JP2003034090A

JP2003034090A - 平版印刷用原板

Info

Publication number: JP2003034090A
Application number: JP2001221802A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Maemoto; 一夫前本; Hisashi Hotta; 久堀田
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-07-23
Filing date: 2001-07-23
Publication date: 2003-02-04

Abstract

(57)【要約】【課題】デジタル信号に基づいた赤外線走査露光後、
処理を行うことなくそのまま印刷機に装着して印刷可能
な平版印刷用原板であって、良好な機上現像性を有し、
感度が高く、かつ高耐刷性を示し、しかもインキ払い性
等、印刷での汚れ難さも良好な感熱性平版印刷用原板を
提供する。【解決手段】塩酸を含有する水溶液中で電気化学的粗
面化処理され、熱伝導率が０．０５〜０．５Ｗ／ｍＫで
ある親水膜を有するアルミニウム基板上に、（ａ）熱融
着性ポリマー微粒子、（ｂ）熱反応性官能基を有するポ
リマー微粒子、及び（ｃ）熱反応性化合物を内包するマ
イクロカプセルから選ばれた少なくとも2種類の微粒子
を含有する画像記録層を有し、該微粒子の少なくとも１
種の熱による合体により画像形成がなされることを特徴
とする平版印刷用原板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要のコンピ
ュータ・ツウ・プレート（ＣＴＰ）システム用の平版印
刷用原板に関する。より詳しくは、デジタル信号に基づ
いた赤外線走査露光による画像記録が可能であり、画像
記録したものは従来のような液体による現像工程を経る
ことなしで、そのまま印刷機に装着して印刷することが
可能な感熱性平版印刷用原板に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年進展が目覚ましいＣＴＰシステム用
平版印刷用原板については、多数の研究がなされてい
る。その中で、より一層の工程合理化と廃液処理問題の
解決を目指すものとして、露光後、そのまま印刷機に装
着して印刷可能な平版印刷用原板が研究され、種々の方
法が提案されている。有望な方法の一つは、親水性バイ
ンダーポリマー中に疎水性熱可塑性ポリマー粒子を分散
した層を画像記録層とする感熱性平版印刷用原板であ
る。画像記録層に熱を加えると疎水性熱可塑性ポリマー
粒子が融着合体し、親水性の画像記録層表面が親油性画
像部に変換することを利用した方法である。

【０００３】かかる疎水性熱可塑性ポリマー粒子の熱融
着を利用した方式の中で、処理工程をなくす方法の一つ
に、露光済みの印刷用原板を印刷機の版胴に装着し、版
胴を回転しながら湿し水とインキを供給し、さらに印刷
用紙を供給することによって、印刷版用原板の非画像部
を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、
印刷版用原板を露光後、そのまま印刷機に装着し、通常
の印刷過程の中で非画像部の除去が完了する方式であ
る。

【０００４】このような機上現像に適した平版印刷用原
板は、湿し水及びインキ溶剤の少なくともいずれかに可
溶な画像記録層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機
上の現像で可視光に曝されてもカブリを生じない特性、
いわゆる明室取り扱い性を有することが必要とされる。

【０００５】例えば、特許第２９３８３９７号公報に
は、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合
体の微粒子を分散させた感光層（画像記録層）を親水性
基板上に設けた平版印刷用原板が記載されている。この
公報には、該平版印刷用原板において、赤外線レーザー
露光して熱可塑性疎水性重合体の微粒子を熱により合体
させて画像形成した後、印刷機の版胴に版を取付け、湿
し水及び／又はインキを供給することにより機上現像で
きることが記載されている。また、赤外感光性であるた
め、良好な明室取り扱い性を有している。

【０００６】しかし、このような平版印刷用原板では、
画像記録層を塗布乾燥する時に樹脂微粒子が融着してカ
ブリ原因となる問題があった。その対策として、塗布乾
燥時の樹脂微粒子の融着を避けるために低温で長時間掛
けて乾燥を行うのでは、生産効率が低下し実用性に欠け
る。また、水溶性樹脂等の粒子付着防止剤を用いる対策
はインク着肉性劣化が起こる問題があった。特開２００
０−１４１９３３号には、粒径分布が２以上のピークを
有する高分子重合体微粒子を含有する層を有する機上現
像が可能な画像形成材料によって、これらの問題を解決
できることが記載されている。

【０００７】特開２０００−２２１６６７号には、最低
成膜温度が異なる２種以上のポリマー微粒子を含有する
画像形成層を有する機上現像可能な画像形成材料が記載
されていて、従来の機上現像型の平版印刷用原板で問題
であった画像強度、耐刷力の劣化、安定した湿し水供給
を克服でき、結果として安定した印刷品質が得られるこ
とが記載されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような少なくとも2種類のポリマー微粒子を含む画像記
録層を有する平版印刷用原板においてもなお、寸度安定
性の点で望ましい金属基板を用いた場合には、金属基板
に熱が逃げるため感度が低く、微粒子の融着合体が不十
分なため画像強度が弱く、その結果高耐刷性が得られな
かった。金属基板への熱拡散の対策として、有機樹脂を
金属基板上に設ける方法が提案されているが、この方法
は感度は向上するものの、印刷汚れを生じる問題があっ
た。

【０００９】本発明の目的は、上記のような先行技術の
欠点を克服した平版印刷用原板を提供することである。
すなわち、良好な機上現像性を有し、感度が高く、かつ
高耐刷性を示し、しかもインキ払い性等、印刷での汚れ
難さも良好な感熱性平版印刷用原板を提供することであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、粗面化したアルミニウム板を粗面化し、その上に
特定の範囲の熱伝導率もしくは密度などの物性を有する
親水膜を設けた基板を用いることによって、印刷汚れを
良好に保持した上でアルミニウム基板の断熱性を向上で
きることを見出した。その結果、アルミニウム基板への
熱の拡散を抑制して感度を高め、微粒子の熱による合体
の効率を高めて画像強度を上げて耐刷性を確保し、しか
も機上現像性及び印刷での汚れ難さも良好に保持し、上
記目的を達成できた。すなわち、本発明は、以下のとお
りである。

【００１１】１．塩酸を含有する水溶液中で電気化学的
粗面化処理され、熱伝導率が０．０５〜０．５Ｗ／ｍＫ
である親水膜を有するアルミニウム基板上に、（ａ）熱
融着性ポリマー微粒子、（ｂ）熱反応性官能基を有する
ポリマー微粒子、及び（ｃ）熱反応性化合物を内包する
マイクロカプセルから選ばれた少なくとも2種類の微粒
子を含有する画像記録層を有し、該微粒子の少なくとも
１種の熱による合体により画像形成がなされることを特
徴とする平版印刷用原板。

【００１２】２．塩酸を含有する水溶液中で電気化学的
粗面化処理され、密度が１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³
及び／又は空隙率が２０〜７０％である親水膜を有する
アルミニウム基板上に、ａ）熱融着性ポリマー微粒
子、（ｂ）熱反応性官能基を有するポリマー微粒子、及
び（ｃ）熱反応性化合物を内包するマイクロカプセルか
ら選ばれた少なくとも2種類の微粒子を含有する画像記
録層を有し、該微粒子の少なくとも１種の熱による合体
により画像形成がなされることを特徴とする平版印刷用
原板。

【００１３】３．粗面化形状の小ピットの平均開口径が
０．０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均開口径に
対する比が０．１〜０．５であり、熱伝導率が０．０５
〜０．５Ｗ／ｍＫである親水膜を有するアルミニウム基
板上に、ａ）熱融着性ポリマー微粒子、（ｂ）熱反応
性官能基を有するポリマー微粒子、及び（ｃ）熱反応性
化合物を内包するマイクロカプセルから選ばれた少なく
とも2種類の微粒子を含有する画像記録層を有し、該微
粒子の少なくとも１種の熱による合体により画像形成が
なされることを特徴とする平版印刷用原板。

【００１４】４．粗面化形状の小ピットの平均開口径が
０．０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均開口径に
対する比が０．１〜０．５であり、密度が１０００〜３
２００ｋｇ／ｍ³及び／又は空隙率が２０〜７０％であ
る親水膜を有するアルミニウム基板上に、ａ）熱融着
性ポリマー微粒子、（ｂ）熱反応性官能基を有するポリ
マー微粒子、及び（ｃ）熱反応性化合物を内包するマイ
クロカプセルから選ばれた少なくとも2種類の微粒子を
含有する画像記録層を有し、該微粒子の少なくとも１種
の熱による合体により画像形成がなされることを特徴と
する平版印刷用原板。

【００１５】５．アルミニウム基板の大きなうねりの平
均開口径が３〜２０μｍであることを特徴とする前記１
から前記４のいずれかに記載の平版印刷用原板。

【００１６】６．親水膜が陽極酸化皮膜であることを特
徴とする前記１から前記５のいずれかに記載の平版印刷
用原板。

【００１７】７．陽極酸化皮膜量が３．２ｇ／ｍ²以上
であることを特徴とする前記６に記載の平版印刷用原
板。

【００１８】８．陽極酸化皮膜の表層のポア径が４０ｎ
ｍ以下であることを特徴とする前記６又は前記７に記載
の平版印刷用原板。

【００１９】９．陽極酸化皮膜が封孔処理されているこ
とを特徴とする前記６から前記８のいずれかに記載の平
版印刷用原板。

【００２０】１０．陽極酸化皮膜上に平均粒径８〜８０
０ｎｍからなる粒子の層を設けたことを特徴とする前記
６から前記９のいずれかに記載の平版印刷用原板。

【００２１】１１．陽極酸化皮膜が２段階以上の陽極酸
化処理により形成されたことを特徴とする前記６から前
記１０のいずれかに記載の平版印刷用原板。

【００２２】１２．１段階目で硫酸を含有する電解液で
陽極酸化を行い、２段階目以降にリン酸を含有する電解
液で陽極酸化したことを特徴とする前記１１に記載の平
版印刷用原板。

【００２３】１３．画像記録層が光熱変換剤を含有す
ることを特徴とする前記１から前記１２のいずれかに記
載の平版印刷用原板。

【００２４】１４．光熱変換剤が、（ａ）熱融着性ポリ
マー微粒子、（ｂ）熱反応性官能基を有するポリマー微
粒子、及び（ｃ）熱反応性化合物を内包するマイクロカ
プセルから選ばれた少なくとも１種の微粒子に含有され
ることを特徴とする前記１３に記載の平版印刷用原板。

【００２５】１５．画像記録層に含有される微粒子が、
熱反応性官能基を有するポリマー微粒子及び熱反応性化
合物を内包するマイクロカプセルから選ばれた微粒子で
あることを特徴とする前記１から前記１４のいづれかに
記載の平版印刷用原板。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。ここで、％は特に断りのない限り質
量％を示す。

【００２７】［アルミニウム基板］本発明に用いるアル
ミニウム基板は、塩酸を含有する水溶液を用いて電気化
学的粗面化処理され、特定範囲の熱伝導率の親水膜を有
するアルミニウム基板である。また、本発明に用いるア
ルミニウム基板は、塩酸を含有する水溶液を用いて電気
化学的粗面化処理され、特定範囲の密度又は空隙率の親
水膜を有するアルミニウム基板である。また、本発明に
用いるアルミニウム基板は、粗面化形状の小ピットの平
均開口径及び小ピットの平均深さの平均開口径に対する
比が特定範囲にあるアルミニウム基板である。以下に、
このようなアルミニウム基板について詳細に説明する。

【００２８】一般に平版印刷用原板に好適に用いられる
アルミニウム基板の粗面化構造は、平均開口径（平均直
径）が数μm〜数１０μｍである大波構造と、平均開口
径が０．０１〜数μｍであるピットとの重畳構造であ
る。本発明においては、大波構造を大きなうねり、内部
に更に小さなピットが存在しないピットを小ピットと呼
ぶ。また、陽極酸化皮膜のマイクロポアを単にポアとも
呼ぶ。

【００２９】本発明のアルミニウム基板の原料として用
いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウ
ムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたはアル
ミニウム合金からなる。純アルミニウム板のほか、アル
ミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板や、ア
ルミニウムまたはアルミニウム合金がラミネートされ、
または蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙を用い
ることもできる。更に、特公昭４８−１８３２７号に記
載されているようなポリエチレンテレフタレートフィル
ム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートを
用いることもできる。

【００３０】上記アルミニウム板の製造方法としては、
例えば、ＤＣ鋳造法、ＤＣ鋳造法から均熱処理および／
または焼鈍処理を省略した方法、および連続鋳造法を挙
げることができる。以下の説明において、上に挙げたア
ルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基板をアル
ミニウム基板と総称して用いる。

【００３１】前記アルミニウム合金に含まれる異元素に
は、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等があり、合金
中の異元素の含有量は１０％以下である。本発明では純
アルミニウム板を用いるのが好適であるが、完全に純粋
なアルミニウムは精練技術上、製造が困難であるので、
わずかに異元素を含有するものを用いてもよい。このよ
うに本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が
特定されるものではなく、アルミニウムハンドブック第
４版（軽金属協会（１９９０））に記載の従来より公知
公用の素材のもの、例えば、ＪＩＳＡ１０５０、Ｊ
ＩＳＡ１１００、ＪＩＳＡ３１０３、ＪＩＳ
Ａ３００５等を適宜利用することができる。

【００３２】本発明に用いられるアルミニウム板の厚み
は、０.１〜０.６ｍｍ程度である。この厚みは印刷機の
大きさ、印刷版の大きさおよびユーザーの希望により適
宜変更することができる。アルミニウム板には、適宜、
以下で述べる表面処理が施される。

【００３３】一般に、平版印刷版用アルミニウム基板
は、アルミニウム板に付着している圧延油を除く脱脂工
程、アルミニウム板の表面のスマットを溶解するデスマ
ット処理工程等の粗面化前処理、及びアルミニウム板の
表面を粗面化する粗面化処理工程を経て製造される。

【００３４】本発明のアルミニウム基体は、上記の処理
に次いでさらに、特定の熱伝導率の親水膜を設けられ
る。さらに必要に応じて、酸、アルカリ処理工程、封孔
処理工程、親水化処理工程を経て、平版印刷用原板に用
いる基板を形成する。さらに必要に応じて、基板形成
後、下塗り層を設けてもよい。

【００３５】本発明の粗面化処理をはじめとする製造方
法は、連続法でも断続法でも良いが、工業的には連続法
を用いるのが好ましい。以下、各表面処理工程について
詳細に説明する。

【００３６】＜粗面化前処理＞アルミニウム板は、強固
な汚れや自然酸化皮膜を除去する等のため、苛性ソーダ
等のアルカリ水溶液を用いて溶解処理が行われ、溶解処
理後の残留アルカリ成分を中和するため、リン酸、硝
酸、硫酸、塩酸、コロム酸等の酸もしくはそれらの混酸
に浸漬して中和処理が行われる。なお、必要により、上
記アルミニウム板表面の油脂、錆、ゴミなどを除去する
ため、トリクレン、シンナー等による溶剤脱脂、ケロシ
ン、トリエタノール等のエマルジョンを用いてエマルジ
ョン脱脂処理を行っても良い。中和処理に使用する酸の
種類及び組成は、次工程の電気化学的粗面化処理に使用
する酸のそれに合わせることが特に好ましい。

【００３７】＜粗面化処理＞本発明は、塩酸を含有する
水溶液を電解液とする電気化学的な処理によって粗面化
した基板を使用することを特徴とする。電解液には、必
要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド
類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、シュウ酸等を加
えることができるが、中でも特に酢酸が好ましい。

【００３８】電気化学的粗面化処理において、印可され
る電圧は１〜５０Ｖが好ましく、５〜３０Ｖがさらに好
ましい。電流密度（ピーク値）は５〜２００Ａ／ｄｍ²
が好ましく、２０〜１５０Ａ／ｄｍ²がさらに好まし
い。電気量は、全処理工程を合計して１０〜２０００Ｃ
／ｄｍ²が好ましく、２００〜１０００Ｃ／ｄｍ²がさら
に好ましい。温度は１０〜６０℃が好ましく、１５〜４
５℃がさらに好ましい。周波数は１０〜２００Ｈｚが好
ましく、４０〜１５０Ｈｚがさらに好ましい。

【００３９】塩酸濃度は０．１〜５％が好ましく、電解
に使用する電流波形は、正弦波、矩形波、台形波、鋸歯
状歯等、求める粗面化形状により適宜選択されるが、特
に矩形波が好ましい。

【００４０】電気化学的粗面化処理されたアルミニウム
板は、表面のスマット等を除去したり、粗面ピット形状
をコントロールする等のために、酸またはアルカリの水
溶液に浸漬して表面エッチング処理が行われる。上記酸
としては、例えば硫酸、過硫酸、フッ酸、リン酸、硝
酸、塩酸などが含まれ、上記アルカリとしては、例えば
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が含まれる。これ
らの中でも、アルカリ水溶液を用いるのが好ましく、該
アルカリの０．０５〜４０％水溶液を用いて、２０〜９
０℃の液温で５秒〜５分処理するのが良く、該アルカリ
水溶液で該アルカリ水溶液で表面エッチングした後に、
リン酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、もしくはそれら
の混酸に浸漬して中和処理が行われる。

【００４１】上記粗面化処理工程で用いる電解装置とし
ては、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の電解装
置を用いることができるが、特開平５−１９５３００号
に記載のようなラジアル型電解装置が特に好ましい。

【００４２】図１は、本発明で好適に用いられるラジア
ル型電解装置の概略図である。図１において、ラジアル
型電解装置は、アルミニウム板１１が主電解槽２１中に
配置されたラジアルドラムローラ１２に巻装され、搬送
過程で交流電源２０に接続された主極１３ａおよび１３
ｂによって電解処理される。酸性水溶液１４は、溶液供
給口１５からスリット１６を通じてラジアルドラムロー
ラ１２と主極１３ａおよび１３ｂとの間にある溶液通路
１７に供給される。

【００４３】ついで、主電解槽２１で処理されたアルミ
ニウム板１１は、補助陽極槽２２で電解処理される。こ
の補助陽極槽２２には補助陽極１８がアルミニウム板１
１と対向配置されており、酸性水溶液１４は、補助陽極
１８とアルミニウム板１１との間を流れるように供給さ
れる。なお、補助電極に流す電流は、サイリスタ１９ａ
および１９ｂにより制御される。

【００４４】主極１３ａおよび１３ｂは、カーボン、白
金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、ステンレス、燃料
電池用陰極に用いる電極等から選定することができる
が、カーボンが特に好ましい。カーボンとしては、一般
に市販されている化学装置用不浸透性黒鉛や、樹脂含芯
黒鉛等を用いることができる。補助陽極１８は、フェラ
イト、酸化イリジウム、白金、または、白金をチタン、
ニオブ、ジルコニウム等のバルブ金属にクラッドもしく
はメッキしたもの等公知の酸素発生用電極から選定する
ことができる。

【００４５】主電解槽２１および補助陽極槽２２内を通
過する塩酸含有水溶液の供給方向はアルミニウム板１１
の進行とパラレルでもカウンターでもよい。アルミニウ
ム板に対する塩酸含有水溶液の相対流速は、１０〜１０
００ｃｍ／ｓｅｃであるのが好ましい。

【００４６】一つの電解装置には１個以上の交流電源を
接続することができる。また、２個以上の電解装置を使
用してもよく、各装置における電解条件は同一であって
もよいし異なっていてもよい。また、電解処理が終了し
た後には、処理液を次工程に持ち出さないためにニップ
ローラによる液切りとスプレーによる水洗とを行うのが
好ましい。

【００４７】さらに、上記粗面化処理においては、電解
装置中のアルミニウム板がアノード反応する塩酸含有水
溶液の通電量に比例して、例えば、（ｉ）塩酸含有水溶
液の導電率と（ｉｉ）超音波の伝搬速度と（ｉｉｉ）温
度とから求めた塩酸およびアルミニウムイオン濃度をも
とに、塩酸と水の添加量を調節しながら添加し、塩酸と
水の添加容積と同量の塩酸含有水溶液を逐次電解装置か
らオーバーフローさせて排出することで、上記塩酸含有
水溶液の濃度を一定に保つのが好ましい。

【００４８】さらに、本発明では該塩酸含有電解液中で
の電気化学的粗面化処理の過程で、０．２〜１０秒の休
止時間を設け、かつ１回の電気化学的粗面化処理の電気
量を１００Ｃ／ｄｍ²以下とすることが好ましい。上記
のように電気化学的粗面化処理を複数回に分けて行う場
合は、上記休止時間０．２秒未満で、かつ電気化学的粗
面化処理の電気量が１００Ｃ／ｄｍ²を越えると、開口
径が２０μｍより大きい粗大ピットの生成を抑制するこ
とができず、また、上記休止時間が１０秒を越えるとア
ルミニウム基板の製造に時間がかかり過ぎて生産性が悪
くなる。

【００４９】上記の塩酸含有水溶液を電解液とする電気
化学的粗面化処理は、機械的粗面化処理や異なる条件の
電気化学的粗面化処理と組み合わせて用いることもでき
る。

【００５０】機械的粗面化処理は電気化学的粗面化処理
の前、前記アルカリ水溶液を用いた溶解処理に先だって
行うのが好ましい。機械的粗面化処理の方法は特に限定
されないが、ブラシ研磨、ホーニング研磨が好ましい。
ブラシ研磨では、例えば毛径０．２〜１ｍｍのブラシ毛
を植毛した円筒状ブラシを回転し、研磨材を水に分散さ
せたスラリーを接触面に供給しながらアルミニウム板表
面に押しつけて粗面化処理を行う。ホーニング研磨で
は、研磨材を水に分散させたスラリーをノズルより圧力
をかけて射出し、アルミニウム板表面に斜めから衝突さ
せて粗面化処理を行う。さらに、予め粗面化処理された
シートをアルミニウム板表面に張り合わせ、圧力をかけ
て粗面パターンを転写することにより機械的粗面化処理
を行うこともできる。

【００５１】なお、上記機械的粗面化処理を行う場合
は、前記の溶剤脱脂処理またはエマルジョン脱脂処理を
省略することができる。

【００５２】異なる条件の電気化学的粗面化処理として
は、硝酸を主体とする電気化学的な粗面化処理を挙げる
ことができる。

【００５３】硝酸を主体とする酸性水溶液は、通常の直
流電流または交流電流を用いた電気化学的粗面化処理に
用いられるものでよい。例えば、硝酸アルミニウム、硝
酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸化合物のうち
一つ以上を、０．０１ｇ／ｌから飽和に達するまでの濃
度で、硝酸濃度５〜１５ｇ／ｌの硝酸水溶液に添加して
使用することができる。硝酸を主体とする酸性水溶液中
には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシ
ウム、ケイ素等のアルミニウム合金中に含まれる金属等
が溶解されていてもよい。

【００５４】硝酸を主体とする酸性水溶液としては、中
でも、硝酸と、アルミニウム塩と、硝酸塩とを含有し、
かつ、アルミニウムイオンが１〜１５ｇ／ｌ、好ましく
は１〜１０ｇ／ｌ、アンモニウムイオンが１０〜３００
ｐｐｍとなるように、硝酸濃度５〜１５ｇ／ｌの硝酸水
溶液中に硝酸アルミニウムおよび硝酸アンモニウムを添
加して得られたものを用いることが好ましい。なお、上
記アルミニウムイオンおよびアンモニウムイオンは、電
気化学的粗面化処理を行っている間に自然発生的に増加
していくものである。また、この際の液温は１０〜９５
℃であるのが好ましく、４０〜８０℃であるのがより好
ましい。

【００５５】上記の粗面化処理を施された本発明の平版
印刷用原板は、粗面化形状の小ピットの平均開口径が
０．０１〜３μｍが好ましい。より好ましくは０．０５
〜２μｍで、特に好ましくは０．０５〜１．０μｍであ
る。０．０１μｍ未満では満足な印刷での汚れ難さや耐
刷性が確保できない。一方、３μｍを越えると耐刷性が
劣化する。

【００５６】また、小ピットの平均深さの平均開口径に
対する比は、０．１〜０．５が好ましい。より好ましく
は０．１〜０．３、特に好ましくは０．１５〜０．２で
ある。０．１未満では印刷での汚れ難さや耐刷性が劣化
し、一方、０．５を越えると汚れ難さが劣化する問題が
生じる。

【００５７】粗面化形状の大きなうねりの平均開口径は
３〜２０μｍが好ましい。より好ましくは３〜１７μｍ
で、特に好ましくは４〜１０μｍである。３μｍ未満で
は印刷での汚れ難さや耐刷性が劣化する。一方、２０μ
ｍを越えると汚れ性が劣化する問題が生じる。

【００５８】＜親水膜の形成＞本発明のアルミニウム基
板は、上記のように粗面化処理され、必要に応じて他の
処理を施されたアルミニウム板に、熱伝導率が０．０５
〜０．５Ｗ／ｍＫの親水膜を設けることを特徴とする。

【００５９】親水膜は、膜厚方向の熱伝導率が０．０５
Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であり、好ましくは０．０８Ｗ／
（ｍ・Ｋ）以上であり、また、０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）以
下であり、好ましくは０．３Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であ
り、より好ましくは０．２Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下である。
膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜０．５Ｗ／（ｍ・Ｋ）
とすると、レーザー光の露光により記録層に発生する熱
が基板に拡散することを抑制することができる。その結
果、感度が高くなり、微粒子の熱による合体の効率を高
めて画像強度を向上させて耐刷性を向上できる。

【００６０】以下、本発明で規定する親水膜の膜厚方向
の熱伝導率について説明する。薄膜の熱伝導率測定方法
としては種々の方法がこれまでに報告されている。１９
８６年にはＯＮＯらがサーモグラフを用いて薄膜の平面
方向の熱伝導率を報告している。また、薄膜の熱物性の
測定に交流加熱方法を応用する試みも報告されている。
交流加熱法はその起源を１８６３年の報告にまでさかの
ぼることができるが、近年においては、レーザーによる
加熱方法の開発やフーリエ変換との組み合わせにより様
々な測定法が提案されている。レーザーオングストロー
ム法を用いた装置は実際に市販もされている。これらの
方法はいずれも薄膜の平面方向（面内方向）の熱伝導率
を求めるものである。

【００６１】しかし、薄膜の熱伝導を考える際にはむし
ろ深さ方向への熱拡散が重要な因子である。種々報告さ
れているように薄膜の熱伝導率は等方的でないといわれ
ており、特に本発明のような場合には直接、膜厚方向の
熱伝導率を計測することが極めて重要である。このよう
な観点から薄膜の膜厚方向の熱物性を測定する試みとし
てサーモコンパレータを用いた方法がＬａｍｂｒｏｐｏ
ｕｌｏｓらの論文（Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，６６
（９）（１Ｎｏｖｅｍｂｅｒ１９８９））およびＨ
ｅｎａｇｅｒらの論文（ＡＰＰＬＩＥＤＯＰＴＩＣ
Ｓ，Ｖｏｌ．３２,Ｎｏ．１（１Ｊａｎｕａｒｙ１
９９３））で報告されている。更に、近年、ポリマー薄
膜の熱拡散率をフーリエ解析を適用した温度波熱分析に
より測定する方法が橋本らによって報告されている（Ｎ
ｅｔｓｕＳｏｋｕｔｅｉ，２７（３）（２００
０））。

【００６２】本発明で規定する親水膜の膜厚方向の熱伝
導率は、上記サーモコンパレータを用いる方法で測定さ
れる。以下、上記方法を具体的に説明するが、上記方法
の基本的な原理については、上述したＬａｍｂｒｏｐｏ
ｕｌｏｓらの論文およびＨｅｎａｇｅｒらの論文に詳細
に記載されている。また、上記方法に用いられる装置
は、以下の装置に限定されるものではない。

【００６３】図２は、本発明の平版印刷用原板の親水膜
の膜厚方向の熱伝導率の測定に用いることができるサー
モコンパレータ３０の概略図である。サーモコンパレー
タを用いる方法では、薄膜との接触面積および接触面の
状態（粗さ）の影響を大きく受ける。そのため、サーモ
コンパレータ３０が薄膜と接触する先端をできる限り微
小なものとすることが重要である。例えば、無酸素銅製
の半径ｒ₁＝０．２ｍｍの微小な先端を有するチップ
（線材）３１を用いる。

【００６４】このチップ３１をコンスタンタン製のリザ
ーバ３２の中心に固定し、そのリザーバ３２の周囲に、
電熱ヒーター３３を有する無酸素銅製の加熱用ジャケッ
ト３４を固定する。この加熱用ジャケット３４を電熱ヒ
ーター３３で加熱し、リザーバ３２内部に取り付けた熱
電対３５の出力をフィードバックさせながらリザーバ３
を６０±１℃になるよう制御すると、チップ３１が６０
±１℃に加熱される。一方、半径１０ｃｍ、厚み１０ｍ
ｍの無酸素銅製のヒートシンク３６を用意し、測定対象
の皮膜３７を有する金属基体３８をヒートシンク３６上
に設置する。ヒートシンク３６の表面の温度は接触式温
度計３９を用いて測定する。

【００６５】このようにサーモコンパレータ３０を設定
した後、皮膜３７の表面に加熱したチップ３１の先端を
密着するように接触させる。サーモコンパレータ３０
は、例えば、ダイナミック微小硬度計の先端に圧子の変
わりに取り付けて上下に駆動させるようにし、皮膜３７
の表面にチップ３１が当たって０．５ｍＮの負荷がかか
るまで押し付けることができるようにする。これにより
測定対象である皮膜３７とチップ３１の接触面積のバラ
ツキを最低限とすることができる。

【００６６】加熱したチップ３１を皮膜３７に接触させ
るとチップ３１の先端温度は下がるが、ある一定温度で
定常状態に達する。これは電熱ヒーター３３から加熱用
ジャケット３４およびリザーバ３２を通じてチップ３１
に与えられる熱量と、チップ３１から金属基体３８を通
じてヒートシンク３６へ拡散する熱量とが平衡するため
である。このときのチップ先端温度、ヒートシンク温度
およびリザーバ温度をそれぞれチップ先端温度記録計４
０、ヒートシンク温度記録計４１およびリザーバ温度記
録計４２を用いて記録する。

【００６７】上記各温度と皮膜の熱伝導率の関係は、下
記式（１）のようになる。

【００６８】

【数１】

【００６９】ただし、上記式（１）中の符号は、以下の
通りである。Ｔ_t ：チップ先端温度、Ｔ_b ：ヒートシンク温度、Ｔ
_r ：リザーバ温度、Ｋ_{t f}：皮膜熱伝導率、Ｋ₁ ：リザ
ーバ熱伝導率、Ｋ₂ ：チップ熱伝導率（無酸素銅の場
合、４００Ｗ／（ｍ・Ｋ））、Ｋ₄ ：（皮膜を設けない
場合の）金属基体熱伝導率、ｒ₁ ：チップ先端曲率半
径、Ａ₂ ：リザーバとチップとの接触面積、Ａ₃ ：チッ
プと皮膜との接触面積、ｔ：膜厚、ｔ₂ ：接触厚み（≒
０）

【００７０】膜厚（ｔ）を変化させて各温度（Ｔ_t 、Ｔ
_b およびＴ_r ）を測定しプロットすることにより、上記
式（１）の傾きを求め、皮膜熱伝導率（Ｋ_{t f}）を求め
ることができる。即ち、この傾きは上記式（１）から明
らかなように、リザーバ熱伝導率（Ｋ₁ ）、チップ先端
の曲率半径（ｒ₁ ）、皮膜熱伝導率（Ｋ_{t f}）およびチ
ップと皮膜との接触面積（Ａ₃ ）によって決まる値であ
り、Ｋ₁ 、ｒ₁ およびＡ₃ は、既知の値であるから、傾
きからＫ_{t f}の値を求めることができる。

【００７１】本発明者らは、上記の測定方法を用いてア
ルミニウム基板状に設けた陽極酸化皮膜（Ａｌ₂Ｏ₃）の
熱伝導率を求めた。膜厚を変えて温度を測定し、その結
果のグラフの傾きから求められたＡｌ₂Ｏ₃の熱伝導率
は、０．６９Ｗ／（ｍ・Ｋ）であった。これは、上述し
たＬａｍｂｒｏｐｏｕｌｏｓらの論文の結果とよい一致
を示している。そして、この結果は、薄膜の熱物性値が
バルクの熱物性値（バルクのＡｌ₂Ｏ₃の熱伝導率は、２
８Ｗ／（ｍ・Ｋ））とは異なることも示している。

【００７２】本発明の平版印刷用原板の親水膜の膜厚方
向の熱伝導率の測定に上記方法を用いると、チップ先端
を微小なものにし、かつ、押し付け荷重を一定に保つこ
とにより、平版印刷版用に粗面化された表面についても
バラツキのない結果を得ることができるので好ましい。
熱伝導率の値は、試料上の異なる複数の点、例えば、５
点で測定し、その平均値として求めるのが好ましい。

【００７３】親水膜の膜厚は、傷付きにくさおよび耐刷
性の点で、０．１μｍ以上であるのが好ましく、０．３
μｍ以上であるのがより好ましく、０．６μｍ以上であ
るのが特に好ましく、また、製造コストの観点から、厚
い皮膜を設けるためには多大なエネルギーを必要とする
ことを鑑みると、５μｍ以下であるのが好ましく、３μ
ｍ以下であるのがより好ましく、２μｍ以下であるのが
特に好ましい。

【００７４】本発明の親水膜は、断熱性への効果及び皮
膜強度、印刷での汚れ難さの観点から、密度が１０００
〜３２００ｋｇ／ｍ³であることが好ましい。

【００７５】密度の測定法としては、例えば、メイソン
法（クロム酸／リン酸混合液溶解による陽極酸化皮膜重
量法）による重量測定と、断面をＳＥＭで観察して求め
た膜厚から、以下の式によって算出することができる。

【００７６】密度（ｋｇ／ｍ³）＝（単位面積あたりの
親水膜重量／膜厚）

【００７７】形成された親水膜密度が１０００ｋｇ／ｍ
³未満では皮膜強度が低くなり、画像形成性や耐刷性な
どに悪影響を及ぼす可能性があり、また、印刷での汚れ
にくさも劣化する。３２００ｋｇ／ｍ³を越えると充分
な断熱性が得られず、感度向上効果が低下する。

【００７８】本発明においては、親水膜の空隙率が２０
〜７０％であるのが好ましく、３０〜６０％であるのが
より好ましく、４０〜５０％であるのが特に好ましい。
親水膜の空隙率が２０％未満では、アルミニウム基板へ
の熱拡散の抑制が十分には得られず、高感度化及び耐刷
向上の効果が不十分となる。空隙率が７０％を越える
と、非画像部に汚れが発生する問題が生じやすくなる。

【００７９】親水膜を設ける方法としては、特に限定さ
れず、陽極酸化法、蒸着法、ＣＶＤ法、ゾルゲル法、ス
パッタリング法、イオンプレーティング法、拡散法等を
適宜用いることができる。また、親水性樹脂またはゾル
ゲル液に中空粒子を混合した溶液を塗布する方法を用い
ることもできる。

【００８０】中でも、陽極酸化法により酸化物を作成す
る処理、即ち、陽極酸化処理を用いるのが最も好適であ
る。陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で
行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム
酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等
の単独のまたは２種以上を組み合わせた水溶液または非
水溶液の中で、アルミニウム板に直流または交流を流す
と、アルミニウム板の表面に、親水膜である陽極酸化皮
膜を形成することができる。

【００８１】陽極酸化処理の条件は、使用される電解液
によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一
般的には電解液濃度１〜８０質量％、液温５〜７０℃、
電流密度０．５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜２００Ｖ、
電解時間１〜１０００秒であるのが適当である。

【００８２】これらの陽極酸化処理の中でも、英国特許
第１，４１２，７６８号に記載されている、硫酸電解液
中で高電流密度で陽極酸化処理する方法、および、米国
特許第３，５１１，６６１号に記載されている、リン酸
を電解浴として陽極酸化処理する方法が好ましい。ま
た、硫酸中で陽極酸化処理し、更にリン酸中で陽極酸化
処理するなどの多段陽極酸化処理を施すこともできる。

【００８３】本発明においては、陽極酸化皮膜は、感度
および耐刷性の点で、３．２ｇ／ｍ ²以上であるのが好
ましく、４．０ｇ／ｍ²以上であるのがより好ましく、
５ｇ／ｍ²以上であるのが特に好ましく、また、厚い皮
膜を設けるためには多大なエネルギーを必要とすること
を鑑みると、５０ｇ／ｍ²以下であるのが好ましく、３
０ｇ／ｍ²以下であるのがより好ましく、２０ｇ／ｍ²以
下であるのが特に好ましい。

【００８４】陽極酸化皮膜には、その表面にマイクロポ
アと呼ばれる微細な凹部が一様に分布して形成されてい
る。陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径密度は、
処理条件を適宜選択することによって調整することがで
きる。マイクロポアの径密度を高くすることにより、陽
極酸化皮膜の膜厚方向の熱伝導率を０．０５〜０．５Ｗ
／（ｍ・Ｋ）とすることができる。

【００８５】また、陽極酸化皮膜のマイクロポア径密度
を高くすることにより、密度を１０００〜３２００ｋｇ
／ｍ³とすることができる。

【００８６】本発明においては、熱伝導率や密度を下げ
たり空隙率を上げる目的で、陽極酸化処理の後、マイク
ロポアのポア径を拡げるポアワイド処理を行うことが好
ましい。このポアワイド処理は、陽極酸化皮膜が形成さ
れたアルミニウム基板を酸水溶液またはアルカリ水溶液
に浸漬することにより、陽極酸化皮膜を溶解し、マイク
ロポアのポア径を拡大するものである。ポアワイド処理
は、陽極酸化皮膜の溶解量が、好ましくは０．０１〜２
０ｇ／ｍ²、より好ましくは０．１〜５ｇ／ｍ²、特に好
ましくは０．２〜４ｇ／ｍ²となる範囲で行われる。

【００８７】マイクロポアのポア径は、印刷汚れ、機上
現像性の観点から、０〜４０ｎｍが好ましい。より好ま
しくは１５ｎｍ以下、特に好ましくは７ｎｍ以下となる
ように行われる。この範囲内で、良好な印刷汚れと機上
現像性が得られる。また、感度と耐刷性の観点から、表
面から０．４μｍ下部の位置でのポア径は７〜２００ｎ
ｍが好ましい。より好ましくは１５〜１００ｎｍ、特に
好ましくは３０〜１００ｎｍである。この範囲内で良好
な断熱性が得られ、感度と耐刷性の向上効果が得られ
る。

【００８８】ポアワイド処理に酸水溶液を用いる場合
は、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸等の無機酸またはこれら
の混合物の水溶液を用いることが好ましい。酸水溶液の
濃度は１０〜１０００ｇ／ｌであるのが好ましく、２０
〜５００ｇ／ｌであるのがより好ましい。酸水溶液の温
度は、１０〜９０℃であるのが好ましく、３０〜７０℃
であるのがより好ましい。酸水溶液への浸漬時間は、１
〜３００秒であるのが好ましく、２〜１００秒であるの
がより好ましい。

【００８９】一方、ポアワイド処理にアルカリ水溶液を
用いる場合は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよ
び水酸化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも一
つのアルカリの水溶液を用いることが好ましい。アルカ
リ水溶液のｐＨは、１０〜１３であるのが好ましく、１
１．５〜１３．０であるのがより好ましい。アルカリ水
溶液の温度は、１０〜９０℃であるのが好ましく、３０
〜５０℃であるのがより好ましい。アルカリ水溶液への
浸漬時間は、１〜５００秒であるのが好ましく、２〜１
００秒であるのがより好ましい。

【００９０】また、親水膜は、上述した陽極酸化皮膜の
ほかに、スパッタリング法、ＣＶＤ法等により設けられ
る無機皮膜であってもよい。無機皮膜を構成する化合物
としては、例えば、酸化物、チッ化物、ケイ化物、ホウ
化物、炭化物が挙げられる。また、無機皮膜は、化合物
の単体のみから構成されていてもよく、化合物の混合物
により構成されていてもよい。

【００９１】無機皮膜を構成する化合物としては、具体
的には、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、
酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウム、
酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化モリブデン、酸化タン
グステン、酸化クロム；チッ化アルミニウム、チッ化ケ
イ素、チッ化チタン、チッ化ジルコニウム、チッ化ハフ
ニウム、チッ化バナジウム、チッ化ニオブ、チッ化タン
タル、チッ化モリブデン、チッ化タングステン、チッ化
クロム、チッ化ケイ素、チッ化ホウ素；ケイ化チタン、
ケイ化ジルコニウム、ケイ化ハフニウム、ケイ化バナジ
ウム、ケイ化ニオブ、ケイ化タンタル、ケイ化モリブデ
ン、ケイ化タングステン、ケイ化クロム；ホウ化チタ
ン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化バ
ナジウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化モリ
ブデン、ホウ化タングステン、ホウ化クロム；炭化アル
ミニウム、炭化ケイ素、炭化チタン、炭化ジルコニウ
ム、炭化ハフニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭
化タンタル、炭化モリブデン、炭化タングステン、炭化
クロムが挙げられる。

【００９２】＜封孔処理＞本発明においては、上述した
ようにして親水膜を設けて得られた本発明の平版印刷版
用基板に、汚れ難さ及び機上現像性を向上させるため
に、封孔処理を行ってもよい。本発明に用いられる封孔
処理は、従来公知の方法を用いることができるが、感
度、耐刷性と汚れ難さ、機上現像性を両立させるために
は、封孔処理皮膜の微細孔の開口径が、表層で０〜４０
ｎｍ、表層から０．４μｍ下部の位置で７〜２００ｎｍ
にすることが好ましい。

【００９３】本発明に用いられる封孔処理としては、特
開平４−１７６６９０号公報および特願平１０−１０６
８１９号明細書（特開平１１−３０１１３５号公報）に
記載の加圧水蒸気や熱水による陽極酸化皮膜の封孔処理
が挙げられる。また、ケイ酸塩処理、重クロム酸塩水溶
液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム塩処理、電着
封孔処理、トリエタノールアミン処理、炭酸バリウム塩
処理、極微量のリン酸塩を含む熱水処理等の公知の方法
を用いて行うこともできる。中でも特に好ましいのは、
特願２００１−９８７１号記載の平均粒径８〜８００ｎ
ｍの粒子を用いた封孔処理が挙げられる。

【００９４】粒子を用いた封孔処理は、平均粒径８〜８
００ｎｍ、好ましくは平均粒径１０〜５００ｎｍ、より
好ましくは平均粒径１０〜１５０ｎｍの粒子によって行
われる。この範囲内で、親水膜に存在するマイクロポア
の内部に粒子が入り込んでしまうおそれが少なく、高感
度化の効果が十分得られ、また、画像記録層との密着性
が十分となり、耐刷性が優れたものとなる。粒子層の厚
さは、８〜８００ｎｍであるのが好ましく、１０〜５０
０ｎｍであるのがより好ましい。

【００９５】本発明に用いられる粒子は、熱伝導率が６
０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であるのが好ましく、４０Ｗ／
（ｍ・Ｋ）以下であるのがより好ましく、０．３〜１０
Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であるのが特に好ましい。熱伝導率
が６０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下であると、アルミニウム基板
への熱拡散の抑制が十分となり、高感度化の効果が十分
に得られる。

【００９６】粒子層を設ける方法としては、例えば、溶
液による浸漬処理、スプレー処理、コーティング処理、
電解処理、蒸着処理、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング、溶射、鍍金等が挙げられるが、特に限定される
ものではない。

【００９７】電解処理は、直流または交流を用いること
ができる。上記電解処理に用いられる交流電流の波形と
しては、サイン波、矩形波、三角波、台形波等が挙げら
れる。また、交流電流の周波数は、電源装置を製作する
コストの観点から、３０〜２００Ｈｚであるのが好まし
く、４０〜１２０Ｈｚであるのがより好ましい。交流電
流の波形として台形波を用いる場合、電流が０からピー
クに達するまでの時間ｔｐはそれぞれ０．１〜２ｍｓｅ
ｃであるのが好ましく、０．３〜１．５ｍｓｅｃである
のがより好ましい。上記ｔｐが０．１ｍｓｅｃ未満であ
ると、電源回路のインピーダンスが影響し、電流波形の
立ち上がり時に大きな電源電圧が必要となり、電源の設
備コストが高くなる場合がある。

【００９８】親水性粒子としては、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｔｉ
Ｏ₂、ＳｉＯ₂およびＺｒＯ₂を単独でまたは２種以上を
組み合わせて用いるのが好ましい。電解液は、例えば、
前記親水性粒子を含有量が全体の０．０１〜２０％とな
るように、水等に懸濁させて得られる。電解液は、電荷
をプラスまたはマイナスに帯電させるために、例えば、
硫酸を添加するなどして、ｐＨを調整することもでき
る。電解処理は、例えば、直流を用い、アルミニウム板
を陰極として、上記電解液を用い、電圧１０〜２００Ｖ
で１〜６００秒間の条件で行う。この方法によれば、容
易に、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの内部に空
隙を残しつつ、その口をふさぐことができる。

【００９９】別の封孔処理の方法として、カルボキシメ
チルセルロース；デキストリン；アラビアガム；２−ア
ミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸
類；置換基を有していてもよいフェニルホスホン酸、ナ
フチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホス
ホン酸、メチレンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸
等の有機ホスホン酸；置換基を有していてもよいフェニ
ルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸、グリセロ
リン酸等の有機リン酸エステル；置換基を有していても
よいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、ア
ルキルホスフィン酸、グリセロホスフィン酸等の有機ホ
スフィン酸；グリシン、β−アラニン等のアミノ酸類；
トリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシ基を有す
るアミンの塩酸塩等から選ばれる化合物の層を設ける方
法も挙げられる。

【０１００】さらに封孔処理には、不飽和基を有するシ
ランカップリング剤を塗設処理してもよい。シランカッ
プリング剤としては、例えば、Ｎ−３−（アクリロキシ
−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）ジメチ
ルメトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）メチ
ルジメトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）ト
リメトキシシラン、３−（Ｎ−アリルアミノ）プロピル
トリメトキシシラン、アリルジメトキシシラン、アリル
トリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、３−
ブテニルトリエトキシシラン、２−（クロロメチル）ア
リルトリメトキシシラン、メタクリルアミドプロピルト
リエトキシシラン、Ｎ−（３−メタクリロキシ−２−ヒ
ドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、（メタクリロキシメチル）ジメチルエトキシシ
ラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタ
クリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシ
プロピルジメチルエトキシシラン、メタクリロキシプロ
ピルジメチルメトキシシラン、メタクリロキシプロピル
メチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルト
リエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルトリ
メトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリス（メト
キシエトキシ）シラン、メトキシジメチルビニルシラ
ン、１−メトキシ−３−（トリメチルシロキシ）ブタジ
エン、スチリルエチルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−
スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）−プロピル
トリメトキシシラン塩酸塩、ビニルジメチルエトキシシ
ラン、ビニルジフェニルエトキシシラン、ビニルメチル
ジエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、Ｏ
−（ビニロキシエチル）−Ｎ−（トリエトキシシリルプ
ロピル）ウレタン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリ−ｔ−ブトキシシラ
ン、ビニルトリイソプロポキシシシラン、ビニルトリフ
ェノキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキ
シ）シラン、ジアリルアミノプロピルメトキシシランが
挙げられる。中でも、不飽和基の反応性が速いメタクリ
ロイル基、アクリロイル基を有するシランカップリング
剤が好ましい。

【０１０１】その他にも、特開平５−５０７７９号公報
に記載されているゾルゲルコーティング処理、特開平５
−２４６１７１号公報に記載されているホスホン酸類の
コーティング処理、特開平６−２３４２８４号公報、特
開平６−１９１１７３号公報および特開平６−２３０５
６３号公報に記載されているバックコート用素材をコー
ティングにより処理する方法、特開平６−２６２８７２
号公報に記載されているホスホン酸類の処理、特開平６
−２９７８７５号公報に記載されているコーティング処
理、特開平１０−１０９４８０号公報に記載されている
陽極酸化処理する方法、特願平１０−２５２０７８号明
細書（特開２０００−８１７０４号公報）および特願平
１０−２５３４１１号明細書（特開２０００−８９４６
６号公報）に記載されている浸漬処理方法等が挙げら
れ、いずれの方法を用いてもよい。

【０１０２】＜親水性表面処理＞本発明においては、上
述したようにして親水膜を設けて得られた本発明の平版
印刷版用基板を、更に１種以上の親水性化合物を含有す
る水溶液へ浸漬することにより、親水性表面処理を行う
ことが好ましい。

【０１０３】米国特許第２，７１４，０６６号明細書お
よび同第３，１８１，４６１号明細書に記載されている
アルカリ金属シリケート（アルカリ金属ケイ酸塩）で処
理する方法、特公昭３６−２２０６３号公報に記載され
ているフッ化ジルコニウム酸カリウムで処理する方法、
米国特許第４，１５３，４６１号明細書に記載されてい
るポリビニルホスホン酸で処理する方法、特開平９−２
４４２２７号公報に記載されているリン酸塩と無機フッ
素化合物とを含有する水溶液で処理する方法、特開平１
０−２５２０７８号公報および特開平１０−２６３４１
１号公報に記載されているチタンとフッ素とを含有する
水溶液で処理する方法が挙げられる。中でも、アルカリ
金属ケイ酸塩で処理する方法、ポリビニルホスホン酸で
処理する方法が好ましい。

【０１０４】アルカリ金属ケイ酸塩で処理する方法に用
いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げ
られる。

【０１０５】アルカリ金属ケイ酸塩で処理する方法は、
例えば、アルカリ金属ケイ酸塩濃度が０．０１〜３０質
量％、好ましくは０．０１〜１０質量％、より好ましく
は０．０５〜３質量％で、２５℃でのｐＨが１０〜１３
であるアルカリ金属ケイ酸塩水溶液に、上記粒子層が設
けられたアルミニウム基板を４〜８０℃で、好ましくは
０．５〜１２０秒間、より好ましくは２〜３０秒間浸漬
する方法が挙げられる。上記のアルカリ金属ケイ酸塩濃
度、ｐＨ、温度、処理時間等の処理条件は、適宜選択す
ることができる。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐＨが
１０より低いと、液はゲル化しやすく、また、ｐＨが１
３より高いと粒子層および陽極酸化皮膜が溶解されるお
それがあるので、この点に注意を要する。

【０１０６】上記親水化処理においては、必要に応じ、
アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐＨを高く調整するため
に、水酸化物を配合することができる。水酸化物として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウムが挙げられる。

【０１０７】また、必要に応じ、アルカリ金属ケイ酸塩
水溶液にアルカリ土類金属塩および／または４族（第Ｉ
ＶＡ族）金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩
としては、例えば、アルカリ土類金属の硝酸塩（例え
ば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネ
シウム、硝酸バリウム）、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、
酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩等の水溶性の塩が挙げら
れる。４族（第ＩＶＡ族）金属塩としては、例えば、四
塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シ
ュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、
塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩
化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。ア
ルカリ土類金属塩および４族（第ＩＶＡ族）金属塩は、
単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いても
よい。これらの金属塩の使用量は、好ましくは０．０１
〜１０質量％であり、より好ましくは０．０５〜５．０
質量％である。

【０１０８】ポリビニルホスホン酸で処理する方法に用
いられる水溶液は、例えば、ポリビニルホスホン酸濃度
が０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量
％、より好ましくは０．２〜２．５質量％、温度が１０
℃〜７０℃、好ましくは３０℃〜６０℃である。親水化
処理は、上記粒子層が設けられたアルミニウム基板を上
記水溶液に、例えば、０．５秒〜１０分、好ましくは１
秒〜３０秒浸漬することにより行うことができる。

【０１０９】フッ化ジルコニウムカリウム水溶液処理
は、好ましくは濃度が０．１〜１０質量％、より好まし
くは０．５〜２質量％のフッ化ジルコニウムカリウムの
水溶液に、基板を、好ましくは３０〜８０℃で、好まし
くは６０〜１８０秒間浸漬することにより行う。

【０１１０】リン酸塩／無機フッ素化合物処理は、好ま
しくはリン酸塩化合物濃度が５〜２０質量％、無機フッ
素化合物濃度が０．０１〜１質量％であり、好ましくは
ｐＨが３〜５の水溶液に、アルミニウム基板を、好まし
くは２０〜１００℃、より好ましくは４０〜８０℃で、
好ましくは２〜３００秒間、より好ましくは５〜３０秒
間浸漬することにより行う。

【０１１１】本発明に用いられるリン酸塩としては、例
えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン
酸塩が挙げられる。具体的には、例えば、リン酸亜鉛、
リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素
二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一
アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウ
ム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リ
ン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、
リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸
第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン
酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リ
ン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸
リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸ア
ンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリ
ブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム；
亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロ
リン酸ナトリウムが挙げられる。中でも、リン酸二水素
ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カ
リウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。

【０１１２】また、本発明に用いられる無機フッ素化合
物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。具体的
には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フ
ッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、ヘキサフルオロ
ジルコニウムナトリウム、ヘキサフルオロジルコニウム
カリウム、ヘキサフルオロチタン酸ナトリウム、ヘキサ
フルオロチタン酸カリウム、ヘキサフルオロジルコニウ
ム水素酸、ヘキサフルオロチタン水素酸、ヘキサフルオ
ロジルコニウムアンモニウム、ヘキサフルオロチタン酸
アンモニウム、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケ
ル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウ
ムが挙げられる。

【０１１３】リン酸塩／無機フッ素化合物処理に用いら
れる水溶液は、リン酸塩および無機フッ素化合物をそれ
ぞれ１種または２種以上含有することができる。

【０１１４】本発明では、上述のような水溶液の他に、
スルホン酸基を有する化合物、糖類化合物が好適なもの
として挙げられる。

【０１１５】スルホン酸基を有する化合物には、芳香族
スルホン酸、そのホルムアルデヒド縮合物、それらの誘
導体、およびそれらの塩が含まれる。

【０１１６】芳香族スルホン酸としては、例えば、フェ
ノールスルホン酸、カテコールスルホン酸、レゾルシノ
ールスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸、リグニンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ア
セナフテン−５−スルホン酸、フェナントレン−２−ス
ルホン酸、ベンズアルデヒド−２（または３）−スルホ
ン酸、ベンズアルデヒド−２，４（または３，５）−ジ
スルホン酸、オキシベンジルスルホン酸類、スルホ安息
香酸、スルファニル酸、ナフチオン酸、タウリンが挙げ
られる。中でも、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスル
ホン酸、リグニンスルホン酸が好ましい。また、ベンゼ
ンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、リグニンスルホ
ン酸のホルムアルデヒド縮合物も好ましい。更に、これ
らは、スルホン酸塩として使用してもよい。例えば、ナ
トリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、
マグネシウム塩が挙げられる。中でも、ナトリウム塩、
カリウム塩が好ましい。

【０１１７】スルホン酸基を有する化合物を含有する水
溶液のｐＨは、４〜６．５であるのが好ましく、硫酸、
水酸化ナトリウム、アンモニア等を用いて上記ｐＨ範囲
に調整することができる。

【０１１８】糖類化合物には、単糖類およびその糖アル
コール、オリゴ糖類、多糖類、ならびに、配糖体が含ま
れる。

【０１１９】単糖類およびその糖アルコールとしては、
例えば、グリセロール等のトリオース類およびその糖ア
ルコール類；トレオース、エリトリトール等のテトロー
スおよびその糖アルコール類；アラビノース、アラビト
ール等のペントースおよびその糖アルコール類；グルコ
ース、ソルビトール等のヘキソースおよびその糖アルコ
ール類；Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプトース、Ｄ−
グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプチトール等のヘプトースお
よびその糖アルコール類；Ｄ−エリトロ−Ｄ−ガラクト
オクチトール等のオクトースおよびその糖アルコール
類；Ｄ−エリトロ−Ｌ−グルコ−ノヌロース等のノノー
スおよびその糖アルコール類が挙げられる。

【０１２０】オリゴ糖類としては、例えば、サッカロー
ス、トレハロース、ラクトース等の二糖類；ラフィノー
ス等の三糖類が挙げられる。

【０１２１】多糖類としては、例えば、アミロース、ア
ラビナン、シクロデキストリン、アルギン酸セルロース
が挙げられる。

【０１２２】本発明において、「配糖体」とは、糖部分
と非糖部分がエーテル結合等を介して結合している化合
物をいう。配糖体は非糖部分により分類することができ
る。例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、クマ
リン配糖体、オキシクマリン配糖体、フラボノイド配糖
体、アントラキノン配糖体、トリテルペン配糖体、ステ
ロイド配糖体、からし油配糖体が挙げられる。

【０１２３】糖部分としては、上述した単糖類およびそ
の糖アルコール；オリゴ糖類；多糖類が挙げられる。中
でも、単糖類、オリゴ糖類が好ましく、単糖類、二糖類
がより好ましい。

【０１２４】好ましい配糖体の例として、下記式（Ｉ）
で表される化合物が挙げられる。

【０１２５】

【化１】

【０１２６】上記式（Ｉ）中、Ｒは、炭素原子数１〜２
０の直鎖のまたは分枝を有する、アルキル基、アルケニ
ル基またはアルキニル基を表す。

【０１２７】炭素原子数１〜２０のアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデ
シル基、エイコシル基が挙げられ、これらは直鎖であっ
ても、分枝を有していてもよく、また、環状アルキル基
であってもよい。

【０１２８】炭素原子数１〜２０のアルケニル基として
は、例えば、アリル基、２−ブテニル基が挙げられ、こ
れらは直鎖であっても、分枝を有していてもよく、ま
た、環状アルケニル基であってもよい。

【０１２９】炭素原子数１〜２０のアルキニル基として
は、例えば、１−ペンチニル基が挙げられ、これらは直
鎖であっても、分枝を有していてもよく、また、環状ア
ルキニル基であってもよい。

【０１３０】上記式（Ｉ）で表される具体的な化合物と
しては、例えば、メチルグルコシド、エチルグルコシ
ド、プロピルグルコシド、イソプロピルグルコシド、ブ
チルグルコシド、イソブチルグルコシド、ｎ−ヘキシル
グルコシド、オクチルグルコシド、カプリルグルコシ
ド、デシルグルコシド、２−エチルヘキシルグルコシ
ド、２−ペンチルノニルグルコシド、２−ヘキシルデシ
ルグルコシド、ラウリルグルコシド、ミリスチルグルコ
シド、ステアリルグルコシド、シクロヘキシルグルコシ
ド、２−ブチニルグルコシドが挙げられる。これらの化
合物は、配糖体の一種であるグルコシドで、ブドウ糖の
ヘミアセタールヒドロキシル基が他の化合物をエーテル
状に結合したものであり、例えば、グルコースとアルコ
ール類とを反応させる公知の方法により得ることができ
る。これらのアルキルグルコシドの一部は、ドイツＨｅ
ｎｋｅｌ社により商品名グルコポン（ＧＬＵＣＯＰＯ
Ｎ）として市販されており、本発明ではそれを用いるこ
とができる。

【０１３１】好ましい配糖体の別の例としては、サポニ
ン類、ルチントリハイドレート、ヘスペリジンメチルカ
ルコン、ヘスペリジン、ナリジンハイドレート、フェノ
ール−β−Ｄ−グルコピラノシド、サリシン、３´，
５，７−メトキシ−７−ルチノシドが挙げられる。

【０１３２】糖類化合物を含有する水溶液のｐＨは、８
〜１１であるのが好ましく、水酸化カリウム、硫酸、炭
酸、炭酸ナトリウム、リン酸、リン酸ナトリウム等を用
いて上記ｐＨ範囲に調整することができる。

【０１３３】スルホン酸基を有する化合物の水溶液は、
濃度が０．０２〜０．２質量％であるのが好ましい。浸
漬温度は６０〜１００℃であるのが好ましい。浸漬時間
は１〜３００秒であるのが好ましく、１０〜１００秒で
あるのがより好ましい。

【０１３４】更に、糖類化合物の水溶液は、濃度が０．
５〜１０質量％であるのが好ましい。浸漬温度は４０〜
７０℃であるのが好ましい。浸漬時間は２〜３００秒で
あるのが好ましく、５〜３０秒であるのがより好まし
い。

【０１３５】基板は、これらの親水性化合物を含有する
水溶液へ浸漬した後には、水等によって洗浄され、乾燥
される。

【０１３６】上述した親水性表面処理により、陽極酸化
処理後のポアワイド処理により向上した感度（ネガタイ
プの感光層の場合は耐刷性の向上）と引き替えに発生す
るインキ払い性劣化等の印刷汚れの問題が解消される。
即ち、ポア径が拡大したことにより、印刷時、特に印刷
機が停止し、平版印刷版が印刷機上で放置された後の印
刷再スタート時に、インキが取れにくくなる現象（イン
キ払い性劣化）が起こりやすくなる問題があるが、親水
性表面処理が施されていると、上記問題が軽減される。

【０１３７】＜下塗層＞本発明においては、このように
して得られた本発明の平版印刷版用基板上に、赤外線レ
ーザー露光により書き込み可能な記録層を設ける前に、
必要に応じて、例えば、ホウ酸亜鉛等の水溶性金属塩や
特開昭６２−１９４９４号公報に記載されているリン酸
塩のような無機下塗層や、下記の有機下塗層を設けても
よい。

【０１３８】有機下塗り層としては、例えば、特開昭６
０−１４９４９１号公報に記載されている、少なくとも
１個のアミノ基と、カルボキシル基およびその塩の基な
らびにスルホ基およびその塩の基からなる群から選ばれ
た少なくとも１個の基とを有する化合物からなる層、特
開昭６０−２３２９９８号公報に記載されている、少な
くとも１個のアミノ基と少なくとも１個のヒドロキシ基
を有する化合物およびその塩から選ばれた化合物からな
る層、特開昭５９−１０１６５１号公報に記載されてい
るスルホ基を有するモノマー単位の少なくとも１種を繰
り返し単位として分子中に有する高分子化合物からなる
層等が挙げられる。

【０１３９】有機下塗層に用いられる具体的な有機化合
物としては、例えば、グリシン、ｐ−ヒドロキシフェニ
ルグリシン、ジヒドロキシエチルグリシン、β−アラニ
ン、リジン、アスパラギン酸等のアミノ酸及びこれらの
ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等の塩、ス
ルファミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸等の脂肪
族アミノスルホン酸及びこれらのナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩等の塩、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリプロ
パノールアミン等のヒドロキシル基を有するアミン及び
これらの塩酸塩、シュウ酸塩、リン酸塩等の塩、ｐ−ス
チレンスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホ
ン酸、エチレンスルホン酸もしくはこれらの塩をモノマ
ー単位として含有する重合体又は共重合体、さらには、
カルボキシメチルセルロース；デキストリン；アラビア
ガム；ポリアクリル酸；２−アミノエチルホスホン酸
等のアミノ基を有するホスホン酸類；置換基を有してい
てもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、ア
ルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホ
スホン酸、エチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸；
置換基を有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸、グリセロリン酸等の有機リン
酸；置換基を有していてもよいフェニルホスフィン酸、
ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸、グリセ
ロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸等を挙げることが
できる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を混合
して用いてもよい。

【０１４０】有機下塗層は、水もしくはメタノール、エ
タノール、メチルエチルケトン等の有機溶媒、またはそ
れらの混合溶剤に、上記有機化合物を溶解させた溶液を
アルミニウム板上に塗布し乾燥することにより設けられ
る。上記有機化合物を溶解させた溶液の濃度は、０．０
０５〜１０質量％であるのが好ましい。塗布の方法は、
特に限定されず、バーコーター塗布、回転塗布、スプレ
ー塗布、カーテン塗布等のいずれの方法も用いることが
できる。

【０１４１】有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２０
０ｍｇ／ｍ²であるのが好ましく、５〜１００ｍｇ／ｍ²
であるのがより好ましい。上記範囲であると、耐刷性が
より良好になる。

【０１４２】＜バックコート層＞上述したようにして得
られるアルミニウム基板には、平版印刷用原板としたと
きに、重ねても記録層が傷付かないように、裏面（記録
層が設けられない側の面）に、有機高分子化合物からな
る被覆層（以下「バックコート層」ともいう。）を必要
に応じて設けてもよい。

【０１４３】バックコート層の主成分としては、ガラス
転移点が２０℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹脂、
フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂および塩化
ビニリデン共重合樹脂からなる群から選ばれる少なくと
も１種の樹脂を用いるのが好ましい。

【０１４４】飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボ
ン酸ユニットとジオールユニットとからなる。ジカルボ
ン酸ユニットとしては、例えば、フタル酸、テレフタル
酸、イソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロ
ルフタル酸等の芳香族ジカルボン酸；アジピン酸、アゼ
ライン酸、コハク酸、シュウ酸、スベリン酸、セバチン
酸、マロン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等
の飽和脂肪族ジカルボン酸が挙げられる。

【０１４５】バックコート層は、更に、着色のための染
料や顔料、基板との密着性を向上させるためのシランカ
ップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ樹脂、有
機ホスホン酸、有機リン酸、カチオン性ポリマー、滑り
剤として通常用いられるワックス、高級脂肪酸、高級脂
肪酸アミド、ジメチルシロキサンからなるシリコーン化
合物、変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末等を
適宜含有することができる。

【０１４６】バックコート層の厚さは、基本的には合紙
がなくても、後述する記録層を傷付けにくい程度であれ
ばよく、０．０１〜８μｍであるのが好ましい。厚さが
０．０１μｍ未満であると、平版印刷用原板を重ねて取
り扱った場合の記録層の擦れ傷を防ぐことが困難であ
る。また、厚さが８μｍを超えると、印刷中、平版印刷
版周辺で用いられる薬品によってバックコート層が膨潤
して厚みが変動し、印圧が変化して印刷特性を劣化させ
ることがある。

【０１４７】バックコート層をアルミニウム基板の裏面
に設ける方法としては、種々の方法を用いることができ
る。例えば、上記バックコート層用成分を適当な溶媒に
溶解し溶液にして塗布し、または、乳化分散液して塗布
し、乾燥する方法；あらかじめフィルム状に成形したも
のを接着剤や熱での基板に貼り合わせる方法；溶融押出
機で溶融被膜を形成し、基板に貼り合わせる方法が挙げ
られる。好適な厚さを確保するうえで最も好ましいの
は、バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解し溶液に
して塗布し、乾燥する方法である。この方法において
は、特開昭６２−２５１７３９号公報に記載されている
ような有機溶剤を単独でまたは混合して、溶媒として用
いることができる。

【０１４８】平版印刷用原板の製造においては、裏面の
バックコート層と表面の記録層のどちらを先に基板上に
設けてもよく、また、両者を同時に設けてもよい。

【０１４９】［画像記録層］本発明の画像記録層は、
（ａ）熱融着性ポリマー微粒子、（ｂ）熱反応性官能基
を有するポリマー微粒子、及び（ｃ）熱反応性化合物を
内包するマイクロカプセルから選ばれた少なくとも2種
類の微粒子を含有する。そして、該微粒子の少なくとも
１種の熱による合体によって親水性画像記録層を疎水性
に変換して画像形成がなされる。熱による微粒子の合体
は、熱が加わったときに、微粒子の軟化もしくは溶融、
熱反応性官能基の反応のいずれか又は両方によって起こ
る。

【０１５０】本発明の画像記録層が含有する少なくとも
2種類の微粒子とは、上記の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の
分類うち異なる分類から選ばれた少なくとも２種類の微
粒子であっても良いし、同じ分類に属する少なくとも２
種類の微粒子であっても良い。

【０１５１】本発明の画像記録層に用いられる熱融着性
ポリマー微粒子は、好適には３５℃以上の、そしてより
好適には５０℃以上の凝固温度を有する熱融着性ポリマ
ー微粒子である。該熱融着性ポリマー微粒子の凝固温度
には特別な上限はないが、この温度はポリマー微粒子の
分解点より十分低くなくてはならない。該ポリマー微粒
子を凝固温度より上の温度に上げると、それらは溶融合
体して画像記録層中で疎水性集塊を生成する。そのため
これらの部分では水または水性液体に不溶性となり、イ
ンキ受容性となる。

【０１５２】本発明の画像記録層に用いられる熱融着性
ポリマー微粒子を形成する疎水性ポリマーの具体例とし
て、例えば、エチレン、スチレン、塩化ビニル、（メ
タ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、塩
化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール
などのモノマーからのホモポリマーまたはコポリマーあ
るいはそれらの混合物を挙げることができる。その中で
特に好適なものとして、ポリスチレン、ポリメタクリル
酸メチルを挙げることができる。

【０１５３】本発明の熱融着性ポリマー微粒子を構成す
るポリマーの重量平均分子量は５,０００〜１,０００,
０００が好ましく、熱融着性ポリマー微粒子の粒径は
０．０１〜５０μｍが好ましく、０．０５〜１０μｍが
より好ましく、そして０．０５〜２μｍが最も好適であ
る。

【０１５４】本発明の熱反応性官能基を有するポリマー
微粒子および熱反応性官能基を有する化合物を内包した
マイクロカプセルにおける熱反応性官能基としては、重
合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイ
ル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、
付加反応を行うイソシアナート基あるいはそのブロック
体およびその反応相手である活性水素原子を有する官能
基（例えば、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル
基など）、同じく付加反応を行うエポキシ基およびその
反応相手であるアミノ基、カルボキシル基あるいはヒド
ロキシル基、縮合反応を行うカルボキシル基とヒドロキ
シル基あるいはアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物
とアミノ基あるいはヒドロキシル基、熱分解してヒドロ
キシル基などと反応するジアゾニウム基などを挙げるこ
とができる。しかし、化学結合が形成されるならば、ど
のような反応を行う官能基でも良い。

【０１５５】本発明の画像記録層に用られる熱反応性官
能基を有するポリマー微粒子としては、アクリロイル
基、メタクリルロイル基、ビニル基、アリル基、エポキ
シ基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、イ
ソシアネート基、酸無水物およびそれらを保護した基を
有するものを挙げることができる。これらの官能基のポ
リマー微粒子への導入は、重合時に行ってもよいし、重
合後に高分子反応を利用して行ってもよい。

【０１５６】重合時に導入する場合は、これらの熱反応
性官能基を有するモノマーを乳化重合あるいは懸濁重合
することが好ましい。必要に応じて、熱反応性官能基を
もたないモノマーを共重合成分として加えてもかまわな
い。

【０１５７】そのような官能基を有するモノマーの具体
例として、アリルメタクリレート、アリルアクリレー
ト、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、グリ
シジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、２−
イソシアネートエチルメタクリレートあるいはそのアル
コールなどによるブロックイソシアネート、２−イソシ
アネートエチルアクリレートあるいはそのアルコールな
どによるブロックイソシアネート、２−アミノエチルメ
タクリレート、２−アミノエチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチル
アクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイ
ン酸、２官能アクリレート、２官能メタクリレートなど
を挙げることができるが、これらに限定されない。

【０１５８】これらのモノマーと共重合可能な、熱反応
性官能基をもたないモノマーとしては、例えば、スチレ
ン、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、
アクリロニトリル、酢酸ビニルなどを挙げることができ
るが、熱反応性官能基をもたないモノマーであれば、こ
れらに限定されない。

【０１５９】熱反応性官能基の導入を重合後に行う場合
に用いる高分子反応としては、例えば、ＷＯ９６−３４
３１６号公報に記載されている高分子反応を挙げること
ができる。

【０１６０】上記の熱反応性官能基を有するポリマー微
粒子の中で、ポリマー微粒子同志が熱により合体するも
のが好ましく、その表面は親水性で、水に分散するもの
が、特に好ましい。ポリマー微粒子のみを塗布し、凝固
温度よりも低い温度で乾燥して作製した時の皮膜の接触
角（空中水滴）が、凝固温度よりも高い温度で乾燥して
作製した時の皮膜の接触角（空中水滴）よりも低くなる
ことが好ましい。このようにポリマー微粒子表面を親水
性にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレング
リコールなどの親水性ポリマーあるいはオリゴマー、ま
たは親水性低分子化合物をポリマー微粒子表面に吸着さ
せてやれば良いが、その方法はこれらに限定されるもの
ではない。

【０１６１】これらの熱反応性官能基を有するポリマー
微粒子の凝固温度は、７０℃以上が好ましいが、経時安
定性を考えると１００℃以上がさらに好ましい。このポ
リマー微粒子の平均粒径は、０．０１〜２０μmが好ま
しいが、その中でも０．０５〜２．０μｍがさらに好ま
しく、特に０．１〜１．０μｍが最適である。平均粒径
が大き過ぎると解像度が悪く、また小さ過ぎると経時安
定性が悪くなってしまう。

【０１６２】本発明に用いられるマイクロカプセルは、
熱反応性官能基を有する化合物を内包している。この熱
反応性官能基を有する化合物としては、重合性不飽和
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基あるいはカルボキ
シラト基あるいは酸無水物、アミノ基、エポキシ基、お
よび、イソシアネート基あるいはそのブロック体から選
ばれた少なくとも一個の官能基を有する化合物を挙げる
ことができる。

【０１６３】重合性不飽和基を有する化合物としては、
エチレン性不飽和結合、例えばアクリロイル基、メタク
リロイル基、ビニル基、アリル基などを少なくとも１
個、好ましくは２個以上有する化合物が好ましく、この
様な化合物群は当該産業分野において広く知られるもの
であり、本発明においては、これらを特に限定なく用い
ることができる。これらは、化学的形態としては、モノ
マー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオ
リゴマー、またはそれらの混合物、あるいはそれらの共
重合体である。

【０１６４】例として、不飽和カルボン酸（例えば、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イ
ソクロトン酸、マレイン酸など）、そのエステルおよび
アミドが挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アルコールとのエステルおよび不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミンとのアミドが挙げられる。また、
ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置
換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは不飽和カ
ルボン酸アミドと、単官能もしくは多官能イソシアネー
トまたはエポキシドとの付加反応物、および、単官能も
しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適
に使用される。また、イソシアネート基やエポキシ基な
どの親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル
またはアミドと、単官能もしくは多官能のアルコール、
アミンおよびチオールとの付加反応物、さらに、ハロゲ
ン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミドと、単官能もしくは多
官能アルコール、アミンおよびチオールとの置換反応物
も好適である。また、別の好適な例として、上記の不飽
和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸あるいはクロロメチ
ルスチレンに置き換えた化合物を挙げることができる。

【０１６５】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
とのエステルである重合性化合物の具体例としては、ア
クリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，
３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレング
リコールジアクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロパント
リス（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトール
トリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、
ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサ
アクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イ
ソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー
等を挙げることができる。

【０１６６】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕
ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリロイルオキシ
エトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等を挙げることが
できる。

【０１６７】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等を挙
げることができる。

【０１６８】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等を挙げることがで
きる。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイ
ソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート
等を挙げることができる。マレイン酸エステルとして
は、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリ
コールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、
ソルビトールテトラマレート等を挙げることができる。

【０１６９】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、
特開昭５７−１９６２３１号記載の脂肪族アルコール系
エステル類や、特開昭５９−５２４０号、特開昭５９−
５２４１号、特開平２−２２６１４９号記載の芳香族系
骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号記載のア
ミノ基を含有するもの等を挙げることができる。

【０１７０】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等を挙げることができる。その他の好ましいアミド系
モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号公報
記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることが
できる。

【０１７１】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式（II）で示される水酸基を有する不飽和
モノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性不飽
和基を含有するウレタン化合物等が挙げられる。

【０１７２】一般式（II) ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ¹）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ²）ＯＨ（ただし、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれＨまたはＣＨ₃を
示す。）

【０１７３】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレートや、特公昭５８−４
９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−
３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレン
オキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適なもの
として挙げることができる。

【０１７４】さらに、特開昭６３−２７７６５３号，特
開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物を好適なものとして挙げる
ことができる。

【０１７５】その他の好適なものの例としては、特開昭
４８−６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公
報、同５２−３０４９０号公報の各公報に記載されてい
るようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と
（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート
類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げる
ことができる。また、特公昭４６−４３９４６号公報、
特公平１−４０３３７号公報、同１−４０３３６号公報
記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号
公報に記載のビニルホスホン酸系化合物等も好適なもの
として挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル
基を含有する化合物も好適に使用される。さらに日本接
着協会誌、２０巻７号、３００〜３０８ページ（１９８
４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも好適に使用することができる。

【０１７６】好適なエポキシ化合物としては、グリセリ
ンポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテル、ポリプロピレンジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテ
ル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ビスフェノ
ール類あるいはポリフェノール類もしくはそれらの水素
添加物のポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。

【０１７７】好適なイソシアネート化合物としては、ト
リレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシア
ネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネー
ト、キシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシ
アネート、シクロヘキサンフェニレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、ある
いは、それらをアルコールあるいはアミンでブロックし
た化合物を挙げることができる。

【０１７８】好適なアミン化合物としては、エチレンジ
アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、プロピレンジアミン、ポ
リエチレンイミンなどが挙げられる。

【０１７９】好適なヒドロキシル基を有する化合物とし
ては、末端メチロール基を有する化合物、トリメチロー
ルプロパン、ペンタエリスリトールなどの多価アルコー
ル、ビスフェノール、ポリフェノール類などを挙げるこ
とができる。

【０１８０】好ましいカルボキシル基を有する化合物と
しては、ピロメリット酸、トリメリット酸、フタル酸な
どの芳香族多価カルボン酸、アジピン酸などの脂肪族多
価カルボン酸などが挙げられる。

【０１８１】ヒドロキシル基やカルボキシル基を有する
好適な化合物としては、上記の外に、例えば特公昭５４
−１９７７３号、同５５−３４９２９号、同５７−４３
８９０号公報に記載の既存のＰＳ版のバインダーとして
知られている化合物を用いることもできる。

【０１８２】好適な酸無水物としては、ピロメリット酸
無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物などが
挙げられる。

【０１８３】エチレン性不飽和化合物の共重合体の好適
なものとして、アリルメタクリレートの共重合体を挙げ
ることができる。例えば、アリルメタクリレート／メタ
クリル酸共重合体、アリルメタクリレート／エチルメタ
クリレート共重合体、アリルメタクリレート／ブチルメ
タクリレート共重合体などを挙げることができる。

【０１８４】ジアゾ樹脂としては、ジアゾジフェニルア
ミン・ホルマリン縮合樹脂の六フッ化リン酸塩や芳香族
スルホン酸塩などが好適である。

【０１８５】マイクロカプセル化する方法としては、公
知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造
方法としては、米国特許２８００４５７号、同２８００
４５８号にみられるコアセルベーションを利用した方
法、英国特許９９０４４３号、米国特許３２８７１５４
号、特公昭３８−１９５７４号、同４２−４４６号、同
４２−７１１号にみられる界面重合法による方法、米国
特許３４１８２５０号、同３６６０３０４号にみられる
ポリマーの析出による方法、米国特許３７９６６６９号
に見られるイソシアネートポリオール壁材料を用いる方
法、米国特許３９１４５１１号に見られるイソシアネー
ト壁材料を用いる方法、米国特許４００１１４０号、同
４０８７３７６号、同４０８９８０２号にみられる尿素
―ホルムアルデヒド系あるいは尿素ホルムアルデヒド−
レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許４
０２５４４５号にみられるメラミン−ホルムアルデヒド
樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特
公昭３６−９１６３号、同５１−９０７９号にみられる
モノマー重合によるｉｎｓｉｔｕ法、英国特許９３０
４２２号米国特許３１１１４０７号にみられるスプレー
ドライング法、英国特許９５２８０７号、同９６７０７
４号にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに
限定されるものではない。

【０１８６】本発明に用いられる好ましいマイクロカプ
セル壁は、３次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性
質を有するものである。このような観点から、マイクロ
カプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれら
の混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレ
タンが好ましい。マイクロカプセル壁に熱反応性官能基
を有する化合物を導入しても良い。

【０１８７】上記のマイクロカプセルの平均粒径は、
０．０１〜２０μmが好ましいが、中でも０．０５〜
２．０μｍがさらに好ましく、０．１０〜１．０μｍが
特に好ましい。平均粒径が大き過ぎると解像度が悪く、
また小さ過ぎると経時安定性が悪くなってしまう。

【０１８８】このようなマイクロカプセルは、カプセル
同志が熱により合体してもよいし、合体しなくとも良
い。要は、マイクロカプセル内包物のうち、塗布時にカ
プセル表面あるいはマイクロカプセル外に滲み出したも
の、あるいは、マイクロカプセル壁に浸入したものが、
熱により化学反応を起こせば良い。添加された親水性樹
脂、あるいは、添加された低分子化合物と反応してもよ
い。また２種類以上のマイクロカプセルに、それぞれ異
なる官能基で互いに熱反応するような官能基をもたせる
ことによって、マイクロカプセル同士を反応させてもよ
い。従って、熱によってマイクロカプセル同志が、熱で
溶融合体することは画像形成上好ましいことであるが、
必須ではない。

【０１８９】上記の熱融着性ポリマー微粒子、熱反応性
官能基を有するポリマー微粒子、及びマイクロカプセル
の画像記録層への添加量は、いずれにおいても固形分換
算で、画像記録層固形分の５０％以上が好ましく、６０
％以上がさらに好ましい。この範囲内で、良好な画像形
成ができ、良好な耐刷性が得られる。

【０１９０】本発明の画像記録層には、感度を高めるた
め、光を熱に変換させる機能の光熱変換剤を含有させる
ことができる。光熱変換剤としては、７００ｎｍ以上の
光を吸収する物質であればよく、種々の顔料や染料を用
いることができる。

【０１９１】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔
料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキ
サジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン
系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。中でも、このような赤外
線を吸収する顔料としてカーボンブラックが特に好まし
い。

【０１９２】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シ
リカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポ
キシ化合物、イソシアネート化合物等）を顔料表面に結
合させる方法等の公知の方法が用いられる。

【０１９３】本発明の画像記録層の如き親水性の層に添
加する場合は、水溶性又は親水性の樹脂と分散しやす
く、かつ親水性を損わないように親水性樹脂やシリカゾ
ルで表面がコートされたカーボンブラックが有用であ
る。

【０１９４】顔料の粒径は０.０１μｍ〜１μｍの範囲
にあることが好ましく、０．０１μｍ〜０．５μｍの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。

【０１９５】染料としては、市販の染料及び文献（例え
ば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年刊、
「化学工業」１９８６年５月号Ｐ．４５〜５１の「近赤
外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市場動
向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー）又は特
許に記載されている公知の染料が利用できる。具体的に
は、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、ポリメチン染料、シア
ニン染料などの赤外線吸収染料が好ましい。

【０１９６】例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特
開昭５９−８４３５６号、特開昭６０−７８７８７号、
特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１９４５９
５号、特開昭５９−２１６１４６号、英国特許４３４，
８７５号、米国特許第４，９７３，５７２号等に記載さ
れているシアニン染料、米国特許第４，７５６，９９３
号記載のシアニン染料やアゾメチン染料、特開昭５８−
１８１６９０号等に記載されているメチン染料、特開昭
５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、
特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６
号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４
４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８
−１１２７９２号等に記載されているスクワリリウム染
料、特開平１１−２３５８８３号記載のフタロシアニン
化合物や特開平１０−２６８５１２号記載の各種の染料
を挙げることができる。

【０１９７】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開
昭５８−１８１０５１号、特開昭５８−２２０１４３
号、特開昭５９−４１３６３号、特開昭５９−８４２４
８号、特開昭５９−８４２４９号、特開昭５９−１４６
０６３号、特開昭５９−１４６０６１号、特公平５−１
３５１４号、特公平５−１９７０２号に記載されている
ピリリウム系化合物、米国特許第４，２８３，４７５号
に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や、エポリン
社製エポライトIII−１７８、エポライトIII−１３０、
エポライトIII−１２５等も好ましく用いられる。

【０１９８】これらの中で、画像記録層に添加するのに
特に好ましい染料は水溶性基を有する染料で、以下に具
体例を構造式で列挙する。

【０１９９】

【化２】

【０２００】

【化３】

【０２０１】光熱変換剤をポリマー微粒子やマイクロカ
プセル内など親油性物質に添加して用いる場合は、前記
の赤外線吸収顔料または染料でも良いが、より親油性の
ものが好ましい。好適なものとして以下に例示する染料
を挙げることができる。

【０２０２】

【化４】

【０２０３】

【化５】

【０２０４】光熱変換剤の画像記録層への添加割合は、
画像記録層固形分の０．１〜５０重量％が好ましく、３
〜２５％がさらに好ましい。この範囲内で、画像記録層
の膜強度を損なうことなく、良好な感度が得られる。

【０２０５】本発明の画像記録層には親水性樹脂を添加
しても良い。親水性樹脂を添加することにより機上現像
性が良好となるばかりか、画像記録層自体の皮膜強度も
向上する。

【０２０６】親水性樹脂としては、例えばヒドロキシル
基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、アミ
ノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、カルボキシ
ル基、カルボキシラト基、スルホ基、スルホナト基、リ
ン酸基などの親水基を有するものが好ましい。

【０２０７】親水性樹脂の具体例として、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチ
ルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセ
テート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン
酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、
ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸
類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレート
のホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルア
クリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキ
シプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリ
マー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー
およびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートの
ホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアク
リレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレ
ングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポ
リビニルアルコール類、ならびに加水分解度が少なくと
も６０％、好ましくは少なくとも８０％の加水分解ポリ
ビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドの
ホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホ
モポリマーおよびコポリマー、Ｎ−メチロールアクリル
アミドのホモポリマーおよびコポリマー等を挙げること
ができる。

【０２０８】親水性樹脂の画像記録層への添加量は、画
像記録層固形分の５〜４０％が好ましく、１０〜３０％
がさらに好ましい。この範囲内で、良好な機上現像性と
皮膜強度が得られる。

【０２０９】本発明の画像記録層には、さらに必要に応
じて上記以外に種々の化合物を添加してもよい。例え
ば、耐刷力を一層向上させるために多官能モノマーを画
像記録層中に添加することができる。この多官能モノマ
ーとしては、マイクロカプセル中に入れられるモノマー
として例示したものを用いることができる。特に好まし
いモノマーとしては、トリメチロールプロパントリアク
リレートを挙げることができる。

【０２１０】本発明の画像記録層は、必要に応じて、架
橋剤を含んでも良い。好適な架橋剤としては、メチロー
ル基を有する低分子化合物、例えばメラミン−ホルムア
ルデヒド樹脂、ヒダントイン−ホルムアルデヒド樹脂、
チオ尿素−ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−
ホルムアルデヒド樹脂を挙げることができる。

【０２１１】また、本発明の画像記録層には、画像露光
後、画像部と非画像部とを識別可能とするため、熱によ
って酸又はラジカルを発生する化合物と酸又はラジカル
によって変色する染料とを含有させることができる。

【０２１２】熱によって酸又はラジカルを発生する化合
物としては、例えば、米国特許３，７２９，３１３号、
同４，０５８，４００号、同４，０５８，４０１号、同
４，４６０，１５４号、同４，９２１，８２７号に記載
のジアリルヨードニウム塩、やトリアリルホスホニウム
塩、米国特許３，９８７，０３７号、同４，４７６，２
１５号、同４，８２６，７５３号、同４，６１９，９９
８号、同４，６９６，８８８号、同４，７７２，５３４
号、同４，１８９，３２３号、同４，８３７，１２８
号、同５，３６４，７３４号、同４，２１２，９７０号
等に記載のハロメチル−１−３−５−トリアジン化合物
やハロメチルオキサジアゾール化合物等が挙げられる。

【０２１３】酸又はラジカルによって変色する染料とし
ては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン
系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンス
ラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等
の各種染料が有効に用いられる。

【０２１４】具体例としては、ブリリアントグリーン、
エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイ
オレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２
Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエ
ロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブル
ー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレ
ッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチルレッド、ナ
イルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレッ
ト、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピ
ュアブルーＢＯＨ［保土ケ谷化学（株）製］、オイルブ
ルー＃６０３［オリエント化学工業（株）製］、オイル
ピンク＃３１２［オリエント化学工業（株）製］、オイ
ルレッド５Ｂ［オリエント化学工業（株）製］、オイル
スカーレット＃３０８［オリエント化学工業（株）
製］、オイルレッドＯＧ［オリエント化学工業（株）
製］、オイルレッドＲＲ［オリエント化学工業（株）
製］、オイルグリーン＃５０２［オリエント化学工業
（株）製］、スピロンレッドＢＥＨスペシャル［保土ケ
谷化学工業（株）製］、ｍ−クレゾールパープル、クレ
ゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、スルホ
ローダミンＢ、オーラミン、４−ｐ−ジエチルアミノフ
ェニルイミノナフトキノン、２−カルボキシアニリノ−
４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、
２−カルボステアリルアミノ−４−ｐ−ジヒドロオキシ
エチルアミノ−フェニルイミノナフトキノン、１−フェ
ニル−３−メチル−４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイ
ミノ−５−ピラゾロン、１−β−ナフチル−４−ｐ−ジ
エチルアミノフェニルイミノ−５−ピラゾロン等の染料
やｐ，ｐ′，ｐ″ヘキサメチルトリアミノトリフェニル
メタン（ロイコクリスタルバイオレット）、Pergascrip
t Blue SRB［チバガイギー社製］等のロイコ染料が挙
げられる。

【０２１５】酸又はラジカルを発生する化合物と酸又は
ラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それ
ぞれ、画像記録層固形分に対して０．０１〜１０％の割
合である。

【０２１６】また、本発明においてエチレン性不飽和化
合物を用いる場合は、画像記録層塗布液の調製中あるい
は保存中の不要な熱重合を阻止するために、少量の熱重
合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止
剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、
ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−
ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス
（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′
−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン
アルミニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量
は、全組成物の重量に対して約０．０１〜５％が好まし
い。

【０２１７】また必要に応じて、酸素による重合阻害を
防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級
脂肪酸やその誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程
で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸や
その誘導体の添加量は、画像記録層固形分の約０．１〜
約１０％が好ましい。

【０２１８】本発明の画像記録層には無機微粒子を添加
してもよく、無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、
酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、ア
ルギン酸カルシウムもしくはこれらの混合物などが好適
な例として挙げられ、これらは光熱変換性でなくても皮
膜の強化や表面粗面化による界面接着性の強化などに用
いることができる。

【０２１９】無機微粒子の平均粒径は５ｎｍ〜１０μｍ
のものが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜１μｍで
ある。粒径がこの範囲内で、樹脂微粒子や光熱変換剤の
金属微粒子とも親水性樹脂内に安定に分散し、画像記録
層の膜強度を充分に保持し、印刷汚れを生じにくい親水
性に優れた非画像部を形成できる。

【０２２０】このような無機微粒子は、コロイダルシリ
カ分散物などの市販品として容易に入手できる。無機微
粒子の画像記録層への含有量は、画像記録層の全固形分
の１．０〜７０％が好ましく、より好ましくは５．０〜
５０％である。

【０２２１】さらに、本発明の画像記録層には、必要に
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を加える
ことができる。例えば、ポリエチレングリコール、クエ
ン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。

【０２２２】マイクロカプセルを画像記録層に添加する
場合は、内包物が溶解し、かつ壁材が膨潤する溶剤をマ
イクロカプセル分散媒中に添加することができる。この
ような溶剤によって、内包された熱反応性官能基を有す
る化合物の、マイクロカプセル外への拡散が促進され
る。

【０２２３】このような溶剤としては、マイクロカプセ
ル分散媒、マイクロカプセル壁の材質、壁厚および内包
物に依存するが、多くの市販されている溶剤から容易に
選択することができる。例えば架橋ポリウレア、ポリウ
レタン壁からなる水分散性マイクロカプセルの場合、ア
ルコール類、エーテル類、アセタール類、エステル類、
ケトン類、多価アルコール類、アミド類、アミン類、脂
肪酸類などが好ましい。

【０２２４】具体的化合物としては、メタノール、エタ
ノール、ｔ−ブタノール、n−プロパノール、テトラヒ
ドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、メチルエチルケ
トン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドな
どがあるが、これらに限られない。またこれらの溶剤を
2種以上用いてもよい。

【０２２５】マイクロカプセル分散液には溶解しない
が、前記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用いることが
できる。添加量は、素材の組み合わせにより決まるもの
であるが、適性値より少ない場合は、画像形成が不十分
となり、多い場合は分散液の安定性が劣化する。通常、
塗布液の５〜９５％が有効であり好ましい範囲は、１０
〜９０％、より好ましい範囲は１５〜８５％である。

【０２２６】本発明の画像記録層に、熱反応性官能基を
有するポリマー微粒子あるいはマイクロカプセルを用い
る場合は、必要に応じてこれらの反応を開始あるいは促
進する化合物を添加してもよい。反応を開始あるいは促
進する化合物としては、熱によりラジカルあるいはカチ
オンを発生するような化合物を挙げることができ、例え
ば、ロフィンダイマー、トリハロメチル化合物、過酸化
物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩あるいはジフェニルヨ
ードニウム塩などを含んだオニウム塩、アシルホスフィ
ン、イミドスルホナートなどが挙げられる。

【０２２７】これらの化合物は、画像記録層固形分の１
〜２０％の範囲で添加することができる。好ましくは３
〜１０％の範囲である。この範囲内で、機上現像性を損
なわず、良好な反応開始あるいは促進効果が得られる。

【０２２８】本発明の画像記録層は、必要な上記各成分
を溶剤に溶かして塗布液を調製し、画像記録層上に塗布
される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロ
ライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノー
ル、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、γ−ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げること
ができるが、これに限定されるものではない。これらの
溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形
分濃度は、好ましくは１〜５０％である。

【０２２９】また塗布、乾燥後に得られる基板上の画像
記録層塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一
般的に０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。この範囲よ
り塗布量が少なくなると、見かけの感度は大になるが、
画像記録の機能を果たす画像記録層の皮膜特性は低下す
る。塗布する方法としては、種々の方法を用いることが
できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレ
ー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗
布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。

【０２３０】本発明にかかわる画像記録層塗布液には、
塗布性を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭６
２−１７０９５０号に記載されているようなフッ素系界
面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、
画像記録層全固形分の０．０１〜１％、さらに好ましく
は０．０５〜０．５％である。

【０２３１】［オーバーコート層］本発明の平版印刷用
原板は、保存時や取り扱い時に画像記録層表面が親油性
物質によって、例えば指紋状に汚染されたりするのを防
止するため、画像記録層上に、水溶性オーバーコート層
を設けることができる。本発明に使用される水溶性オー
バーコート層は印刷時容易に除去できるものであり、水
溶性の有機高分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。

【０２３２】ここで用いる水溶性の有機高分子化合物と
しては、塗布乾燥によってできた被膜がフィルム形成能
を有するもので、具体的には、ポリ酢酸ビニル（但し加
水分解率６５％以上のもの）、アクリル酸単独重合体も
しくは共重合体およびそのアルカリ金属塩あるいはアミ
ン塩、メタクリル酸単独重合体もしくは共重合体および
そのアルカリ金属塩あるいはアミン塩、アクリルアミド
単独重合体および共重合体、ポリヒドロキシエチルアク
リレート、Ｎ−ビニルピロリドン単独重合体および共重
合体、ポリビニルメチルエーテル、ビニルメチルエーテ
ル／無水マレイン酸共重合体、２−アクリルアミド−２
−メチル−１−プロパンスルホン酸の単独重合体もしく
は共重合体およびそのアルカリ金属塩もしくはアミン
塩、アラビアガム、繊維素誘導体（例えば、カルボキシ
メチルセルローズ、カルボキシエチルセルローズ、メチ
ルセルローズ等）およびその変性体、ホワイトデキスト
リン、プルラン、酵素分解エーテル化デキストリン等を
挙げることができる。また、目的に応じて、これらの樹
脂を二種以上混合して用いることもできる。

【０２３３】また、オーバーコート層には、前記の光熱
変換剤を添加しても良い。特に水溶性基を有する赤外線
吸収染料が好適である。さらに、オーバーコート層には
塗布の均一性を確保する目的で、水溶液塗布の場合に
は、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリ
オキシエチレンドデシルエーテルなどの非イオン系界面
活性剤を添加することができる。

【０２３４】オーバーコート層の乾燥塗布量は、０．１
〜２．０ｇ／ｍ²が好ましい。この範囲内で、機上現像
性を損なわず、指紋状汚れなどの親油性物質による画像
記録層表面の良好な汚染防止ができる。

【０２３５】［製版及び印刷］本発明の平版印刷用原板
は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド
等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露
光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外
線ランプ露光などが用いられるが、波長７００〜１２０
０ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ
等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。

【０２３６】画像露光された本発明の平版印刷用原板
は、それ以上の処理なしに印刷機に装着し、インキと湿
し水を用いて通常の手順で印刷することができる。ま
た、これらの平版印刷用原板は、日本特許２９３８３９
８号に記載されているように、印刷機の版胴上に取りつ
けた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露光し、
その後に湿し水および／またはインクをつけて機上現像
することも可能である。また、これらの平版印刷用原板
は、水または適当な水溶液を現像液とする現像をした
後、印刷に用いることもできる。

【０２３７】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【０２３８】アルミニウム基板の製造例厚さ０．２４ｍｍのＪＩＳ１０５０のアルミニウム板を
用い、前処理、粗面化処理、親水膜生成処理、必要に応
じて後処理をこの順に行って、実施例の平版印刷用原板
に用いるアルミニウム基板を作製した。粗面化処理まで
は下記Ａ〜Ｉのいずれかで行い、親水膜生成処理及び後
処理は、各基板の製造例に記載した方法で行った。

【０２３９】＜粗面化処理Ａ，Ｂ及びＣ＞アルミニウム
板を５０℃に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液に浸
漬して、溶解量が２ｇ／ｍ²になるように溶解処理を行
った。水洗後、次に行う電気化学的粗面化処理で使用す
る電解液と同組成の水溶液に１０秒間浸漬して中和処理
し、次いで水洗した。

【０２４０】次にこのアルミニウム基板材料を、電流密
度５０Ａ／ｄｍ²、正弦波交流を用い、休止時間を挟み
複数回に分けた電気化学的粗面化処理を行った。表１
に、電解液組成、１回当たりの処理電気量、電解処理回
数、休止時間を示した。該電気化学的粗面化処理後は、
５０℃に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し
て、溶解量が２ｇ／ｍ²になるようにアルカリ溶解処理
し、水洗した後、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中
に１０秒間浸漬して中和処理し、次いで水洗した。

【０２４１】

【表１】

【０２４２】＜粗面化処理Ｄ＞アルミニウム板を５０℃
の１０％水酸化ナトリウム水溶液に２０秒間浸漬して、
脱脂及びエッチングした後、流水で水洗し、次いで２５
％硫酸水溶液で２０秒間中和処理し、水洗した。その
後、１％塩酸水溶液（アルミニウムイオンを０．５％含
む）を用い、電流値が０からピークに達する間での時間
（ＴＰ）が２ｍｓｅｃの周波数６０Ｈｚ、ｄｕｔｙ比
１：１の台形の矩形波を用い、カーボン電極を対極とし
てアルミニウム陽極時平均電流密度２７Ａ／ｄｍ²（ア
ルミニウムの陽極時と陰極時の電流密度の比１：０．９
５）、アルミニウム陽極時平均電気量３５０Ｃ／ｄｍ²
となるように、２０℃で電気化学的粗面化処理をした。
次いで、水酸化ナトリウム２６％、アルミニウムイオン
６．５％水溶液を用い、液温４５℃でスマットを含む全
エッチング量が０．７ｇ／ｍ²となるようにスプレーに
よるエッチング処理を行った。続いて２５％硝酸水溶液
（アルミニウムイオンを０．３％含む）で６０℃１０秒
間スプレー処理によるデスマット処理を行った。

【０２４３】＜粗面化処理Ｅ＞アルミニウム板表面を毛
径０．７２ｍｍ、毛長８０ｍｍのナイロンブラシと平均
粒径約１５〜３５μｍのパミストンの水懸濁液を用いて
粗面化した後、よく水で洗浄した。次に、１０％水酸化
ナトリウム水溶液に７０℃で３０秒間浸漬してエッチン
グし、流水で水洗後、さらに２０％硝酸水溶液で中和洗
浄し、水洗した。このように機械的に粗面化したアルミ
ニウム板に、さらに下記のような電気化学的粗面化を施
した。

【０２４４】塩酸濃度が７．５ｇ／ｌであり、アルミニ
ウムイオンの濃度が５ｇ／ｌになるように塩酸に塩化ア
ルミニウムを添加して調製した塩酸水溶液中で、液温３
５℃で前記の機械的粗面化をしたアルミニウム板に、図
１に示したラジアルセルを用いて、交流を印加して交流
電気分解を行った。交流としては、周波数が６０Ｈｚの
商用交流を、誘導電圧調整器及び変圧器を用いて電流・
電圧調整することにより発生させたサイン波を用いた。
アルミニウム板が陽極時の電気量の総和は５０Ｃ／ｄｍ
²であり、前記交流の１周期におけるＱｃ／Ｑａは０．
９５であった。

【０２４５】上記塩酸水溶液の塩酸及びアルミニウムイ
オンの濃度については、温度、導電率、及び超音波伝播
速度と、塩酸及びアルミニウムイオン濃度との関係を求
め、前記塩酸水溶液の温度、導電率、及び超音波伝播速
度が所定の値になるように、濃度３５％の濃塩酸と水と
を循環タンクから電解槽本体内部に添加し、余剰の塩酸
水溶液をオーバーフローさせることにより、一定に保持
した。次に、処理液として、水酸化ナトリウム及びアル
ミニウムイオンをそれぞれ５％及び０．５％含有し、液
温が４５℃のアルカリ溶液を用い、前記アルミニウム板
における粗面化面の溶解量が０．１ｇ／ｍ²であり、前
記面とは反対側の面の溶解量０．０５ｇ／ｍ²となるよ
うに、エッチング処理を施した。

【０２４６】エッチング処理を施したアルミニウム板の
両面に、硫酸及びアルミニウムイオンをそれぞれ３００
ｇ／ｌ及び５ｇ／ｌ含有する液温５０℃の硫酸水溶液を
噴霧してデスマット処理を行った。

【０２４７】＜粗面化処理Ｆ＞粗面化処理Ａの後、更
に、下記の硝酸水溶液中での電気化学的粗面化処理を行
った。

【０２４８】１％硝酸水溶液（アルミニウムイオンを
０．５％含む）を用い、電流値が０からピークに達する
間での時間（ＴＰ）が２ｍｓｅｃの周波数６０Ｈｚ、ｄ
ｕｔｙ比１：１の台形の矩形波を用い、カーボン電極を
対極としてアルミニウム陽極時平均電流密度２７Ａ／ｄ
ｍ²（アルミニウムの陽極時と陰極時の電流密度の比
１：０．９５）、アルミニウム陽極時平均電気量３５０
Ｃ／ｄｍ²となるように、５０℃で、図１に示したラジ
アルセルを用いて電気化学的粗面化処理をした。次い
で、水酸化ナトリウム２６％、アルミニウムイオン６．
５％水溶液を用い、液温４５℃でスマットを含む全エッ
チング量が０．２ｇ／ｍ²となるようにスプレーによる
エッチング処理を行った。続いて２５％硝酸水溶液（ア
ルミニウムイオンを０．３％含む）で６０℃１０秒間ス
プレー処理によるデスマット処理を行った。

【０２４９】＜粗面化処理Ｇ＞粗面化処理Ｅのうち、電
気化学的粗面化処理及びそれ以降の処理を省いた処理
（機械的粗面化、アルカリエッチング、中和、水洗）を
粗面化処理Ｇとした。

【０２５０】＜粗面化処理Ｈ＞アルミニウム板を５０℃
に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬して、溶
解量が２ｇ／ｍ²になるように溶解処理を行った。水洗
後、次に行う電気化学的粗面化処理で使用する電解液と
同組成の水溶液に１０秒間浸漬して中和処理し、次いで
水洗した。

【０２５１】次にこのアルミニウム基板材料を、１％硝
酸水溶液（アルミニウムイオンを０．５％含む）、電流
密度５０Ａ／ｄｍ²、正弦波交流を用い、休止時間を１
回０．５秒間設け、１回当たり２５０Ｃ／ｄｍ²、合計
５００Ｃ／ｄｍ²の電気量で、電気化学的粗面化処理を
行った後、水洗した。該電気化学的粗面化処理後は、５
０℃に保たれた１％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し
て、溶解量が５ｇ／ｍ²になるようにアルカリ溶解処理
し、水洗した後、２５℃に保たれた１０％硫酸水溶液中
に１０秒間浸漬して中和処理し、次いで水洗した。

【０２５２】＜粗面化処理Ｉ＞電気化学的粗面化処理後
のアルカリ溶解処理を行わなかったこと以外は粗面化処
理Ｈと同様の粗面化処理を行った。

【０２５３】基板１〜６の製造粗面化処理したＡ〜Ｆの基板をそれぞれ陽極酸化装置を
使って硫酸濃度１７０ｇ／ｌ（アルミニウムイオンを
０．５％含む）、液温４０℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ²
にて２０秒間陽極酸化処理を行い、水洗した。次に、液
温３０℃のｐＨ１３の水酸化ナトリウム水溶液に７０秒
間浸漬した後、水洗した。次に、コロイダルシリカ（日
産化学工業（株）製スノーテックスＳＴ−Ｎ、粒径約２
０ｎｍ）１％水溶液に７０℃で１４秒間浸漬してから水
洗を行った。次に、２．５％３号ケイ酸ナトリウムに７
０℃で１４秒間浸漬後、水洗し、基板１〜６を製造し
た。

【０２５４】基板７の製造粗面化処理Ｅを施したアルミニウム板を３０℃のシュウ
酸５０ｇ／ｌ溶液中で、電流密度１２Ａ／ｄｍ²で２分
間陽極酸化を行い、水洗することによって、４ｇ／ｍ²
の陽極酸化皮膜を作製した。次にｐＨ１３、液温５０℃
の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬してから、水洗
した。次に、２．５％３号珪酸ナトリウムに７０℃で１
４秒間浸漬後、水洗を行い、基板７を製造した。

【０２５５】基板８の製造粗面化処理Ｅを施したアルミニウム板を硫酸濃度１７０
ｇ／ｌ（アルミニウムイオンを０．５％含む）、液温３
０℃、電流密度５Ａ／ｄｍ²にて７０秒間陽極酸化処理
を行い、水洗した。次にｐＨ１３、液温３０℃の水酸化
ナトリウム水溶液に３０秒間浸漬してから、水洗した。
次に、製造例７と同様にケイ酸ナトリウム処理を行い水
洗して基板８を製造した。

【０２５６】基板９〜１３の製造粗面化処理Ｅを施した基板を用いた製造例５の陽極酸化
処理時間を、１２秒、１６秒、２４秒、４４秒、９０秒
にした以外は、製造例５と同様にして、それぞれ基板９
〜１３を製造した。

【０２５７】基板１４の製造コロイダルシリカ水溶液の浸漬処理を行わなかった以外
は基板の製造例５と同様にして基板１４を製造した。

【０２５８】基板１５の製造粗面化処理Ｅを施した基板に硫酸濃度１００ｇ／ｌ、ア
ルミニウムイオン濃度５ｇ／ｌの電解液を用いて、液温
５１℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ²で陽極酸化処理を行
い、水洗し、２ｇ／ｍ²の陽極酸化皮膜を作製した。次
に、硫酸濃度１７０ｇ／ｌ、アルミニウムイオン濃度５
ｇ／ｌの電解液を用いて、液温４０℃、電流密度３０Ａ
／ｄｍ²で陽極酸化を、合計の酸化皮膜量が４．０ｇ／
ｍ²になるように調整して行い、水洗して、陽極酸化皮
膜を作製した。次に、２．５％の３号ケイ酸ナトリウム
水溶液に、液温７０℃で１４秒間浸漬後、水洗して基板
１５を製造した。

【０２５９】基板１６の製造粗面化処理Ｅを施した基板に硫酸濃度１７０ｇ／ｌ、ア
ルミニウムイオン濃度５ｇ／ｌの電解液を用いて、液温
４３℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ²で陽極酸化処理を行
い、水洗し、２ｇ／ｍ²の陽極酸化皮膜を作製した。次
に、リン酸１２０ｇ／ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ
／ｌの電解液を用いて、液温４０℃、電流密度１８Ａ／
ｄｍ²で陽極酸化を行い、水洗した。次に、２．５％の
３号ケイ酸ナトリウム水溶液に、液温７０℃で１４秒間
浸漬後、水洗して基板１６を製造した。

【０２６０】比較例用基板（比１〜比３）の製造粗面化処理Ｇ、Ｈ、Ｉをそれぞれ施した基板を、製造例
１４の粗面化処理した基板の代わりに用いた以外は製造
例１４と同様にして比較例用基板１〜３を製造した。

【０２６１】比較例用基板（比４）の製造製造例７の水酸化ナトリウムの処理時間を３分にした以
外は製造例７と同様にして比較例用基板４を製造した

【０２６２】比較例用基板（比５）の製造粗面化処理Ａを施した基板を、硫酸濃度２００ｇ／ｌ、
アルミニウムイオン濃度５ｇ／ｌの電解液を用いて、液
温４５℃、約１０Ｖの電圧及び１．５Ａ／ｄｍ ²の電流
密度で約３００秒間陽極酸化を行い、３ｇ／ｍ²の陽極
酸化皮膜を作製し、水洗した。次に、炭酸水素ナトリウ
ム２０ｇ／ｌ含有水溶液で、液温４０℃で３０秒間後処
理し、引き続き既２０℃の水で１２０秒間すすぎ、そし
て乾燥した。次いで、上記で得られた基板を５％クエン
酸水溶液中に６０秒間浸漬し、水洗し、４０℃で乾燥
し、比較例用基板５を製造した。

【０２６３】上記製造例で得られたアルミニウム基板の
粗面化形状及び親水膜の物性値等を表２に示した。各物
性値の測定法は、以下の通りである。なお、密度の測定
法は前述の方法で行った。

【０２６４】＜大きなうねりの平均開口径、小ピットの
平均開口径及び小ピットの平均深さと小ピットの平均開
口径との比の測定法＞いずれの値もアルミニウム基板表
面のＳＥＭ写真を撮影して測定した。大きなうねりの平
均開口径ｄ₂（μｍ）については、１０００倍のＳＥＭ
写真を用い、輪郭が明確に判別できるうねり１個ずつの
長径と短径とを測定してその平均をうねりの開口径と
し、該ＳＥＭ写真中で測定した大きなうねりの開口径の
和を、測定した大きなうねり数５０ヶで割って求めた。
ＳＥＭは日本電子（株）製Ｔ−２０を用いた。

【０２６５】小ピットの平均開口径ｄ₁（μｍ）の測定
には、３００００倍のＳＥＭ写真を用い、大きなうねり
の開口径の場合と同様の手法で行った。この場合に用い
たＳＥＭは日立製作所製Ｓ−９００であった。

【０２６６】小ピットの平均深さｈ（μｍ）と小ピット
の平均開口径ｄ₁（μｍ）との比ｈ／ｄ₁には、断面の３
００００倍のＳＥＭ写真を用いて測定し、測定した５０
ヶ所の平均値を用いた。

【０２６７】＜親水膜の膜厚方向の熱伝導率の測定法＞
初めに、本発明のアルミニウム基板１〜１６ならびに比
較例用基板１〜５に加えて、これらと親水膜の膜厚のみ
が異なるアルミニウム基板を、それぞれ２種類ずつ作製
した。膜厚のみが異なるアルミニウム基板は、それぞれ
陽極酸化時間を０．５倍及び２倍にし、それ以外は製造
例で示したアルミニウム基板と同様の方法により作製し
た。

【０２６８】次に、膜厚のみが異なる３種類のアルミニ
ウム基板を、図２に示した装置による測定に供し、前記
数式（１）により親水膜の膜厚方向の熱伝導率を算出し
た。なお、測定は試料上の異なる５点で行い、その平均
値を用いた。

【０２６９】ここで親水膜の膜厚は、日本電子（株）製
ＳＥＭＴ−２０を用いて親水膜断面を観察し、５０ヶ
所の膜厚を実測し、その平均値を用いた。

【０２７０】＜陽極酸化皮膜マイクロポアのポア径の測
定方法＞陽極酸化皮膜マイクロポアのポア径は、表層の
ポア径と表層から深さ０．４μｍ地点のポア径について
測定した。表層ポア径の場合は陽極酸化皮膜表面を、そ
して表層から０．４μｍのポア径の場合は、陽極酸化処
理済みのアルミニウム基板を折り曲げて、折り曲げた際
に発生したひび割れ部分の側面（通常破断面）を、超高
分解能ＳＥＭ（日立Ｓ−９００）を使用して観察した。
観察は、１２Ｖという比較的低加速電圧で、導電性を付
与する蒸着処理などを施すことなしに、１５万倍の倍率
で行った。どちらのポア径も、５０個のポアを無作為抽
出し手得た測定値の平均値を使用した。標準偏差誤差
は、どちらも±１０％以下であった。

【０２７１】＜空隙率の測定法＞陽極酸化皮膜の空隙率
は次式より求めた。空隙率（％）＝｛１−（酸化皮膜密度／３．９８）｝ｘ
１００ここで、３．９８は化学便覧による酸化アルミニウムの
密度（ｇ／ｃｍ³）である。

【０２７２】

【表２】

【０２７３】微粒子の製造例（製造例１：熱融着性ポリマー微粒子（１））１０００
ｍｌの４つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、
窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱
酸素を行いつつ蒸留水３５０ｍｌを加えて内温が８０℃
となるまで加熱した。分散剤としてドデシル硫酸ナトリ
ウム１．０ｇとポリビニルアルコール（日本合成化学
（株）製ＫＬ０５）１．５ｇを添加し、更に開始剤とし
て過硫化アンモニウム０．４５ｇを添加し、次いでスチ
レン９０ｇを滴下ロートで約１時間かけて滴下した。滴
下終了後５時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で
未反応単量体を除去した。その後冷却しアンモニア水で
ｐＨ６に調整し、最後に不揮発分が１５重量％となるよ
うに純水を添加して熱融着性ポリマー微粒子（１）の水
分散液を得た。熱融着性ポリマー微粒子（１）の粒径分
布は、粒子径２2０ｎｍに極大値を有した。

【０２７４】ここで、粒径分布は、ポリマー微粒子の電
子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で
５０００個測定し、得られた粒径測定値の最大値から０
の間を対数目盛で５０分割して各粒径の出現頻度をプロ
ットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒
子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径
とした。

【０２７５】（製造例２：熱融着性ポリマー微粒子
（２））製造例１のスチレン９０．０ｇを、スチレン６
０ｇ、ブチルアクリレート２５ｇ、メタアクリル酸５ｇ
に変更し、ドデシル硫酸ナトリウムの添加量を３．０ｇ
にした以外は製造例１と同様にして製造した。前記方法
により測定した熱融着性ポリマー微粒子（２）の粒径分
布は、粒子径５０ｎｍに極大値を有した。

【０２７６】（製造例３：熱融着性ポリマー微粒子
（３））油相成分として重量平均分子量５０００のクレ
ゾール樹脂（メタ／パラ比６０／４０）７．０ｇ、光熱
変換剤（本明細書記載のＩＲ−２４）１．５ｇ、アニオ
ン系界面活性剤パイオニンＡ−４１Ｃ（竹本油脂製）
０．１ｇを酢酸エチル１８．０ｇに溶解した。また水相
成分としてポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ２０
５）４％水溶液２５．４ｇに純水９．６ｇを加えた液を
作成した。油相成分および水相成分をホモジナイザーを
用いて１５０００ｒｐｍで乳化した。その後、水を２０
ｇ添加し、室温で３０分、さらに４０℃で３時間攪拌し
酢酸エチルを蒸発させた。このようにして得られた液の
固形分濃度は１５．０％であり、粒子径２００ｎｍに極
大値を有した。

【０２７７】（製造例４：熱反応性官能基を有するポリ
マー微粒子）製造例１のスチレン９０．０ｇをグリシジ
ルメタクリレート４５．０ｇ、スチレン４５．０ｇに代
えた以外は同様にして、熱反応性官能基を有するポリマ
ー微粒子を得た。固形分濃度は１５．０％であり、粒子
径は８０ｎｍに極大値を有した。

【０２７８】（製造例５：マイクロカプセル（１））油
相成分としてトリメチロールプロパンとキシリレンジイ
ソシアナートとの付加体（武田薬品工業製Ｄ−１１０
Ｎ）３０ｇ、エピコート１００１（油化シェルエポキシ
（株）製）３０ｇ、光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ−
２６）８ｇ、クリスタルバイオレットラクトン０．５
ｇ、アニオン系界面活性剤パイオニンＡ４１Ｃ（竹本油
脂製）０．５ｇを酢酸エチル９０ｇに溶解した。水相成
分としてはＰＶＡ２０５（クラレ製）の４％水溶液１８
０ｇを調製した。油相成分および水相成分をホモジナイ
ザーを用いて１００００ｒｐｍで乳化した。その後水を
１２０ｇ添加し、室温で３０分、さらに４０℃で３時間
攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液
の固形分濃度は１８％であり、平均粒径は２００nｍで
あった。

【０２７９】（製造例６：マイクロカプセル（２））製
造例５のエピコート１００１の代わりにヒドロキノンビ
ス（２−ヒドロキシエチル）エーテル２５ｇ、ビスフェ
ノールA ５ｇを用いた以外は同様にして、マイクロカ
プセル（２）の水分散液を得た。このマイクロカプセル
液の固形分濃度は１８％であり、平均粒径は２００nｍ
であった。

【０２８０】実施例１〜１６及び比較例１〜５製造例で得たアルミニウム基板上に、粒径分布の異なる
ポリマー微粒子を含有する下記の画像記録層塗布液１を
バー塗布した後、オーブンで７０℃１２０秒で乾燥し、
乾燥塗布量０．８ｇ／ｍ²の平版印刷用原板を作製し
た。各実施例で用いたアルミニウム基板は表３に示し
た。

【０２８１】（画像記録層塗布液１）熱融着性ポリマー微粒子（１）５．０ｇ（固形分換算）熱融着性ポリマー微粒子（２）５．０ｇ（固形分換算）光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ−１０）１．０ｇポリアクリル酸（重量平均分子量）１．０ｇ水５０．０ｇ

【０２８２】このようにして得られた平版印刷用原板
を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したクレオ
社製トレンドセッター３２４４ＶＦＳにて、出力９Ｗ、
外面ドラム回転数１０５ｒｐｍ、版面エネルギー２００
ｍＪ／ｃｍ²、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した
後、処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機ＳＯ
Ｒ−Ｍの版胴に取付け、湿し水を供給したのち、インキ
を供給し印刷を行った。その結果、問題なく機上現像す
ることができ、汚れのない良好な印刷物が得られた。表
３に、各印刷版の印刷結果を記載した。

【０２８３】

【表３】

【０２８４】ここで、機上現像枚数は、完全に機上現像
されるまでに要した印刷用紙の枚数であり、機上現像性
の難易を表す。放置払い枚数は、印刷機を停止し、印刷
版を版胴に付けたまま室温で１時間放置した後、印刷を
再開した時に、汚れのない良好な印刷物が得られるまで
に要した印刷用紙の枚数であり、印刷版の汚れ難さを示
す。

【０２８５】実施例１７〜３２及び比較例６〜１０実施例１〜１６及び比較例１〜５で用いた画像記録層塗
布液１の代わりに、下記の画像記録層塗布液２を用いた
以外は、実施例１〜１６及び比較例１〜５と同様に塗
布、乾燥して、平版印刷用原板を作製した。露光、印刷
も同様に行い、結果を表４に示した。

【０２８６】（画像記録層塗布液２）熱融着性ポリマー微粒子（２）５．０ｇ（固形分換算）熱融着性ポリマー微粒子（３）５．０ｇ（固形分換算）ポリアクリル酸（重量平均分子量）１．０ｇ水５０．０ｇ

【０２８７】

【表４】

【０２８８】実施例３３〜４８及び比較例１１〜１５実施例１〜１６及び比較例１〜５で用いた画像記録層塗
布液１の代わりに下記の画像記録層塗布液３を用いた以
外は、実施例１〜１６及び比較例１〜５と同様に塗布、
乾燥して、平版印刷用原板を作製した。露光、印刷も同
様に行い、結果を表５に示した。

【０２８９】（画像記録層塗布液３）熱融着性ポリマー微粒子（２）５．０ｇ（固形分換算）反応性基を有するポリマー微粒子５．０ｇ（固形分換算）光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ−１０）１．０ｇポリアクリル酸（重量平均分子量）１．０ｇ水５０．０ｇ

【０２９０】

【表５】

【０２９１】実施例４９〜６４及び比較例１６〜２０実施例１〜１６及び比較例１〜５で用いた画像記録層塗
布液１の代わりに下記の画像記録層塗布液４を用いた以
外は、実施例１〜１６及び比較例１〜５と同様に塗布、
乾燥して、平版印刷用原板を作製した。露光、印刷も同
様に行い、結果を表６に示した。

【０２９２】（画像記録層塗布液４）熱融着性ポリマー微粒子（２）５．０ｇ（固形分換算）マイクロカプセル（１）５．０ｇ（固形分換算）光熱変換剤（本明細書記載のＩＲ−１０）１．０ｇポリアクリル酸（重量平均分子量）１．０ｇ水５０．０ｇ

【０２９３】

【表６】

【０２９４】実施例６５〜８０及び比較例２１〜２５実施例１〜１６及び比較例１〜５で用いた画像記録層塗
布液１の代わりに下記の画像記録層塗布液５を用いた以
外は、実施例１〜１６及び比較例１〜５と同様に塗布、
乾燥して、平版印刷用原板を作製した。露光、印刷も同
様に行い、結果を表７に示した。

【０２９５】（感熱層塗布液５）マイクロカプセル１５ｇ（固形分換算）マイクロカプセル２５ｇ（固形分換算）ｐ−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩０．２ｇ

【０２９６】

【表７】

【０２９７】

【発明の効果】本発明によれば、デジタル信号に基づい
た赤外線走査露光後、処理を行うことなくそのまま印刷
機に装着して印刷可能な平版印刷用原板であって、良好
な機上現像性を有し、高感度、かつ高耐刷性であり、し
かもインキ払い性等、印刷での汚れ難さも良好な感熱性
の平版印刷用原板を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の平版印刷用原板のアルミニウム基板
の製造に好適に用いられる電気化学的粗面化処理用ラジ
アル型セルの一例を示す側面図である。

【図２】本発明の平版印刷用原板の親水膜の膜厚方向
の熱伝導率の測定に用いることができるサーモコンパレ
ータの概略図である。

【符号の説明】

１１アルミニウム板１２ラジアルドラムローラ１３ａ、１３ｂ主極１４酸性水溶液１５溶液供給口１６スリット１７溶液通路１８補助陽極１９ａ、１９ｂサイリスタ２０交流電源２１主電解槽２２補助陽極槽３０サーモコンパレータ３１チップ３２リザーバ３３電熱ヒーター３４加熱用ジャケット３５熱電対３６ヒートシンク３７皮膜３８金属基体３９接触式温度計４０チップ先端温度記録計４１ヒートシンク温度記録計４２リザーバ温度記録計

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ２５Ｄ 11/18 Ｃ２５Ｄ 11/18 Ａ３０１３０１ＡＣ２５Ｆ 3/04 Ｃ２５Ｆ 3/04 ＡＧ０３Ｆ 7/00 ５０３Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ 7/004 ５１４ 7/004 ５１４５２１５２１ 7/09 ５０１ 7/09 ５０１Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA12 AB03 AC08 AD01 BH03 BJ03 CC11 DA20 FA10 2H096 AA06 BA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA11 AA14 AA22 AA24 AA27 BA01 BA10 DA74 EA01 EA02 FA07 FA10 FA16 GA07 GA08 GA09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】塩酸を含有する水溶液中で電気化学的粗
面化処理され、熱伝導率が０．０５〜０．５Ｗ／ｍＫで
ある親水膜を有するアルミニウム基板上に、（ａ）熱融
着性ポリマー微粒子、（ｂ）熱反応性官能基を有するポ
リマー微粒子、及び（ｃ）熱反応性化合物を内包するマ
イクロカプセルから選ばれた少なくとも2種類の微粒子
を含有する画像記録層を有し、該微粒子の少なくとも１
種の熱による合体により画像形成がなされることを特徴
とする平版印刷用原板。
【請求項２】塩酸を含有する水溶液中で電気化学的粗
面化処理され、密度が１０００〜３２００ｋｇ／ｍ³及
び／又は空隙率が２０〜７０％である親水膜を有するア
ルミニウム基板上に、（ａ）熱融着性ポリマー微粒子、
（ｂ）熱反応性官能基を有するポリマー微粒子、及び
（ｃ）熱反応性化合物を内包するマイクロカプセルから
選ばれた少なくとも2種類の微粒子を含有する画像記録
層を有し、該微粒子の少なくとも１種の熱による合体に
より画像形成がなされることを特徴とする平版印刷用原
板。
【請求項３】粗面化形状の小ピットの平均開口径が
０．０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均開口径に
対する比が０．１〜０．５であり、熱伝導率が０．０５
〜０．５Ｗ／ｍＫである親水膜を有するアルミニウム基
板上に、（ａ）熱融着性ポリマー微粒子、（ｂ）熱反応
性官能基を有するポリマー微粒子、及び（ｃ）熱反応性
化合物を内包するマイクロカプセルから選ばれた少なく
とも2種類の微粒子を含有する画像記録層を有し、該微
粒子の少なくとも１種の熱による合体により画像形成が
なされることを特徴とする平版印刷用原板。
【請求項４】粗面化形状の小ピットの平均開口径が
０．０１〜３μｍ、小ピットの平均深さの平均開口径に
対する比が０．１〜０．５であり、密度が１０００〜３
２００ｋｇ／ｍ³及び／又は空隙率が２０〜７０％であ
る親水膜を有するアルミニウム基板上に、（ａ）熱融着
性ポリマー微粒子、（ｂ）熱反応性官能基を有するポリ
マー微粒子、及び（ｃ）熱反応性化合物を内包するマイ
クロカプセルから選ばれた少なくとも2種類の微粒子を
含有する画像記録層を有し、該微粒子の少なくとも１種
の熱による合体により画像形成がなされることを特徴と
する平版印刷用原板。
【請求項５】アルミニウム基板の大きなうねりの平均
開口径が３〜２０μｍであることを特徴とする請求項１
から請求項４のいずれかに記載の平版印刷用原板。
【請求項６】親水膜が陽極酸化皮膜であることを特徴
とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の平版印
刷用原板。
【請求項７】陽極酸化皮膜量が３．２ｇ／ｍ²以上で
あることを特徴とする請求項６に記載の平版印刷用原
板。
【請求項８】陽極酸化皮膜の表層のポア径が４０ｎｍ
以下であることを特徴とする請求項６又は請求項７に記
載の平版印刷用原板。
【請求項９】陽極酸化皮膜が封孔処理されていること
を特徴とする請求項６から請求項８のいずれかに記載の
平版印刷用原板。
【請求項１０】陽極酸化皮膜上に平均粒径８〜８００
ｎｍからなる粒子の層を設けたことを特徴とする請求項
６から請求項９のいずれかに記載の平版印刷用原板。
【請求項１１】陽極酸化皮膜が２段階以上の陽極酸化
処理により形成されたことを特徴とする請求項６から請
求項１０のいずれかに記載の平版印刷用原板。
【請求項１２】１段階目で硫酸を含有する電解液で陽
極酸化を行い、２段階目以降にリン酸を含有する電解液
で陽極酸化したことを特徴とする請求項１１に記載の平
版印刷用原板。
【請求項１３】画像記録層が光熱変換剤を含有するこ
とを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれかに記
載の平版印刷用原板。
【請求項１４】光熱変換剤が、（ａ）熱融着性ポリマ
ー微粒子、（ｂ）熱反応性官能基を有するポリマー微粒
子、及び（ｃ）熱反応性化合物を内包するマイクロカプ
セルから選ばれた少なくとも１種の微粒子に含有される
ことを特徴とする請求項１３に記載の平版印刷用原板。
【請求項１５】画像記録層に含有される微粒子が、熱
反応性官能基を有するポリマー微粒子及び熱反応性化合
物を内包するマイクロカプセルから選ばれた微粒子であ
ることを特徴とする請求項１から請求項１４のいづれか
に記載の平版印刷用原板。