JP2001322365A

JP2001322365A - 感熱性平版印刷用原板

Info

Publication number: JP2001322365A
Application number: JP2000143387A
Authority: JP
Inventors: Keiji Akiyama; 慶侍秋山; Kazuo Maemoto; 一夫前本; Hisashi Hotta; 久堀田
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2000-05-16
Filing date: 2000-05-16
Publication date: 2001-11-20

Abstract

(57)【要約】【課題】露光後処理を行うことなく直接印刷機に装着
して印刷することが可能であり、良好な機上現像性を有
し、感度が高く、かつ高耐刷性を示し、しかも印刷での
汚れ難さやインキ払い性も良好な感熱性平版印刷用原板
を提供する。【解決手段】陽極酸化皮膜を有する支持体上に、熱に
より溶融する疎水性熱可塑性微粒子および親水性バイン
ダーポリマーを含有する親水層を有する感熱性平版印刷
用原板であって、該陽極酸化皮膜がマイクロポアをポア
ワイド処理され、かつ親水性化合物を含有する水溶液に
浸漬処理されていることを特徴とする感熱性平版印刷用
原板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要のコンピ
ュータ・ツウ・プレートシステム用の感熱性平版印刷用
原板に関する。より詳しくは、デジタル信号に基づいた
赤外線走査露光による画像記録が可能であり、画像記録
したものは従来のような液体による現像工程を経ること
なしに、そのまま印刷機に装着して印刷することが可能
な感熱性平版印刷用原板に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツ
ウ・プレートシステム用平版印刷原板については、多数
の研究がなされている。その中で、より一層の工程合理
化と廃液処理問題の解決を目指すものとして、露光後、
現像処理することなしにそのまま印刷機に装着して印刷
可能な平版印刷用原板が研究され、種々の方法が提案さ
れている。有望な方法の一つは、親水性バインダーポリ
マー中に疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を分散した親水
層を画像形成層とする感熱性平版印刷用原板である。親
水層に熱を加えると疎水性熱可塑性ポリマー微粒子が融
着し、親水層表面が親油性画像部に変換することを利用
した方法である。

【０００３】かかる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の熱
融着を利用した方式の中で、処理工程をなくす方法の一
つに、露光済みの印刷用原版を印刷機のシリンダーに装
着し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを供給
することによって、印刷用原版の非画像部を除去する機
上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、印刷用原版を
露光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中
で処理が完了する方式である。このような機上現像に適
した平版印刷用原板は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感
光層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像さ
れるのに適した明室取り扱い性を有することが必要とさ
れる。

【０００４】例えば、日本特許２９３８３９７号公報に
は、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合
体の微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設け
た平版印刷用原板が開示されている。この公報には、該
平版印刷用原板において、赤外線レーザー露光して熱可
塑性疎水性重合体の微粒子を熱により合体させて画像形
成した後、印刷機シリンダー上に版を取付け、湿し水お
よび／またはインキにより機上現像できることが記載さ
れている。

【０００５】また、特開平９−１２７６８３号公報およ
びＷＯ９９−１０１８６号公報にも熱可塑性微粒子を熱
による合体後、機上現像により印刷版を作製することが
記載されている。

【０００６】しかしながら、このような熱による微粒子
の合体で画像を作る方法は、良好な機上現像性を示すも
のの、アルミニウム支持体と画像との接着力が弱く、ま
た画像強度も弱いために、耐刷性が不十分という問題が
あった。この対策として、接着力の強いリン酸浴陽極酸
化皮膜を使用することが知られているが、この方法で
は、インキ払い性が劣化してしまう欠点があった。

【０００７】また、特開平８−４８０２０号公報には、
親油性感熱性層を多孔質親水性支持体上に設けて、赤外
線レーザで露光し、熱により親油性感熱性層を基板に固
着する方法が記載されている。しかし、親油性の皮膜で
は機上現像性が悪く、インキローラーあるいは印刷物へ
親油性感熱層のカスが付着する問題がある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のような先行技術の欠点を克服した感熱性平版印刷用原
板を提供することである。すなわち、良好な機上現像性
を有し、感度が高く、かつ高耐刷性を示し、しかも印刷
での汚れ難さやインキ払い性も良好な感熱性平版印刷用
原板を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、上記目的が、高接着性支持体に親水性の表面処理
を施すことによって達成されることを見出した。すなわ
ち、本発明は、以下のとおりである。

【００１０】１．陽極酸化皮膜を有する支持体上に、熱
により溶融する疎水性熱可塑性微粒子および親水性バイ
ンダーポリマーを含有する親水層を有する感熱性平版印
刷用原板であって、該陽極酸化皮膜が、マイクロポアを
ポアワイド処理され、かつ親水性化合物を含有する水溶
液に浸漬処理されていることを特徴とする感熱性平版印
刷用原板。

【００１１】２．前記１記載の平版印刷用原板をレーザ
ー光によって画像露光し、そのまま印刷機に取り付けて
印刷するか、又は印刷機に取り付けた後に、印刷機上で
レーザー光によって露光し、そのまま印刷することを特
徴とする感熱性平版印刷用原板の製版及び印刷方法。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。本発明に用いられるアルミニウム支
持体としては、寸度的に安定なアルミニウムを主成分と
する金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金
からなる。純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成
分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム
（合金）がラミネートもしくは蒸着されたプラスチック
フィルム又は紙の中から選ばれる。更に、特公昭４８−
１８３２７号公報に記載されているようなポリエチレン
テレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合
された複合シートでもよい。

【００１３】以下の説明において、上記に挙げたアルミ
ニウムまたはアルミニウム合金からなる支持体をアルミ
ニウム支持体と総称して用いる。前記アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ンなどがあり、合金中の異元素の含有量は１０重量％以
下である。本発明では純アルミニウム板が好適である
が、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難
であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。こ
のように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組
成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材
のもの、例えばJIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、
JIS A 3005などを適宜利用することができる。また、本
発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは、およそ
０．１〜０．６ｍｍ程度である。この厚みは、印刷機の
大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜
変更することができる。アルミニウム支持体には、適宜
後述の支持体表面処理が施される。

【００１４】本発明に用いるアルミニウム支持体は、そ
の表面を砂目立てすることができる。砂目立て処理方法
は、特開昭５６−２８８９３号公報に記載されているよ
うな機械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレイン
などがある。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学
的に砂目立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミ
ニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグ
レイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立
てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表
面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目
立て法を用いることができ、これらの各砂目立て方法を
単独あるいは組み合わせて用いることもできる。その中
でも本発明に有用に使用される表面粗さを作る方法は、
塩酸または硝酸電解液中で化学的に砂目立てする電気化
学的方法であり、適する電流密度は１００〜４００Ｃ／
ｄｍ²の範囲である。さらに具体的には、０．１〜５０
重量％の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度２０〜１
００℃、時間１秒〜３０分、電流密度１００〜４００Ｃ
／ｄｍ²の条件で電解を行うことが好ましい。また、機
械的砂目立てと電気化学的砂目立てとを組み合わせて行
うことも好ましい。

【００１５】このように砂目立て処理したアルミニウム
支持体は、酸またはアルカリにより化学的にエッチング
される。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構
造を破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明に適用
するに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤
として用いることにより改善できる。本発明において好
適に用いられるアルカリ剤は、カ性ソーダ、炭酸ソー
ダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソー
ダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と
温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０重量％、２０〜
１００℃であり、アルミニウムの溶解量が５〜２０ｇ／
ｍ²となるような条件が好ましい。エッチングの後、表
面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い
が行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロ
ム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に
電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法として
は、好ましくは特開昭５３−１２７３９号公報に記載さ
れているような５０〜９０℃の温度の１５〜６５重量％
の硫酸と接触させる方法及び特公昭４８−２８１２３号
公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙
げられる。

【００１６】以上のようにして処理されたアルミニウム
支持体は、さらに陽極酸化処理が施される。陽極酸化処
理はこの分野で従来より行われている方法で行うことが
できる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ
酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等の一種、あ
るいはこれらの二種以上を含む水溶液または非水溶液中
でアルミニウム支持体に直流または交流を流すことによ
り、アルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成する
ことができる。陽極酸化処理の条件は使用される電解液
によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一
般的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０
℃、電流密度０．５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００
Ｖ、電解時間１０〜１００秒の範囲が適当である。

【００１７】これらの陽極酸化処理のうちでも、特に英
国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている
硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法および米国特許
３，５１１，６６１号公報に記載されているリン酸を電
解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明におい
ては、陽極酸化皮膜は１〜１０ｇ／ｍ²であることが好
ましく、１ｇ／ｍ²未満であると版に傷が入りやすく、
１０ｇ／ｍ²を越える膜厚とするには多大な電力が必要
となり、経済的に不利である。より好ましくは、１．５
〜７ｇ／ｍ²である。更に好ましくは、２〜５ｇ／ｍ²で
ある。

【００１８】上記の陽極酸化皮膜は、その表面にマイク
ロポアと呼ばれる微細な凹部が一様に分布して形成され
ている。陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの密度
は、処理条件を適宜選択することによって調整すること
ができる。

【００１９】本発明においては、陽極酸化処理の後、マ
イクロポアのポア径を拡げる目的で酸又はアルカリ水溶
液によって処理（ポアワイド処理）することを特徴の一
つとする。この処理は、陽極酸化皮膜が形成されたアル
ミニウム基板を酸又はアルカリ水溶液に浸漬し、陽極酸
化皮膜を溶解し、マイクロポアのポア径を拡大する。こ
のポアワイド処理は、陽極酸化皮膜の溶解量として、
０．０５〜２０ｇ／ｍ²、好ましくは０．１〜５ｇ／
ｍ²、特に好ましくは０．２〜４ｇ／ｍ²の範囲で行われ
る。

【００２０】上記の陽極酸化皮膜を溶解するポアワイド
処理条件として、以下の条件範囲が望ましい。この範囲
から外れると、溶解するまでの時間が著しく長くなり作
業効率が低下してしまったり、逆に、極端な短時間で溶
解してしまい実用上制御できなくなってしまう問題があ
る。具体的条件範囲として、酸水溶液で処理する場合に
は、硫酸、リン酸などの無機酸またはこれらの混合物の
水溶液を用いることが好ましく、濃度としては、好まし
くは１０〜５００ｇ／ｌ、より好ましくは２０〜１００
ｇ／ｌ、温度としては、好ましくは１０〜９０℃、より
好ましくは４０〜７０℃、浸漬処理時間としては、好ま
しくは１０〜３００秒、より好ましくは３０〜１２０秒
である。一方、アルカリ水溶液で処理する場合には、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、あ
るいはこれらの混合物の水溶液を用いることが好まし
く、その水溶液のｐＨとしては、好ましくは１１〜１
３、より好ましくは１１．５〜１２．５であり、温度と
しては、好ましくは１０〜９０℃、より好ましくは３０
〜５０℃、浸漬処理時間としては、好ましくは５〜３０
０秒、より好ましくは１０〜３０秒である。

【００２１】本発明においては、ポアワイド処理後、親
水性化合物を含有する水溶液への浸漬処理により親水性
表面処理を施すことをもう一つの特徴とする。親水性化
合物としては、まず、ポリビニルホスホン酸、スルホン
酸基を有する化合物、あるいは糖類化合物などの有機化
合物を挙げることができる。

【００２２】スルホン酸基を有する化合物としては、芳
香族スルホン酸、そのホルムアルデヒド縮合物、それら
の誘導体及び塩が含まれる。芳香族スルホン酸として
は、フェノールスルホン酸、カテコールスルホン酸、レ
ソルシノールスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸、リグニンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、アセナフテン−５−スルホン酸、フェナントレン
−２−スルホン酸、ベンズアルデヒド−２（または３）
−スルホン酸、ベンズアルデヒド−２，４（または３，
５）−ジスルホン酸、オキシベンジルスルホン酸類、ス
ルホ安息香酸、スルファニル酸、ナフチオン酸、タウリ
ンなどが用いられる。これらの中でベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、リグニンスルホン酸及びそ
れらのホルムアルデヒド縮合物が特に好ましい。さらに
スルホン酸塩として使用してもよく、例えば、ナトリウ
ム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネ
シウム塩等が挙げられる。中でもナトリウム塩、カリウ
ム塩の水溶液が特に望ましい。上記化合物を含有する水
溶液のｐＨは、４〜６．５が好ましく、硫酸、水酸化ナ
トリウム、アンモニア等でこのｐＨ範囲に調整すること
ができる。

【００２３】又、本発明で使用する糖類化合物として
は、単糖類とその糖アルコール、オリゴ糖類、多糖類、
及び配糖体を包含する。単糖類としては、グリセロール
等のトリオース類及び糖アルコール類、トレオースやエ
リトリトール等のテトロース及び糖アルコール類、アラ
ビノースやアラビトール等のペントース及び糖アルコー
ル類、グルコースやソルビトール等のヘキソース及び糖
アルコール類、Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプトース
やＤ−グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプチトール等のヘプト
ース及び糖アルコール類、Ｄ−エリトロ−Ｄ−ガラクト
オクチトール等のオクトース、Ｄ−エリトロ−Ｌ−グル
コ−ノヌロース等のノノースを挙げることができる。オ
リゴ糖類としては、サッカロース、トレハロース、ラク
トースのような二糖類、ラフィノースのような三糖類が
挙げられる。多糖類としては、アミロース、アラビナ
ン、シクロデキストリン、アルギン酸セルロース等が挙
げられる。

【００２４】本発明で用いる配糖体とは、糖部分と非糖
部がエーテル結合等を介して結合している化合物をい
う。これらの配糖体は非糖部分により分類することがで
き、その例としてアルキル配糖体、フェノール配糖体、
クマリン配糖体、オキシクマリン配糖体、フラボノイド
配糖体、アントラキノン配糖体、トリテルペン配糖体、
ステロイド配糖体、からし油配糖体等を挙げることがで
きる。糖部分としては単糖類、オリゴ糖類、多糖類を挙
げることができる。単糖類としてはグリセロール等のト
リオース類及び糖アルコール類、トレオースやエリトリ
トール等のテトロース及び糖アルコール類、アラビノー
スやアラビトール等のペントース及び糖アルコール類、
グルコースやソルビトール等のヘキソース及び糖アルコ
ール類、Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプトースやＤ−
グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプチトール等のヘプトース及
び糖アルコール類、Ｄ−エリトロ−Ｄ−ガラクトオクチ
トール等のオクトース、Ｄ−エリトロ−Ｌ−グルコ−ノ
ヌロース等のノノースを挙げることができる。オリゴ糖
類としては、サッカロース、トレハロース、ラクトース
のような二糖類、ラフィノースのような三糖類が挙げら
れる。多糖類としては、アミロース、アラビナン、シク
ロデキストリン、アルギン酸セルロース等を挙げること
ができる。糖部分としては単糖もしくはオリゴ糖が好ま
しく、より好ましくは単糖もしくは二糖である。好まし
い配糖体の例として下記一般式（Ｉ）の化合物を挙げる
ことができる。

【００２５】

【化１】

【００２６】（式中、Ｒは炭素原子数１〜２０の直鎖も
しくは分枝のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基
を表す。）

【００２７】上記一般式（Ｉ）のＲで表される炭素原子
数１〜２０のアルキル基としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシ
ル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナ
デシル、エイコシル基などが挙げられ、これらアルキル
基は直鎖又は分枝していてもよく、環状アルキル基でも
よい。アルケニル基としては、例えばアリル、２−ブテ
ニル基など、アルキニル基としては、例えば１−ペンチ
ニル基が挙げられる。

【００２８】上記一般式（I）で表される具体的な化合
物として、例えばメチルグルコシド、エチルグルコシ
ド、プロピルグルコシド、イソプロピルグルコシド、ブ
チルグルコシド、イソブチルグルコシド、ｎ−ヘキシル
グルコシド、オクチルグルコシド、カプリルグルコシ
ド、デシルグルコシド、２−エチルヘキシルグルコシ
ド、２−ペンチルノニルグルコシド、２−ヘキシルデシ
ルグルコシド、ラウリルグルコシド、ミリスチルグルコ
シド、ステアリルグルコシド、シクロヘキシルグルコシ
ド、２−ブチニルグルコシドが挙げられる。

【００２９】これらの化合物は、配糖体の一種であるグ
ルコシドで、ブドウ糖のヘミアセタール水酸基が他の化
合物をエーテル状に結合したものであり、例えばグルコ
ースとアルコール類を反応させる公知の方法により得る
ことができる。これらのアルキルグルコシドの一部はド
イツＨｅｎｋｅｌ社で商品名グルコポン（ＧＬＵＣＯＰ
ＯＮ）として市販されており、本発明ではそれを使用す
ることができる。好ましい配糖体の別の例として、サポ
ニン類、ルチントリハイドレート、ヘスペリジンメチル
カルコン、ヘスペリジン、ナリジンハイドレート、フェ
ノール−β−Ｄ−グルコピラノシド、サリシン、３′，
５，７−メトキシ−７−ルチノシドを挙げることができ
る。

【００３０】上記化合物を含有する水溶液のｐＨ調整
は、水酸化カリウム、硫酸、炭酸、炭酸ナトリウム、リ
ン酸、リン酸ナトリウムで行うことができ、ｐＨは８〜
１１が好ましい。

【００３１】ポリビニルホスホン酸水溶液は、濃度０．
１〜５重量％が好ましく、０．２〜２．５％がより好ま
しい。浸漬温度は１０〜７０℃が好ましく、３０〜６０
℃がより好ましい。浸漬時間は１〜２０秒が好ましい。
また、スルホン酸基を有する化合物の水溶液は、濃度
０．０２〜０．２重量％が好ましく、浸漬温度は６０〜
１００℃が好ましい。浸漬時間は１〜３００秒が好まし
く、より好ましくは１０〜１００秒である。さらに、糖
類の水溶液は、濃度０．５〜１０重量％が好ましく、浸
漬温度は４０〜７０℃が好ましい。浸漬時間は２〜３０
０秒が好ましく、より好ましくは５〜３０秒である。

【００３２】本発明では親水性化合物を含有する水溶液
として、上記のような有機化合物の水溶液のみでなく、
アルカリ金属ケイ酸塩水溶液、フッ化ジルコニウムカリ
ウム（Ｋ₂ＺｒＦ₆）水溶液やリン酸塩／無機フッ素化合
物を含む水溶液などの無機化合物水溶液による処理も好
適である。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液処理は、アルカ
リ金属ケイ酸塩が１〜３０重量％、好ましくは２〜１５
重量％であり、２５℃でのｐＨが１０〜１３である水溶
液に、例えば５０〜９０℃で０．５〜４０秒、より好ま
しくは１〜２０秒浸漬する。アルカリ金属ケイ酸塩水溶
液はｐＨが１０より低いと液はゲル化し、１３より高い
と陽極酸化皮膜が溶解されてしまう。

【００３３】本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウ
ムなどが使用され、中でもケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウムが好ましい。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐＨ
を高くするために使用される水酸化物としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがあ
り、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが使
用される。なお、上記処理液にアルカリ土類金属塩もし
くは第IVＢ族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金
属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、
硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫
酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸
塩等の水溶性塩が挙げられる。第IVＢ族金属塩として、
四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、
シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタ
ン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキ
シ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウム等を挙げるこ
とができる。アルカリ土類金属もしくは第IVＢ族金属塩
は単独又は２種以上組み合わせて使用することができ
る。フッ化ジルコニウムカリウム水溶液処理は、濃度
０．１〜１０重量％が好ましく、０．５〜２重量％がよ
り好ましい。浸漬温度は３０〜８０℃が好ましい。又、
浸漬時間は６０〜１８０秒が好ましい。

【００３４】リン酸塩／無機フッ素化合物処理は、リン
酸塩化合物５〜２０重量％、無機フッ素化合物０．０１
〜１重量％の水溶液を用いるのが好ましく、ｐＨは３〜
５に調整する。浸漬温度は３０〜９０℃が好ましく、
又、浸漬時間は２〜３００秒、より好ましくは５〜３０
秒である。

【００３５】本発明で使用するリン酸塩としては、アル
カリ金属及びアルカリ土類金属といった金属のリン酸塩
が挙げられる。具体的には、リン酸亜鉛、リン酸アルミ
ニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウ
ム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウ
ム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二
水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウ
ム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マ
グネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン
酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウ
ム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アン
モニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、
リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウ
ム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸
アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウムが挙げられ
る。又、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウ
ム、ピロリン酸ナトリウムを挙げることができる。好ま
しくはリン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウ
ム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムを用
いることができる。

【００３６】また、本発明で使用する無機フッ素化合物
としては金属フッ化物が好適である。具体的には、フッ
化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フ
ッ化マグネシウム、ヘキサフルオロジルコニウムナトリ
ウム、ヘキサフルオロジルコニウムカリウム、ヘキサフ
ルオロチタン酸ナトリウム、ヘキサフルオロチタン酸カ
リウム、ヘキサフルオロジルコニウム水素酸、ヘキサフ
ルオロチタン水素酸、ヘキサフルオロジルコニウムアン
モニウム、ヘキサフルオロチタン酸アンモニウム、ヘキ
サフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化
リン酸、フッ化リン酸アンモニウム等が挙げられる。本
発明において、水溶液中、リン酸塩及び無機フッ素化合
物はそれぞれ、１種又は２種以上含有させてもよい。こ
れらの水溶液への浸漬処理後は、全て基板は水などによ
って洗浄され、乾燥される。

【００３７】これらの親水性化合物水溶液処理により、
陽極酸化処理後のポアワイド処理で向上した接着性と引
き替えに発生するインキ払い性劣化等の印刷汚れ問題が
解消される。すなわち、ポア径が拡大したことにより、
印刷時、特に印刷機が停止し、印刷版が印刷機上で放置
された後の印刷再スタート時に、インキが取れにくくな
る現象（インキ払い性劣化）が起こりやすくなる問題が
あるが、本処理が施されていると、表面の親水性の向上
により上記問題が軽減される。

【００３８】本発明においては、感熱層を塗布する前
に、必要に応じて、例えばホウ酸亜鉛等の水溶性金属塩
のような無機下塗層、あるいは有機下塗層が設けられて
いてもよい。

【００３９】この有機下塗層に用いられる有機化合物と
しては、例えばカルボキシメチルセルロース、デキスト
リン、アラビアガム、スルホン酸基を側鎖に有する重合
体及び共重合体、ポリアクリル酸、２−アミノエチルホ
スホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を
有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン
酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレ
ンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸等の有機ホス
ホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチ
ルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有
機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン
酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及び
グリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸、グリシン
やβ−アラニン等のアミノ酸類、およびトリエタノール
アミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩
酸塩、黄色染料等から選ばれるが、二種以上混合して用
いてもよい。

【００４０】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。すなわち、水又はメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶媒もしくはそれら
の混合溶剤に、上記の有機化合物を溶解させた溶液をア
ルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける。上記の有機化
合物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布等いずれの方法を用い
てもよい。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２００
ｍｇ／ｍ²が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／
ｍ²である。この範囲内において、良好な耐刷性が得ら
れる。

【００４１】本発明の画像形成層である親水層は、熱に
より溶融する疎水性熱可塑性ポリマー微粒子および親水
性バインダーポリマーを含有する。

【００４２】本発明の親水層に用いられる疎水性熱可塑
性ポリマー微粒子は、好適には３５℃以上の、そしてよ
り好適には５０℃以上の凝固温度を有する。本発明に用
いられる熱可塑性疎水性ポリマー微粒子の凝固温度には
特別な上限はないが、この温度はポリマー微粒子の分解
点より十分低くなくてはならない。該ポリマー微粒子を
凝固温度より上の温度に上げると、それらは溶融合体し
て親水層中で疎水性集塊を生成する。そのためこれらの
部分では水または水性液体に不溶性となり、インキ受容
性となる。

【００４３】本発明の親水層に用いられる疎水性微粒子
を構成する疎水性ポリマーの具体例として、例えば、エ
チレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカル
バゾールなどのモノマーからのホモポリマーまたはコポ
リマーあるいはそれらの混合物を挙げることができる。
その中で特に好適なものとして、ポリスチレン、ポリメ
タクリル酸メチルを挙げることができる。

【００４４】本発明の親水層に用いられる疎水性ポリマ
ーの重量平均分子量は５,０００〜１,０００,０００の
範囲であってよい。

【００４５】本発明の疎水性微粒子は０．０１〜５０μ
ｍの、より好適には０．０５〜１０μｍの、そして最も
好適には０．０５〜２μｍの粒子径を有していてよい。

【００４６】親水層中に含有される疎水性熱可塑性ポリ
マー微粒子の量は、好適には親水層固形分の２０〜６５
重量％の間、そしてより好適には２５〜５５重量％の
間、そして最も好適には３０〜４５重量％の間である。

【００４７】親水性バインダーポリマーとしては、例え
ばヒドロキシル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプ
ロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル
基、アミド基、カルボキシル基、カルボキシメチル基、
カルボキシラト基などの親水基を有するものが好まし
い。

【００４８】親水性バインダーポリマーの具体例とし
て、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、
カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、
セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビ
ニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸
コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポ
リメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチル
メタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒド
ロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリ
マー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマ
ーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレート
のホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメ
タクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロ
キシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマ
ー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレン
ポリマー類、ポリビニルアルコール類、ならびに加水分
解度が少なくとも６０重量％、好ましくは少なくとも８
０重量％の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニル
ホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリ
ドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマ
ー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、
Ｎ−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコ
ポリマー等を挙げることができる。

【００４９】親水性バインダーポリマーの親水層への添
加量は、親水層固形分の５〜４０重量％が好ましく、１
０〜３０重量％がさらに好ましい。この範囲内で、良好
な機上現像性と皮膜強度が得られる。

【００５０】本発明の親水層は、感度を向上させるた
め、赤外線を吸収して発熱する光熱変換剤を含有するこ
とができる。かかる光熱変換剤としては、７００〜１２
００ｎｍの少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質
であればよく、種々の顔料、染料および金属微粒子を用
いることができる。

【００５１】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。

【００５２】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シ
リカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポ
キシ化合物、イソシアネート化合物等）を顔料表面に結
合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、
「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用
技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されてい
る。これらの顔料中、赤外線を吸収するものが、赤外線
を発光するレーザでの利用に適する点で好ましい。かか
る赤外線を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好
ましい。顔料の粒径は０.０１μｍ〜１μｍの範囲にあ
ることが好ましく、０．０１μｍ〜０．５μｍの範囲に
あることが更に好ましい。

【００５３】染料としては、市販の染料および文献（例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊、「化学工業」１９８６年５月号Ｐ．４５〜５１の
「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市
場動向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー）あ
るいは特許に記載されている公知の染料が利用できる。
具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロン
アゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染
料、シアニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。

【００５４】さらに、例えば、特開昭５８−１２５２４
６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭６０−７８７
８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−
１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭
５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、
特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９
３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９
９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３
７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開
昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクワリリ
ウム染料、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染
料や米国特許第４，７５６，９９３号記載の染料、米国
特許第４，９７３，５７２号記載のシアニン染料、特開
平１０−２６８５１２号記載の染料、特開平１１−２３
５８８３号記載のフタロシアニン化合物を挙げることが
できる。

【００５５】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開
昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同
５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−
８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４
６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開
昭５９−２１６１４６号記載のシアニン染料、米国特許
第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリ
リウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０
２号公報に記載されているピリリウム化合物、エポリン
社製エポライトIII−１７８、エポライトIII−１３０、
エポライトIII−１２５等も好ましく用いられる。以下
にいくつかの具体例を示す。

【００５６】

【化２】

【００５７】

【化３】

【００５８】上記の有機系の光熱変換剤は、親水層中に
３０重量％まで添加することができる。好ましくは５〜
２５重量％であり、特に好ましくは７〜２０重量％であ
る。この範囲内で、良好な感度が得られる。

【００５９】本発明の親水層には、光熱変換剤として金
属微粒子も用いることができる。金属微粒子の多くは光
熱変換性であって、かつ自己発熱性であるが、好ましい
金属微粒子として、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｍｏ、
Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｗ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｇｅ、Ｒｅ、Ｓｂの単体または合金、あるい
は、それらの酸化物または硫化物の微粒子が挙げられ
る。これらの金属微粒子を構成する金属の中でも好まし
い金属は、光照射時に熱による合体をし易い、融点がお
よそ１０００℃以下で赤外、可視または紫外線領域に吸
収をもつ金属、例えば、Ｒｅ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｃｕ、Ｇｅ、ＰｂおよびＳｎである。また、特に好
ましいのは、融点も比較的低く、赤外線に対する吸光度
も比較的高い金属の微粒子、例えば、Ａｇ、Ａｕ、Ｃ
ｕ、Ｓｂ、ＧｅおよびＰｂで、最も好ましい元素として
は、Ａｇ、ＡｕおよびＣｕが挙げられる。

【００６０】また、例えばＲｅ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｓｎなどの低融点金属の微粒子
と、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｗ、Ｇｅなどの自
己発熱性金属の微粒子とを混合使用するなど、２種以上
の光熱変換物質で構成されていてもよい。また、Ａｇ、
Ｐｔ、Ｐｄなど微小片としたときに光吸収が特に大きい
金属種の微小片と他の金属微小片を組み合わせて用いる
ことも好ましい。

【００６１】これらの粒子の粒径は、好ましくは１０μ
ｍ以下、さらに好ましくは０．００３〜５μｍ、特に好
ましくは０．０１〜３μｍである。微小であるほど、凝
固温度は低下する、つまりヒートモードの光感度が高く
なって好都合であるが、粒子の分散が難しく、逆に１０
μｍ以上では、印刷物の解像度が悪くなる傾向がある。

【００６２】金属微粒子を光熱変換剤として用いる場
合、その添加量は、親水層固形分の10重量％以上であ
り、好ましくは２0重量％以上、特に好ましくは30重量
％以上で用いられる。１0重量％未満では感度が低くな
ってしまう。

【００６３】上記の光熱変換剤は、親水層の隣接層であ
る下塗層や後述の水溶性オーバーコート層が含有しても
よい。親水層、下塗層およびオーバーコート層のうち少
なくとも一つの層が光熱変換剤を含有することにより、
赤外線吸収効率が高まり、感度を向上できる。

【００６４】本発明の親水層は、必要に応じて、架橋剤
を含んでも良い。好適な架橋剤としては、メチロール基
を有する低分子化合物、例えばメラミン−ホルムアルデ
ヒド樹脂、ヒダントイン−ホルムアルデヒド樹脂、チオ
尿素−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホル
ムアルデヒド樹脂を挙げることができる。

【００６５】本発明の親水層には、さらに必要に応じて
上記以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、画
像形成後、画像部と非画像部の区別をつきやすくするた
め、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤と
して使用することができる。具体的には、オイルイエロ
ー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃
３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オ
イルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラ
ックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント
化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレ
ット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダ
ミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン
（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１
５）等、および特開昭６２−２９３２４７号に記載され
ている染料を挙げることができる。また、フタロシアニ
ン系顔料、アゾ系顔料、酸化チタンなどの顔料も好適に
用いることができる。添加量は、親水層塗布液全固形分
に対し、０．０１〜１０重量％の割合である。

【００６６】さらに、本発明の親水層には、必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を加えるこ
とができる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン
酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、
フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリ
クレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オ
レイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。

【００６７】本発明の親水層は、必要な上記各成分を溶
剤に溶かして塗布液を調製し、塗布される。ここで使用
する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキ
サノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシ
エチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラ
クトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これ
に限定されるものではない。これらの溶剤は、単独また
は混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好まし
くは１〜５０重量％である。

【００６８】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の親
水層塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般
的に０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。この範囲より
塗布量が少なくなると、見かけの感度は大になるが、画
像記録の機能を果たす親水層の皮膜特性は低下する。塗
布する方法としては、種々の方法を用いることができ
る。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗
布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、
ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。

【００６９】本発明に用いられる親水層塗布液には、塗
布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭６２
−１７０９５０号に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、親
水層全固形分の０．０１〜１重量％、さらに好ましくは
０．０５〜０．５重量％である。

【００７０】本発明の平版印刷用原板は、親油性物質に
よる親水層表面の汚染防止のため、親水層上に、更に水
溶性オーバーコート層を設けることができる。本発明に
使用される水溶性オーバーコート層は印刷時容易に除去
できるものであり、水溶性の有機高分子化合物から選ば
れた樹脂を含有する。ここで用いる水溶性の有機高分子
化合物としては、塗布乾燥によってできた被膜がフィル
ム形成能を有するもので、具体的には、ポリ酢酸ビニル
（但し加水分解率６５％以上のもの）、ポリアクリル酸
およびそのアルカリ金属塩あるいはアミン塩、ポリアク
リル酸共重合体およびそのアルカリ金属塩またはアミン
塩、ポリメタクリル酸およびそのアルカリ金属塩または
アミン塩、ポリメタクリル酸共重合体およびそのアルカ
リ金属塩またはアミン塩、ポリアクリルアミドおよびそ
の共重合体、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリ
ビニルピロリドンおよびその共重合体、ポリビニルメチ
ルエーテル、ポリビニルメチルエーテル／無水マレイン
酸共重合体、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチル−
１−プロパンスルホン酸及びそのアルカリ金属塩または
アミン塩、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチル−１
−プロパンスルホン酸共重合体およびそのアルカリ金属
塩あるいはアミン塩、アラビアガム、繊維素誘導体（例
えば、カルボキシメチルセルローズ、カルボキシエチル
セルローズ、メチルセルローズ等）およびその変性体、
ホワイトデキストリン、プルラン、酵素分解エーテル化
デキストリン等を挙げることができる。また、目的に応
じて、これらの樹脂を二種以上混合して用いることもで
きる。

【００７１】また、オーバーコート層には、前記の水溶
性または水分散性の光熱変換剤を添加しても良い。更に
オーバーコート層には塗布の均一性を確保する目的で、
水溶液塗布の場合には、ポリオキシエチレンノニルフェ
ニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルエーテルな
どの非イオン系界面活性剤を添加することができる。オ
ーバーコート層の乾燥塗布量は、０．１〜２．０ｇ／ｍ
²が好ましい。この範囲内で、機上現像性を損なわず、
指紋付着汚れなどの親油性物質による親水層表面の良好
な汚染防止ができる。

【００７２】本発明の平版印刷用原板は熱により画像形
成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像
様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯
などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが
用いられるが、波長７００〜１２００ｎｍの赤外線を放
射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出力赤外
線レーザによる露光が好適である。

【００７３】画像露光された本発明の平版印刷用原板
は、それ以上の処理なしに印刷機に装着し、インキと湿
し水を用いて通常の手順で印刷することができる。ま
た、これらの平版印刷用原板は、特許第２９３８３９８
号に記載されているように、印刷機シリンダー上に取り
つけた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露光
し、その後に湿し水および／またはインクをつけて機上
現像することも可能である。また、これらの平版印刷用
原板は、水または適当な水溶液を現像液とする現像をし
た後、印刷に用いることもできる。

【００７４】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００７５】支持体の製造例１厚さ０．３ｍｍ、材質JIS A 1050のアルミニウム板を８
号ナイロンブラシと８００メッシュのパミストンの水懸
濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄
した。この板を１０％水酸化ナトリウム水溶液に７０℃
で６０秒間浸してエッチングをした後、流水で水洗し、
さらに２０％硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これ
をＶａ＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を
用いて１％硝酸水溶液中で３００Ｃ／ｄｍ²の陽極時電
気量にて電解粗面化処理を行った。アルミニウム板の表
面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒａ表示）であ
った。引き続いて３０％硫酸水溶液中に浸漬し、５５℃
で２分間デスマットした後、３３℃、１５％硫酸中で５
Ａ／ｄｍ²の電流密度で４５秒間直流電解して陽極酸化
皮膜を形成した。生成した陽極酸化皮膜のマイクロポア
を拡大するため６０℃の５０ｇ／ｌ硫酸中に１分間浸漬
した後、さらにケイ酸ナトリウム２．５重量％水溶液で
７０℃１２秒間処理し、水洗乾燥して、支持体（I）を
得た。

【００７６】支持体の製造例２ポアワイド処理まで製造例１と同じ処理を施した後、フ
ッ化ジルコニウムカリウム１．５重量％水溶液で６０℃
６０秒間処理し、水洗乾燥して、支持体（II）を得た。

【００７７】支持体の製造例３製造例２のフッ化ジルコニウムカリウム水溶液の代わり
に、ＮａＨ₂ＰＯ₄／ＮａＦ（１０重量％／０．１重量
％）水溶液で、７０℃３０秒間処理して、水洗、乾燥し
て、支持体（III）を得た。

【００７８】支持体の製造例４製造例２のフッ化ジルコニウムカリウム水溶液の代わり
に、ポリビニルホスホン酸０．５重量％水溶液で、６０
℃１０秒間処理して、水洗、乾燥して、支持体（IV）を
得た。

【００７９】支持体の製造例５製造例２のフッ化ジルコニウムカリウム水溶液の代わり
に、リグニンスルホン酸ナトリウム０．１重量％水溶液
（ｐＨ５．５）で、８０℃６０秒間処理して、水洗、乾
燥して、支持体（V）を得た。

【００８０】支持体の製造例６製造例２のフッ化ジルコニウムカリウム水溶液の代わり
に、サポニン１重量％水溶液（ｐＨ５．５）で、４０℃
３０秒間処理して、水洗、乾燥して、支持体（VI）を得
た。

【００８１】支持体の製造例７支持体の製造例１と同様に陽極酸化処理までを行った。
次いで、０．１Ｍ炭酸ナトリウムと０．１Ｍ炭酸水素ナ
トリウムを含み、水酸化ナトリウムでｐＨ＝１３に調製
した水溶液を用いて、６０℃１０秒間処理することによ
ってポア径を拡大し、水洗、乾燥した。さらにケイ酸ナ
トリウム２．５重量％水溶液で７０℃１２秒間処理し
て、水洗乾燥して、支持体（VII）を得た。

【００８２】支持体の製造例８ポアワイド処理まで製造例７と同じ処理を施した後、ケ
イ酸ナトリウム水溶液の代わりにフッ化ジルコニウムカ
リウム１．５重量％水溶液で、６０℃６０秒間処理し、
水洗乾燥して、支持体（VIII）を得た。

【００８３】支持体の製造例９製造例８のフッ化ジルコニウムカリウム水溶液の代わり
に、ＮａＨ₂ＰＯ₄／ＮａＦ（１０重量％／０．１重量
％）水溶液で、７０℃３０秒間処理して、水洗、乾燥し
て、支持体（IX）を得た。

【００８４】支持体の製造例１０製造例８のフッ化ジルコニウムカリウム水溶液の代わり
に、ポリビニルホスホン酸０．５重量％水溶液で、６０
℃１０秒間処理して、水洗、乾燥して、支持体（X）を
得た。

【００８５】支持体の製造例１１製造例８のフッ化ジルコニウムカリウム水溶液の代わり
に、リグニンスルホン酸ナトリウム０．１重量％水溶液
（ｐＨ５．５）で、８０℃６０秒間処理して、水洗、乾
燥して、支持体（XI）を得た。

【００８６】支持体の製造例１２製造例１０のフッ化ジルコニウムカリウム水溶液の代わ
りに、サポニン１重量％水溶液（ｐＨ５．５）で、４０
℃３０秒間処理して、水洗、乾燥して、支持体（XII）
を得た。

【００８７】比較用支持体の製造例１支持体の製造例１において、ケイ酸ナトリウム処理をし
ていない支持体を比較用支持体（ｉ）とした。

【００８８】比較用支持体の製造例２支持体の製造例１において、陽極酸化処理までの比較用
支持体（ii）とした。

【００８９】比較用支持体の製造例３支持体の製造例７において、ケイ酸ナトリウム処理をし
ていない支持体を比較用支持体（iii）とした。

【００９０】比較用支持体の製造例４支持体の製造例７において、陽極酸化処理までの比較用
支持体（iv）とした。

【００９１】実施例１〜６および比較例１〜２上記支持体（I）〜（VI）および比較用支持体（i）〜
（ii）上に、それぞれポリアクリル酸（重量平均分子量
２５万）の０．２５重量％メタノール溶液からなる下塗
り液を塗布液量１０ｇ／ｍ²で塗布し、１００℃で６０
秒間乾燥して乾燥塗布重量２５ｍｇ／ｍ²の下塗りを有
する基板を作製した。この基板上に下記のように調製し
た親水層塗布液を塗布液量２０ｇ／ｍ²で塗布し、１０
０℃で６０秒間乾燥して、乾燥塗布重量１．５ｇ／ｍ²
の親水層を有する基板を作製した。

【００９２】（親水層塗布液の調製）ノニオン界面活性
剤によって脱イオン水中に分散されたポリスチレン（Ｔ
ｇ１００℃、平均粒子直径９０ｎｍ）の２０重量％分散
液８ｇに、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル
０．０２４ｇ、脱イオン水１０．９６ｇを連続して加
え、そして最後に撹拌しながらポリビニルアルコール
（ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製）の５重量％水溶液８
ｇを加える。

【００９３】このようにして作製した各基板の親水層上
に、下記組成のオーバーコート層塗布液ＯＣ−１を塗布
液量２０ｇ／ｍ²で塗布し、１００℃で６０秒間乾燥し
て、乾燥塗布重量１．０ｇ／ｍ²のオーバーコート層を
有する感熱性平版印刷用原板を作製した。

【００９４】（オーバーコート層塗布液ＯＣ−１）ポリアクリル酸（重量平均分子量２．５万）１ｇノニオン界面活性剤で安定化したカーボンブラックの２０重量％エタノール分散液２．５ｇメタノール２６．５ｇ

【００９５】このようにして得た平版印刷用原板をカナ
ダ、クレオ社製トレンドセッター（４０Ｗの８３０ｎｍ
半導体レーザーを搭載したプレートセッター）に取付
け、４０ｍＪ／ｃｍ²のエネルギーで露光した。露光し
た版をそれ以上の処理をしないでそのままハリスオーレ
リア印刷機に取付け、エッチ液含有１０容量％イソプロ
ピルアルコール水溶液からなる湿し水とインキを用いて
印刷した。その結果を表１に示した。

【００９６】

【表１】

【００９７】以上のことから、本発明による感熱性平版
印刷用原板は、高感度で耐刷力及び汚れ難さが優れてい
ることが分かる。

【００９８】実施例７〜１２及び比較例３〜４支持体（VII）〜（XII）を用い、更に、実施例１〜６で
用いた親水層塗布液のポリスチレン微粒子の代わりにポ
リメタクリル酸メチル微粒子（Ｔｇ９０℃、平均粒径８
０ｎｍ）を使用した以外は実施例１〜６と同様にして各
感熱性平版印刷用原板を作製した。また、比較用の平版
印刷用原板も、比較用支持体（iii）〜（iv）を用い
て、上記と同様の親水層塗布液を用いて同様にして作製
した。次いで、これらの印刷用原板を用いて実施例１〜
６と同様に露光、印刷した。その結果を表２に示した。

【００９９】

【表２】

【０１００】以上のことから、本発明による感熱性平版
印刷用原板は、高感度で耐刷力及び汚れ難さが優れてい
ることが分かる。

【０１０１】実施例１３〜１８実施例１〜６で用いた親水層塗布液に、更に光熱変換剤
（本明細書記載の染料ＩＲ−１１）を０．５ｇ添加した
塗布液を用いた以外は実施例１〜６と同様にして、各感
熱性平版印刷用原板を作製した。次いで、これらの印刷
用原板を用いて実施例１〜６と同様に露光、印刷した。
その結果、各印刷用原板とも地汚れがなく、インキ払い
性も良好で、１．５〜２万枚の印刷物が得られた。

【０１０２】

【発明の効果】本発明によれば、露光後、処理を行うこ
となく直接印刷機に装着して印刷することが可能な感熱
性平版印刷用原板であって、機上現像性が良好であり、
高感度で耐刷力及び汚れ難さ、インキ払い性の優れた感
熱性平版印刷用原板が提供できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｆ 7/09 ５０１Ｇ０３Ｆ 7/09 ５０１ 7/11 ５０３ 7/11 ５０３ (72)発明者堀田久静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地富士写真フイルム株式会社内Ｆターム(参考） 2H025 AA02 AA12 AA14 AB03 AC08 AD01 BH03 BJ03 CB54 DA20 DA35 DA36 FA10 2H084 AA14 AA38 BB02 CC05 2H096 AA06 BA01 CA03 EA04 EA23 2H114 AA04 AA14 AA24 BA01 BA10 DA03 DA04 DA05 DA09 DA11 DA13 DA14 DA34 DA42 DA43 DA44 DA46 DA50 DA51 DA53 EA01 EA03 EA05 EA08 GA02 GA05 GA06 GA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】陽極酸化皮膜を有する支持体上に、熱に
より溶融する疎水性熱可塑性微粒子および親水性バイン
ダーポリマーを含有する親水層を有する感熱性平版印刷
用原板であって、該陽極酸化皮膜が、マイクロポアをポ
アワイド処理され、かつ親水性化合物を含有する水溶液
に浸漬処理されていることを特徴とする感熱性平版印刷
用原板。
【請求項２】請求項１に記載の平版印刷用原板をレー
ザー光によって画像露光し、そのまま印刷機に取り付け
て印刷するか、又は印刷機に取り付けた後に、印刷機上
でレーザー光によって露光し、そのまま印刷することを
特徴とする感熱性平版印刷用原板の製版及び印刷方法。