支持体上に(A)ラジカル重合開始剤、(B)ラジカル重合性化合物及び(C)多官能重合禁止剤を含有する画像記録層を設けてなることを特徴とする平版印刷版原版であって、上記多官能重合禁止剤は分子中に、ラジカルと直接的に結合して共有結合を形成するラジカルトラップ部位を2個以上有することを特徴とする平版印刷版原版により、コンピューター等のデジタルデータから直接記録可能であり、高感度で、非画像部の所望されない硬化反応の進行を抑制することで高画質の画像を形成することができる平版印刷版原版であって、かつ高耐刷の平版印刷版を与えることができる平版印刷版原版及びこれを用いた製版方法を提供する。

Description

本発明は平版印刷版原版に関し、詳しくは、耐刷性に優れかつ画像の再現性に優れたネガ型の記録層を有する平版印刷版原版に関する。
近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ固体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザーは非常に有用である。
CTPシステムに用いられる印刷版材料としては、例えば特許文献1に開示されるようなフィルム基材上に銀塩拡散転写方式の画像記録層を設けたもの、あるいは特許文献2、特許文献3に開示されるようなフィルム基材上に親水性層と親油性層とをいずれかの層を表層として積層し、表層をレーザー露光でアブレーションさせて印刷版を形成するように構成されたもの、特許文献4に開示されるような、基材上に親水性層と熱溶融性画像形成層を設け、レーザー露光により親水性層あるいは画像形成層を画像様に発熱させることで画像形成層を親水性層上に溶融固着させるもの、基材上に重合可能な化合物を含む画像記録層を有するもの等が知られている。
このようなネガ型の画像記録材料としては、例えば、赤外線吸収剤、酸発生剤、レゾール樹脂及びノボラック樹脂より成る記録材料が特許文献5に記載されている。しかしながら、このようなネガ型の画像記録材料は、画像形成のためにはレーザー露光後に140〜200℃で50〜120秒程度加熱する加熱処理が必要であり、このため、露光後の加熱処理に大掛かりな装置とエネルギーとを必要としていた。
また、特許文献6には、特定の構造を有するシアニン色素、ヨードニウム塩及びエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物より成る、画像様露光後の加熱処理を必要としない記録材料が記載されているが、この画像記録材料は、重合反応時に空気中の酸素により重合阻害がおこり、感度の低下や、形成された画像部の強度が不充分であるという問題があった。一方、感度を向上させるため、ドナー性が高く、それ自体が光重合開始能を有するボレート化合物を開始剤として用いる方法も考えられるが、この場合、白灯下で取り扱った場合や消光比の低いプレートセッターを用いた場合、或いは、長期保存した場合などに、所望されない硬化反応が進行し、非画像部に汚れが発生しやすくなるなど、画像形成性が劣化する懸念があった。
更に、これらの問題を改善するものとして、高感度な開始剤を用いた画像記録層に重合禁止剤を添加して画像形成性の劣化を防ぐ試みがなされている。重合開始剤として、ボレート型化合物、トリアジン系化合物、特定のオニウム塩等を使用した露光後の加熱処理を必要としないヒートモード対応印刷版材料が知られている(例えば特許文献7、特許文献8)。特許文献7においては(A)ボレート又はトリアジン(B)重合禁止剤(C)光熱変換剤(D)重合性の不飽和基含有化合物を含有する画像記録層を有する赤外記録可能なネガ平版印刷版が開示されている。
重合系の画像記録層として支持体上に、(a)波長700nm〜1300nmの範囲に吸収を有する光熱変換剤、(b)重合開始剤、(c)重合可能な不飽和基含有化合物、(d)アルカリ可溶性高分子化合物及び(e)重合禁止剤を含有する画像記録層を有する平版印刷版材料に於いて、該重合禁止剤が、塩基定数(pKb)が7〜14であるピペリジン骨格を有するヒンダードアミン化合物であることを特徴とする平版印刷版材料が開示されている(特許文献9)。
また、(A)エチレン性不飽和結合を側鎖に有する非アクリル系のバインダーポリマーと、(B)電荷的に中性であり、光又は熱によりラジカルを発生する化合物と、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、を含有することを特徴と(D)重合禁止剤を含有することを特徴とする重合性組成物が開示されている。
一方、重合禁止剤を添加することで所望されない硬化反応を抑制し、汚れ等を抑制することは出来るが、感度、耐刷は低下している。
日本国特開平5−66564号公報 日本国特開平8−507727号公報 日本国特開平10−58636号公報 日本国特開2001−96710号公報 米国特許第5340699号明細書 日本国特公平7−103171号公報 日本国特開2002−107916号公報 日本国特開2003−76010号公報 日本国特開2005−77978号公報
本発明の目的は、コンピューター等のデジタルデータから直接記録可能であり、高感度で、非画像部の所望されない硬化反応の進行を抑制することで高画質の画像を形成することができる平版印刷版原版であって、かつ高耐刷の平版印刷版を与えることができる平版印刷版原版及びこれを用いた製版方法を提供することにある。
すなわち、前記課題を解決する手段は、以下のとおりである。なお、本明細書において「〜」はその前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
〔1〕
支持体上に(A)ラジカル重合開始剤、(B)ラジカル重合性化合物及び(C)多官能重合禁止剤を含有する画像記録層を設けてなることを特徴とする平版印刷版原版であって、
上記(C)多官能重合禁止剤は分子中に、ラジカルと直接的に結合して共有結合を形成するラジカルトラップ部位を2個以上有することを特徴とする平版印刷版原版。
〔2〕
上記多官能重合禁止剤が、ラジカルトラップ部位としてベンゾキノン部位又はN−オキシルフリーラジカル部位を分子中に2個以上有することを特徴とする、上記〔1〕に記載の平版印刷版原版。
〔3〕
上記ベンゾキノン部位が、下記構造(X=S又はNH)を有することを特徴とする、上記〔2〕に記載の平版印刷版原版。


〔4〕
上記XがSであることを特徴とする、上記〔3〕に記載の平版印刷版原版。
〔5〕
上記N−オキシルフリーラジカル部位が、下記4−置換−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル部位であることを特徴とする、上記〔2〕に記載の平版印刷版原版。

〔6〕
上記N−オキシルフリーラジカル部位が、下記4−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル部位であることを特徴とする、上記〔2〕に記載の平版印刷版原版。

〔7〕
上記(C)多官能重合禁止剤のラジカルトラップ部位が2個以上6個以下であることを特徴とする、上記〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
〔8〕
上記(C)多官能重合禁止剤の含有量が(A)ラジカル重合開始剤の0.1mol%〜20mol%であることを特徴とする、上記〔1〕〜〔7〕のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
〔9〕
上記(C)多官能重合禁止剤が、中心骨格Bを有し、n個(nは2以上の整数を表す。)の上記ラジカルトラップ部位を有することを特徴とする、上記〔1〕〜〔8〕のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
〔10〕
上記中心骨格Bが、ベンゼン骨格、イソシアヌル骨格及びエステル骨格の少なくともいずれかを有していることを特徴する、上記〔9〕に記載の平版印刷版原版。
〔11〕
上記画像記録層が更に(D)300nm〜900nmに吸収波長を持つ増感色素を含むことを特徴とする、上記〔1〕〜〔10〕のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
〔12〕
上記(A)ラジカル重合開始剤がヨードニウム塩又はスルホニウム塩であることを特徴とする、上記〔1〕〜〔11〕のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
〔13〕
上記画像記録層が有機ホウ素化合物を含むことを特徴とする、上記〔1〕〜〔12〕のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
〔14〕
上記画像記録層上に無機質の層状化合物を含有する保護層を有することを特徴とする、上記〔1〕〜〔13〕のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
〔15〕
上記画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インキの少なくとも一方により除去可能であることを特徴とする、上記〔1〕〜〔14〕のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
〔16〕
上記〔15〕に記載の機上現像型平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光した後、印刷機シリンダーに取り付け、画像記録層の未露光部を湿し水及び印刷インキの少なくとも一方により除去することを特徴とする製版方法。
本発明の作用は明確ではないが以下のように推定している。
高感度な重合開始剤を用いた場合、レーザー露光する際に非画像部に照射される少量のレーザー光、あるいは白灯下での取扱いによる光の影響などの弱いエネルギーの露光によっても少量であるがラジカルが発生し、所望されない未露光部の硬化反応が引き起こされる。
ここに単官能のラジカルトラップ部位を有した重合禁止剤を添加した場合、画像を形成させたくない弱いレーザー光があたった部分(以下「低露光部と称する」)の重合を抑制し所望されない膜硬化を抑制すると同時に、画像を形成させたい強いレーザー光があたった部分(以下「高露光部と称する」)の重合も抑制し、結果として感度と耐刷を低下させる。
また、ラジカルと相互作用しても共有結合を形成せず重合禁止能を発現させる重合禁止剤を添加した場合も、単官能のラジカルトラップ部位を有した重合禁止剤を添加した場合と同様に、低露光部、高露光部ともに重合を抑制し感度と耐刷を低下させる。
一方、本発明では、(C)多官能重合禁止剤はラジカルトラップ部位を分子中に多数有している。そのため、多官能重合禁止剤は、弱い光が照射されたところは重合禁止剤として作用することで所望されない未露光部の硬化を抑制し、強い光が照射されたところでは成長ラジカルと反応しラジカルの成長鎖同士を架橋させる架橋点として作用することで膜強度を向上し、高耐刷を達成していると推定している。
本発明によれば、コンピューター等のデジタルデータから直接記録可能であり、高感度で、非画像部の所望されない硬化反応の進行を抑制し、かつ高耐刷の平版印刷版原版を得ることが出来る。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に(A)ラジカル重合開始剤、(B)ラジカル重合性化合物及び(C)多官能重合禁止剤を含有する画像記録層を設けてなることを特徴とする平版印刷版原版であって、上記多官能重合禁止剤は分子中に、ラジカルと直接的に結合して共有結合を形成するラジカルトラップ部位を2個以上有することを特徴とする。
[平版印刷版原版]
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、上記成分(A)〜(C)を含む画像記録層を有することを特徴とする。本発明の平版印刷版原版は、必要に応じて、支持体と画像記録層の間に下塗り層を、また、画像記録層の上に保護層を設けることができる。
以下、本発明の平版印刷版原版の構成要素について説明する。
〔画像記録層〕
本発明の画像記録層は、(A)ラジカル重合開始剤、(B)ラジカル重合性化合物及び(C)多官能重合禁止剤を含有することを特徴とする。
(A)ラジカル重合開始剤
本発明に用いられる(A)ラジカル重合開始剤とは、(B)ラジカル重合性化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明において使用しうるラジカル重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを使用することができる。
本発明におけるラジカル重合開始剤としては、例えば、(a)有機ハロゲン化物、(b)カルボニル化合物、(c)アゾ化合物、(d)有機過酸化物、(e)メタロセン化合物、(f)アジド化合物、(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(h)有機ホウ酸塩化合物、(i)ジスルホン化合物、(j)オキシムエステル化合物、(k)オニウム塩化合物、(l)カルボン酸系化合物が挙げられる。
(a)有機ハロゲン化物としては、特開2008−195018号公報の段落番号[0022]〜[0023]に記載の化合物が好ましい。
(b)カルボニル化合物としては、特開2008−195018号公報の段落番号[0024]に記載の化合物が好ましい。
(c)アゾ化合物としては、例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
(d)有機過酸化物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0025]に記載の化合物が好ましい。
(e)メタロセン化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0026]に記載の化合物が好ましい。
(f)アジド化合物としては、2,6−ビス(4−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0027]に記載の化合物が好ましい。
(h)有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0028]に記載の化合物が好ましい。
(i)ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号に記載の化合物が挙げられる。
(j)オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0028]〜[0030]に記載の化合物が好ましい。
(k)オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5-158230(NI3のジアゾニウムに対応)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2−150848号、特開2008−195018号の各公報、又はJ.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩、特開2008−195018号公報に記載のアジニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。
(l)カルボン酸系化合物としては、例えば米国特許2003/118939(A1)号明細書の段落番号[0118]〜[0164]、米国特許2004/091811(A1)号明細書の段落番号[0065]〜[0068]、米国特許2004/259027(A1)号明細書の段落番号[0114]〜[0162]、特開2005−059446号明細書の段落番号[0071]〜[0115]に記載の化合物、等が挙げられる。
上記の中でもオニウム塩が好ましく、なかでもヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩がより好ましく、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましい。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。
[ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩系重合開始剤]
本発明では、オニウム系重合開始剤として、式(4)〜(6)のいずれかで示すオニウム系重合開始剤を用いることが好ましい。式(4)又は式(5)に示すオニウム系重合開始剤が更に好ましい。
式(4)及び(5)中、Ar、Ar、Ar、Ar及びArは、それぞれ独立に式(7)に示す基を表す。式(6)中、R21、R22、R23、R24、及びR25はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、シアノ基又はハロゲン原子を示す。また、R21及びR22、並びに、R22及びR23はそれぞれの組み合わせで互いに結合して環を形成し、縮環構造を形成してもよい。R26は、アルキル基又はアリール基を示す。Zはアニオンを示す。
式(7)のR27は、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を示し、複数のR27は同一であっても異なっていてもよい。mは0〜5の整数を示す。
式(4)のAr、Ar及びArは、下記式(10)に示す基であることが更に好ましい。式(5)のAr及びArは、下記式(11)に示す基であることが更に好ましい。
式(10)中、R30はハロゲン原子を示し、複数のR30は同一であっても異なっていてもよい。式(11)中、R31はアルキル基又はアルコキシ基を示し、複数のR31は同一であっても異なっていてもよい。m及びm’はそれぞれ独立に1〜5の整数を示す。
式(4)及び式(5)に示すオニウム系重合開始剤の中でも、Ar、Ar、及びArのmの総和とAr及びArのm’の総和が、それぞれ4以上である重合開始剤が最も好ましい。
mの総和及びm’の総和が、それぞれ4以上である置換基の多い重合開始剤が良好である理由は明確ではないが、次のように推定される。
置換基が多くなると、オニウム系開始剤の最低空分子軌道(LUMO)のエネルギーレベルが低下し、励起IR色素からの電子移動が効率よく進行する。置換基の総数が4以上のときが最も効率が良くなる。この電子移動の効率が良いと、式(1)に示す化合物の分解反応の効率も向上する。
21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、及びR31が示すアルキル基としては、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜4のアルキル基が最も好ましい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び2−ノルボルニル基を挙げられる。
これらアルキル基の中で、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基が特に好ましい。
21、R22、R23、R24、R25、R27、及びR31がアルコキシ基を示す場合、それはアルキル基−O−と表され、そのアルキル基の好ましい態様は、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、及びR31がアルキル基を示す場合における好ましい態様と同様である。
21、R22、R23、R24、R25、及びR26が示すアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基が好ましく、炭素数6〜20のアリール基がより好ましく、炭素数6〜12のアリール基が最も好ましい。
具体的には、例えば、フェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、9−フルオレニル基、ターフェニル基、o−、m−、及びp−トリル基、キシリル基、o−、m−、及びp−クメニル基、メシチル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオレニル基、p−クロロフェニル基、p−ブロモフェニル基、p−フルオロフェニル基、o−クロロフェニル基、o−ブロモフェニル基、o−フルオロフェニル基、p−メトキシフェニル基、m−メトキシフェニル基、p−ジメチルアミノフェニル基、p−メチルチオフェニル基、m−メチルチオフェニル基、p−フェニルチオフェニル基、2,3−ジフルオロフェニル基、2,3−クロロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,5−ジフルオロフェニル基、2,5−ジクロロフェニル基、2,6−ジフルオロフェニル基、2,6−ジクロロフェニル基、2,4,6−トリフルオロフェニル基、2,4,6−トリクロロフェニル基、3,4,5−トリフルオロフェニル基、3,4,5−トリクロロフェニル基等が挙げられる。
これらアリール基の中で、フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−ジメチルアミノフェニル基が特に好ましい。
アニオンを表すZの好ましいものとしては、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びスルホン酸イオンが挙げられ、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びアリールスルホン酸イオンであり、ヘキサフルオロホスフェートイオンが最も好ましい。
以下に、オニウム系重合開始剤の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
式(4)で表される化合物(スルホニウム塩)の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)−4−メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=3,5−ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリス(2,4−ジクロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(2,4−ジクロロフェニル)フェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(2,4−ジクロロフェニル)4−メトキシフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。
式(5)で表される化合物(ヨードニウム塩)の例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−メトキシフェニル−4−(2−メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−クロロフェニル−4−フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−(2−メチルプロピル)フェニル−p−トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4−ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=1−ペルフルオロブタンスルホナート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。
式(6)で表される化合物(アジニウム塩)の例としては、1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−シクロヘキシルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−メトキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−メトキシ−4−t−ブチルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−メトキシ−4−メトキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−クロロ−1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4−ジクロロ−1−(2−エチルヘキシルオキシ)ピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−ベンジルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−フェネチルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=p−トルエンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ブロミド、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。
ラジカル重合開始剤は、画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲で良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。ラジカル重合開始剤は、1種類のみを単独で使用してもよいし、2種類以上を併用しても良い。
上記ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩に加え、(h)有機ホウ素化合物を併用していてもよい。例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0028]に記載の化合物が好ましい。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これらに限定されない。
有機ホウ酸塩化合物の具体例としては、テトラフェニルボレート塩、テトラトリルボレート塩、テトラキス(4−メトキシフェニル)ボレート塩、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート塩、テトラキス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ボレート塩、テトラキス(4−クロロフェニル)ボレート塩、テトラキス(4−フルオロフェニル)ボレート塩、テトラキス(2−チエニル)ボレート塩、テトラキス(4−フェニルフェニル)ボレート塩、テトラキス(4−t−ブチルフェニル)ボレート塩、エチルトリフェニルボレート塩、ブチルトリフェニルボレート塩等が挙げられる。これらのボレート塩のカウンターカチオンとしては、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、ジアゾニウムカチオン、アジニウムカチオン等の公知のカチオンが挙げられる。
(B)ラジカル重合性化合物
本発明における画像記録層に用いるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物などの化学的形態をもつ。
モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006−508380号公報、特開2002−287344号公報、特開2008−256850号公報、特開2001−342222号公報、特開平9−179296号公報、特開平9−179297号公報、特開平9−179298号公報、特開2004−294935号公報、特開2006−243493号公報、特開2002−275129号公報、特開2003−64130号公報、特開2003−280187号公報、特開平10−333321号公報、を含む参照文献に記載されている。
多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH=C(R)COOCHCH(R)OH (A)
(ただし、R及びRは、H又はCHを示す。)
また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報、特開2003−344997号公報、特開2006−65210号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報、特開2000−250211号公報、特開2007−94138号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類や、US7153632号公報、特表平8−505958号公報、特開2007−293221号公報、特開2007−293223号公報記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。
上記の中でも、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。
これらの重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。上記の重合性化合物は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5〜75質量%、更に好ましくは25〜70質量%、特に好ましくは30〜60質量%の範囲で使用される。
(C)多官能重合禁止剤
多官能重合禁止剤は分子中に、ラジカル(R・)と直接的に結合して共有結合を形成するラジカルトラップ部位を2個以上有する化合物を指す。
上記多官能重合禁止剤は分子中に、ラジカルトラップ部位を2個以上10個以下有することが好ましく、2個以上8個以下有することがより好ましく、2個以上6個以下有することが特に好ましい。
多官能重合禁止剤は中心骨格Bを有し、n個のラジカルトラップ部位を有していることが好ましい。
上記式中、Bはn価の有機基であり、nは2以上の整数を表す。
[ラジカルトラップ部位]
ラジカルトラップ部位としては、下記ベンゾキノン部位、N−オキシルフリーラジカル部位、2−メルカプトベンゾチアゾール部位、2−メルカプトベンゾオキサゾール部位、2−メルカプトベンゾイミダゾール部位、ニトロソ部位、ニトロ部位等が挙げられる。
本発明の多官能重合禁止剤としては、上記ラジカルトラップ部位として、ベンゾキノン部位又はN−オキシルフリーラジカル部位を分子中に2個以上有する多官能重合禁止剤が好ましい。
[中心骨格B]
中心骨格Bはn価の有機基であり、nは2以上の整数である。中心骨格Bは、下記の構造又はこれらの構造が複数組み合わさって構成される有機基を挙げることができる。nは2〜10の整数が好ましく、2〜8の整数がより好ましく、2〜6の整数が特に好ましい。
中心骨格Bにベンゼン骨格、イソシアヌル骨格(イソシアヌル酸から水素を1個以上除いた残基)及びエステル骨格の少なくともいずれかが含まれていることが好ましく、エステル骨格が含まれていることがより好ましい。
多官能重合禁止剤はラジカルトラップ部位と、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、イソシアネート基、チオイソシアネート基又はメルカプト基とを有する化合物と、中心骨格Bに対応する、多官能アルコール、多官能カルボン酸、多官能アミン、多官能イソシアネート、多官能アルコールアミン又は多官能チオールとが反応することにより得られるか、ラジカルトラップ部位を有するα,β−不飽和カルボニル化合物と多官能チオールとの付加反応により得られることが好ましい。
多官能重合禁止剤及びその合成方法には特に制限はないが、例えば、下記の態様のものを用いることができる。
〔N−オキシルフリーラジカル部位〕
N−オキシルフリーラジカル部位は、上記構造を有する。
N−オキシルフリーラジカル部位は、下記4−置換−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル部位であることが好ましい。
更に、N−オキシルフリーラジカル部位は、下記4−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル部位であることがより好ましい。
N−オキシルフリーラジカル部位を多官能重合禁止剤に導入するための原料として使用することができる化合物(以下、「原料化合物」ともいう。)の具体例としては下記T−1〜T−7が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
これらのうち、T−1、T−2、T−3、T−4、T−5が好ましく、T−1、T−2、T−3、T−4がより好ましく、T−1、T−2、T−3が特に好ましい。
〔ベンゾキノン部位〕
ベンゾキノン部位は、上記構造を有する。
上記ベンゾキノン部位としては、下記の構造が好ましい。
上記式において、XはS又はNHを指す。Xは、Sであることが好ましい。
ベンゾキノン部位を多官能重合禁止剤に導入するための原料化合物の具体例として下記のベンゾキノン部位を有する原料化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
1,4−ベンゾキノン、2−クロロ−1,4−ベンゾキノン、2−ブロモ−1,4−ベンゾキノン、p−トルキノン、2−tert−ブチル−1,4−ベンゾキノン、p−キシロキノン、m−キシロキノン、2,5−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2,5−ジブロモ−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジブロモ−1,4−ベンゾキノン、2−クロロ−5−メチル−p−キノン、2−ブロモ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、メトキシベンゾキノン、2,5−ジヒドロキシ−1,4−ベンゾキノン、2,5−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、1,4−ナフトキノン、1,4−クリセンキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−1,4−ナフトキノン、2−ヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、5−ヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、プルンバギン、2−アミノ−3−クロロ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−6−ニトロ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−5−ニトロ−1,4−ナフトキノンが挙げられる。
これらのうち、1,4−ベンゾキノン、2−クロロ−1,4−ベンゾキノン、2−ブロモ−1,4−ベンゾキノン、p−トルキノン、2−tert−ブチル−1,4−ベンゾキノン、p−キシロキノン、m−キシロキノン、2,5−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2,5−ジブロモ−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジブロモ−1,4−ベンゾキノン、2−クロロ−5−メチル−p−キノン、2−ブロモ−5−メチル−1,4−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、1,4−ナフトキノン、1,4−クリセンキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−1,4−ナフトキノン、2−ヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、5−ヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、2−アミノ−3−クロロ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−6−ニトロ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−5−ニトロ−1,4−ナフトキノンが好ましく、1,4−ベンゾキノン、2−クロロ−1,4−ベンゾキノン、p−トルキノン、2−tert−ブチル−1,4−ベンゾキノン、p−キシロキノン、m−キシロキノン、2,5−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2−クロロ−5−メチル−p−キノン、クロラニル、1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−1,4−ナフトキノン、2−ヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノン、2−アミノ−3−クロロ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノンがより好ましく、1,4−ベンゾキノン、2−クロロ−1,4−ベンゾキノン、2,5−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2,6−ジクロロ−1,4−ベンゾキノン、2−クロロ−5−メチル−p−キノン、クロラニル、2,3−ジクロロ−1,4−ナフトキノン、2−アミノ−3−クロロ−1,4−ナフトキノン、2,3−ジクロロ−5,8−ジヒドロキシ−1,4−ナフトキノンが特に好ましい。
ベンゾキノン部位は、例えば、上記ベンゾキノン部位を有する原料化合物と、チオール基を有するカルボン酸、チオール基を有するアルコール若しくはチオール基を有するアミンとのチオール基の付加反応、又は、アミノ基を有するカルボン酸若しくはアミノ基を有するアルコールとのアミノ基の付加反応により導入してもよい。
以下にチオール基を有するカルボン酸、チオール基を有するアルコール、チオール基を有するアミン、アミノ基を有するカルボン酸、アミノ基を有するアルコールの具体例としては以下の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
チオール基を1つ有するモノカルボン酸の具体例としては、メルカプト酢酸、3−メルカプトプロピオン酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトイソ酪酸、N−アセチルシステイン、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、チオサリチル酸が挙げられる。
これらのうち、メルカプト酢酸、3−メルカプトプロピオン酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトイソ酪酸、N−アセチルシステイン、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシンが好ましく、3−メルカプトプロピオン酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトイソ酪酸、N−アセチルシステイン、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシンがより好ましく、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトイソ酪酸、N−アセチルシステイン、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシンが特に好ましい。
チオール基を有するアルコールの具体例としては、2−メルカプトエタノール(1)、1−メルカプト−2−プロパノール(1)、3−メルカプト-1-プロパノール(1)、3−メルカプト−2−ブタノール(1)、2,3−ジメルカプト-1-プロパノール(2)、4−ヒドロキシチオフェノール(1)が挙げられる。
これらのうち、2−メルカプトエタノール(1)、3−メルカプト−1−プロパノール(1)、2,3−ジメルカプト−1−プロパノール(2)が好ましく、2−メルカプトエタノール(1)、3−メルカプト−1−プロパノール(1)がより好ましく、3−メルカプト−1−プロパノール(1)が特に好ましい。なお、( )内の数字は官能基数を示す。
チオール基を有するアミンとしてはチオール基を1つ以上有するアミンの具体例としては、2−アミノエタンチオール、2−アミノチオフェノール、3−アミノチオフェノール、4−アミノチオフェノールが挙げられる。
これらのうち、2−アミノエタンチオール、4−アミノチオフェノールが好ましく、2−アミノエタンチオールがより好ましい。
アミノ基を有するカルボン酸の具体例としてはグリシン、3−アミノプロパン酸、4−アミノブタン酸、5−アミノペンタン酸、6−アミノヘキサン酸、7−アミノヘプタン酸、8−アミノオクタン酸、12−アミノドデカン酸、DL−ノルバリン、3−アミノシクロヘキサンカルボン酸、4−アミノシクロヘキサンカルボン酸、4−(アミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸、5−アミノ−2−メチル安息香酸、4−アミノ安息香酸、6−アミノ−2−ナフトエ酸、4−(メチルアミノ)安息香酸、3−アミノ安息香酸、2−アミノ安息香酸、4−アミノ−3−メチル安息香酸、4−アミノ−2−メチル安息香酸、3−アミノ−4−メチル安息香酸、4−アミノ−3−クロロ安息香酸、4−(アミノメチル)安息香酸、4−アミノ−2−クロロ安息香酸、2−(2−アミノフェニル)エタノール、4−アミノフェニル酢酸が挙げられる。
アミノ基を有するアルコールの具体例としては2−アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、4−アミノ−1−ブタノール、5−アミノ−1−ペンタノール、6−アミノ−1−ヘキサノール、8−アミノ−1−オクタノール、10−アミノ−1−デカノール、12−アミノ−1−ドデカノール、4−アミノフェノール、5−アミノ−1−ナフトール、8−アミノ−2−ナフトール、5−アミノ−2−ナフトール、6−アミノ−1−ナフトール、3−アミノフェノール、2−アミノフェノール、2−アミノフェノール、4−アミノ−m−クレゾール、4−アミノ−2,6−ジクロロフェノール、4−アミノ−2−クロロフェノール、4−アミノ−o−クレゾール、4−アミノ−3−フルオロフェノール、4−アミノ−3,5−キシレノール、4−アミノ−2−フルオロフェノール、2−アミノ−5−クロロフェノール、5−アミノ−o−クレゾール、2−アミノ−4−クロロフェノール、5−アミノ−2−クロロフェノール、4−(アミノメチル)フェノール、2−ヒドロキシ−N−メチルベンジルアミン、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアミン、4−アミノベンジルアルコール、2−アミノベンジルアルコール、3−アミノベンジルアルコール、2−(4−アミノフェニル)エタノールが挙げられる。
上記ベンゾキノン原料化合物と、チオール基を有するカルボン酸、チオール基を有するアルコール若しくはチオール基を有するアミンとのチオール基の付加反応、又は、アミノ基を有するカルボン酸若しくはアミノ基を有するアルコールとのアミノ基の付加反応により得られる化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、下表において、具体例を示す記号(例えば、BQ−1)は、対応する上記のベンゾキノン部位を有する原料化合物(例えば、1,4−ベンゾキノン)と対応する上記のチオール基を有するカルボン酸等(例えば、3−メルカプトプロピオン酸)とが反応して得られる化合物を表す記号である。
〔2−メルカプトベンゾチアゾール部位〕
2−メルカプトベンゾチアゾール部位を多官能重合禁止剤に導入するための原料化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
6−アミノ−2−メルカプトベンゾチアゾール(MB−1)、6−ヒドロキシ−2−メルカプトベンゾチアゾール(MB−2)、2−メルカプト−5−ベンゾチアゾールカルボン酸(MB−3)。
〔2−メルカプトベンゾオキサゾール部位〕
2−メルカプトベンゾオキサゾール部位を多官能重合禁止剤に導入するための原料化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
6−アミノ−2−メルカプトベンゾオキサゾール(MB−4)、6−ヒドロキシ−2−メルカプトベンゾオキサゾール(MB−5)、2−メルカプト−5−ベンゾオキサゾールカルボン酸(MB−6)。
[2−メルカプトベンゾイミダゾール部位]
2−メルカプトベンゾイミダゾール部位を多官能重合禁止剤に導入するための原料化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
2−メルカプト−5−ベンゾイミダゾールカルボン酸(MB−7)、5−アミノ−2−メルカプトベンゾイミダゾール(MB−8)、5−ヒドロキシ−2−メルカプトベンゾイミダゾール(MB−9)。
〔ニトロソ部位〕
ニトロソ部位を多官能重合禁止剤に導入するための原料化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
これらのうち、NO−1、NO−2、NO−3、NO−8、NO−9、NO−10、NO−11、NO−12、NO−13、NO−14が好ましく、NO−1、NO−2、NO−3、NO−11、NO−12、NO−13、NO−14がより好ましく、NO−1、NO−2、NO−12、NO−13、NO−14が特に好ましい。
〔ニトロ部位〕
ニトロ部位を多官能重合禁止剤に導入するための原料化合物の具体例としては以下の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
これらのうち、NI−1、NI−2、NI−3、NI−6、NI−7、NI−8、NI−9、NI−10、NI−11、NI−12が好ましく、NI−1、NI−2、NI−3、NI−6、NI−8、NI−9、NI−10がより好ましく、NI−1、NI−2、NI−3、NI−9、NI−10が特に好ましい。
上記したように、多官能重合禁止剤は、上記原料化合物の水酸基、アミノ基、カルボキシル基、イソシアネート基、チオイソシアネート基又はメルカプト基と、中心骨格Bに対応する、多官能アルコール、多官能カルボン酸、多官能アミン、多官能イソシアネート、多官能アルコールアミン又は多官能チオールとが反応することにより得られるか、上記原料化合物のα,β-不飽和カルボニルに対し多官能チオールが付加反応することにより得られることが好ましい。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これらに限定されない。
〔多官能アルコール〕
多官能アルコールの具体例としては、エチレングリコール(2)、1,3−プロパンジオール(2)、1,4−ブタンジオール(2)、1,5−ペンタンジオール(2)、1,6−ヘキサンジオール(2)、1,7−ヘプタンジオール(2)、1,8−オクタンジオール(2)、1,9−ノナンジオール(2)、1,10−デカンジオール(2)、1,12−ドデカンジオール(2)、1,16−ヘキサデカンジオール(2)、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(2)、2,2−ビス(4−ヒドロキシ-3-メチルフェニル)プロパン(2)、2,2’−ビフェノール(2)、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン(2)、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(2)、4,4’−ビフェノール(2)、(2)、シクロヘキサントリオール(3)、グリセロール(3)、2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール(3)、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン(3)、1,2,4−ブタントリオール(3)、トリメチロールプロパン(3)、1,2,3−トリヒドロキシヘキサン(3)、1,2,6−トリヒドロキシヘキサン(3)、1,2,3−ヘプタントリオール(3)、ピロガロール(3)、1,2,4−ベンゼントリオール(3)、フロログルシノール(3)、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(3)、1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート(3)、ペンタエリスリトール(4)、スレイトール(4)、エリスリトール(4)、キシルロース(4)、リブロース(4)、クエブラキトール(5)、アドニトール(5)、アラビトール(5)、キシリトール(5)、カテキン(5)、エピカテキン(5)、イノシトール(6)、ソルビトール(6)、マンニトール(6)、イジトール(6)、デュルシトール(6)、ジペンタエリスリトール(6)、トリペンタエリスリトール(8)が挙げられる。なお、( )内の数字は官能基数を示す。
これらの多官能アルコールのうち、シクロヘキサントリオール(3)、グリセロール(3)、2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール(3)、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン(3)、トリメチロールプロパン(3)、フロログルシノール(3)、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(3)、1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート(3)、ペンタエリスリトール(4)、カテキン(5)、エピカテキン(5)、イノシトール(6)、ジペンタエリスリトール(6)、トリペンタエリスリトール(8)が好ましく、
シクロヘキサントリオール、2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール(3)、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン(3)、トリメチロールプロパン(3)、フロログルシノール(3)、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン(3)、1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート(3)、ペンタエリスリトール(4)、カテキン(5)、エピカテキン(5)、イノシトール(6)、ジペンタエリスリトール(6)、トリペンタエリスリトール(8)がより好ましく、
1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート(3)、ペンタエリスリトール(4)、カテキン(5)、エピカテキン(5)、イノシトール(6)、ジペンタエリスリトール(6)、トリペンタエリスリトール(8)が特に好ましい。
多官能カルボン酸からなる中心骨格を有する多官能重合禁止剤は、多官能カルボン酸と、アルコキシ基を有する原料化合物との脱水縮合反応又はアミノ基を有する原料化合物との脱水縮合反応により得られる。
〔多官能カルボン酸〕
多官能カルボン酸の具体例としては、シュウ酸(2)、マロン酸(2)、メチルマロン酸(2)、コハク酸(2)、メチルコハク酸(2)、グルタル酸(2)、アジピン酸(2)、ピメリン酸(2)、スベリン酸(2)、アゼライン酸(2)、セバシン酸(2)、トリカルバリリン酸(3)、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸(4)、アコニチン酸(3)、ヘキサフルオログルタル酸(2)、マリン酸(2)、酒石酸(2)、クエン酸(3)、ジグリコール酸(2)、3,6−ジオキサオクタンジカルボン酸(2)、テトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボン酸(4)、メルカプトコハク酸(2)、チオジグリコール酸(2)、2,2’,2”,2’”−[1,2−エタンジイリデンテトラキス(チオ)]テトラキス酢酸(4)、1,3,5−シクロヘキサントリカルボン酸(3)、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸(4)、1,2,3,4,5,6−シクロヘキサンヘキサカルボン酸(6)、1,2−フェニレンジ酢酸(2)、1,2−フェニレンジオキシジ酢酸(2)、ホモフタル酸(2)、1,3−フェニレンジ酢酸(2)、4−カルボキシフェノキシ酢酸(2)、1,4−フェニレンジ酢酸(2)、1,4−フェニレンジプロピオン酸(2)、フタル酸(2)、イソフタル酸(2)、テレフタル酸(2)、1,2,3−ベンゼントリカルボン酸(3)、1,2,4−ベンゼントリカルボン酸(3)、1,3,5−ベンゼントリカルボン酸(3)、1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸(4)、メリット酸(6)1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸(4)が挙げられる。なお、( )内の数字は官能基数を示す。
これらのうち、トリカルバリリン酸(3)、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸(4)、アコニチン酸(3)、クエン酸(3)、テトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボン酸(4)、メルカプトコハク酸(2)、2,2’,2”,2’”−[1,2−エタンジイリデンテトラキス(チオ)]テトラキス酢酸(4)、1,3,5−シクロヘキサントリカルボン酸(3)、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸(4)、1,2,3,4,5,6−シクロヘキサンヘキサカルボン酸(6)、1,2−フェニレンジ酢酸(2)、1,2−フェニレンジオキシジ酢酸(2)、1,3−フェニレンジ酢酸(2)、1,4−フェニレンジ酢酸(2)、1,4−フェニレンジプロピオン酸(2)、フタル酸(2)、イソフタル酸(2)、テレフタル酸(2)、1,3,5−ベンゼントリカルボン酸(3)、1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸(4)、メリット酸(6)、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸(4)が好ましく、トリカルバリリン酸(3)、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸(4)、テトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボン酸(4)、メルカプトコハク酸(2)、2,2’,2”,2’”−[1,2−エタンジイリデンテトラキス(チオ)]テトラキス酢酸(4)、1,3,5−シクロヘキサントリカルボン酸(3)、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸(4)、1,2,3,4,5,6−シクロヘキサンヘキサカルボン酸(6)、1,3,5−ベンゼントリカルボン酸(3)、1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸(4)、メリット酸(6)、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸(4)が特に好ましい。
〔多官能アミン〕
多官能アミンからなる中心骨格を有する多官能重合禁止剤は、多官能アミンと、カルボキシル基を有する原料化合物との脱水縮合反応、イソシアネート基を有する原料化合物との付加反応又はチオイソシアネート基を有する原料化合物との付加反応により得られる。
多官能アミンの具体例としてはエチレンジアミン(2)、ジエチレントリアミン(3)、N−(2−アミノエチル)−1,3−プロパンジアミン(3)、N−(3−アミノプロピル)−1,3−プロパンジアミン(3)、スペルミジン(3)、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン(3)、4−(アミノメチル)−1,8−オクタンジアミン(3)、トリエチレンテトラミン(4)、1,4,7,11−テトラアザウンデカン(4)、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン(4)、N,N’−ビス(2−アミノエチル)−1,3−プロパンジアミン(4)、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)−1,3−プロパンジアミン(4)、スペルミン(4)、トリス(2−アミノエチル)アミン(3)、テトラエチレンペンタミン(5)、ペンタエチレンヘキサミン(6)、1,4,7−トリアザシクロノナン(3)、1,5,9−トリアザシクロドデカン(3)、サイクレン(4)、1,4,8,11−テトラアザシクロテトラデカン(4)、1,4,8,12−テトラアザシクロペンタデカン(4)、ヘキササイクレン(6)、3,3’−ジアミノベンジジン(4)、1,2,4,5−ベンゼンテトラミン(4)が挙げられる。なお、( )内の数字は官能基数を示す。
これら多官能アミンのうち、4−(アミノメチル)−1,8−オクタンジアミン(3)、トリエチレンテトラミン(4)、1,4,7,11−テトラアザウンデカン(4)、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン(4)、N,N’−ビス(2−アミノエチル)−1,3−プロパンジアミン(4)、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)−1,3−プロパンジアミン(4)、スペルミン(4)、トリス(2−アミノエチル)アミン(3)、テトラエチレンペンタミン(5)、ペンタエチレンヘキサミン(6)、サイクレン(4)、ヘキササイクレン(6)が好ましく、
4−(アミノメチル)−1,8−オクタンジアミン(3)、トリス(2−アミノエチル)アミン(3)、テトラエチレンペンタミン(5)、ペンタエチレンヘキサミン(6)、サイクレン(4)、ヘキササイクレン(6)がより好ましく、
テトラエチレンペンタミン(5)、ペンタエチレンヘキサミン(6)、サイクレン(4)、ヘキササイクレン(6)が特に好ましい。
多官能イソシアネートからなる中心骨格を有する多官能重合禁止剤は、多官能イソシアネートと、アルコキシ基を有する原料化合物とのウレタン化反応又はアミノ基を有する原料化合物との付加反応により得られる。
〔多官能イソシアネート〕
多官能イソシアネートの具体例としてはイソホロンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、ナフタレン−1,4−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、3,3’−ジメトキシ−ビフェニルジイソシアネート、3,3’−ジメチルジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、キシリレン−1,4−ジイソシアネート、キシリレン−1,3−ジイソシアネート、4−クロロキシリレン−1,3−ジイソシアネート、2−メチルキシリレン−1,3−ジイソシアネート、4,4’−ジフェニルプロパンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルヘキサフルオロプロパンジイソシアネート、トリメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、プロピレン−1,2−ジイソシアネート、ブチレン−1,2−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−1,2−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−1,3−ジイソシアネート、シクロヘキシレン−1,4−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、1,4−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン及び1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン。
これらのうち、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、キシリレン−1,4−ジイソシアネート及びキシリレン−1,3−ジイソシアネートが好ましい。更にこれらの化合物を主原料とした、これらの3量体(ビューレットあるいはイソシアヌレート)、トリメチロールプロパンなどのポリオールとのアダクト体(付加物)として多官能としたもの、ベンゼンイソシアネートのホルマリン縮合物なども好ましい。上記の中でも特にイソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、キシリレン−1,4−ジイソシアネート及びキシリレン−1,3−ジイソシアネートが好ましい。
これらの化合物については「ポリウレタン樹脂ハンドブック」(岩田敬治編、日刊工業新聞社発行(1987))に記載されている。
多官能アルコールアミンからなる中心骨格を有する多官能重合禁止剤は、多官能アルコールアミンとカルボキシル基を有する原料化合物との脱水縮合反応、イソシアネート基を有する原料化合物との付加反応又はチオイソシアネート基を有する原料化合物との付加反応により得られる。
〔多官能アルコールアミン〕
多官能アルコールアミンの具体例としては、ジエタノールアミン(3)、セリノール(3)、ジイソプロパノールアミン(3)、2−アミノ−2−エチル−1,3−プロパンジオール(3)、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオール(3)、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(4)、ビス-ホモトリス(4)、1,3−ジアミノ−2−ヒドロキシプロパン(3)、2−(2−アミノエチルアミノ)エタノール(3)、N,N’−ビス(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン(4)、1,3−ビス[トリス(ヒドロキシメチル)メチルアミノ]プロパン(8)、1−アミノ−1−デオキシ−D−ソルビトール(6)、N−メチル−D−グルカミン(6)、2,3−ジアミノフェノール(3)、4−アミノレゾルシノール(3)、ノルフェニレフリン(3)、オクトパミン(3)、シネフリン(3)、3,4−ジヒドロキシベンジルアミン(3)、3−ヒドロキシチラミン(3)、ノルエフィネフリン(4)、5−ヒドロキシドーパミン(4)、6−ヒドロキシドーパミン(4)が挙げられる。なお、( )内の数字は官能基数を示す。
これらのうち、セリノール(3)、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオール(3)、トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(4)、ビス-ホモトリス(4)、1,3−ジアミノ−2−ヒドロキシプロパン(3)、N,N’−ビス(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン(4)、1,3−ビス[トリス(ヒドロキシメチル)メチルアミノ]プロパン(8)、1−アミノ−1−デオキシ−D−ソルビトール(6)、N−メチル−D−グルカミン(6)、ノルエフィネフリン(4)、5−ヒドロキシドーパミン(4)、6−ヒドロキシドーパミン(4)が好ましく、
トリス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(4)、ビス-ホモトリス(4)、N,N’−ビス(2−ヒドロキシエチル)エチレンジアミン(4)、1,3−ビス[トリス(ヒドロキシメチル)メチルアミノ]プロパン(8)、1−アミノ−1−デオキシ−D−ソルビトール(6)、N−メチル−D−グルカミン(6)、ノルエフィネフリン(4)、5−ヒドロキシドーパミン(4)、6−ヒドロキシドーパミン(4)が特に好ましい。
多官能チオールからなる中心骨格を有する多官能重合禁止剤は、多官能チオールと、原料化合物とのマイケル付加反応、イソシアネート基を有する原料化合物との付加反応又はチオイソシアネート基を有する原料化合物との付加反応により得られる。
〔多官能チオール〕
具体例としては以下の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
1,2−エタンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,4−ブタンジチオール、1,6−ヘキサンジチオール、1,8−オクタンジチオール、1,10−デカンジチオール、3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジチオール。
多官能チオールは、ハロゲン化物、アルコールのスルホン酸エステル等の求電子剤にチオ尿素、チオシアン酸カリ、チオ酢酸等の硫黄化剤を反応させた後種々の処理を行う方法により得られる化合物である。
〔N−オキシルフリーラジカル部位を有する多官能重合禁止剤の合成〕
N−オキシルフリーラジカル部位を有する多官能重合禁止剤は、N−オキシルフリーラジカル部位を有する原料化合物と、多官能アルコール、多官能カルボン酸、多官能アミン、多官能アルコールアミン、多官能イソシアネート又は多官能チオールとの脱水縮合反応又は付加反応又はエーテル化により得られる。
以下に、N−オキシルフリーラジカル部位を有する原料化合物の官能基により、どの反応で多官能重合禁止剤を合成するかを示す。
以下に、N−オキシルフリーラジカル部位を有する多官能重合禁止剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、下表において、具体例を示す記号(例えば、PFT−1)は、対応する上記のN−オキシルフリーラジカル部位を有する原料化合物(例えば、T−1)と対応する上記の多官能カルボン酸等(例えば、テレフタル酸)とが反応して得られる化合物を表す記号である。また、下表における多官能重合禁止剤は、多官能体(母骨格)の官能基の全てが原料化合物と反応してなる化合物である。
〔ベンゾキノン部位を有する多官能重合禁止剤の合成〕
ベンゾキノン部位を有する多官能重合禁止剤は、ベンゾキノン部位を有する原料化合物と、多官能アルコール、多官能カルボン酸、多官能アミン、多官能アルコールアミン、多官能イソシアネート、多官能チオールとの脱水縮合反応又は付加反応又はエーテル化により得られる。
以下に、ベンゾキノン部位を有する原料化合物の官能基により、どの反応で多官能重合禁止剤を合成するかを示す。
以下に、ベンゾキノン部位を有する多官能重合禁止剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、下表において、具体例を示す記号(例えば、PFBQ−1)は、対応する上記のベンゾキノン部位を有する原料化合物(例えば、ベンゾキノン)と対応する上記の多官能アミン等(例えば、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルビフェニル)とが反応して得られる化合物を表す記号である。また、下表における多官能重合禁止剤は、多官能体(母骨格)の官能基の全てが原料化合物と反応してなる化合物である。
〔ベンゾチアゾール部位、ベンゾオキサゾール部位又はベンゾイミダゾール部位を有する多官能重合禁止剤の合成〕
ベンゾチアゾール部位、ベンゾオキサゾール部位又はベンゾイミダゾール部位を有する多官能重合禁止剤は、2−メルカプトベンゾチアゾール部位、2−メルカプトベンゾオキサゾール部位又は2−メルカプトベンゾイミダゾール部位を有する原料化合物と、多官能アルコール、多官能カルボン酸、多官能アミン、多官能アルコールアミン、多官能イソシアネート又は多官能チオールとの脱水縮合反応若しくは付加反応又はエーテル化により得られる。
以下に、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール又はベンゾイミダゾール部位を有する原料化合物の官能基により、どの反応で多官能重合禁止剤を合成するかを示す。
以下に、2−メルカプトベンゾチアゾール部位、2−メルカプトベンゾオキサゾール部位又は2−メルカプトベンゾイミダゾール部位を有する多官能重合禁止剤の具体例を示すが本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、下表において、具体例を示す記号(例えば、PFMB−1)は、対応する上記のメルカプトベンゾチアゾール部位等を有する原料化合物(例えば、6−アミノ−2−メルカプトベンゾチアゾール(MB−1))と対応する上記の多官能カルボン酸等(例えば、テレフタル酸)とが反応して得られる化合物を表す記号である。また、下表における多官能重合禁止剤は、多官能体(母骨格)の官能基の全てが原料化合物と反応してなる化合物である。
〔ニトロソ部位を有する多官能重合禁止剤の合成〕
ニトロソ部位を有する多官能重合禁止剤は、ニトロソ部位を有する原料化合物と、多官能アルコール、多官能カルボン酸、多官能アミン、多官能アルコールアミン、多官能イソシアネート又は多官能チオールとの脱水縮合反応、付加反応又はエーテル化により得られる。
以下に、ニトロソ部位を有する多官能重合禁止剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、下表において、具体例を示す記号(例えば、PFNO−1)は、対応する上記のニトロソ部位を有する原料化合物(例えば、NO−2)と対応する上記の多官能アルコール等(例えば、エチレングリコール)とが反応して得られる化合物を表す記号である。また、下表における多官能重合禁止剤は、多官能体(母骨格)の官能基の全てが原料化合物と反応してなる化合物である。
〔ニトロ部位を有する多官能重合禁止剤の合成〕
ニトロ部位を有する多官能重合禁止剤は、ニトロ部位を有する原料化合物と、多官能アルコール、多官能カルボン酸、多官能アミン、多官能アルコールアミン、多官能イソシアネート又は多官能チオールとの脱水縮合反応、付加反応又はエーテル化により得られる。
以下に、ニトロ部位を有する多官能重合禁止剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、下表において、具体例を示す記号(例えば、PFNI−1)は、対応する上記のニトロ部位を有する原料化合物(例えば、NI−1)と対応する上記の多官能アルコール等(例えば、エチレングリコール)とが反応して得られる化合物を表す記号である。また、下表における多官能重合禁止剤は、多官能体(母骨格)の官能基の全てが原料化合物と反応してなる化合物である。
中心骨格とラジカルトラップ部位の好ましい組み合わせとしては、中心骨格にベンゼン骨格、イソシアヌル骨格(イソシアヌル酸から水素を1個以上除いた残基)、又は、エステル骨格を有し、ラジカルトラップ部位にN−オキシルフリーラジカル部位、ベンゾキノン部位、ベンゾチアゾール部位、ベンゾオキサゾール部位、ベンゾイミダゾール部位、ニトロソ部位又はニトロ部位を有しているものが好ましく、中心骨格にベンゼン骨格、イソシアヌル骨格又はエステル骨格を有し、ラジカルトラップ部位にN−オキシルフリーラジカル部位、ベンゾキノン部位、ベンゾチアゾール部位、ベンゾオキサゾール部位又はベンゾイミダゾール部位、を有しているものがより好ましく、中心骨格にベンゼン骨格、イソシアヌル骨格又はエステル骨格を有し、ラジカルトラップ部位にN−オキシルフリーラジカル部位又はベンゾキノン部位を有しているものが特に好ましい。
上記(C)多官能重合禁止剤の含有量の含有量は、上記(A)ラジカル重合開始剤の0.1mol%〜20mol%であることが好ましく、1mol%〜15mol%であることがより好ましく、1mol%〜10mol%であることが特に好ましい。
特にN−オキシルフリーラジカル部位を有する多官能重合禁止剤は、より好ましくは1mol%〜10mol%、特に好ましくは1mol%〜8mol%である。
特にベンゾキノン部位を有する多官能重合禁止剤は、より好ましくは2mol%〜15mol%、特に好ましくは2mol%〜10mol%である。
[(A)ラジカル重合開始剤、(B)ラジカル重合性化合物、(C)多官能重合禁止剤以外の成分]
〔(D)増感色素〕
本発明に用いることができる平版印刷版原版における画像記録層は、増感色素を含有することが好ましい。
本発明に用いることができる増感色素としては、特に制限はなく、公知の増感色素を用いることができる。これらの増感色素のうち、300nm〜900nmに吸収波長を持つ増感色素が好ましい。
例えば、300〜450nmに極大吸収を有する増感色素や、500〜600nmに極大吸収を有する増感色素、750〜1,400nmに極大吸収を有する増感色素を添加することで、各々、当業界で通常用いられている405nmのバイオレットレーザー、532nmのグリーンレーザー、830nmのIRレーザーに対応した高感度な平版印刷版原版を提供することができる。
本発明にて好適に用いられる750〜1,400nmに極大吸収を有する増感色素について詳述する。
なお、本発明においては、「750〜1,400nmに極大吸収を有する増感色素」を、「赤外線吸収剤」ともいう。
赤外線吸収剤は、750〜1,400nmの波長に吸収極大を有する染料又は顔料であることが好ましい。
〔IR色素〕
IR色素は、750〜1,400nmに吸収極大を有し、吸収した赤外線により励起する染料であり、赤外線吸収色素、赤外線吸収染料あるいは赤外線吸収剤とも呼ばれる。
本発明では、式(3)に示すIR色素が用いられる。
式(3)中、R21は置換基を有してもよいアルキル基を示し、複数のR21は同一であっても異なっていてもよい。R21のアルキル基としては、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜4のアルキル基が最も好ましい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び2−ノルボルニル基を挙げられる。
これらアルキル基の中で、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基が特に好ましい。
これらのアルキル基上の置換基としては、OR22、O(CO)R22、NR2324、NR23(CO)R22、SR25基が好ましく、OR22、O(CO)R22がより好ましく、OR22が最も好ましい。R22及びR25は、アルキル基又はアリール基を示す。R23とR24は水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、又はスルホニル基を示し、R23及びR24は互いに結合して環構造を形成してもよい。
1はOR12、NR1314、SR15基又は塩素原子を示す。Y1はNR1314及び塩素原子がより好ましく、N(Ph)が最も好ましい。ここで、Phはフェニル基を表す。
12は、アルキル基、又はアリール基を示す。R13及びR14はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、又はアルキルスルホニル基を示し、R13及びR14は互いに結合して環構造を形成してもよい。R15は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を示す。
12、R13、R14及びR15が示すアルキル基としては、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素数1〜10のアルキル基がより好ましく、炭素数1〜4のアルキル基が最も好ましい。
具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、及びシクロペンチル基を挙げられる。
これらアルキル基の中で、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基が特に好ましい。
12、R13、R14及びR15が示すアリール基としては炭素数6〜30のアリール基が好ましく、炭素数6〜20のアリール基がより好ましく、炭素数6〜12のアリール基が最も好ましい。
具体的には、例えば、フェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、o−、m−、及びp−トリル基、キシリル基、メシチル基、p−クロロフェニル基、p−フルオロフェニル基、o−クロロフェニル基、o−フルオロフェニル基、p−メトキシフェニル基、m−メトキシフェニル基、p−ジメチルアミノフェニル基、p−メチルチオフェニル基、m−メチルチオフェニル基、p−フェニルチオフェニル基等が挙げられる。これらアリール基の中で、フェニル基、p−メトキシフェニル基、p−ジメチルアミノフェニル基が特に好ましい。
13及びR14がアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アミノカルボニル基、又はアルキルスルホニル基を示す場合のR13及びR14の好ましい態様は、式(1)の説明中のR13及びR14の場合と同じである。
15が示すヘテロ環基としては、3員環から8員環のヘテロ環基が好ましく、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含む3から6員環のヘテロ環基がより好ましく、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含む5から6員環のヘテロ環基が最も好ましい。
具体的には、ピロール環基、フラン環基、チオフェン環基、ベンゾピロール環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、ピラゾール環基、イソキサゾール環基、イソチアゾール環基、インダゾール環基、ベンゾイソキサゾール環基、ベンゾイソチアゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズオキサゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、フタラジン環基、キナゾリン環基、キノキサリン環基、アシリジン環基、フェナントリジン環基、カルバゾール環基、プリン環基、ピラン環基、ピペリジン環基、ピペラジン環基、モルホリン環基、インドール環基、インドリジン環基、クロメン環基、シンノリン環基、アクリジン環基、フェノチアジン環基、テトラゾール環基、トリアジン環基等が挙げられる。
は、硫黄原子、又はジメチルメチレン基を表し、複数のQは同一であっても異なっていてもよい。Tは、置換基を有してもよいベンゼン環又はナフタレン環を表し、複数のTは同一であっても異なっていてもよい。Tはベンゼン環がより好ましい。これらに置換する置換基は、アルキル基、OR12、O(CO)R12、NR1314、NR13(CO)R12、SR15、SO 、ハロゲン原子が好ましく、アルキル基、OR12、塩素原子がより好ましく、OR12、塩素原子が最も好ましい。R12〜R15は、上記YにおけるR12〜R15と同義であり、好ましい態様も同じである。nは1又は2の整数を示す。Xは、式(3)で表されるIR色素が電気的に中性を保つためのカウンターイオンを表す。
本発明に用いるIR色素としては、式(8)に示すIR色素がより好ましい。
式(8)中、R21は式(3)のR21と同義であり、好ましい態様も同じである。YはNR1314又は塩素原子を表し、R13及びR14は上記式(3)におけるR13及びR14と同義である。YとしてはN(Ph)が最も好ましい。ここで、Phはフェニル基を表す。R28はアルキル基、アルコキシ基、又は塩素原子を示し、複数のR28は同一であっても異なっていてもよい。R28がアルキル基を示す場合、その好ましい態様は、式(3)におけるR21がアルキル基を示す場合における好ましい態様と同様である。R28がアルコキシ基を示す場合、それはアルキル基―O―と表され、そのアルキル基の好ましい態様は、R21がアルキル基を示す場合における好ましい態様と同様である。lは0〜2の整数を示し、1がより好ましい。Xは式(3)のXと同義である。
なかでも本発明に用いるIR色素としては、式(9)に示すIR色素が最も好ましい。
式(9)中、R29は水素原子、メチル基、又は塩素原子を示し、複数のR29は同一であっても異なっていてもよい。R21は式(3)のR21と同義であり、好ましい態様も同じである。Xは式(9)で表されるIR色素が電気的に中性を保つためのカウンターイオンを表し、カチオン化学種の場合、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、アンモニウムカチオン、ピリジニウムカチオンが好ましいものとして挙げられ、ナトリウムカチオン、アンモニウムカチオンがより好ましく、アンモニウムカチオンが最も好ましい。Xがアニオン化学種の場合、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びスルホン酸イオンが好ましいものとして挙げられ、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン及びアリールスルホン酸イオンである。
以下に、IR色素の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
IR色素の含有量は、画像記録層を構成する全固形分に対して0.05〜15.0質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜10.0質量%であり、最も好ましくは0.5〜5.0質量%である。この範囲で良好な発色及び露光後の発色画像の安定性が得られる。
〔(E)バインダーポリマー〕
本発明における画像記録層には、皮膜性を付与するため、バインダーポリマーを含有してもよい。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、皮膜性を付与できるものなら、従来公知のものを制限なく使用できる。直鎖状のバインダーポリマーであっても、特開2007−249036に記載されているような星型ポリマー構造であってもよい。例えば、平版印刷版原版用として以下に記載の付加重合体及び側鎖に架橋性基を有するウレタン樹脂を好ましいものとして挙げることができる。
バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、画像記録層中におけるバインダーポリマーの含有量は、画像記録層を構成する全固形分に対して10〜90質量%であることが好ましく、30〜80質量%であることがより好ましい。
本発明における平版印刷版原版の画像記録層には、現像方法に応じたバインダーポリマーを用いることが好ましい。
(E1)アルカリ現像用バインダーポリマー
バインダーポリマーの化学構造は、特に限定されないが、アルカリ性処理液への溶解性、すなわち現像性の観点から酸基を有する有機高分子が好ましく、特にカルボン酸又はその塩を含有する有機高分子がより好ましい。
アルカリ現像型平版印刷版原版用の画像記録層に用いることができるバインダーポリマーとしては、カルボン酸含有のアルカリ水可溶又は膨潤性の有機高分子が例示できる。この様な有機高分子としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば、特公昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号の各公報に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が有用である。バインダーポリマーとして、カルボン酸(塩)基を含有する(メタ)アクリル酸エステルに由来するモノマー単位を含む共重合体が好ましい。
また、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシ基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなども有用である。更に、特公平7−120040号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特開平11−352691号の各公報に記載のポリウレタン樹脂もアルカリ水可溶又は膨潤性バインダーとして有用である。本発明に使用できるバインダーポリマーとして、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、又は、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。
アルカリ現像用バインダーポリマーとして好適な材料の一例は、(a)カルボン酸基(その塩を含む。)を含有するモノマー単位及び(b)ラジカル架橋性を付与するモノマー単位を有する共重合体である。
(a)カルボン酸基を含有するモノマー単位としては、特に限定されないが、特開2002−40652号公報、特開2005−300650号公報の段落番号[0059]〜[0075]に記載の構造が好ましく用いられる。
(b)ラジカル架橋性を付与するモノマー単位としては、特に限定されないが、特開2007−248863号公報の段落番号[0041]〜[0053]に記載の構造が好ましく用いられる。
アルカリ現像用バインダーポリマーは、(a)カルボン酸基を含有するモノマー単位も、(b)ラジカル架橋性を付与するモノマー単位も含まないエチレン性不飽和化合物に由来するモノマー単位を共重合成分として有していてもよい。
このようなモノマー単位としては、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸アミドに由来するモノマー単位が好ましい。特に、特開2007−272134号公報の段落番号[0061]〜[0084]に記載のアミド基(メタ)アクリル酸アミドに由来するモノマー単位が好ましく用いられる。このモノマーの含有量は、総モノマー単位数を100とした場合、そのうちの5〜50単位であることが好ましく、5〜35単位であることがより好ましく、5〜25単位であることが更に好ましい。
本発明における平版印刷版原版の画像記録層には、バインダーポリマーとして、前述のモノマー単位の組み合わせを有する付加重合体以外に、側鎖に架橋性基を有するウレタン樹脂も使用することができる。ここで架橋性基とは、平版印刷版原版を露光した際に画像記録層中で起こる化学反応によりバインダーポリマーを架橋することができる基のことである。このような機能を有する基であれば特にその化学構造は限定されないが、例えば、付加重合し得る官能基としてエチレン性不飽和基が好ましい。また、特開2007−17948号公報の段落番号[0130]〜[0139]に記載された官能基が例示できる。
本発明で特に好ましく用いられる側鎖に架橋性基を有するポリウレタン樹脂は、(i)ジイソシアネート化合物、(ii)カルボキシ基を有するジオール化合物、(iii)架橋性基を有するジイソシアネート化合物、及び、必要であれば、(iv)カルボキシ基を有さないジオール化合物、(v)アミノ基を有する化合物を重付加反応させることにより得ることができる。
上記(i)、(ii)及び(iii)の化合物は、特開2007−17948号公報の段落番号[0142]〜[0167]に記載された式(4)〜(10)及び具体例が挙げられる。(iv)の化合物は、特開2007−17948号公報の段落番号[0180]〜[0225]に記載された一般式(A’)、式(a)〜(e)、式(11)〜(22)及び具体的化合物が挙げられる。(v)の化合物は特開2007−17948号公報の段落番号[0227]〜[0230]に記載された式(31)及び式(32)及び具体的化合物が挙げられる。上記のポリウレタン樹脂のほかに、特開2003−270775号公報に記載されるようなカルボキシ基を有するポリウレタンに高分子反応で架橋性基を導入して得られるポリウレタン樹脂も例示できる。
平版印刷版原版の画像記録層の現像性を維持するためには、使用されるバインダーポリマーは、適当な分子量を有することが好ましく、GPC法による質量平均モル質量(Mw)が5,000〜300,000であることがより好ましく、20,000〜150,000であることが更に好ましい。
これらのバインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、画像記録層中におけるバインダーポリマーの含有量は、画像記録層を構成する全固形分に対して10〜90質量%であることが好ましく、30〜80質量%であることがより好ましい。
(E2)機上現像用バインダーポリマー
機上現像用バインダーポリマーとしてはアルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーが好ましい。
本発明における平版印刷版原版の画像記録層に用いられるアルキレンオキサイド基を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキサイド)部位を主鎖に有していても、側鎖に有していてもよく、ポリ(アルキレンオキサイド)を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキサイド)含有繰返し単位で構成されるブロックと、(アルキレンオキサイド)非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
主鎖に有する場合にはポリウレタン樹脂が好ましい。側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられるが、特にアクリル樹脂が好ましい。
上記のアルキレンオキサイドとしては炭素原子数が2〜6のアルキレンオキサイドが好ましく、特にエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイドが好ましい。
ポリ(アルキレンオキサイド)部位におけるアルキレンオキサイドの繰返し数は2〜120であり、2〜70の範囲が好ましく、2〜50の範囲がより好ましい。
アルキレンオキサイドの繰り返し数が120以下であれば摩耗による耐刷性、インキ受容性による耐刷性の両方が低下することがなく、好ましい。
ポリ(アルキレンオキサイド)部位は、バインダーポリマーの側鎖として、下記一般式(a)で表される構造で含有されることが好ましい。より好ましくは、アクリル樹脂の側鎖として、下記一般式(a)で表される構造で含有される。
一般式(a)中、yは2〜120を表し、2〜70の範囲が好ましく、2〜50の範囲がより好ましい。Rは水素原子又はアルキル基を表し、Rは水素原子又は有機基を表す。有機機としては、炭素原子数1〜6のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、1,1-ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基が挙げられる。
上記の中でも、Rは水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子が最も好ましい。Rは水素原子又はメチル基が最も好ましい。
上記のバインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。上記ポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合などの架橋性官能基を高分子の主鎖中又は側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレンなどが挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドのポリマーであって、エステル又はアミドの残基(−COOR又はCONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CHCR=CR、−(CHO)CHCR=CR、−(CHCHO)CHCR=CR、−(CHNH−CO−O−CHCR=CR、−(CH−O−CO−CR=CR及び(CHCHO)−X(式中、R〜Rはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基若しくはアリールオキシ基を表し、R及びR又はRは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基の具体例としては、−CHCH=CH(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CHCHO−CHCH=CH、−CHC(CH)=CH、−CHCH=CH−C、−CHCHOCOCH=CH−C、−CHCH−NHCOO−CHCH=CH及びCHCHO−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CHCH=CH、−CHCH−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CHCH−OCO−CH=CHが挙げられる。
架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接に又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。又は、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。
バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、高分子化合物1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。
以下に本発明に用いられる上記バインダーポリマーの具体例(1)〜(13)を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、下記例示化合物中、各繰り返し単位に併記される数値(主鎖繰り返し単位に併記される数値)は、当該繰り返し単位のモル百分率を表す。側鎖の繰り返し単位に併記される数値は、当該繰り返し部位の繰り返し数を示す。
なお、本発明における上記バインダーポリマーはGPC法による質量平均モル質量(Mw)は、2000以上であることが好ましく、5000以上であるのがより好ましく、1万〜30万であるのが更に好ましい。
本発明では必要に応じて、特開2008−195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性高分子化合物を併用することができる。また、親油的な高分子化合物と親水的な高分子化合物を併用することもできる。
本発明の画像記録層に適用する場合、上記バインダーポリマーの形態は、画像記録層中で、各素材のつなぎの機能を果たすバインダーとして存在してもよいし、微粒子の形状で存在してもよい。微粒子形状で存在する場合には、平均粒径は10〜1000nmの範囲であり、好ましくは20〜300nmの範囲であり、特に好ましくは30〜120nmの範囲である。
本発明の上記バインダーポリマーの含有量は、画像記録層を構成する全固形分に対して、5〜90質量%が好ましく、5〜80質量%がより好ましく、10〜70質量%が更に好ましい。
本発明のオニウム系重合開始剤と増感色素との好ましい組み合わせ、及び、ラジカル重合開始剤と多官能重合禁止剤化合物との好ましい組み合わせは、それぞれの好ましい態様を組み合わせたものが最も好ましい。また、ラジカル重合開始剤、増感色素、及び多官能重合禁止剤化合物との好ましい組み合わせもそれぞれの好ましい態様を組み合わせたものが最も好ましい。
〔(F)ポリマー微粒子〕
本発明では、現像性を向上させるため、ポリマー微粒子を用いることができる。特に、ポリアルキレンオキシド構造を有するポリマー微粒子が好ましい。なかでも側鎖にポリアルキレンオキシド基を有するポリマー微粒子が好ましい。
これらにより、湿し水の浸透性が向上し、現像性が良好となる。ポリアルキレンオキシド構造としては、炭素数2又は3のアルキレンオキシド単位を2〜120個有するアルキレンオキシド構造が好ましく、エチレンオキシド単位を2〜120個有するポリエチレンオキシド構造がより好ましい。特にエチレンオキシド単位を20〜100個有するポリエチレンオキシド構造が好ましい。このようなポリアルキレンオキシド構造を有するポリマー微粒子によって、耐刷性と現像性を両立することができる。また、着肉性を向上させることができる。
本発明におけるポリマー微粒子は、熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる疎水化前駆体であることが好ましい。疎水化前駆体ポリマー微粒子としては、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及びミクロゲル(架橋ポリマー微粒子)から選ばれる少なくともひとつの粒子が好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。現像性を向上させるためには、上記の如く、ポリアルキレンオキシド構造を有することが好ましい。
疎水性熱可塑性ポリマー微粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9−123387号公報、同9−131850号公報、同9−171249号公報、同9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。
このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
本発明に用いられる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01〜2.0μmが好ましい。
本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられ、これらは、熱反応による架橋、及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。
本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基など)、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などを好適なものとして挙げることができる。
本発明で用いられるマイクロカプセルとしては、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報、EP2383118号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものである。なお、画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。更に、マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。
本発明においては、架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様であってもよい。このミクロゲルは、その中及び/又は表面に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができ、特に、(B)重合性化合物をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。
画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化、若しくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。
上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmが更に好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。
ポリマー微粒子の含有量としては、画像記録層全固形分の5〜90質量%の範囲であることが好ましい。
〔(G)その他の成分〕
本発明の画像記録層には、必要に応じて、更に下記の成分を含有することができる。
(G−1)低分子親水性化合物
本発明における画像記録層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類、等が挙げられる。
本発明においてはこれらの中でも、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類、ベタイン類の群から選ばれる少なくとも一つを含有させることが好ましい。
有機スルホン酸塩の具体的な化合物としては、n−ブチルスルホン酸ナトリウム、n−ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2−エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n−オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11−トリオキサペンタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、13−エチル−5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14−テトラオキサテトラコサン−1−スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル−5−スルホン酸ナトリウム、1−ナフチルスルホン酸ナトリウム、4−ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6−ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007−276454号公報の段落番号[0026]〜[0031]、特開2009−154525号公報の段落番号[0020]〜[0047]に記載の化合物などが挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。
有機硫酸塩としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位は1〜4であるのが好ましく、塩は、ナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。これらの具体例としては、特開2007−276454号公報の段落番号[0034]〜[0038]に記載の化合物が挙げられる。
ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素原子数が1〜5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3−ヒドロキシ−4−トリメチルアンモニオブチラート、4−(1−ピリジニオ)ブチラート、1−ヒドロキシエチル−1−イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3−トリメチルアンモニオ−1−プロパンスルホナート、3−(1−ピリジニオ)−1−プロパンスルホナートなどが挙げられる。
上記の低分子親水性化合物は、疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持できる。
これら低分子親水性化合物の画像記録層への添加量は、画像記録層全固形分量の0.5質量%以上20質量%以下であることが好ましい。より好ましくは1質量%以上15質量%以下であり、更に好ましくは2質量%以上10質量%以下である。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。
これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
(G−2)感脂化剤
本発明の画像記録層には、着肉性を向上させるために、画像記録層にホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を用いることができる。特に、保護層に無機質の層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機質の層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機質の層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。
好適なホスホニウム化合物としては、特開2006−297907号公報及び特開2007−50660号公報に記載のホスホニウム化合物を挙げることができる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4−ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7−ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9−ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン−2,7−ジスルホナートなどが挙げられる。
上記含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第4級アンモニウム塩類が挙げられる。またイミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。なかでも、第4級アンモニウム塩類、及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p−トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008−284858号公報の段落番号[0021]〜[0037]、特開2009−90645号公報の段落番号[0030]〜[0057]に記載の化合物などが挙げられる。
上記アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すれば如何なるものでもよいが、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5〜80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009−208458号公報の段落番号[0089]〜[0105]に記載のポリマーが挙げられる。
上記アンモニウム塩含有ポリマーは、下記の測定方法で求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値で、5〜120の範囲のものが好ましく、10〜110の範囲のものがより好ましく、15〜100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度をGPC法による質量平均モル質量(Mw)に換算すると、10000〜150000が好ましく、17000〜140000がより好ましく、20000〜130000が特に好ましい。
<還元比粘度の測定方法>
ポリマー固形分1gを、20mlのメスフラスコに秤量し、N−メチルピロリドンでメスアップした。この溶液を30℃の恒温槽で30分間静置し、ウベローデ還元比粘度管(粘度計定数=0.010cSt/s)に入れて30℃にて流れ落ちる時間を測定する。なお測定は同一サンプルで2回測定し、その平均値を算出する。同様にブランク(N−メチルピロリドンのみ)の場合も測定し、下記式から還元比粘度(ml/g)を算出した。
以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90 Mw4.5万)(2)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.0万)(3)2−(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70 Mw4.5万)(4)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2−エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.0万)(5)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60 Mw7.0万)(6)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比 25/75 Mw6.5万)(7)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw6.5万)(8)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13−エチル−5,8,11−トリオキサ−1−ヘプタデカンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 Mw7.5万)(9)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート/2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5 Mw6.5万)
上記感脂化剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して0.01〜30.0質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15.0質量%、1〜10質量%が更に好ましい。
(G−3)その他
更にその他の成分として、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機質層状化合物、及び増感助剤若しくは連鎖移動剤などを添加することができる。具体的には、特開2008−284817号公報の段落番号[0114]〜[0159]、特開2006−091479号公報の段落番号[0023]〜[0027]、米国特許公開2008/0311520号明細書の段落番号[0060]に記載の化合物及び添加量が好ましい。
〔画像記録層の形成〕
本発明における画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0142]〜[0143]に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、これを支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することで形成される。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/mが好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
[下塗り層]
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある)を設けることが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からの剥離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。
下塗り層に用いる化合物としては、ホスホン酸、リン酸、スルホン酸などの酸基を有する化合物を有する下塗り層が好ましく用いられる。更に、支持体表面に吸着可能な吸着性基、及び画像記録層と密着性を向上させるために架橋性基を有するものが好ましい。これらの化合物は、低分子でも高分子ポリマーであってもよい。又、これらの化合物は必要に応じて2種以上を混合して使用してもよい。
高分子ポリマーである場合は、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−PO、−OPO、−CONHSO−、−SONHSO−、−COCHCOCHが好ましい。親水基としては、スルホ基が好ましい。架橋性基としてはメタクリル基、アリル基などが好ましい。この高分子ポリマーは、高分子ポリマーの極性置換基と、対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005−238816号、特開2005−125749号、特開2006−239867号、特開2006−215263号の各公報記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面に相互作用する官能基、及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物を含有するものも好ましく用いられる。より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基、及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
下塗り層用高分子樹脂中の不飽和二重結合の含有量は、高分子ポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、最も好ましくは0.2〜5.5mmolである。
下塗り層用の高分子ポリマーは、質量平均モル質量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましい。
本発明に係る下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時における汚れ防止のため、キレート剤、第2級又は第3級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基とアルミニウム支持体表面と相互作用する基とを有する化合物等(例えば、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6−テトラヒドロキシ−p−キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など)を含有することができる。
下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/mであるのが好ましく、1〜30mg/mであるのがより好ましい。
[支持体]
本発明に係る感光性平版印刷版原版に用いられる支持体としては、公知の支持体が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
また、上記アルミニウム板は必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートあるいは米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行うことができる。
支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。
本発明に係る平版印刷版原版に用いられる支持体には必要に応じて、裏面に、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されているケイ素のアルコキシ化合物を含むバックコート層を設けることができる。
〔保護層〕
本発明の方法に用いられる平版印刷版原版は、画像記録層の上に保護層(オーバーコート層)を設けることが好ましい。保護層は酸素遮断によって画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止、及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
本発明の平版印刷版原版における保護層は、2層以上により形成することもできる。例えば、保護層を上部保護層と下部保護層との2層構成にしてもよい。
このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55−49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしては、カルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216号、特開2006−259137号の公報に記載の変性ポリビニルアルコールが好適である。
保護層は、特開2012−73597号公報に記載されている少なくとも下記一般式(1)で表される繰り返し単位と下記一般式(2)で表される繰り返し単位を有する親水性ポリマーを使用することができる。
特に下記一般式(1)、及び一般式(2)で表される繰り返し単位を有する親水性ポリマー(以下、特定親水性ポリマー(e)とも称する)を含有していることが好ましい。
一般式(1)及び一般式(2)中、R及びRは、各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。R及びRは、各々独立に、水素原子、メチル基、又はエチル基を表す。Rは、直鎖、分岐若しくは環状の炭素原子数2〜8の無置換アルキル基、置換基として芳香環若しくは複素環を有してもよい置換アルキル基、又は下記一般式(3)で表される置換基を表す。
なお、置換アルキル基に導入可能な置換基としては、芳香族環基、複素環基及びポリエーテル基などが挙げられる。
一般式(3)において、Lは炭素原子数2〜6のアルキレン基を表し、Rは直鎖、分岐若しくは環状の炭素原子数4〜8の無置換アルキル基又は芳香族置換アルキル基を表す。nはポリエーテルの平均付加モル数であって2〜4の数を表す。
一般式(1)で表される繰り返し単位のRとRは共に水素原子であることが好ましい。一般式(2)で表される繰り返し単位のRが炭素原子数2〜8の直鎖、分岐若しくは環状の無置換アルキル基であることが好ましい。
一般式(1)及び一般式(2)の各式で表される繰り返し単位の組み合わせとしては、一般式(1)及び一般式(2)のRとRが共に水素原子、一般式(1)のRとRが共に水素原子、一般式(2)のRが炭素原子数4の分岐かつ無置換アルキル基である組み合わせが最も好ましい。
特定親水性ポリマー(e)は、更に、下記一般式(4)で表される繰返し単位を有する親水性ポリマーであることが好ましい。
一般式(4)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。Xは単結合、下記構造群(5)に示す構造から選ばれる二価の連結基であるか、又は、下記構造群(5)に示す構造から選ばれる複数を組み合わせてなる二価の連結基を表す。Yは、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、リン酸基、リン酸塩基、ホスホン酸基、ホスホン酸塩基、ヒドロキシル基、カルボキシベタイン基、スルホベタイン基、アンモニウム基、又は、下記一般式(6)で表されるポリエーテル基を表す。
一般式(4)で表される繰り返し単位としては、水溶性及び機上現像性の観点から、Yはスルホン酸基、スルホン酸塩基、カルボキシベタイン基、スルホベタイン基、アンモニウム基が好ましく、スルホン酸基、スルホン酸塩基及びスルホベタイン基がより好ましい。
また、Xとしては下記構造群(5)に示す構造から選ばれる二価の連結基であることが好ましい。
一般式(6)において、L’は炭素原子数2〜3のアルキレン基、Rは水素原子又はメチル基を表す。n’はポリエーテルの平均付加モル数で2〜4の数である。
一般式(1)で表される繰り返し単位の由来となるモノマーの具体例としては、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N,N−ジエチルメタクリルアミド、N,N−エチルメチルアクリルアミド、N,N−エチルメチルメタクリルアミドが挙げられる。
一般式(2)で表される繰り返し単位の由来となるモノマーの具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸i−ブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ヘプチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸2−(2−エチルヘキシルオキシエトキシ)エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸i−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシルが挙げられる。
一般式(1)で表される繰り返し単位は、65〜96.7モル%を含むものが好ましく、70〜80モル%を含むものがより好ましく、74〜80モル%を含むものが特に好ましい。一般式(2)で表される繰り返し単位は、3〜30モル%を含むものが好ましく、20〜30モル%含むものがより好ましく、20〜26モル%含むものが特に好ましい。
一般式(4)で表される繰り返し単位の由来となるモノマーの具体例としては、2−アクリロイルアミノ−2−メチル−プロパンスルホン酸、2−アクリロイルアミノ−2−メチル−プロパンスルホン酸ナトリウム、2−アクリロイルアミノ−2−メチル−プロパンスルホン酸カリウム、4−((3−メタクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)ブタン−1−スルホネート、4−((3−アクリルアミドプロピル)ジメチルアンモニオ)ブタン−1−スルホネート、ビニルアルコール、アクリル酸、メタクリル酸、スチレンスルホン酸ナトリウム、ジエチレングリコールモノメチルエーテルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、メタクリルコリンクロライド、メタクリル酸3−スルホプロピルカリウム、リン酸2−(メタクリロイルオキシ)エチル、ジメチル−N−メタクリロイルオキシエチル−N−カルボキシメチル−アンモニウムベタイン、ビニルホスホン酸などが挙げられる。
特定親水性ポリマー(e)は、一般式(4)で表される繰り返し単位を0.3モル%〜5モル%含有することが好ましく、0.3〜3モル%含有するものが更に好ましく、0.3モル%〜1.5モル%含有するものがより好ましい。
保護層に用いられる本発明の親水性ポリマーが一般式(4)で表される繰り返し単位を上記好ましい範囲で含有することで、本発明に用いられる感光性平版印刷版原版は、良好な機上現像性、着肉性及び耐刷性が得られる。
本発明の親水性ポリマーのGPC法による重量平均分子量(Mw)は、10,000〜200,000の範囲であることが好ましく、10,000〜100,000の範囲であることがより好ましく、10,000〜30,000の範囲であることが最も好ましい。
以下に、本発明の親水性ポリマーの具体例を示す。各繰り返し単位の比率x、y、z(mol%)と親水性ポリマーのMwは、下記表12に示す。
特定親水性ポリマー(e)の保護層中での含有量は、保護層固形分の40質量%以上であることが好ましい。より好ましくは60質量%以上、特に好ましくは80質量%以上である。この範囲内で、着肉性がより良好であり、より高耐刷性を有する平版印刷版を与え、かつ、機上現像性により優れた平版印刷版原版が得られる。
また、保護層には酸素遮断性を高めるため、特開2005−119273号公報に記載のように天然雲母、合成雲母等の無機質の層状化合物を含有することが好ましい。
また、保護層には、可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御する無機微粒子、紫外線吸収剤など公知の添加物を含むことができる。また、画像記録層の説明に記載した感脂化剤を保護層に含有させることもできる。
また、画像記録層との接着性や耐傷性も、版の取り扱い上極めて重要である。すなわち、水溶性ポリマーを主成分とする親水性の保護層を親油性の画像記録層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。これに対し、これらの2層間の接着性を改良すべく種々の提案がなされている。例えば特公昭54−12215号公報、英国特許出願公開第1303578号明細書には、保護層中に、アクリル系エマルジョン又は水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。
このような保護層の塗布方法については、例えば米国特許第3,458,311号明細書、特開昭55−49729号公報などに記載の公知の方法で塗布される。保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/mの範囲であることが好ましく、0.02〜3g/mの範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/mの範囲である。
このようにして、本発明の方法に適用される感光性平版印刷版原版を得る。
[製版方法]
本発明の平版印刷版の製版方法は、少なくとも平版印刷版原版を画像露光する工程(以下、「露光工程」ともいう。)、及び、処理液により現像処理する工程(以下、「現像工程」ともいう。)を含む方法であることが好ましい。
<露光工程>
本発明に用いられる平版印刷版原版は、750nmから1400nmの波長の光源を用いて露光される。このような光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適であり、特にこれら赤外線レーザーにより走査露光する方法が好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
<現像工程>
本発明に用いられる平版印刷版原版は、露光した後、水又はpH2〜14の現像液にて現像されるか(現像液処理)、印刷機上において油性インキ及び水性成分の少なくとも一方によって現像される(機上現像)。
現像液処理としては、通常以下の工程で実施される。(1)現像液により非画像部を除去する、(2)ガム液処理を実施する、(3)乾燥工程で乾燥する。本発明に用いられる平版印刷版原版は、通常通りの工程により現像する(通常現像)こともできるが、(1)と(2)の工程を同時に行う(簡易現像)ことが好ましい。何れの現像方法においても、工程(1)の前に保護層を除去するための水洗工程を入れてもよい。工程(1)の現像は、常法に従って、0〜60℃、好ましくは15〜40℃程度の温度で、例えば、露光処理した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る方法、スプレーにより現像液を吹き付けてブラシで擦る方法等により行う。
通常現像の場合は、工程(1)と工程(2)の間に余分な現像液を除去するための水洗工程を入れてもよい。また、工程(1)に用いられる現像液としては公知のアルカリ現像液を使用することが好ましい。
簡易現像の場合は、現像及びガム処理の後に、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
簡易現像において用いられる現像液は、pHが2〜11の水溶液である。水を主成分(水を60質量%以上含有)とする水溶液が好ましく、特に、界面活性剤(アニオン系、ノニオン系、カチオン系、両性イオン系等)を含有する水溶液や、水溶性高分子化合物を含有する水溶液が好ましい。界面活性剤と水溶性高分子化合物の両方を含有する水溶液も好ましい。該現像液のpHは、より好ましくは5〜10.7、更に好ましくは6〜10.5、最も好ましくは7.5〜10.3である。
その他、本発明の平版印刷版原版からの平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。この様な加熱により、該画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化といった利点が生じ得る。更に、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱若しくは全面露光を行う事も有効である。通常現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。温度が高すぎると、未露光部が硬化してしまう等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は100〜500℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。
本発明の平版印刷版原版は、機上現像方法で製版することもできる。機上現像方法は、平版印刷版原版を画像露光する工程と、露光後の平版印刷版原版になんらの現像処理を施すことなく、油性インキ及び水性成分の少なくとも一方を供給して、印刷する印刷工程とを有し、該印刷工程の途上において平版印刷版原版の未露光部分が除去されることを特徴とする。換言すれば、機上現像方法においては、機上現像型平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光した後、印刷機(典型的には印刷機シリンダー)に取り付け、画像記録層の未露光部を油性インキ及び水性成分の少なくとも一方により除去する。
画像様の露光は平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で行ってもよいし、プレートセッターなどで別途行ってもよい。後者の場合は、露光済み平版印刷版原版は現像処理工程を経ないでそのまま印刷機に装着される。その後、該印刷機を用い、油性インキ及び水性成分の少なくとも一方を供給してそのまま印刷することにより、印刷途上の初期の段階で機上現像処理、すなわち、未露光領域の画像記録層が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出され非画像部が形成される。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が用いられる。
ここで、最初に版面に供給されるのは、湿し水でもよく、印刷インキでもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給するのが好ましい。
このようにして、本発明の平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量はGPC法による質量平均モル質量(Mw)であり、繰り返し単位の比率はモル百分率である。
1.機上現像型平版印刷版原版(実施例1〜98及び比較例1〜13用)の作製
<支持体の作製>
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/mであった。
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dmであった。その後、スプレーによる水洗を行った。
続いて、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dmの条件で、硝酸電解と同様の方法で電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
次に、この板に15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dmで2.5g/mの直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体Aを作製した。
その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体Aに2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60℃で10秒間、シリケート処理を施し、その後、水洗して支持体Bを得た。Siの付着量は10mg/mであった。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
<下塗り層の形成>
次に、上記支持体B上に、下記下塗り層用塗布液(A)を乾燥塗布量が20mg/mになるよう塗布して、以下の下塗り層を有する支持体を作製した。
<下塗り層用塗布液(A)>
・下記構造の下塗り層用化合物(1) 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.10g
・メタノール 55.24g
・水 6.15g
<画像記録層の形成>
上記のようにして形成された下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/mの画像記録層を形成した。
画像記録層塗布液(1)は下記感光液及びミクロゲル液を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
<感光液>
・バインダーポリマー(2)〔下記構造〕 0.240g
・IR色素(赤外線吸収剤)(IR−10) 0.030g
・(C)多官能重合禁止剤〔表13に記載の化合物〕 表13に記載の量
・重合開始剤〔表13に記載の化合物〕 0.200g
・助剤TPB〔下記構造〕 0.4g(添加する場合)
・重合性化合物
トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
(NKエステルA−9300、新中村化学(株)製) 0.192g
・低分子親水性化合物
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート 0.062g
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕 0.050g
・感脂化剤 ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕 0.055g
・感脂化剤
ベンジル−ジメチル−オクチルアンモニウム・PF塩 0.018g
・感脂化剤
アンモニウム基含有ポリマー
[下記構造、還元比粘度44ml/g] 0.035g
・フッ素系界面活性剤(1) 0.008g
・2−ブタノン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
<ミクロゲル液>
・ミクロゲル 2.640g
・蒸留水 2.425g
なお、上記画像記録層塗布液(1)に用いた、低分子親水性化合物(1)、ホスホニウム化合物(1)、アンモニウム基含有ポリマー及びTPBの構造並びにミクロゲルの合成法は、以下に示す通りである。
また、下記表13中の重合禁止剤T−2及びR−1〜R−8、並びに、重合開始剤S−1及びI−1は、以下に示す通りである。
<ミクロゲルの合成>
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井化学(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、及びアルキルベンゼンスルホン酸塩(竹本油脂(株)製、パイオニンA−41C)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−205)の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これを上記ミクロゲルとした。ミクロゲルの平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
<保護層の形成>
上記画像記録層上に、更に下記組成の保護層塗布液をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/mの保護層を形成して平版印刷版原版を得た。
<保護層塗布液>
・無機層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル(日本エマルジョン(株)製界面活性剤
エマレックス710 1質量%水溶液) 0.86g
・イオン交換水 6.0g
<無機層状化合物分散液(1)の調製>
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
<平版印刷版原版の評価>
(i)機上現像性
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とスペースカラーフュージョンG(N)墨インキ(DICグラフィックス(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を100枚行った。
画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。
結果を表13に示す。
(ii)耐刷性
上述した塗布直後の機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。結果を表13に示す。
(iii)調子再現性
得られた平版印刷版原版を上記機上現像性評価時と同様に下記に記す条件で露光を行い、上記と同様に機上現像を行い、100枚印刷した印刷物において、露光部と未露光部の網点面積率を網%測定機ICplateIIにて計測し評価した。なお、評価結果は値が50に近いほど、調子再現性が優れていることを意味する。結果を表13に示す。露光条件は、富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数400rpm、レーザー出力85%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはAM200線の50%網点チャートを含むようにした。
本発明の平版印刷版原版は、比較例と比べ機上現像性を損なうことなく、得られた平版印刷版が高耐刷性及び優れた調子再現性を有することが明らかである。また、比較例から単官能重合禁止剤や他の多官能重合禁止剤からは本発明のような効果がないことが明らかである。
2.現像液処理型平版印刷版原版(実施例99〜141及び比較例14〜25用)の作製
下塗り層及び画像記録層を下記のとおり形成し、保護層を下記の下部保護層及び上部保護層とした以外は実施例1と同様の方法により、平版印刷版原版を作製した。
<下塗り層の形成>
次に、上記支持体B上に、下記下塗り層用塗布液(B)を乾燥塗布量が10mg/mになるよう塗布して、以下の下塗り層を有する支持体を作製した。
<下塗り層用塗布液(B)>
・下記ポリマー 0.3質量部
・純水 60.0質量部
・メタノール 939.7質量部
<画像記録層の形成>
下記画像記録層用塗布液(2)を調製し、上記のように形成された下塗り層上にワイヤーバーを用いて塗布し、画像記録層を形成した。乾燥は、温風式乾燥装置にて125℃で34秒間行った。乾燥後の被覆量は1.4g/mであった。
<画像記録層用塗布液(2)>
・IR色素(赤外線吸収剤)(IR−9) 0.38g
・重合開始剤A(S−2) 0.31g
・重合開始剤B(I−2) 0.84g
・重合開始剤C〔表14に記載の化合物〕 0.51g
・助剤TPB 0.32g
(添加する場合のみ)
・メルカプト化合物(E−1) 0.15g
・エチレン性不飽和化合物(M−1) 4.25g
(商品名:A−BPE−4、新中村化学工業(株))
・バインダーポリマーA(B−1)(Mw:11万) 3.11g
・バインダーポリマーB(B−2)(Mw:10万) 2.50g
・バインダーポリマーC(B−3)(Mw:12万) 0.62g
・添加剤(T−1) 0.79g
・多官能重合禁止剤〔表14に記載の化合物〕 表14記載の量
・エチルバイオレット(EV−1) 0.21g
・フッ素系界面活性剤 0.081g
(メガファックF−780−F DIC(株)、
メチルイソブチルケトン(MIBK) 30質量%溶液)
・メチルエチルケトン 58.86g
・メタノール 27.33g
・1−メトキシ−2−プロパノール 58.86g
なお、上記画像記録層用塗布液(2)に用いた、重合開始剤A(S−2)、重合開始剤B(I−2)、メルカプト化合物(E−1)、エチレン性不飽和化合物(M−1)、バインダーポリマーA(B−1)、バインダーポリマーB(B−2)、バインダーポリマーC(B−3)、添加剤(T−1)、重合禁止剤(Q−1)、及びエチルバイオレット(EV−1)の構造を以下に示す。また、IR色素(赤外線吸収剤)(IR−9)、重合開始剤Cとして用いられる化合物(S−1)及び化合物(I−1)の構造は上記した通りである。
なお、下記において、Meはメチル基を表し、下記バインダーポリマーA〜Cの各モノマー単位の比は、モル比である。
〔下部保護層の形成〕
形成された画像記録層上に、合成雲母(ソマシフMEB−3L、3.2質量%水分散液、コープケミカル(株)製)、ポリビニルアルコール(ゴーセランCKS−50、ケン化度99モル%、重合度300、スルホン酸変性ポリビニルアルコール、日本合成化学工業(株)製)、界面活性剤A(日本エマルジョン(株)製、エマレックス710)、及び、界面活性剤B(アデカプルロニックP−84:(株)ADEKA製)の混合水溶液(下部保護層形成用塗布液)をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃で30秒間乾燥させた。
この下部保護層形成用塗布液中の合成雲母(固形分)/ポリビニルアルコール/界面活性剤A/界面活性剤Bの含有量割合は、7.5/89/2/1.5(質量%)であり、塗布量は(乾燥後の被覆量)は、0.5g/mであった。
〔上部保護層の形成〕
下部保護層上に、有機フィラー(アートパールJ−7P、根上工業(株)製)、合成雲母(ソマシフMEB−3L、3.2%水分散液、コープケミカル(株)製)、ポリビニルアルコール(L−3266:ケン化度87モル%、重合度300、スルホン酸変性ポリビニルアルコール、日本合成化学工業(株)製)、増粘剤(セロゲンFS−B、第一工業製薬(株)製)、及び、界面活性剤(日本エマルジョン(株)製、エマレックス710)の混合水溶液(上部保護層形成用塗布液)をワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて125℃で30秒間乾燥させた。
上部保護層形成用塗布液中の有機フィラー/合成雲母(固形分)/ポリビニルアルコール/増粘剤/界面活性剤の含有量割合は、3.2/2.0/80.5/11.5/2.8(質量%)であり、塗布量は(乾燥後の被覆量)は、1.76g/mであった。
〔製版方法〕
得られた平版印刷版原版を、露光、現像処理、乾燥の各工程順に処理した。
露光に用いた光源(セッター):赤外線半導体レーザー(Creo社製Trendsetter3244VX:水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載)にて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2,400dpiの条件で画像様露光を行った。露光画像として、抜き細線評価用画像として、5〜100μm幅(5μm間隔)の抜き細線が並んだ画像を使用した。耐刷評価用としては、ベタ耐刷評価可能な画像を使用した。
露光後、オーバーコート層を除去するために水洗処理を行い、富士フイルム(株)製現像液HN−D(旧製品名:DH−N)の1:4水希釈液を用いて現像処理を実施した。現像液のpHは、12であり、現像浴の温度は30℃であった。
現像液は、循環ポンプによりスプレーパイプからシャワーリングして版面に供給した。現像液のタンク容量は、10リットルであった。現像後、版面に付着した現像液を取り除くため水洗処理を行った。
<平版印刷版原版の評価>
得られた平版印刷版原版を上記のとおり製版し、耐刷性及び調子再現性を機上現像型平版印刷版原版についてしたのと同様に評価した。結果を表14に示す。
本発明の平版印刷版原版は、平版印刷版が高耐刷性及び優れた調子再現性を有することが明らかである。また、比較例から、単官能重合禁止剤や他の多官能重合禁止剤からは本発明のような効果がないことが明らかである。
本発明によれば、コンピューター等のデジタルデータから直接記録可能であり、高感度で、非画像部の所望されない硬化反応の進行を抑制し、かつ高耐刷の平版印刷版原版を得ることが出来る。
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、2012年09月20日出願の日本特許出願(特願2012−207525)に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
すなわち、前記課題を解決する手段は、以下のとおりである。なお、本明細書において「〜」はその前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
[1]
支持体上に(A)ラジカル重合開始剤、(B)ラジカル重合性化合物及び(C)多官能重合禁止剤を含有する画像記録層を設けてなることを特徴とする平版印刷版原版であって、
上記(C)多官能重合禁止剤は分子中に、ラジカルと直接的に結合して共有結合を形成するラジカルトラップ部位を2個以上有し、上記ラジカルトラップ部位がベンゾキノン部位又はN−オキシルフリーラジカル部位であることを特徴とする平版印刷版原版。
[2]
上記ベンゾキノン部位が、下記構造(X=S又はNH)を有することを特徴とする、上記[1]に記載の平版印刷版原版。

[3]
上記XがSであることを特徴とする、上記[2]に記載の平版印刷版原版。
[4]
上記N−オキシルフリーラジカル部位が、下記4−置換−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル部位であることを特徴とする、上記[1]に記載の平版印刷版原版。

[5]
上記N−オキシルフリーラジカル部位が、下記4−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル部位であることを特徴とする、上記[1]に記載の平版印刷版原版。

[6]
上記(C)多官能重合禁止剤のラジカルトラップ部位が2個以上6個以下であることを特徴とする、上記[1]〜[5]のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
[7]
上記(C)多官能重合禁止剤の含有量が(A)ラジカル重合開始剤の0.1mol%〜20mol%であることを特徴とする、上記[1]〜[6]のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
[8]
上記(C)多官能重合禁止剤が、中心骨格Bを有し、n個(nは2以上の整数を表す。)の上記ラジカルトラップ部位を有することを特徴とする、上記[1]〜[7]のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
[9]
上記中心骨格Bが、ベンゼン骨格、イソシアヌル骨格及びエステル骨格の少なくともいずれかを有していることを特徴する、上記[8]に記載の平版印刷版原版。
[10]
上記画像記録層が更に(D)300nm〜900nmに吸収波長を持つ増感色素を含むことを特徴とする、上記[1]〜[9]のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
[11]
上記(A)ラジカル重合開始剤がヨードニウム塩又はスルホニウム塩であることを特徴とする、上記[1]〜[10]のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
[12]
上記画像記録層が有機ホウ素化合物を含むことを特徴とする、上記[1]〜[11]のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
[13]
上記画像記録層上に無機質の層状化合物を含有する保護層を有することを特徴とする、上記[1]〜[12]のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
[14]
上記画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インキの少なくとも一方により除去可能であることを特徴とする、上記[1]〜[13]のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
[15]
上記[14]に記載の機上現像型平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光した後、印刷機シリンダーに取り付け、画像記録層の未露光部を湿し水及び印刷インキの少なくとも一方により除去することを特徴とする製版方法。
尚、本発明は、上記[1]〜[15]に係る発明であるが、以下、その他についても参考のため記載した。
〔1〕
支持体上に(A)ラジカル重合開始剤、(B)ラジカル重合性化合物及び(C)多官能重合禁止剤を含有する画像記録層を設けてなることを特徴とする平版印刷版原版であって、
上記(C)多官能重合禁止剤は分子中に、ラジカルと直接的に結合して共有結合を形成するラジカルトラップ部位を2個以上有することを特徴とする平版印刷版原版。
〔2〕
上記多官能重合禁止剤が、ラジカルトラップ部位としてベンゾキノン部位又はN−オキシルフリーラジカル部位を分子中に2個以上有することを特徴とする、上記〔1〕に記載の平版印刷版原版。
〔3〕
上記ベンゾキノン部位が、下記構造(X=S又はNH)を有することを特徴とする、上記〔2〕に記載の平版印刷版原版。

〔4〕
上記XがSであることを特徴とする、上記〔3〕に記載の平版印刷版原版。
〔5〕
上記N−オキシルフリーラジカル部位が、下記4−置換−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル部位であることを特徴とする、上記〔2〕に記載の平版印刷版原版。

〔6〕
上記N−オキシルフリーラジカル部位が、下記4−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル部位であることを特徴とする、上記〔2〕に記載の平版印刷版原版。

〔7〕
上記(C)多官能重合禁止剤のラジカルトラップ部位が2個以上6個以下であることを特徴とする、上記〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
〔8〕
上記(C)多官能重合禁止剤の含有量が(A)ラジカル重合開始剤の0.1mol%〜20mol%であることを特徴とする、上記〔1〕〜〔7〕のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
〔9〕
上記(C)多官能重合禁止剤が、中心骨格Bを有し、n個(nは2以上の整数を表す。)の上記ラジカルトラップ部位を有することを特徴とする、上記〔1〕〜〔8〕のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
〔10〕
上記中心骨格Bが、ベンゼン骨格、イソシアヌル骨格及びエステル骨格の少なくともいずれかを有していることを特徴する、上記〔9〕に記載の平版印刷版原版。
〔11〕
上記画像記録層が更に(D)300nm〜900nmに吸収波長を持つ増感色素を含むことを特徴とする、上記〔1〕〜〔10〕のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
〔12〕
上記(A)ラジカル重合開始剤がヨードニウム塩又はスルホニウム塩であることを特徴とする、上記〔1〕〜〔11〕のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
〔13〕
上記画像記録層が有機ホウ素化合物を含むことを特徴とする、上記〔1〕〜〔12〕のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
〔14〕
上記画像記録層上に無機質の層状化合物を含有する保護層を有することを特徴とする、上記〔1〕〜〔13〕のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
〔15〕
上記画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インキの少なくとも一方により除去可能であることを特徴とする、上記〔1〕〜〔14〕のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
〔16〕
上記〔15〕に記載の機上現像型平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光した後、印刷機シリンダーに取り付け、画像記録層の未露光部を湿し水及び印刷インキの少なくとも一方により除去することを特徴とする製版方法。
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。ただし、実施例73〜98及び134〜141は、参考例である。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量はGPC法による質量平均モル質量(Mw)であり、繰り返し単位の比率はモル百分率である。

Claims (16)

  1. 支持体上に(A)ラジカル重合開始剤、(B)ラジカル重合性化合物及び(C)多官能重合禁止剤を含有する画像記録層を設けてなることを特徴とする平版印刷版原版であって、
    上記(C)多官能重合禁止剤は分子中に、ラジカルと直接的に結合して共有結合を形成するラジカルトラップ部位を2個以上有することを特徴とする平版印刷版原版。
  2. 上記多官能重合禁止剤が、ラジカルトラップ部位としてベンゾキノン部位又はN−オキシルフリーラジカル部位を分子中に2個以上有することを特徴とする、請求項1に記載の平版印刷版原版。
  3. 上記ベンゾキノン部位が、下記構造(X=S又はNH)を有することを特徴とする、請求項2に記載の平版印刷版原版。
  4. 上記XがSであることを特徴とする、請求項3に記載の平版印刷版原版。
  5. 上記N−オキシルフリーラジカル部位が、下記4−置換−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル部位であることを特徴とする、請求項2に記載の平版印刷版原版。
  6. 上記N−オキシルフリーラジカル部位が、下記4−オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルフリーラジカル部位であることを特徴とする、請求項2に記載の平版印刷版原版。
  7. 上記(C)多官能重合禁止剤のラジカルトラップ部位が2個以上6個以下であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
  8. 上記(C)多官能重合禁止剤の含有量が(A)ラジカル重合開始剤の0.1mol%〜20mol%であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
  9. 上記(C)多官能重合禁止剤が、中心骨格Bを有し、n個(nは2以上の整数を表す。)の上記ラジカルトラップ部位を有することを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
  10. 上記中心骨格Bが、ベンゼン骨格、イソシアヌル骨格及びエステル骨格の少なくともいずれかを有していることを特徴する、請求項9に記載の平版印刷版原版。
  11. 上記画像記録層が更に(D)300nm〜900nmに吸収波長を持つ増感色素を含むことを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
  12. 上記(A)ラジカル重合開始剤がヨードニウム塩又はスルホニウム塩であることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
  13. 上記画像記録層が有機ホウ素化合物を含むことを特徴とする、請求項1〜12のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
  14. 上記画像記録層上に無機質の層状化合物を含有する保護層を有することを特徴とする、請求項1〜13のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
  15. 上記画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インキの少なくとも一方により除去可能であることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  16. 請求項15に記載の機上現像型平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光した後、印刷機シリンダーに取り付け、画像記録層の未露光部を湿し水及び印刷インキの少なくとも一方により除去することを特徴とする製版方法。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102018518B1 (ko) * 2015-03-31 2019-09-05 후지필름 가부시키가이샤 상층막 형성용 조성물, 패턴 형성 방법, 레지스트 패턴, 및 전자 디바이스의 제조 방법
KR20180028404A (ko) * 2015-07-01 2018-03-16 디아이씨 가부시끼가이샤 안정제 화합물, 액정 조성물 및 표시 소자
US10633590B2 (en) 2015-09-04 2020-04-28 Dic Corporation Liquid crystal composition and liquid crystal display device including the same
WO2017038552A1 (ja) * 2015-09-04 2017-03-09 Dic株式会社 安定剤化合物、液晶組成物および表示素子
KR20170046585A (ko) * 2015-10-21 2017-05-02 제이엔씨 주식회사 감광성 조성물
US10421908B2 (en) 2016-03-08 2019-09-24 Dic Corporation Liquid crystal composition and liquid crystal display device including the same
JP6813326B2 (ja) * 2016-10-06 2021-01-13 東京応化工業株式会社 レジストパターンのラフネスを低減させるために用いられる被覆剤、及びラフネスが低減されたレジストパターンの製造方法
CN109952536B (zh) 2016-11-16 2022-07-08 富士胶片株式会社 辐射感光性组合物、平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法
EP3501837A1 (en) * 2017-12-21 2019-06-26 Université de Haute Alsace Thermal amplification of free radical polymerization induced by red to near-infrared irradiation
WO2019219577A1 (en) * 2018-05-14 2019-11-21 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
WO2020066377A1 (ja) * 2018-09-27 2020-04-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
CN114181375B (zh) * 2021-11-25 2023-10-13 五邑大学 一种交联型醌类聚合物及其制备方法与应用

Family Cites Families (145)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (ja) 1950-12-06
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
NL267931A (ja) 1960-08-05 1900-01-01
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3280734A (en) 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
ZA6807938B (ja) 1967-12-04
JPS4841708B1 (ja) 1970-01-13 1973-12-07
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
DE2347784C3 (de) 1972-09-27 1978-11-23 E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington, Del. (V.St.A.) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
JPS5549729B2 (ja) 1973-02-07 1980-12-13
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2363806B2 (de) 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US3902734A (en) 1974-03-14 1975-09-02 Twm Mfg Co Frames for axle suspension systems
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
GB1512981A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Curable epoxide compositions
JPS5311314B2 (ja) 1974-09-25 1978-04-20
ZA757984B (en) 1974-10-04 1976-12-29 Dynachem Corp Polymers for aqueous processed photoresists
JPS5944615B2 (ja) 1976-02-16 1984-10-31 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物及びそれを用いた金属画像形成材料
JPS6031206B2 (ja) 1977-07-14 1985-07-20 日本ポリウレタン工業株式会社 ポリイソシアネ−ト組成物
JPS5492723A (en) 1977-12-30 1979-07-23 Somar Mfg Photosensitive material and use
US4173476A (en) 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
JPS561044A (en) * 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
DE3406101A1 (de) 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
JPS63287947A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH07120041B2 (ja) 1987-05-21 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH07120040B2 (ja) 1987-05-21 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPS63287944A (ja) 1987-05-21 1988-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH07120042B2 (ja) 1987-05-21 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
JPH0721633B2 (ja) 1987-07-10 1995-03-08 富士写真フイルム株式会社 感光材料
JPH0812424B2 (ja) 1987-11-19 1996-02-07 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH01271741A (ja) 1988-04-25 1989-10-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH07103171B2 (ja) 1988-05-13 1995-11-08 日本ペイント株式会社 光重合性組成物
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
JP2655349B2 (ja) 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPH04365049A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JP2739395B2 (ja) 1991-08-19 1998-04-15 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2549777B2 (ja) 1991-09-10 1996-10-30 三菱製紙株式会社 平版印刷版
JPH05158230A (ja) 1991-12-10 1993-06-25 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP2907643B2 (ja) 1992-07-16 1999-06-21 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版およびその処理方法
DE69325391T2 (de) 1993-01-20 2000-02-24 Agfa Gevaert Nv Fotopolymerisierbare Zusammensetzung mit hoher Empfindlichkeit und dieseZusammensetzung verwendendes Vefahren zum Herstellen von Bildern
DE69402537D1 (de) 1993-02-09 1997-05-15 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung eines Druckstroms für Flachdruck
US5340699A (en) 1993-05-19 1994-08-23 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
DE69623140T2 (de) 1995-10-24 2003-03-27 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindender Entwicklung
EP0770494B1 (en) 1995-10-24 2000-05-24 Agfa-Gevaert N.V. A method for making a lithographic printing plate involving on press development
DE69608522T2 (de) 1995-11-09 2001-01-25 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit
DE69613078T2 (de) 1995-11-09 2001-11-22 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit
JPH09179296A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179298A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179297A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH1058636A (ja) 1996-08-20 1998-03-03 Toray Ind Inc レーザー感応性平版印刷版原版
US5912106A (en) * 1996-09-10 1999-06-15 Ciba Specialty Chemicals Corporation Method for improving photoimage quality
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JP3839552B2 (ja) 1997-06-03 2006-11-01 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法
DE69812871T2 (de) 1998-01-23 2004-02-26 Agfa-Gevaert Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren um damit Flachdruckplatten herzustellen
JP3907144B2 (ja) 1998-04-09 2007-04-18 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法、レーザ走査露光用平版印刷版原版、および光重合性組成物
JP2000250211A (ja) 1999-03-01 2000-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2001096710A (ja) 1999-09-29 2001-04-10 Konica Corp 平版印刷版原版、平版印刷版、それらの作製方法、及び印刷方法
JP2001277740A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001277742A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001253181A (ja) 2000-03-09 2001-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感熱性平版印刷用原板
JP3449342B2 (ja) 2000-03-30 2003-09-22 三菱化学株式会社 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法
JP2001322365A (ja) 2000-05-16 2001-11-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷用原板
JP4105371B2 (ja) 2000-07-28 2008-06-25 富士フイルム株式会社 ネガ型感光性平版印刷版
JP4191887B2 (ja) 2000-09-27 2008-12-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4414607B2 (ja) 2001-03-14 2010-02-10 富士フイルム株式会社 ラジカル重合性化合物
JP2002287344A (ja) 2001-03-27 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版
US20040091811A1 (en) 2002-10-30 2004-05-13 Munnelly Heidi M. Hetero-substituted aryl acetic acid co-initiators for IR-sensitive compositions
US20030118939A1 (en) 2001-11-09 2003-06-26 Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. High speed negative working thermal printing plates
US20040259027A1 (en) 2001-04-11 2004-12-23 Munnelly Heidi M. Infrared-sensitive composition for printing plate precursors
JP2003076010A (ja) 2001-09-04 2003-03-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2003064130A (ja) 2001-08-29 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
CN1222554C (zh) * 2001-09-10 2005-10-12 长兴化学工业股份有限公司 含由苯醌-环戊二烯加成物衍生的官能团的树脂化合物及含此化合物的光阻剂组成物
JP2003270775A (ja) 2002-03-13 2003-09-25 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版及び平版印刷版の製版方法
JP3989270B2 (ja) 2002-03-25 2007-10-10 富士フイルム株式会社 光重合性組成物
JP2003295425A (ja) * 2002-04-03 2003-10-15 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
DE50204080D1 (de) 2002-04-29 2005-10-06 Agfa Gevaert Nv Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
DE10255663B4 (de) 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente
JP4299032B2 (ja) 2003-03-28 2009-07-22 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
JP2005238816A (ja) 2003-07-22 2005-09-08 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2005059446A (ja) 2003-08-15 2005-03-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2005077978A (ja) 2003-09-03 2005-03-24 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 平版印刷版材料及び平版印刷版の製版方法
JP4815113B2 (ja) 2003-09-24 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4351933B2 (ja) 2004-03-05 2009-10-28 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法
JP4445790B2 (ja) 2004-04-07 2010-04-07 富士フイルム株式会社 重合性組成物
JP2006065210A (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4460986B2 (ja) 2004-09-24 2010-05-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006154074A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 感光性平版印刷版材料
JP2006188038A (ja) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
JP4469734B2 (ja) 2005-02-03 2010-05-26 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2006239867A (ja) 2005-02-28 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5172097B2 (ja) 2005-02-28 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版原版の製造方法
JP2006243493A (ja) 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4393408B2 (ja) 2005-03-16 2010-01-06 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版
US20060263720A1 (en) 2005-05-11 2006-11-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive lithographic printing plate
US7153632B1 (en) 2005-08-03 2006-12-26 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2007094138A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
US7700264B2 (en) * 2005-10-31 2010-04-20 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive resin composition, image forming material and image forming method using thereof
US20100305327A1 (en) * 2005-12-27 2010-12-02 Adeka Corporation Nitroxyl compound, and polymerization inhibitor and polymerization inhibitor composition using same
KR20080080166A (ko) * 2005-12-27 2008-09-02 가부시키가이샤 아데카 니트록실 화합물 및 이를 이용한 중합방지제 및 중합방지제조성물
US20070160935A1 (en) * 2006-01-12 2007-07-12 Keiichi Okajima Lithographic printing plate material for CTP
JP5238170B2 (ja) 2006-03-14 2013-07-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2007248863A (ja) 2006-03-16 2007-09-27 Fujifilm Corp ネガ型平版印刷版原版
JP2007249036A (ja) 2006-03-17 2007-09-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2007272134A (ja) 2006-03-31 2007-10-18 Fujifilm Corp ネガ型平版印刷版原版
JP4796890B2 (ja) 2006-03-31 2011-10-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2007293221A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
WO2008105552A1 (ja) * 2007-02-27 2008-09-04 Jsr Corporation 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子用スペーサーおよび保護膜ならびにそれらの形成方法
JP4826918B2 (ja) 2007-04-03 2011-11-30 三菱化学株式会社 光重合性組成物
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2008284858A (ja) 2007-05-21 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US20080311520A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Jianfei Yu On-press developable negative-working imageable elements and methods of use
EP2006738B1 (en) 2007-06-21 2017-09-06 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
JP2009069802A (ja) * 2007-08-22 2009-04-02 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および製版方法
JP2009090645A (ja) 2007-09-20 2009-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5147415B2 (ja) * 2008-01-07 2013-02-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009204874A (ja) * 2008-02-28 2009-09-10 Mitsubishi Paper Mills Ltd 感光性組成物及びネガ型感光性平版印刷版
JP2009237332A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP5408942B2 (ja) * 2008-09-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および製版方法
JP2010102330A (ja) * 2008-09-24 2010-05-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2011213113A (ja) * 2010-03-19 2011-10-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
EP2383118B1 (en) 2010-04-30 2013-10-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof
JP5789448B2 (ja) 2010-08-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
CN102176107B (zh) * 2011-01-06 2012-08-29 西安理工大学 一种胶印水性uv感光胶喷射制版方法

Also Published As

Publication number Publication date
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