CN109952536B - 辐射感光性组合物、平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法 - Google Patents
辐射感光性组合物、平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN109952536B CN109952536B CN201780070357.9A CN201780070357A CN109952536B CN 109952536 B CN109952536 B CN 109952536B CN 201780070357 A CN201780070357 A CN 201780070357A CN 109952536 B CN109952536 B CN 109952536B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- group
- printing plate
- lithographic printing
- radiation
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 258
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 241
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims abstract description 119
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 70
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title abstract description 134
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 279
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 105
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 259
- -1 borate compound Chemical class 0.000 claims description 202
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 90
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 54
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 47
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 claims description 34
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 claims description 34
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 31
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 16
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims description 6
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 5
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 5
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 claims description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical group C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical group C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 115
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 87
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 74
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 64
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 57
- 238000011161 development Methods 0.000 description 56
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 52
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 51
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 43
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 37
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 35
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 34
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 34
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 32
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 31
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 30
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 24
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 24
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 19
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 18
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 17
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 17
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 16
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 16
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 16
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 16
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 15
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 15
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 14
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 13
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 13
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 13
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 12
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 12
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 11
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 11
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 11
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 10
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 10
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 10
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 10
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 10
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 9
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 9
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 9
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 9
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 8
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 8
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 7
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N EtOH Substances CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Natural products NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 7
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 7
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 7
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 7
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 229960002449 glycine Drugs 0.000 description 7
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 7
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 6
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 6
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N methyl ethyl ketone Substances CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 6
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 6
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 6
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 6
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 244000068988 Glycine max Species 0.000 description 5
- 235000010469 Glycine max Nutrition 0.000 description 5
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 5
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 5
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 5
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- WSGCRAOTEDLMFQ-UHFFFAOYSA-N nonan-5-one Chemical compound CCCCC(=O)CCCC WSGCRAOTEDLMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 5
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 5
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 5
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 5
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 4
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 4
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N diphenyliodanium Chemical class C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 OZLBDYMWFAHSOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 4
- 235000013905 glycine and its sodium salt Nutrition 0.000 description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 238000004776 molecular orbital Methods 0.000 description 4
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 4
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 4
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 4
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical group C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 3
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004368 Modified starch Chemical class 0.000 description 3
- 229920000881 Modified starch Chemical class 0.000 description 3
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N [2-pyridin-3-yl-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound FC(C1=CC(=CC(=N1)C=1C=NC=CC=1)CN)(F)F ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002998 adhesive polymer Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 3
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 3
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 3
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 3
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 3
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 3
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 3
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 3
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 3
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical group C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 1h-1,2,4-triazol-1-ium-3-thiolate Chemical group SC=1N=CNN=1 AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940100555 2-methyl-4-isothiazolin-3-one Drugs 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 2
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIDDFPFGMDDOLO-UHFFFAOYSA-N 5-fluoro-1-(1-oxothiolan-2-yl)pyrimidine-2,4-dione Chemical compound O=C1NC(=O)C(F)=CN1C1S(=O)CCC1 JIDDFPFGMDDOLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- 241001247482 Amsonia Species 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 2
- LVDKZNITIUWNER-UHFFFAOYSA-N Bronopol Chemical compound OCC(Br)(CO)[N+]([O-])=O LVDKZNITIUWNER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004057 DFT-B3LYP calculation Methods 0.000 description 2
- 238000003775 Density Functional Theory Methods 0.000 description 2
- 229920001353 Dextrin Chemical class 0.000 description 2
- 239000004375 Dextrin Chemical class 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Chemical class 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQLSVJZAYNTISZ-UHFFFAOYSA-N N12NCCCCC2=C(CCC1)CCCCCCCC(=O)O Chemical compound N12NCCCCC2=C(CCC1)CCCCCCCC(=O)O SQLSVJZAYNTISZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Chemical class 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 2
- NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K bis(2-ethylhexanoyloxy)bismuthanyl 2-ethylhexanoate Chemical compound [Bi+3].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O NUMHJBONQMZPBW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 2
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000002791 glucosyl group Chemical group C1([C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O1)CO)* 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L hectorite Chemical compound [Li+].[OH-].[OH-].[Na+].[Mg+2].O1[Si]2([O-])O[Si]1([O-])O[Si]([O-])(O1)O[Si]1([O-])O2 KWLMIXQRALPRBC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000271 hectorite Inorganic materials 0.000 description 2
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine group Chemical group N1=CCC2=CC=CC=C12 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 2
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 2
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical group C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 2
- BEGLCMHJXHIJLR-UHFFFAOYSA-N methylisothiazolinone Chemical compound CN1SC=CC1=O BEGLCMHJXHIJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004028 organic sulfates Chemical class 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K potassium phosphate Substances [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229920013730 reactive polymer Polymers 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N sodium nitrate Chemical compound [Na+].[O-][N+]([O-])=O VWDWKYIASSYTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 2
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEHXDDFROMGLSP-VDBFCSKJSA-K trisodium;(2s)-2-[2-[[(1s)-1-carboxy-2-carboxylatoethyl]amino]ethylamino]butanedioate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].OC(=O)C[C@@H](C([O-])=O)NCCN[C@H](C([O-])=O)CC([O-])=O QEHXDDFROMGLSP-VDBFCSKJSA-K 0.000 description 2
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLIWQXBKMZNZNF-PWDIZTEBSA-N (2e,6e)-2,6-bis[(4-azidophenyl)methylidene]-4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound O=C1\C(=C\C=2C=CC(=CC=2)N=[N+]=[N-])CC(C)C\C1=C/C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 MLIWQXBKMZNZNF-PWDIZTEBSA-N 0.000 description 1
- JIRHAGAOHOYLNO-UHFFFAOYSA-N (3-cyclopentyloxy-4-methoxyphenyl)methanol Chemical compound COC1=CC=C(CO)C=C1OC1CCCC1 JIRHAGAOHOYLNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXGXOWWOUHDUOH-UHFFFAOYSA-N (4-octoxyphenyl)-(2,4,6-trimethoxyphenyl)iodanium Chemical compound C1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1[I+]C1=C(OC)C=C(OC)C=C1OC WXGXOWWOUHDUOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-SSDOTTSWSA-N (R)-1-phenylethanol Chemical compound C[C@@H](O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-SSDOTTSWSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLQJRZFUHPQDHN-UHFFFAOYSA-N 1-(1H-imidazol-3-ium-3-yl)ethanol acetate Chemical compound C(C)(=O)[O-].OC(C)[N+]1=CNC=C1 HLQJRZFUHPQDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethoxy)ethanol Chemical compound COCOC(C)O RPUJTMFKJTXSHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FODCFYIWOJIZQL-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfanyl-3,5-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound CSC1=CC(C(F)(F)F)=CC(C(F)(F)F)=C1 FODCFYIWOJIZQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hexoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCOCCOCCO GZMAAYIALGURDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCO XXXFZKQPYACQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-[4-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC(OCCOC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCCOC(=O)C(C)=C)C=C1 VIYWVRIBDZTTMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1=CC=CC=C1 OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWGATWIBSKHFMR-UHFFFAOYSA-N 2-anilinoethanol Chemical compound OCCNC1=CC=CC=C1 MWGATWIBSKHFMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[6-(2-methylprop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCCCCNC(=O)C(C)=C YBKWKURHPIBUEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004924 2-naphthylethyl group Chemical group C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 1
- 125000004135 2-norbornyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C2([H])C([H])([H])C1([H])C([H])([H])C2([H])* 0.000 description 1
- QZKSZQBYKQPELR-UHFFFAOYSA-M 2-oxo-2-phenylacetate;triphenylsulfanium Chemical compound [O-]C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QZKSZQBYKQPELR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxyethanol Chemical compound OCCOCC1=CC=CC=C1 CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-M 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonate Chemical group COC(=O)C1=CC(C(=O)OC)=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-N 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonic acid Chemical compound COC(=O)C1=CC(C(=O)OC)=CC(S(O)(=O)=O)=C1 HTXMGVTWXZBZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZDZIUCRHSNCAB-UHFFFAOYSA-N 3-(2h-pyridin-1-yl)propane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCN1CC=CC=C1 FZDZIUCRHSNCAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 3-sulfophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1C(O)=O SDGNNLQZAPXALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]benzene-1,3-diol Chemical compound CC1=CC(C)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(O)=CC=2)O)=N1 FROCQMFXPIROOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical group CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001479434 Agfa Species 0.000 description 1
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical group NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N Butyl lactate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)O MRABAEUHTLLEML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISBWNEKJSSLXOD-UHFFFAOYSA-N Butyl levulinate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(C)=O ISBWNEKJSSLXOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZSBSAUTDXGQPU-UHFFFAOYSA-N C1=C(C=CC2=CC=C(C=C12)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O.CCCCCCCCC.C1(=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1=C(C=CC2=CC=C(C=C12)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O.CCCCCCCCC.C1(=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 UZSBSAUTDXGQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWMMCEJITBPQBR-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCC[Na] Chemical compound CCCCCCCC[Na] HWMMCEJITBPQBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVZKGBSAERIRCK-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[Na] Chemical compound CCCCCC[Na] CVZKGBSAERIRCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRDQNLLVRXMERV-UHFFFAOYSA-N CCCC[Na] Chemical compound CCCC[Na] IRDQNLLVRXMERV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 239000005696 Diammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical compound [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N Ibuprofen Chemical compound CC(C)CC1=CC=C(C(C)C(O)=O)C=C1 HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N Inositol-hexakisphosphate Chemical compound OP(O)(=O)O[C@H]1[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H]1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- 240000003183 Manihot esculenta Species 0.000 description 1
- 235000016735 Manihot esculenta subsp esculenta Nutrition 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N Metaphosphoric acid Chemical compound OP(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N N-(2-hydroxyethyl)iminodiacetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CC(O)=O JYXGIOKAKDAARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005118 N-alkylcarbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018828 PO3H2 Inorganic materials 0.000 description 1
- AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N Panavia opaque Chemical compound C1=CC(OCC(O)COC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C(C)=C)C=C1 AMFGWXWBFGVCKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical class OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N Phytic acid Natural products OP(O)(=O)OC1C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N Propionic acid Chemical group CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N Propyl levulinate Chemical group CCCOC(=O)CCC(C)=O QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- UHXUHFUMIDDFMN-UHFFFAOYSA-N S(=O)(=O)(O)O.CCCCCCC.C1(=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound S(=O)(=O)(O)O.CCCCCCC.C1(=CC=CC=C1)P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 UHXUHFUMIDDFMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004288 Sodium dehydroacetate Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 244000061456 Solanum tuberosum Species 0.000 description 1
- 235000002595 Solanum tuberosum Nutrition 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021307 Triticum Nutrition 0.000 description 1
- 244000098338 Triticum aestivum Species 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000008042 Zea mays Species 0.000 description 1
- 235000005824 Zea mays ssp. parviglumis Nutrition 0.000 description 1
- 235000002017 Zea mays subsp mays Nutrition 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEEBGORNQSEQBE-UHFFFAOYSA-N [2-(3-phenylphenoxy)-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound C1(=CC(=CC=C1)OC1=NC(=CC(=C1)CN)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 ZEEBGORNQSEQBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNGWKQJZIUZUPR-UHFFFAOYSA-N [3-(dodecanoylamino)propyl](hydroxy)dimethylammonium Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)NCCC[N+](C)(C)[O-] JNGWKQJZIUZUPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZEYBUOHDIOPTH-UHFFFAOYSA-N [Na]C1CCCCC1 Chemical compound [Na]C1CCCCC1 GZEYBUOHDIOPTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- RUSUZAGBORAKPY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;n'-[2-(2-aminoethylamino)ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.NCCNCCNCCN RUSUZAGBORAKPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 1
- LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N ammonium dihydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].OP(O)([O-])=O LFVGISIMTYGQHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000387 ammonium dihydrogen phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 230000002421 anti-septic effect Effects 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005235 azinium group Chemical group 0.000 description 1
- DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N benzo[d]isothiazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NSC2=C1 DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical class N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229910052626 biotite Inorganic materials 0.000 description 1
- JWEXHQAEWHKGCW-UHFFFAOYSA-N bis[2-(6-fluoro-3,4-dihydro-2h-chromen-2-yl)-2-hydroxyethyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.C1CC2=CC(F)=CC=C2OC1C(O)CNCC(O)C1OC2=CC=C(F)C=C2CC1 JWEXHQAEWHKGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- RFAZFSACZIVZDV-UHFFFAOYSA-N butan-2-one Chemical compound CCC(C)=O.CCC(C)=O RFAZFSACZIVZDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001191 butyl (2R)-2-hydroxypropanoate Substances 0.000 description 1
- HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N butyl acetate;ethane-1,2-diol Chemical compound OCCO.CCCCOC(C)=O HJZGNWSIJASHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005460 butyl levulinate Drugs 0.000 description 1
- IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M butyl(triphenyl)phosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CCCC)C1=CC=CC=C1 IKWKJIWDLVYZIY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003064 carboxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 235000005822 corn Nutrition 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N cyclopentylcyclopentane Chemical group C1CCCC1C1CCCC1 MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019838 diammonium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000388 diammonium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- JXEOIWVKTZSRJT-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propyl)azanium;acetate Chemical compound CC([O-])=O.CCC[NH+](C)C JXEOIWVKTZSRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITVBHBPCGAINNL-UHFFFAOYSA-N dimethyl(propyl)azanium;methanesulfonate Chemical compound CS([O-])(=O)=O.CCC[NH+](C)C ITVBHBPCGAINNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxosilane oxo(oxoalumanyloxy)alumane oxygen(2-) Chemical compound [O--].[K+].[K+].O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L disodium;naphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1S([O-])(=O)=O YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical group CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZHIDNDUHUIYKG-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZHIDNDUHUIYKG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethenylcarbamate Chemical class CCOC(=O)NC=C HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSEMFIZWXHQJAE-UHFFFAOYSA-N hexadecanamide Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O HSEMFIZWXHQJAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000001198 high resolution scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 1
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- DOUHZFSGSXMPIE-UHFFFAOYSA-N hydroxidooxidosulfur(.) Chemical compound [O]SO DOUHZFSGSXMPIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical class C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N isopropyl-benzene Natural products CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGIYRDNGCNKGJU-UHFFFAOYSA-N isothiazolinone Chemical class O=C1C=CSN1 MGIYRDNGCNKGJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 229940040102 levulinic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical group CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000004492 methyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N methylidenecarbene Chemical compound C=[C] SNVLJLYUUXKWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019837 monoammonium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006012 monoammonium phosphate Substances 0.000 description 1
- 235000019796 monopotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000402 monopotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019799 monosodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000403 monosodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052627 muscovite Inorganic materials 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWVLAXGYZUVAGV-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylmethanamine;methanesulfonic acid Chemical compound C[NH+](C)C.CS([O-])(=O)=O GWVLAXGYZUVAGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMHJJUOPOWPRBP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-carboxamide Chemical group C1=CC=C2C(C(=O)N)=CC=CC2=C1 RMHJJUOPOWPRBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001038 naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 125000005186 naphthyloxy group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)O* 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical group CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004893 oxazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 229910052628 phlogopite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 235000002949 phytic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940068041 phytic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000000467 phytic acid Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- GNSKLFRGEWLPPA-UHFFFAOYSA-M potassium dihydrogen phosphate Chemical compound [K+].OP(O)([O-])=O GNSKLFRGEWLPPA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910000275 saponite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940077386 sodium benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M sodium bisulfate Chemical compound [Na+].OS([O-])(=O)=O WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000342 sodium bisulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000002639 sodium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 235000019259 sodium dehydroacetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940079839 sodium dehydroacetate Drugs 0.000 description 1
- AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogen phosphate Chemical compound [Na+].OP(O)([O-])=O AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004317 sodium nitrate Substances 0.000 description 1
- 235000010344 sodium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- DSOWAKKSGYUMTF-GZOLSCHFSA-M sodium;(1e)-1-(6-methyl-2,4-dioxopyran-3-ylidene)ethanolate Chemical compound [Na+].C\C([O-])=C1/C(=O)OC(C)=CC1=O DSOWAKKSGYUMTF-GZOLSCHFSA-M 0.000 description 1
- RCIJACVHOIKRAP-UHFFFAOYSA-N sodium;1,4-dioctoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].CCCCCCCCOC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCCCCCCCC RCIJACVHOIKRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOZGELVITUSFFX-UHFFFAOYSA-N sodium;3-methanidylheptane Chemical compound [Na+].CCCCC([CH2-])CC JOZGELVITUSFFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBAKVHUIYJANY-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[2-[2-(2-decoxyethoxy)ethoxy]ethoxy]butane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCOCCOCCOCCOCCCCS([O-])(=O)=O OGBAKVHUIYJANY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M sodium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IAAKNVCARVEIFS-UHFFFAOYSA-M sodium;4-hydroxynaphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(O)=CC=C(S([O-])(=O)=O)C2=C1 IAAKNVCARVEIFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 KVCGISUBCHHTDD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BYMHXIQVEAYSJD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-sulfophenolate Chemical compound [Na+].OC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 BYMHXIQVEAYSJD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 MZSDGDXXBZSFTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M sodium;naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 HIEHAIZHJZLEPQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N sulfadiazine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)NC1=NC=CC=N1 SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- CCIYPTIBRAUPLQ-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC CCIYPTIBRAUPLQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGQOCLATAPFASR-UHFFFAOYSA-N tetrahydroxy-1,4-benzoquinone Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C(O)=C(O)C1=O DGQOCLATAPFASR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BRKFQVAOMSWFDU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005424 tosyloxy group Chemical group S(=O)(=O)(C1=CC=C(C)C=C1)O* 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 125000005208 trialkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- KYWVDGFGRYJLPE-UHFFFAOYSA-N trimethylazanium;acetate Chemical compound CN(C)C.CC(O)=O KYWVDGFGRYJLPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RODJBIGBBLKNHX-UHFFFAOYSA-N tris(4-chlorophenyl)sulfanium Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1[S+](C=1C=CC(Cl)=CC=1)C1=CC=C(Cl)C=C1 RODJBIGBBLKNHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940048081 trisodium ethylenediamine disuccinate Drugs 0.000 description 1
- NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,3,6-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21 NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000166 zirconium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B zirconium(4+);tetraphosphate Chemical compound [Zr+4].[Zr+4].[Zr+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
- C08F220/282—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing two or more oxygen atoms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
- B41C2201/04—Intermediate layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/10—Developable by an acidic solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
本发明提供一种辐射感光性组合物或平版印刷版原版及使用了上述平版印刷版原版的平版印刷版的制版方法,该辐射感光性组合物包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,且在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值,该平版印刷版原版具有:支撑体;及图像记录层,包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,且在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
Description
技术领域
本公开涉及一种辐射感光性组合物、平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法。
背景技术
通常,平版印刷版包含在印刷过程中接受油墨的亲油性图像部和接受润版液的亲水性非图像部。
平版印刷为如下印刷方法:利用水与油性油墨相互排斥的性质,将平版印刷版的亲油性图像部设为油墨接受部,且将亲水性非图像部设为润版液接受部(油墨非接受部),在平版印刷版的表面上产生油墨的附着性的差异,使油墨仅着墨于图像部上之后,将油墨转印到纸等被印刷体上而进行印刷。
当前,由平版印刷版原版制作平版印刷版的制版工序中,正在进行利用CTP(计算机直接制版)技术的图像曝光。即,关于图像曝光,利用激光或激光二极管,通过扫描曝光等直接在平版印刷版原版进行,而不经由制版胶片。
并且,随着对地球环境的关心日益高涨,关于平版印刷版原版的制版,与伴随显影处理等湿式处理的废液相关的环境问题变得明显,随此,面向显影处理的简化或不处理化。作为简单的显影处理之一,提出了一种称为“机上显影”的方法。机上显影为如下方法:对平版印刷版原版进行图像曝光之后,不进行以往的湿式显影处理,而直接安装于印刷机上,在一般的印刷工序的初始阶段进行图像记录层的非图像部的去除。
作为以往的平版印刷版原版,已知美国专利第7524614号说明书或国际公开第2016/052443号中所记载的平版印刷版原版。
发明内容
发明要解决的技术课题
在平版印刷版原版的领域,要求能够制作图像记录层的强度高且能够印刷的张数多的平版印刷版、即印刷耐久性高的平版印刷版。
并且,平版印刷版原版的领域中,从所获得的平版印刷版的色调再现性(高清晰化)的观点考虑,例如,要求在偏离曝光时所使用的激光束的照射中心位置且照射低功率激光的区域中,不进行自由基聚合性成分的聚合,而通过显影去除这种区域的图像记录层。
在此,为了提高印刷耐久性,重要的是即使自由基少,也有效地进行聚合反应,并且,为了提高色调再现性,重要的是在低功率激光照射中不进行聚合反应。
即,可获得提高印刷耐久性和提高色调再现性这2种效果的机理是相反的,且难以兼顾这些效果。
本发明的一实施方式欲解决的课题在于,提供一种所获得的平版印刷版的印刷耐久性及色调再现性优异的辐射感光性组合物。
本发明的另一实施方式欲解决的课题在于,提供一种所获得的平版印刷版的印刷耐久性及色调再现性优异的平版印刷版原版。
本发明的又一实施方式欲解决的课题在于,提供一种印刷耐久性及色调再现性优异的平版印刷版的制版方法。
用于解决技术课题的手段
在用于解决上述问题的方式中包含以下方案。
<1>一种辐射感光性组合物,其包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,
在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
<2>根据<1>所述的辐射感光性组合物,其中,上述自由基产生量的峰值中所包含的、在图像形成辐射暴露后相对于时间而第一个产生的自由基产生量的峰值与第二个以后产生的自由基产生量的峰值中的至少一个的峰值间隔为40ms以上。
<3>根据<1>或<2>所述的辐射感光性组合物,其中,上述自由基产生量的峰值中,在图像形成辐射暴露后相对于时间而第二个以后产生的自由基产生量的峰值中的至少一个为源自上述辐射吸收化合物的分解产物的峰值。
<4>根据<1>至<3>中任一项所述的辐射感光性组合物,其中,上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂,且上述辐射吸收化合物包含通过图像形成辐射暴露进行分解而产生自由基的化合物。
<5>根据<1>至<3>中任一项所述的辐射感光性组合物,其中,上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂及受电子型自由基引发剂。
<6>根据<5>所述的辐射感光性组合物,其中,上述辐射吸收化合物的最高占据分子轨道与上述供电子型自由基引发剂的最高占据分子轨道之差为0.61eV以上。
<7>根据<5>或<6>所述的辐射感光性组合物,其中,上述受电子型自由基引发剂的最低未占分子轨道与上述辐射吸收化合物的最低未占分子轨道之差为0.90eV以下。
<8>一种平版印刷版原版,其具有支撑体及图像记录层,该图像记录层包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,且在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
<9>根据<8>所述的平版印刷版原版,其在上述图像记录层上具有保护层。
<10>根据<8>或<9>所述的平版印刷版原版,其中,上述自由基产生量的峰值中所包含的、在图像形成辐射暴露后相对于时间而第一个产生的自由基产生量的峰值与第二个以后产生的自由基产生量的峰值中的至少一个的峰值间隔为40ms以上。
<11>根据<8>至<10>中任一项所述的平版印刷版原版,其中,上述自由基产生量的峰值中,在图像形成辐射暴露后相对于时间而第二个以后产生的自由基产生量的峰值中的至少一个为源自上述辐射吸收化合物的分解产物的峰值。
<12>根据<8>至<11>中任一项所述的平版印刷版原版,其中,上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂,且上述辐射吸收化合物包含通过图像形成辐射暴露进行分解而产生自由基的化合物。
<13>根据<8>至<11>中任一项所述的平版印刷版原版,其中,上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂及受电子型自由基引发剂。
<14>根据<13>所述的平版印刷版原版,其中,上述供电子型自由基引发剂的最高占据分子轨道与上述辐射吸收化合物的最高占据分子轨道之差为0.61eV以上。
<15>根据<13>或<14>所述的平版印刷版原版,其中,上述受电子型自由基引发剂的最低未占分子轨道与辐射吸收化合物的最低未占分子轨道之差为0.90eV以下。
<16>根据<8>至<15>中任一项所述的平版印刷版原版,其在支撑体与图像记录层之间具有中间层。
<17>根据<8>至<16>中任一项所述的平版印刷版原版,其中,上述辐射吸收化合物为红外线吸收化合物。
<18>根据<8>至<17>中任一项所述的平版印刷版原版,其能够通过润版液及印刷油墨中的任一种或两种来去除上述图像记录层。
<19>一种平版印刷版的制版方法,其包括:将<8>至<17>中任一项所述的平版印刷版原版曝光成图像状的工序;及对于经曝光的上述平版印刷版原版,在pH为2~14的显影液的存在下,去除非图像部的图像记录层的工序。
<20>一种平版印刷版的制版方法,其包括:将<8>至<18>中任一项所述的平版印刷版原版曝光成图像状的工序;及在印刷机上供给印刷油墨及润版液中的任一种或两种而去除非图像部的图像记录层的工序。
发明效果
根据本发明的一实施方式,提供一种所获得的平版印刷版的印刷耐久性及色调再现性优异的辐射感光性组合物。
根据本发明的另一实施方式,提供一种所获得的平版印刷版的印刷耐久性及色调再现性优异的平版印刷版原版。
根据本发明的又一实施方式,提供一种印刷耐久性及色调再现性优异的平版印刷版的制版方法。
附图说明
图1是表示本公开所涉及的辐射感光性组合物的自由基产生量与时间的曲线的一例的示意图。
图2是表示实施例中所使用的自动显影处理机的结构的示意图。
图3是表示在本公开所涉及的平版印刷版用原版的制作中使用了交流的电化学粗面化处理中的径向型电解槽的一例的侧视图。
图4是表示在本公开所涉及的平版印刷版用原版的制作中电化学粗面化处理中所使用的交替波形电流波形图的一例的图表。
具体实施方式
以下,对本公开进行详细说明。
另外,本说明书中,“xx~yy”的记载表示包含xx及yy的数值范围。
本说明书中,“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸这两者或任一者,“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者或任一者。
本说明书中,“质量%”与“重量%”的含义相同,“质量份”与“重量份”的含义相同。并且,本说明书中,2个以上的优选形态的组合为更优选的形态。
本说明书中,关于由式表示的化合物中的基团的标记,在未记述取代或未取代的情况下,上述基团还能够具有取代基时,只要无特别说明,则不仅包含未取代基团,还包含具有取代基的基团。例如,式中,若有“R表示烷基、芳基或杂环基”这一记载,则是指“R表示未取代烷基、取代烷基、未取代芳基、取代芳基、未取代杂环基或取代杂环基”。
本说明书中,“工序”这一术语不仅仅是独立的工序,即使在无法与其他工序明确区分的情况下,只要实现工序的所期望的目的,则也包含于本术语中。
(辐射感光性组合物)
本公开所涉及的辐射感光性组合物包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,且在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
并且,本公开所涉及的辐射感光性组合物优选用于形成平版印刷版原版的图像记录层。
本发明人等进行深入研究的结果发现了,根据本公开所涉及的辐射感光性组合物、本公开所涉及的平版印刷版原版、或本公开所涉及的平版印刷版的制版方法,兼顾提高印刷耐久性和提高色调再现性。
虽然可获得上述效果的详细机理不明确,但是推测如下。
本发明人等进行深入研究的结果发现了,若自由基的总产生量相等,则相较于在短时间内产生大量的自由基,经长时间产生相对少量的自由基时,自由基聚合性成分的反应率得到提高,图像记录层的固化性得到提高,所获得的平版印刷版的印刷耐久性得到提高。
因此发现了:通过将辐射感光性组合物或平版印刷版原版设计成在暴露于辐射时在自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值,由此所获得的平版印刷版的印刷耐久性得到提高。
并且,发现了:在这种辐射感光性组合物或本公开所涉及的平版印刷版原版中,在发生低功率的图像形成辐射暴露的区域中,难以产生自由基,所获得的平版印刷版的色调再现性得到提高。
<自由基产生量的峰值>
通过基于纳米过渡吸收的测定来确认在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
所谓自由基产生量与时间的曲线,是指在横轴上标绘时间,且在纵轴上标绘自由基产生量,并利用直线将各标绘的点连结而得的曲线。
具体而言,对于将干燥涂布量设为1.19g/m2而在石英基板上进行了涂布及干燥的辐射感光性组合物,照射用作图像形成辐射的波长的纳秒激光脉冲。与此同步地,通过如下方法进行测定:使监测用激光束(所观测的自由基具有吸收的波长)振荡,并通过光电倍增管(PMT)检测监测用激光束的光子数的时间变化,利用示波器进行测定。
关于上述测定,在室温(25℃)下进行,并将测定时间的标尺设为毫秒(ms)。
上述涂布的方法通过棒涂来进行,干燥通过烘干来进行。关于烘干的温度及时间,可以根据辐射感光性组合物来确定,但是例如可举出120℃的条件下的40秒钟的干燥。
关于干燥温度,作为辐射吸收化合物,在使用后述的分解型辐射吸收化合物的情况下,优选分解型辐射吸收化合物的分解温度以下。
对于通过上述测定获得的自由基产生量与时间的曲线,将刚曝光后的峰值设为0ms,提取从此至15ms为止,通过由下述式C表示的指数函数曲线拟合衰减曲线。将该拟合的峰值设为第一个产生的自由基产生量的峰值(第一峰值)。
I=I0exp(-t/τ)(式C)
I0表示刚曝光后(t=0)的自由基产生量,I表示时间为t时的自由基产生量,τ表示自由基寿命。
从上述自由基产生量与时间的曲线中减去上述第一峰值,并将剩余的峰值设为第二个以后产生的自由基产生量的峰值(第二以后的峰值)。
第二以后的峰值可以存在多个。
图1中示出本公开所涉及的辐射感光性组合物的自由基产生量与时间的曲线的一例。
图1中示出,刚曝光后(0ms)存在第一个产生的自由基产生量的峰值(第一峰值),且在由虚线包围的区域(50ms~200ms)存在多个第二个以后产生的自由基产生量的峰值(第二以后的峰值)。
并且,测定时所使用的辐射感光性组合物的组成如下述表。
[表1]
涂布量(g/m<sup>2</sup>) | |
NK酯A-9300-40M | 0.2066 |
化合物1-1 | 0.2025 |
化合物1-2 | 0.0099 |
化合物1-3 | 0.0233 |
化合物1-4 | 0.0278 |
化合物1-5 | 0.1838 |
化合物1-6 | 0.0450 |
Hokuboron-NA(TPB) | 0.0094 |
TINUVIN405 | 0.0400 |
低分子亲水性化合物(1) | 0.0599 |
氨基酸 | 0.0047 |
TANAC | 0.0387 |
微凝胶(1) | 0.3308 |
F781F(10%aq) | 0.0040 |
表中的缩写如下述。
·NK酯A-9300-40M:三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯(NK酯A-9300,Shin-Nakamura Chemical CO.,Ltd.制造)
·化合物1-1:下述结构的化合物1-1
·化合物1-2:下述结构的化合物1-2
·化合物1-3:下述结构的化合物1-3
·化合物1-4:下述结构的化合物1-4
·化合物1-5:下述结构的化合物1-5
·化合物1-6:下述结构的化合物1-6
·Hokuboron-NA(TPB):四苯基硼酸钠盐(HOKKO CHEMICAL INDUSTRY CO.,LTD.制造)
·TINUVIN405(UV-528):2-(2,4-二羟基苯基)-4,6-双-(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三嗪和(2-乙基己基)-缩水甘油酸酯的反应产物(BASF公司制造)
·氨基酸(Amino Coat):三甲基甘氨酸(Asahi Kasei Chemicals Corporation制造)
·TANAC:三(2-羟乙基)异氰脲酸酯
·微凝胶(1):通过下述制备法获得的微凝胶
·F781F(10%aq):氟系表面活性剂(DIC CORPORATION制造)
以下示出化合物1-1~1-6及低分子亲水性化合物(1)的结构。另外,Me表示甲基,下述聚合物的各构成单元的括号右下方的数字表示摩尔比。
[化学式1]
[化学式2]
[化学式3]
[化学式4]
[化学式5]
[化学式6]
[化学式7]
以下示出上述微凝胶(1)的制备法。
-多元异氰酸酯化合物(1)的制备-
向异佛尔酮二异氰酸酯17.78份(80mmol)与下述多元酚化合物(1)7.35份(20mmol)的乙酸乙酯(25.31份)悬浮溶液中添加三(2-乙基己酸酯)铋(NEOSTANN U-600,NITTO KASEI CO.,LTD.制造)0.043份并进行了搅拌。在发热得到抑制的时刻将反应温度设定在50℃,并搅拌3小时而获得了多元异氰酸酯化合物(1)的乙酸乙酯溶液(50质量%)。
[化学式8]
-微凝胶(1)的制备-
将下述油相成分及水相成分进行混合,并使用均质器以12,000rpm乳化了10分钟。将所获得的乳化物在45℃的条件下搅拌4小时之后,添加1,8-二氮杂双环[5.4.0]-十一碳-7-烯-辛酸盐(U-CAT SA102,San-Apro Ltd.制造)的10质量%水溶液5.20份,在室温下搅拌30分钟,并在45℃的条件下静置了24小时。用蒸馏水将固体成分浓度调整至20质量%而获得了微凝胶(1)的水分散液。使用激光衍射/散射式粒度分布测定装置(LA-920,HORIBA,Ltd.制造),并通过光散射法测定数均粒径的结果,为0.28μm。
本公开所涉及的辐射感光性组合物中,从提高印刷耐久性的观点考虑,上述自由基产生量的峰值中所包含的、在图像形成辐射暴露后相对于时间而第一个产生的自由基产生量的峰值与第二个以后产生的自由基产生量的峰值中的至少一个峰值的峰值间隔优选为30ms以上,更优选为40ms以上,更优选为40ms~500ms,进一步优选为50ms~300ms。
并且,本公开所涉及的辐射感光性组合物中,从兼顾印刷耐久性和色调再现性的观点考虑,上述自由基产生量的峰值中,在图像形成辐射暴露后相对于时间而第二个以后产生的自由基产生量的峰值中的至少一个优选源自上述辐射吸收化合物的分解产物的峰值。
例如,通过辐射感光性组合物包含后述的分解型辐射吸收化合物,相对于时间而第二个以后产生的自由基产生量的峰值的至少一个成为源自上述辐射吸收化合物的分解产物的峰值。
〔图像形成辐射〕
作为本公开所涉及的图像形成辐射,可举出红外光、可见光、紫外光及电子束,但是优选红外光,更优选波长为750nm~1,400nm的红外光。
即,本公开所涉及的辐射感光性组合物所含有的辐射吸收化合物优选红外线吸收化合物。
本公开中,所谓红外线吸收化合物,是指在750nm~1,400nm的波长下具有极大吸收波长的化合物。
作为本公开所涉及的图像形成辐射的光源,优选从近红外至红外区域具有发光波长的光源,更优选固体激光、半导体激光。其中,在本公开中,尤其优选通过发射波长为750nm~1,400nm的红外线的固体激光或半导体激光进行图像曝光。
激光的输出优选为100mW以上,为了缩短曝光时间,优选使用多束激光器件。并且,每1像素的曝光时间优选为1000μ秒~0.001μ秒,更优选为500μ秒~0.01μ秒,进一步优选为300μ秒~0.1μ秒。
作为图像形成辐射而照射的能量优选为10mJ/cm2~300mJ/cm2。若在上述范围内,则能够抑制激光烧蚀并防止图像损坏。
<辐射感光性组合物的形态>
本公开所涉及的辐射感光性组合物的第一形态(以下,还称为“第一辐射感光性组合物”。)为如下辐射感光性组合物,该辐射感光性组合物包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,
上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂,且上述辐射吸收化合物包含通过图像形成辐射暴露进行分解而产生自由基的化合物,
在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
并且,本公开所涉及的辐射感光性组合物的第二形态(以下,还称为“第二辐射感光性组合物”。)为如下辐射感光性组合物,该辐射感光性组合物包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,
上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂及受电子型自由基引发剂,
在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
另外,在第二辐射感光性组合物中还包含如下形态,即,上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂及受电子型自由基引发剂,且上述辐射吸收化合物包含通过图像形成辐射暴露进行分解而产生自由基的化合物的形态。
<第一辐射感光性组合物>
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂,且上述辐射吸收化合物包含通过图像形成辐射暴露进行分解而产生自由基的化合物。
第一辐射感光性组合物例如通过下述反应式中所示的反应来产生第一自由基及第二自由基。
其结果,第一辐射感光性组合物在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
[化学式9]
上述反应式中,在照射图像形成辐射时,首先由供电子型自由基引发剂产生第一自由基。然后,供给有电子的辐射吸收化合物激发并开裂,而产生第二自由基。该第一自由基的产生相当于上述第一峰值,该第二自由基的产生相当于第二以后的峰值。
在此,推测由辐射吸收化合物的分解产物的稳定性确定第二以后的峰值的峰值位置。
〔自由基引发剂〕
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物中的自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂。
并且,本公开所涉及的第一辐射感光性组合物优选不包含后述受电子型自由基引发剂来作为自由基引发剂。
-供电子型自由基引发剂-
作为本公开所涉及的供电子型自由基引发剂,并无特别限定,但是优选烷基或芳基酸根络合物、氨基乙酸化合物、含硫化合物、含锡化合物或亚磺酸盐类,更优选烷基或芳基酸根络合物、氨基乙酸化合物或含硫化合物,进一步优选硼酸盐化合物、N-苯基甘氨酸化合物或硫醇化合物。
<烷基或芳基酸根络合物>
作为烷基或芳基酸根络合物,优选硼酸盐化合物。
烷基或芳基酸根络合物中,认为碳-杂键氧化性地开裂,并生成活性自由基。
〔硼酸盐化合物〕
作为硼酸盐化合物,优选四芳基硼酸盐化合物或单烷基三芳基硼酸盐化合物,从化合物的稳定性及后述的电位差的观点考虑,更优选四芳基硼酸盐化合物,从后述的电位差的观点考虑,特别优选包含1个以上的具有吸电子基的芳基的四芳基硼酸盐化合物。
作为吸电子基,优选哈密特方程的σ值为正值的基团,更优选哈密特方程的σ值为0~1.2的基团。关于哈密特方程的σ值(σp值及σm值),详细记载于Hansch,C.;Leo,A.;Taft,R.W.,Chem.Rev.,1991,91,165-195。
作为吸电子基,优选卤素原子、三氟甲基或氰基,更优选氟原子、氯原子、三氟甲基或氰基。
作为硼酸盐化合物所具有的抗衡阳离子,优选碱金属离子或四烷基铵离子,更优选钠离子、钾离子或四丁基铵离子。
以下,举出硼酸盐化合物的优选的例子,但是本公开并不限定于此。在此,Xc +表示一价的阳离子,优选碱金属离子或四烷基铵离子,更优选碱金属离子或四丁基铵离子。并且,Bu表示正丁基。
[化学式10]
<氨基乙酸化合物>
氨基乙酸化合物中,认为与氮相邻的碳上的C-X键通过氧化而开裂,而生成活性自由基。作为X,优选氢原子、羧基、三甲基硅烷基或苄基。具体而言,可举出N-苯基甘氨酸类(可以在苯基上具有取代基。)、N-苯基亚氨基二乙酸(可以在苯基上具有取代基。)等,优选N-苯基甘氨酸化合物。
〔N-苯基甘氨酸化合物〕
作为N-苯基甘氨酸化合物,可举出N-苯基甘氨酸、N-苯基甘氨酸烷基酯化合物、在与苯基键合的氮原子上还具有取代基的N-苯基甘氨酸化合物等。
从后述的电位差的观点考虑,优选N-苯基甘氨酸化合物在苯基上具有取代基。作为优选的取代基,可举出上述吸电子基。
以下,举出N-苯基甘氨酸化合物的优选的例子,但是本公开并不限定于此。
[化学式11]
<含硫化合物>
作为含硫化合物,例如可举出具有硫醇基(-SH基)且通过上述硫醇基开裂而生成自由基的硫醇化合物。
除此以外,将上述氨基乙酸化合物的氮原子取代为硫原子而得的化合物能够通过与氨基乙酸化合物相同的作用来生成活性自由基。
作为含硫化合物,优选具有硫醇基的化合物,从沸点(挥发难度)的观点考虑,更优选碳原子数为7以上的硫醇化合物,进一步优选在芳香环上具有硫醇基(巯基)的化合物(芳香族硫醇化合物),特别优选具有2-巯基苯并咪唑结构、3-巯基-1,2,4三唑结构或2-巯基苯并噻唑结构的化合物。
与2-巯基苯并咪唑结构中的1位的氮原子键合的氢原子可以被取代,作为优选的取代基,可举出烷基及芳基。
并且,2-巯基苯并咪唑结构中的苯环结构可以具有取代基,作为优选的取代基,可举出烷基、烷氧基及卤素原子。
与3-巯基-1,2,4三唑结构中的4位的氮原子或5位的碳原子键合的氢原子可以被取代,作为优选的取代基,可举出烷基及芳基。
2-巯基苯并噻唑结构中的苯环结构可以具有取代基,作为优选的取代基,可举出烷基、烷氧基及卤素原子。
以下,举出含硫化合物的优选的例子,但是本公开并不限定于此。
[化学式12]
[化学式13]
[化学式14]
[化学式15]
[化学式16]
<含锡化合物>
含锡化合物为将上述氨基乙酸化合物的氮原子取代为锡原子而得的化合物,且能够通过相同的作用生成活性自由基。
<亚磺酸盐类>
亚磺酸盐类为芳基亚磺酸钠等亚磺酸盐化合物,且能够通过氧化生成活性自由基。
<含量>
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物可以单独使用1种上述自由基引发剂,也可以同时使用2种以上。
相对于第一辐射感光性组合物的总固体成分,自由基引发剂的含量优选为0.01~30质量%,更优选为0.05~25质量%,进一步优选为0.1~20质量%。另外,本公开中的总固体成分是指组合物中的去除了溶剂等挥发性成分的成分的总量。
挥发性成分是指蒸汽压力在25℃的条件下超过10mmHg的成分。
〔自由基聚合性成分〕
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物包含自由基聚合性成分。
作为自由基聚合性成分,优选具有至少1个烯属不饱和键的加成聚合性化合物(烯属不饱和化合物)。作为烯属不饱和化合物,优选具有至少1个末端烯属不饱和键的化合物,更优选具有2个以上的末端烯属不饱和键的化合物。自由基聚合性成分例如能够具有单体、预聚物、即二聚体、三聚体或低聚物、或者它们的混合物等化学形态。
作为单体的例子,可举出不饱和羧酸(例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸)、其酯类、酰胺类。优选使用不饱和羧酸与多元醇化合物的酯类、不饱和羧酸与多元胺化合物的酰胺类。并且,还优选使用羟基、氨基、巯基等具有亲核性取代基的不饱和羧酸酯类或酰胺类与单官能或多官能异氰酸酯类或环氧类的加成反应物及与单官能或多官能羧酸的脱水缩合反应物等。并且,还优选具有异氰酸酯基、环氧基等亲电子性取代基的不饱和羧酸酯类或酰胺类与单官能或多官能醇类、胺类、硫醇类的加成反应物、更优选具有卤素原子、甲苯磺酰氧基等脱离性取代基的不饱和羧酸酯类或酰胺类与单官能或多官能醇类、胺类、硫醇类的取代反应物。并且,作为另一例子,还能够使用将上述不饱和羧酸取代为不饱和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等而得的化合物组。这些化合物记载于日本特表2006-508380号公报、日本特开2002-287344号公报、日本特开2008-256850号公报、日本特开2001-342222号公报、日本特开平9-179296号公报、日本特开平9-179297号公报、日本特开平9-179298号公报、日本特开2004-294935号公报、日本特开2006-243493号公报、日本特开2002-275129号公报、日本特开2003-064130号公报、日本特开2003-280187号公报、日本特开平10-333321号公报等中。
作为多元醇化合物与不饱和羧酸的酯单体的具体例,作为丙烯酸酯,可举出乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、四亚甲基二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、异氰脲酸环氧乙烷(EO)改性三丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯低聚物等。作为甲基丙烯酸酯,可举出四亚甲基二醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、双〔对(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基〕二甲基甲烷、双〔对(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基〕二甲基甲烷等。并且,作为多元胺化合物与不饱和羧酸的酰胺单体的具体例,可举出亚甲基双丙烯酸酰胺、亚甲基双甲基丙烯酸酰胺、1,6-六亚甲基双丙烯酸酰胺、1,6-六亚甲基双甲基丙烯酸酰胺、二乙烯三胺三丙烯酸酰胺、二甲苯双丙烯酸酰胺、二甲苯双甲基丙烯酸酰胺等。
并且,还优选利用异氰酸酯与羟基的加成反应制造的氨基甲酸酯系加成聚合性化合物,作为其具体例,例如可举出日本特公昭48-041708号公报中所记载的、使由下述式(M)表示的含有羟基的乙烯基单体加成到在1个分子中具有2个以上的异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物而得的在1个分子中含有2个以上的聚合性乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物等。
CH2=C(RM4)COOCH2CH(RM5)OH(M)
式(M)中,RM4及RM5分别独立地表示氢原子或甲基。
并且,还优选日本特开昭51-037193号公报、日本特公平2-032293号公报、日本特公平2-016765号公报、日本特开2003-344997号公报、日本特开2006-065210号公报中所记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类、日本特公昭58-049860号公报、日本特公昭56-017654号公报、日本特公昭62-039417号公报、日本特公昭62-039418号公报、日本特开2000-250211号公报、日本特开2007-094138号公报中所记载的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物类、美国专利第7153632号说明书、日本特表平8-505958号公报、日本特开2007-293221号公报、日本特开2007-293223号公报中所记载的具有亲水性基团的氨基甲酸酯化合物类。
第一辐射感光性组合物可以单独使用1种自由基聚合性成分,也可以同时使用2种以上。
相对于第一辐射感光性组合物的总固体成分,自由基聚合性成分的含量优选为5~75质量%,更优选为10~70质量%,特别优选为15~60质量%。
〔辐射吸收化合物〕
第一辐射感光性组合物含有辐射吸收化合物。
第一辐射感光性组合物中的辐射吸收化合物为在上述供电子型自由基引发剂的存在下在图像形成辐射暴露后进行分解而产生自由基的化合物(以下,还称为“分解型辐射吸收化合物”。)。
作为分解型辐射吸收化合物,并无特别限定,但是例如可举出由式1表示的化合物。
[化学式17]
式1中,R1表示R1-X键通过图像形成辐射暴露而开裂的基团,X表示-O-、-S-或-NRN-,RN表示烃基,R2及R3分别独立地表示氢原子或烷基,R2及R3可以相互连结而形成环,Ar1及Ar2分别独立地表示形成苯环或萘环的基团,Y1及Y2分别独立地表示氧原子、硫原子、-NR0-或二烷基亚甲基,R4及R5分别独立地表示烷基,R6~R9分别独立地表示氢原子或烷基,R0表示氢原子、烷基或芳基,Za表示中和电荷的抗衡离子。
R1表示R1-X键通过图像形成辐射暴露而开裂的基团。具体而言,可举出通过从外部施加的热能、或由式1表示的化合物吸收红外线等图像形成辐射并从所产生的激发态恢复到基态时产生的能量、或者从激发态进行的化学反应进行分解或异构化反应,R1-X键开裂的基团。
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物中,通过该开裂产生自由基。认为:如上所述,该开裂经电子迁移等而发生,因此自由基相较于第一自由基稍微晚点产生,并形成第二以后的峰值。
关于R1的优选的形态,在后面进行叙述。
R2~R9及R0中的烷基优选碳原子数1~30的烷基,更优选碳原子数1~15的烷基,进一步优选碳原子数1~10的烷基。上述烷基可以是直链状,也可以具有支链,还可以具有环结构。
具体而言,例如可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、1-甲基丁基、异己基、2-乙基己基、2-甲基己基、环己基、环戊基及2-降莰基。
这些烷基中,特别优选甲基、乙基、丙基或丁基。
并且,上述烷基可以具有取代基。作为取代基的例子,可举出烷氧基、芳氧基、氨基、烷硫基、芳硫基、卤素原子、羧基、羧酸酯基、磺基、磺酸酯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基及将它们组合而得的基团等。
作为R0中的芳基,优选碳原子数6~30的芳基,更优选碳原子数6~20的芳基,进一步优选碳原子数6~12的芳基。
并且,上述芳基可以具有取代基。作为取代基的例子,可举出烷基、烷氧基、芳氧基、氨基、烷硫基、芳硫基、卤素原子、羧基、羧酸酯基、磺基、磺酸酯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基及将它们组合而得的基团等。
具体而言,例如可举出苯基、萘基、对甲苯基、对氯苯基、对氟苯基、对甲氧基苯基、对二甲基氨基苯基、对甲硫基苯基、对苯硫基苯基等。
这些芳基中,优选苯基、对甲氧基苯基、对二甲基氨基苯基或萘基。
优选R2及R3连结而形成环。
在R2及R3连结而形成环的情况下,环元数优选5元环或6元环,最优选6元环。
Y1及Y2分别独立地表示氧原子、硫原子、-NR0-或二烷基亚甲基,优选-NR0-或二烷基亚甲基,更优选二烷基亚甲基。
R0表示氢原子、烷基或芳基,优选烷基。
优选R4及R5为相同的基团。
并且,优选R4及R5分别独立地为直链烷基或在末端具有磺酸酯基的烷基,更优选甲基、乙基或在末端具有磺酸酯基的丁基。
并且,上述磺酸酯基的抗衡阳离子可以是式1中的四级铵基,也可以是碱金属阳离子或碱土金属阳离子。
而且,从提高由式1表示的化合物的水溶性的观点考虑,优选R4及R5分别独立地为具有阴离子结构的烷基,更优选具有羧酸酯基或磺酸酯基的烷基,进一步优选在末端具有磺酸酯基的烷基。
并且,从使由式1表示的化合物的极大吸收波长长波长化,且容易产生自由基的观点及平版印刷版中的印刷耐久性的观点考虑,优选R4及R5分别独立地为具有芳香环的烷基,更优选在末端具有芳香环的烷基,特别优选2-苯基乙基、2-萘基乙基、2-(9-蒽基)乙基。
R6~R9分别独立地表示氢原子或烷基,优选氢原子。
Ar1及Ar2分别独立地表示形成苯环或萘环的基团。可以在上述苯环及萘环上具有取代基。作为取代基,可举出烷基、烷氧基、芳氧基、氨基、烷硫基、芳硫基、卤素原子、羧基、羧酸酯基、磺基、磺酸酯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基及将它们组合而得的基团等,但是优选烷基。
并且,从使由式1表示的化合物的极大吸收波长长波长化,且容易产生自由基的观点及平版印刷版中的印刷耐久性的观点考虑,优选Ar1及Ar2分别独立地为形成萘环或者具有烷基或烷氧基来作为取代基的苯环的基团,更优选形成萘环或者具有烷氧基来作为取代基的苯环的基团,特别优选形成萘环或者具有甲氧基来作为取代基的苯环的基团。
Za表示中和电荷的抗衡离子,在显示阴离子种的情况下,可举出磺酸根离子、羧酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、对甲苯磺酸根离子、高氯酸根离子等,特别优选六氟磷酸根离子。在显示阳离子种的情况下,优选碱金属离子、碱土金属离子、铵离子、吡啶鎓离子或锍离子,更优选钠离子、钾离子、铵离子、吡啶鎓离子或锍离子,进一步优选钠离子、钾离子或铵离子。
R1~R9、R0、Ar1、Ar2、Y1及Y2可以具有阴离子结构或阳离子结构,若R1~R9、R0、Ar1、Ar2、Y1及Y2全部为电中性基团,则Za为一价的抗衡阴离子,但是例如在R1~R9、R0、Ar1、Ar2、Y1及Y2具有2个以上的阴离子结构的情况下,Za也能够成为抗衡阳离子。
从容易产生自由基的观点考虑,式1中的R1-X-优选由下述式1-1~式1-10中的任一个表示的基团,更优选由下述式1-1~式1-3及式1-8~式1-10中的任一个表示的基团,进一步优选由下述式1-10表示的基团。另外,在式1中的R1-X-为由式1-10表示的基团的情况下,由式1表示的化合物在化合物末端具有末端烯属不饱和基团。若上述末端烯属不饱和基团存在于由式1表示的化合物的末端,则位置没有限定,但是优选包含于例如式1中的R4、R5、Ar1或Ar2的取代基、或者式1-10中的R31等。
[化学式18]
式1-1~式1-10中,●表示与式1中的X所键合的碳原子的键合部位,R10分别独立地表示氢原子、烷基、烯基、芳基、-OR14、-NR15R16或-SR17,R11分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R12表示芳基、-OR14、-NR15R16、-SR17、-C(=O)R18、-OC(=O)R18或卤素原子,R13表示芳基、烯基、烷氧基或鎓基,R14~R17分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R18分别独立地表示烷基、芳基、-OR14、-NR15R16或-SR17,RN表示烃基,X1及X2分别独立地表示氧原子或硫原子,R21分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,R22表示芳基、烯基、烷氧基或鎓基,R31表示烷基、芳基、或芳烷基,Z1表示中和电荷的抗衡离子。
R10、R11及R14~R18为烷基时的优选形态与R2~R9及R0中的烷基的优选形态相同。
R10及R13中的烯基的碳原子数优选为2~30,更优选为2~15,进一步优选为2~10。
R10~R18为芳基时的优选形态与R0中的芳基的优选形态相同。
从容易产生自由基的观点考虑,式1-1中的R10优选烷基、烯基、芳基、-OR14、-NR15R16或-SR17,更优选烷基、-OR14、-NR15R16或-SR17,进一步优选烷基或-OR14,特别优选-OR14。
并且,在式1-1中的R10为烷基的情况下,上述烷基优选在α位具有芳硫基或烷氧基羰基的烷基。
在式1-1中的R10为-OR14的情况下,R14优选烷基,更优选碳原子数1~8的烷基,进一步优选异丙基或叔丁基,特别优选叔丁基。
从容易产生自由基的观点考虑,式1-2中的R11优选氢原子。
并且,从容易产生自由基的观点考虑,式1-2中的R12优选-C(=O)OR14、-OC(=O)OR14或卤素原子,更优选-C(=O)OR14或-OC(=O)OR14。在式1-2中的R12为-C(=O)OR14或-OC(=O)OR14的情况下,R14优选烷基。
从容易产生自由基的观点考虑,优选式1-3中的R11分别独立地为氢原子或烷基,且更优选式1-3中的至少一个R11为烷基。
并且,R11中的烷基优选碳原子数1~10的烷基,更优选碳原子数3~10的烷基。
而且,R11中的烷基优选具有支链或环结构的烷基,更优选仲烷基或叔烷基,进一步优选异丙基、环戊基、环己基或叔丁基。
并且,从容易产生自由基的观点考虑,式1-3中的R13优选芳基、烷氧基或鎓基,更优选对二甲基氨基苯基或吡啶鎓基,进一步优选吡啶鎓基。
作为R13中的鎓基,可举出吡啶鎓基、铵基、锍基等。鎓基可以具有取代基。作为取代基,可举出烷基、烷氧基、芳氧基、氨基、烷硫基、芳硫基、卤素原子、羧基、磺基、烷氧基羰基、芳氧基羰基及将它们组合而得的基团等,但是优选烷基、芳基及将它们组合而得的基团。
其中,优选吡啶鎓基,更优选N-烷基-3-吡啶鎓基、N-苄基-3-吡啶鎓基、N-(烷氧基聚亚烷氧基烷基)-3-吡啶鎓基、N-烷氧基羰基甲基-3-吡啶鎓基、N-烷基-4-吡啶鎓基、N-苄基-4-吡啶鎓基、N-(烷氧基聚亚烷氧基烷基)-4-吡啶鎓基、N-烷氧基羰基甲基-4-吡啶鎓基、或、N-烷基-3,5-二甲基-4-吡啶鎓基,进一步优选N-烷基-3-吡啶鎓基或N-烷基-4-吡啶鎓基,特别优选N-甲基-3-吡啶鎓基、N-辛基-3-吡啶鎓基、N-甲基-4-吡啶鎓基或N-辛基-4-吡啶鎓基,最优选N-辛基-3-吡啶鎓基或N-辛基-4-吡啶鎓基。
并且,在R13为吡啶鎓基的情况下,作为抗衡阴离子,可举出磺酸根离子、羧酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、对甲苯磺酸根离子、高氯酸根离子等,优选对甲苯磺酸根离子、六氟磷酸根离子。
从容易产生自由基的观点考虑,式1-4中的R10优选烷基或芳基,更优选2个R10中一个为烷基且另一个为芳基。
从容易产生自由基的观点考虑,式1-5中的R10优选烷基或芳基,更优选芳基,进一步优选对甲基苯基。
从容易产生自由基的观点考虑,优选式1-6中的R10分别独立地为烷基或芳基,更优选甲基或苯基。
从容易产生自由基的观点考虑,式1-7中的Z1可以是中和电荷的抗衡离子,在上述Za为多元离子的情况下,可以包含于上述Za。
Z1优选磺酸根离子、羧酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、对甲苯磺酸根离子或高氯酸根离子,更优选对甲苯磺酸根离子或六氟磷酸根离子。
从容易产生自由基的观点考虑,式1-8或式1-9中的R21分别独立地表示氢原子、烷基或芳基,优选氢原子、碳原子数1~10的烷基、或苯基,更优选碳原子数3~10的烷基或氢原子,进一步优选氢原子。
而且,R21中的烷基优选具有支链或环结构的烷基,更优选仲或叔烷基,进一步优选异丙基、环戊基、环己基或叔丁基。
从容易产生自由基的观点考虑,式1-8或式1-9中的R22优选芳基、烷氧基或鎓基,更优选对二甲基氨基苯基或吡啶鎓基,进一步优选吡啶鎓基。
作为R22中的鎓基,可举出吡啶鎓基、铵基、锍基等。鎓基可以具有取代基。作为取代基,可举出烷基、烷氧基、芳氧基、氨基、烷硫基、芳硫基、卤素原子、羧基、磺基、烷氧基羰基、芳氧基羰基及将它们组合而得的基团等,但是优选烷基、芳基及将它们组合而得的基团。其中,优选吡啶鎓基。
作为吡啶鎓基,更优选N-烷基-3-吡啶鎓基、N-苄基-3-吡啶鎓基、N-(烷氧基聚亚烷氧基烷基)-3-吡啶鎓基、N-烷氧基羰基甲基-3-吡啶鎓基、N-烷基-4-吡啶鎓基、N-苄基-4-吡啶鎓基、N-(烷氧基聚亚烷氧基烷基)-4-吡啶鎓基、N-烷氧基羰基甲基-4-吡啶鎓基或N-烷基-3,5-二甲基-4-吡啶鎓基,进一步优选N-烷基-3-吡啶鎓基或N-烷基-4-吡啶鎓基,特别优选N-甲基-3-吡啶鎓基、N-辛基-3-吡啶鎓基、N-甲基-4-吡啶鎓基或N-辛基-4-吡啶鎓基,最优选N-辛基-3-吡啶鎓基或N-辛基-4-吡啶鎓基。
并且,在R22为鎓基的情况下,作为抗衡阴离子,可举出磺酸根离子、羧酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、对甲苯磺酸根离子、高氯酸根离子等,优选对甲苯磺酸根离子、六氟磷酸根离子。
式1-9中,RN表示烃基,优选烷基,更优选碳原子数1~4的烷基,进一步优选甲基。
式1-9中,优选X1及X2为相同的原子,更优选均为氧原子。
式1-10中,R31表示烷基、芳基或芳烷基,优选碳原子数1~10的烷基、碳原子数6~10的芳基或碳原子数7~12的芳烷基,更优选碳原子数1~4的烷基或碳原子数7~10的芳烷基,更优选甲基或苯基甲基。
上述芳基或芳烷基中的芳香族环可以具有取代基。作为优选的取代基,例如可举出烷基、卤素原子、具有烯属不饱和基团的取代基等。作为具有烯属不饱和基团的取代基,可举出乙烯基、2-丙烯基等,优选乙烯基。
以下,举出本公开所涉及的第一辐射感光性组合物的优选的例子,但是本公开并不限定于此。
[化学式19]
[化学式20]
分解型辐射吸收化合物可以单独使用1种,也可以同时使用2种以上。
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物中,第一辐射感光性组合物的总固体成分中,分解型辐射吸收化合物的含量优选0.1~95质量%,更优选1~50质量%,进一步优选1~20质量%。
〔粘合剂聚合物〕
从涂布性及成膜性的观点考虑,优选本公开所涉及的第一辐射感光性组合物含有粘合剂聚合物。关于聚合物的种类,若为公知的聚合物,则并无特别限定,但是可优选举出覆膜形成用聚合物。作为覆膜形成用聚合物,可举出(甲基)丙烯酸树脂、聚氨酯、聚酯、聚酰胺、聚醚、聚碳酸酯、聚脲、聚烯烃、乙烯基树脂、聚胺等。作为第一辐射感光性组合物中所使用的聚合物的形态,可以溶解于组合物中来添加。作为溶解于组合物中来添加的聚合物,优选(甲基)丙烯酸树脂、聚氨酯、聚酯、乙烯基树脂。
在溶解于组合物中来添加的情况下,作为适用于机上显影型平版印刷版原版的粘合剂聚合物(还称为“机上显影用粘合剂聚合物”),优选(甲基)丙烯酸树脂、聚氨酯、聚酯、乙烯基树脂,更优选(甲基)丙烯酸树脂、聚氨酯。
作为上述粘合剂聚合物,特别优选具有环氧烷链的聚合物。具有环氧烷链的聚合物,可以在主链上具有聚(环氧烷)部位,也可以在侧链上具有聚(环氧烷)部位。并且,也可以是在侧链上具有聚(环氧烷)的接枝聚合物,还可以是由含有聚(环氧烷)的重复单元构成的嵌段与由不含(环氧烷)的重复单元构成的嵌段的嵌段共聚物。
在主链上具有聚(环氧烷)部位的情况下,优选聚氨酯。作为在侧链上具有聚(环氧烷)部位时的聚合物,可举出(甲基)丙烯酸树脂、聚乙烯醇缩醛、聚氨酯、聚脲、聚酰亚胺、聚酰胺、环氧树脂、聚苯乙烯、酚醛清漆型酚醛树脂、聚酯、合成橡胶及天然橡胶,特别优选(甲基)丙烯酸树脂。
作为环氧烷,优选碳原子数为2~6的环氧烷,特别优选环氧乙烷或环氧丙烷。
聚(环氧烷)部位中的环氧烷的重复数优选为2~120,更优选为2~70,进一步优选为2~50。
若环氧烷的重复数为120以下,则可抑制覆膜强度下降。
聚(环氧烷)部位优选作为聚合物的侧链以由下述式(AO)表示的结构而含有,更优选作为(甲基)丙烯酸树脂的侧链以由下述式(AO)表示的结构而含有。
[化学式21]
式(AO)中,y表示2~120,R1表示氢原子或烷基,R2表示氢原子或一价的有机基团。
作为一价的有机基团,优选碳原子数1~6的烷基。具体而言,可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、异己基、1,1-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、环戊基及环己基。
式(AO)中,y优选为2~70,更优选为2~50。R1优选氢原子或甲基,特别优选氢原子。R2特别优选氢原子或甲基。
为了提高层的覆膜强度,优选粘合剂聚合物具有交联性。为了对粘合剂聚合物赋予交联性,可以引入烯属不饱和键等交联性基团并赋予光交联性,或者可以具有热塑性并赋予热交联性。能够将交联性基团引入高分子的主链或侧链的任一部位,可举出通过共聚引入的方法、聚合之后通过聚合物反应引入的方法。为了赋予热塑性,可以调整聚合物的玻璃化转变温度。
作为在主链上具有烯属不饱和键的粘合剂聚合物的例子,可举出聚丁二烯、聚异戊二烯等。
作为在侧链上具有烯属不饱和键的粘合剂聚合物的例子,可举出在侧链上具有(甲基)丙烯酸酯基、(甲基)丙烯酸酰胺基、乙烯基或烯丙基的聚合物。
作为调整玻璃化转变温度的方法,能够通过变更所共聚的单体的组成或聚合物的分子量来进行调整。
从覆膜强度的观点考虑,每1g粘合剂聚合物中,粘合剂聚合物中的交联性基团的含量(能够通过碘滴定自由基聚合的不饱和双键的含量)优选为0.1~10.0mmol,更优选为1.0~7.0mmol,特别优选为2.0~5.5mmol。
以下示出粘合剂聚合物的具体例1~11,但是本公开并不限定于此。下述例示化合物中,一并记载于各重复单元中的数值(一并记载于主链重复单元中的数值)表示上述重复单元的摩尔百分比。一并记载于侧链重复单元的数值表示上述重复部位的重复数值。并且,Me表示甲基,Et表示乙基,Ph表示苯基。
[化学式22]
[化学式23]
关于本公开中所使用的粘合剂聚合物的分子量,以利用凝胶渗透色谱(GPC)法的聚苯乙烯换算值计重均分子量(Mw)优选为2,000以上,更优选5,000为以上,进一步优选为10,000~300,000。
并且,本公开中,将低聚物设为Mw800以上且小于2,000的低聚物,将聚合物设为Mw2,000以上的聚合物。
根据需要,能够同时使用日本特开2008-195018号公报中所记载的聚丙烯酸、聚乙烯醇等亲水性聚合物。并且,还能够同时使用亲油性聚合物和亲水性聚合物。
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物中,可以单独使用1种粘合剂聚合物,也可以同时使用2种以上的粘合剂聚合物。
粘合剂聚合物能够以任意量包含于第一辐射感光性组合物中。
粘合剂聚合物的含量能够通过第一辐射感光性组合物的用途等而适当选择,但是相对于第一辐射感光性组合物的总固体成分,优选1~90质量%,更优选5~80质量%。
〔微凝胶及聚合物粒子〕
为了提高第一辐射感光性组合物的水溶性,且提高将第一辐射感光性组合物用于平版印刷版原版时的机上显影性,第一辐射感光性组合物可以含有选自包含微凝胶及聚合物粒子的组中的至少一个。优选上述微凝胶、聚合物粒子通过基于红外线照射的光或热发生交联、熔融或这两种或者变为疏水性。微凝胶及聚合物粒子优选选自包含非交联性微凝胶、交联性微凝胶、热熔合性粒子、热反应性聚合物粒子及具有聚合性基的聚合物粒子的组中的至少一个。它们可以具有核壳结构,可以内含其他化合物。
作为热熔合性粒子,可优选举出1992年1月的Research Disclosure No.33303、日本特开平9-123387号公报、日本特开平9-131850号公报、日本特开平9-171249号公报、日本特开平9-171250号公报及欧洲专利第931647号说明书等中所记载的聚合物粒子。
作为构成热熔合性粒子的聚合物的具体例,可优选举出乙烯、苯乙烯、氯乙烯基、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、偏二氯乙烯、丙烯腈、乙烯咔唑、具有聚亚烷基结构的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等单体的均聚物或共聚物或它们的混合物。可优选举出包含聚苯乙烯、苯乙烯及丙烯腈的共聚物、以及聚甲基丙烯酸甲酯。
作为热反应性聚合物粒子,可举出具有热反应性基的聚合物粒子。具有热反应性基的聚合物粒子通过基于热反应的交联及此时的官能团变化而形成疏水化区域。
作为具有热反应性基的聚合物粒子中的热反应性基,若形成化学键,则可以是进行任何反应的官能团,优选聚合性基。作为其例,可优选举出进行自由聚合反应的烯属不饱和基团(例如,丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等)、阳离子聚合性基团(例如,乙烯基、乙烯氧基、环氧基、氧杂环丁基等)、进行加成反应的异氰酸酯基或其嵌段物、环氧基、乙烯氧基及作为这些的反应对象的具有活性氢原子的官能团(例如,氨基、羟基、羧基等)、进行缩合反应的羧基及作为反应对象的羟基或氨基、进行开环加成反应的酸酐及作为反应对象的氨基或羟基等。
作为微胶囊,例如可举出如日本特开2001-277740号公报及日本特开2001-277742号公报中所记载那样,在微胶囊内含第一辐射感光性组合物的构成成分的全部或一部分的微胶囊。第一辐射感光性组合物的构成成分还能够在微胶囊外含有。作为含有微胶囊的第一辐射感光性组合物,优选在微胶囊内含疏水性构成成分且在微胶囊外含有亲水性构成成分的形态。
微凝胶能够在其内部及表面的至少一方含有第一辐射感光性组合物的构成成分的一部分。尤其,从图像形成灵敏度或印刷耐久性的观点考虑,优选通过在其表面具有聚合性自由基来设为反应性微凝胶的形态。
为了将第一辐射感光性组合物的成分微胶囊化或微凝胶化,能够使用公知的方法。
在本公开所涉及的第一辐射感光性组合物中以微胶囊、微凝胶或聚合物粒子的形态包含聚合物的情况下,微胶囊、微凝胶或聚合物粒子的平均一次粒径优选为10~1,000nm,更优选为20~300nm,进一步优选为30~120nm。
平均一次粒径能够通过光散射法来进行测定。
相对于第一辐射感光性组合物的总固体成分,微凝胶或聚合物粒子的含量优选为5~90质量%。
〔红外线吸收剂〕
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物能够含有红外线吸收剂。通过含有红外线吸收剂,本公开所涉及的第一辐射感光性组合物能够更优选用作红外线感光性组合物。
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物中,在红外线吸收剂中不含相当于上述辐射吸收化合物的分解型辐射吸收化合物。
红外线吸收剂为具有将所吸收的红外线转换为热的功能的化合物。并且,红外线吸收剂可以具有通过红外线激发而电子迁移或能量转移到自由基引发剂等的功能。
优选红外线吸收剂在750~1,400nm的波长区域具有极大吸收波长。作为红外线吸收剂,可优选使用染料或颜料。
作为染料,能够利用市售的染料及例如“染料便览”(有机合成化学协会编辑,昭和45年刊)等文献中所记载的公知的染料。具体而言,可举出偶氮染料、金属络合盐偶氮染料、吡唑酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳鎓(carbonium)染料、醌亚胺染料、次甲基染料、花青染料、方酸菁色素、吡喃鎓盐、金属硫醇络合物等染料。
作为这些染料中优选的染料,可举出花青色素、方酸菁色素及吡喃鎓盐。其中,优选花青色素,特别优选假吲哚花青色素。
作为花青色素的具体例,可举出日本特开2001-133969号公报的0017~0019段中所记载的化合物、日本特开2002-023360号公报的0016~0021段、日本特开2002-040638号公报的0012~0037段中所记载的化合物,可优选举出日本特开2002-278057号公报的0034~0041段、日本特开2008-195018公报的0080~0086段中所记载的化合物,可特别优选举出日本特开2007-090850号公报的0035~0043段中所记载的化合物。
并且,还能够优选使用日本特开平5-005005号公报的0008~0009段、日本特开2001-222101号公报的0022~0025段中所记载的化合物。
作为颜料,优选日本特开2008-195018号公报的0072~0076段中所记载的化合物。
红外线吸收剂可以仅使用1种,也可以同时使用2种以上。并且,作为红外线吸收剂,可以同时使用颜料和染料。
红外线吸收剂能够以任意量包含于第一辐射感光性组合物中。相对于第一辐射感光性组合物的总固体成分100质量份,红外线吸收剂的含量优选为0.05~30质量%,更优选为0.1~20质量%,进一步优选为0.2~10质量%。
〔其他成分〕
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物能够根据需要含有除上述以外的添加剂(例如,表面活性剂)。
〔组合物膜的形成〕
本公开所涉及的第一辐射感光性组合物中所含有的各成分溶解或分散于合适的溶剂中而制备涂布液,将涂布液涂布于支撑体等并进行干燥,从而能够形成组合物膜。
作为溶剂,能够使用公知的溶剂。具体而言,例如可举出水、丙酮、甲基乙基酮(2-丁酮)、环己烷、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氢呋喃、甲苯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇二甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、乙酰丙酮、环己酮、二丙酮醇、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚乙酸酯、1-甲氧基-2-丙醇、3-甲氧基-1-丙醇、甲氧基甲氧基乙醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、3-甲氧基丙基乙酸酯、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、γ-丁内酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。溶剂能够单独使用1种,或者能够混合使用2种以上。涂布液中的固体成分浓度优选为1~50质量%左右。
<第二辐射感光性组合物>
本公开所涉及的第二辐射感光性组合物包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂及受电子型自由基引发剂,在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
第二辐射感光性组合物例如通过下述反应式中所示的反应产生第一自由基及第二自由基。
其结果,第二辐射感光性组合物在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
[化学式24]
上述反应式中,推测通过图像形成辐射的照射,激发辐射吸收化合物而引起向受电子型自由基引发剂的电子迁移,并产生第一自由基。
并且,推测引起从供电子型自由基引发剂向辐射吸收化合物的电子迁移,并产生第二自由基。
通过在产生上述第一自由基的反应与产生第二自由基的反应之间存在反应速度差,在本公开所涉及的第二辐射感光性组合物中,在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
并且,推测辐射吸收化合物的最高占据分子轨道(HOMO)与供电子型自由基引发剂的HOMO之差越大,则第二以后的峰值的产生越迟缓,第二自由基产生量减少。
上述反应式中,Ph表示苯基。
〔自由基引发剂〕
本公开所涉及的第二辐射感光性组合物中的自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂及受电子型自由基引发剂。
在此,第二辐射感光性组合物中的供电子型自由基引发剂与上述第一辐射感光性组合物中的受电子型自由基引发剂的含义相同,且优选的形态也相同。
-受电子型自由基引发剂-
作为受电子型自由基引发剂,例如可举出(a)有机卤化物、(b)羰基化合物、(c)偶氮化合物、(d)有机过氧化物、(e)茂金属化合物、(f)叠氮化合物、(g)六芳基双咪唑化合物、(h)二砜化合物、(i)肟酯化合物及(j)鎓氯化合物。
(a)作为有机卤化物,例如优选日本特开2008-195018号公报的0022~0023段中所记载的化合物。
(b)作为羰基化合物,例如优选日本特开2008-195018号公报的0024段中所记载的化合物。
(c)作为偶氮化合物,例如可举出日本特开平8-108621号公报中所记载的偶氮化合物等。
(d)作为有机过氧化物,例如优选日本特开2008-195018号公报的0025段中所记载的化合物。
(e)作为茂金属化合物,例如优选日本特开2008-195018号公报的0026段中所记载的化合物。
(f)作为叠氮化合物,例如可举出2,6-双(4-叠氮亚苄基)-4-甲基环己酮等化合物。
(g)作为六芳基双咪唑化合物,例如优选日本特开2008-195018号公报的0027段中所记载的化合物。
(h)作为二砜化合物,例如可举出日本特开昭61-166544号、日本特开2002-328465号的各公报中所记载的化合物。
(i)作为肟酯化合物,例如优选日本特开2008-195018号公报的0028~0030段中所记载的化合物。
受电子型自由基引发剂中,从固化性的观点考虑,可更优选举出肟酯及鎓盐,可进一步优选举出碘鎓盐、锍盐及吖嗪鎓盐等鎓盐。在用于平版印刷版原版的情况下,特别优选碘鎓盐或锍盐。以下示出碘鎓盐及锍盐的具体例,但是本公开并不限定于此。
作为碘鎓盐的例子,优选二苯基碘鎓盐,尤其,优选具有供电子性基团来作为取代基的二苯基碘鎓盐、例如被烷基或烷氧基取代而得的二苯基碘鎓盐,并且优选不对称的二苯基碘鎓盐。作为具体例,可举出二苯基碘鎓六氟磷酸盐、4-甲氧基苯基-4-(2-甲基丙基)苯基碘鎓六氟磷酸盐、4-(2-甲基丙基)苯基-对甲苯基碘鎓六氟磷酸盐、4-己氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓六氟磷酸盐、4-己氧基苯基-2,4-二乙氧基苯基碘鎓四氟硼酸盐、4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓=1-全氟丁基磺酸、4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘鎓六氟磷酸盐及双(4-叔丁基苯基)碘鎓六氟磷酸盐。
作为锍盐的例子,优选三芳基锍盐,尤其,优选具有吸电子基来作为取代基的三芳基锍盐、例如芳香环上的基团的至少一部分被卤素原子取代而得的三芳基锍盐,更优选芳香环上的卤素原子的总取代数为4个以上的三芳基锍盐。作为具体例,可举出三苯基锍六氟磷酸盐、三苯基锍苯甲酰基甲酸盐、双(4-氯苯基)苯基锍苯甲酰基甲酸盐、双(4-氯苯基)-4-甲基苯基锍四氟硼酸盐、三(4-氯苯基)锍=3,5-双(甲氧基羰基)苯磺酸盐、三(4-氯苯基)锍六氟磷酸盐及三(2,4-二氯苯基)锍六氟磷酸盐。
受电子型自由基引发剂可以单独使用1种,也可以同时使用2种以上。
相对于第二辐射感光性组合物的总固体成分,受电子型自由基引发剂的含量优选为0.1~50质量%,更优选为0.5~30质量%,特别优选为0.8~20质量%。
〔自由基聚合性成分〕
第二辐射感光性组合物中的自由基聚合性成分与第一辐射感光性组合物中的自由基聚合性成分的含义相同,且优选的形态也相同。
〔辐射吸收化合物〕
作为第二辐射感光性组合物中的辐射吸收化合物,可以使用第一辐射感光性组合物中的辐射吸收化合物,也可以使用第一辐射感光性组合物中的红外线吸收剂。这些化合物的优选形态与第一辐射感光性组合物中的这些化合物的优选形态相同。
-最高占据分子轨道(HOMO)及最低未占分子轨道(LUMO)-
从印刷耐久性及色调再现性的观点考虑,第二辐射感光性组合物中的上述辐射吸收化合物的最高占据分子轨道(HOMO)与上述供电子型自由基引发剂的HOMO之差(电位差ΔG2、ΔG2=辐射吸收化合物的HOMO-供电子型自由基引发剂的HOMO)优选为0.50eV以上,更优选为0.60eV~1.50eV,进一步优选为0.61eV~1.30eV,特别优选为0.65eV~1.20eV。
在第二辐射吸收化合物含有多种辐射吸收化合物及供电子型自由基引发剂这2个或其中1个的情况下,优选存在辐射吸收化合物的HOMO与供电子型自由基引发剂的HOMO之差在上述范围内的辐射吸收化合物和供电子型自由基引发剂的组合。
并且,从印刷耐久性及色调再现性的观点考虑,第二辐射感光性组合物中的上述受电子型自由基引发剂的最低未占分子轨道(LUMO)与上述辐射吸收化合物的LUMO之差(电位差ΔG3、ΔG3=受电子型自由基引发剂的LUMO-辐射吸收化合物的LUMO)优选为0.90eV以下,更优选为0.85eV以下,进一步优选为0.80eV以下,更进一步优选为0.75eV以下。下限并无特别限定,但是优选为0.10eV以上。
在第二辐射吸收化合物含有多种辐射吸收化合物及受电子型自由基引发剂这2个或其中1个的情况下,优选存在辐射吸收化合物的LUMO与受电子型自由基引发剂的LUMO之差在上述范围内的辐射吸收化合物和受电子型自由基引发剂的组合。
本公开中,通过以下方法进行HOMO及LUMO的计算。
首先,忽略成为计算对象的化合物中的抗衡阴离子。
使用量子化学计算软件Gaussian09,在DFT(B3LYP/6-31G(d))下进行结构最优化。
关于MO(分子轨道)能量计算,以通过上述结构最优化获得的结构在DFT(B3LYP/6-31+G(d,p)/CPCM(solvent=methanol))下进行。
根据以下公式,将通过上述MO能量计算获得的MO能量Ebare(单位:哈特利(hartree))转换为本公开中用作HOMO及LUMO的值的Escaled(单位:eV)。
Escaled=0.823168×27.2114×Ebare-1.07634
另外,27.2114为只用于将hartree转换为eV的系数,0.823168和-1.07634为调节系数,确定成为计算对象的化合物的HOMO和LUMO,以使计算与实测值匹配。
根据辐射吸收化合物的HOMO与供电子型自由基引发剂的HOMO之差量求出ΔG2(ΔG2=辐射吸收化合物的HOMO-供电子型自由基引发剂的HOMO)。
并且,根据受电子型自由基引发剂的LUMO与辐射吸收化合物的LUMO之差量求出ΔG3(ΔG3=受电子型自由基引发剂的LUMO-辐射吸收化合物的LUMO)。
认为:在上述辐射吸收化合物的HOMO与上述供电子型自由基引发剂的HOMO的电位差在上述范围内的情况下,除图像形成辐射暴露时以外的供电子型自由基引发剂的稳定性优异,并且在图像形成辐射暴露时,从供电子型自由基引发剂的HOMO向辐射吸收化合物的HOMO发生电子迁移,由此促进上述辐射吸收化合物向最低未占分子轨道(LUMO)的激发,并促进上述辐射吸收化合物的分解。
并且,认为:在上述受电子型自由基引发剂的LUMO与上述辐射吸收化合物的LUMO的电位差在上述范围内的情况下,促进从辐射吸收化合物向受电子型自由基引发剂的电子迁移,促进自由基聚合性成分的聚合,组合物的固化性优异。
〔粘合剂聚合物〕
优选第二辐射感光性组合物包含粘合剂聚合物。
第二辐射感光性组合物中的粘合剂聚合物与第一辐射感光性组合物中的粘合剂聚合物的含义相同,且优选的形态也相同。
〔微凝胶及聚合物粒子〕
优选第二辐射感光性组合物包含微凝胶及聚合物粒子。
第二辐射感光性组合物中的微凝胶及聚合物粒子与第一辐射感光性组合物中的微凝胶及聚合物粒子的含义相同,优选的形态也相同。
〔其他成分〕
本公开所涉及的第二辐射感光性组合物能够根据需要含有除上述以外的添加剂(例如,表面活性剂)。
〔组合物膜的形成〕
本公开所涉及的第二辐射感光性组合物中所含有的各成分溶解或分散于合适的溶剂中而制备涂布液,将涂布液涂布于支撑体等并进行干燥,从而能够形成组合物膜。
作为上述制备中所使用的溶剂及涂布液中的固体成分浓度,能够使用利用上述第一辐射感光性组合物制备涂布液时的溶剂及涂布液中的固体成分浓度。
<辐射感光性组合物的用途>
本公开所涉及的辐射感光性组合物可优选用于图像形成材料。作为图像形成材料,可举出平版印刷版原版、印制电路布线基板、滤色器、光掩模等的利用基于图像曝光的聚合固化的图像形成材料。
使用了本公开所涉及的第一辐射感光性组合物的图像形成材料,通过利用发射图像形成辐射的光源曝光而形成固化的区域。作为发射图像形成辐射的光源,可举出发射红外线的固体激光及半导体激光等。
(平版印刷版原版)
本公开所涉及的平版印刷版原版具有支撑体及图像记录层,该图像记录层包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,且在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
并且,从能够进行利用红外线的曝光的观点考虑,优选本公开所涉及的平版印刷版原版所含有的辐射吸收化合物为红外线吸收化合物。
<自由基产生量的峰值>
关于图像记录层在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值,通过基于纳米过渡吸收的测定来确认。
具体而言,将溶解平版印刷版原版的图像记录层而得的溶液涂布于石英基板上并进行干燥,而形成涂布膜,以使成为与上述图像记录层的干燥涂布量相等的量。对所形成的涂布膜照射用作图像形成辐射的波长的纳秒激光脉冲。与此同步地,通过如下方法来进行测定:使监测用激光束(所观测的自由基具有吸收的波长)振荡,并通过光电倍增管(PMT)检测监测用激光束的光子数的时间变化,利用示波器进行测定。
溶解平版印刷版原版的图像记录层而得的溶液,能够通过利用溶剂溶解图像记录层而获得。
作为溶剂,可以是溶解图像记录层的溶剂,例如可举出形成上述组合物膜时所使用的溶剂。
但是,在平版印刷版原版具有保护层的情况等、难以溶解图像记录层的情况下,使用平版印刷版原版的图像记录层的形成中所使用的组合物进行上述测定,来代替溶解上述平版印刷版原版的图像记录层而得的溶液。
通过上述测定方法,认为平版印刷版原版具有如下图像记录层,该图像记录层在自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值时,在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值。
除此以外,基于纳米过渡吸收的测定方法的优选形态与上述辐射感光性组合物中的基于纳米过渡吸收的测定方法的优选形态相同。
本公开所涉及的图像记录层中,从提高印刷耐久性的观点考虑,上述自由基产生量的峰值中所包含的、在图像形成辐射暴露后相对于时间而第一个产生的自由基产生量的峰值与第二个以后产生的自由基产生量的峰值中的至少一个峰值的峰值间隔优选为30ms以上,更优选为40ms以上,更优选为40ms~500ms,进一步优选为50ms~300ms。
能够认为通过上述方法并使用溶解平版印刷版原版的图像记录层而得的溶液测定的峰值间隔与平版印刷版的图像记录层中的峰值间隔相同。
并且,本公开所涉及的图像记录层中,从兼顾印刷耐久性和色调再现性的观点考虑,优选上述自由基产生量的峰值中在图像形成辐射暴露后相对于时间而第二个以后产生的自由基产生量的峰值中的至少一个为源自上述辐射吸收化合物的分解产物的峰值。
例如,通过图像记录层包含上述分解型辐射吸收化合物,相对于时间而第二个以后产生的自由基产生量的峰值中的至少一个成为源自上述辐射吸收化合物的分解产物的峰值。
<平版印刷版原版的形态>
本公开所涉及的平版印刷版原版的第一形态(以下,还称为“第一平版印刷版原版”)为如下平版印刷版原版,
该平版印刷版原版具有支撑体及图像记录层,该图像记录层包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,且在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值,
上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂,且上述辐射吸收化合物包含通过图像形成辐射暴露进行分解而产生自由基的化合物。
第一平版印刷版原版中的图像记录层通过例如将根据需要添加有溶剂等其他成分的涂布液涂布于第一辐射感光性组合物来形成。
本公开所涉及的平版印刷版原版的第二形态(以下,还称为“第二平版印刷版原版”)为如下平版印刷版原版,
该平版印刷版原版具有支撑体和图像记录层,该图像记录层包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,且在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值,
上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂及受电子型自由基引发剂。
另外,在第二平版印刷版原版中还包含如下形态,即,上述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂及受电子型自由基引发剂,且上述辐射吸收化合物包含通过图像形成辐射暴露进行分解而产生自由基的化合物的形态。
第二平版印刷版原版中的图像记录层通过例如将根据需要添加有溶剂等其他成分的涂布液涂布于第二辐射感光性组合物来形成。
以下,对于第一平版印刷版原版或第二平版印刷版原版中的图像记录层、中间层、保护层及支撑体,进行汇总说明。
<图像记录层>
关于上述第一平版印刷版原版或第二平版印刷版原版的图像记录层中所含有的自由基引发剂、自由基聚合性成分、辐射吸收化合物、粘合剂聚合物、微凝胶及聚合物粒子、红外线吸收剂、以及其他成分等各构成成分的详细内容及其含量,能够参考本公开所涉及的第一辐射感光性组合物或第二辐射感光性组合物中的记载。
并且,为了能够进行机上显影,优选本公开所涉及的平版印刷版原版中的图像记录层能够通过后述的润版液及印刷油墨中的任一种或两种来去除。
本公开所涉及的图像记录层除了含有上述构成成分以外,还可以含有低分子亲水性化合物、增感剂、溶剂及其他成分。
〔低分子亲水性化合物〕
为了一边抑制降低印刷耐久性一边提高机上显影性,图像记录层可以含有低分子亲水性化合物。低分子亲水性化合物优选分子量小于1,000的化合物,更优选分子量小于800的化合物,进一步优选分子量小于500的化合物。
作为低分子亲水性化合物,例如作为水溶性有机化合物,可举出乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇、三丙二醇等乙二醇类及其醚或酯衍生物类、甘油、季戊四醇、三(2-羟乙基)异氰脲酸酯等多元醇类、三乙醇胺、二乙醇胺、单乙醇胺等有机胺类及其盐、烷基磺酸、对甲苯磺酸、苯磺酸等有机磺酸类及其盐、烷基氨基磺酸等有机氨基磺酸类及其盐、烷基硫酸、烷基醚硫酸等有机硫酸类及其盐、苯基膦酸等有机膦酸类及其盐、酒石酸、草酸、柠檬酸、苹果酸、乳酸、葡萄糖酸、氨基酸类等有机羧酸类及其盐、甜菜碱类等。
作为低分子亲水性化合物,优选含有选自包含多元醇类、有机硫酸盐类、有机磺酸盐类及甜菜碱类的组中的至少一个。
作为有机磺酸盐类的具体例,可举出正丁基磺酸钠、正己基磺酸钠、2-乙基己基磺酸钠、环己基磺酸钠、正辛基磺酸钠等烷基磺酸盐;5,8,11-三氧杂十五烷-1-磺酸钠、5,8,11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠、13-乙基-5,8,11-三氧杂十七烷-1-磺酸钠、5,8,11,14-四氧杂二十四烷-1-磺酸钠等包含氧化乙烯链的烷基磺酸盐;苯磺酸钠、对甲苯磺酸钠、对羟基苯磺酸钠、对苯乙烯磺酸钠、间苯二甲酸二甲酯-5-磺酸钠、1-萘基磺酸钠、4-羟基萘磺酸钠、1,5-萘二磺酸二钠、1,3,6-萘三磺酸三钠等芳基磺酸盐、日本特开2007-276454号公报的0026~0031段及日本特开2009-154525号公报的0020~0047段中所记载的化合物等。盐可以是钾盐或锂盐。
作为有机硫酸盐类,可举出聚环氧乙烷的烷基、烯基、炔基、芳基或杂环单醚的硫酸盐。氧化乙烯单元的数量优选为1~4,盐优选钠盐、钾盐或锂盐。作为具体例,可举出日本特开2007-276454号公报的0034~0038段中所记载的化合物。
作为甜菜碱类,优选为针对氮原子的烃取代基的碳原子数为1~5的化合物,作为具体例,可举出三甲基铵醋酸盐、二甲基丙基铵醋酸盐、3-羟基-4-三甲基铵丁酸盐、4-(1-吡啶基)丁酸盐、1-羟基乙基-1-咪唑醋酸盐、三甲基铵甲烷磺酸盐、二甲基丙基铵甲烷磺酸盐、3-三甲基铵基-1-丙烷磺酸盐、3-(1-吡啶基)-1-丙烷磺酸盐等。
低分子亲水性化合物由于疏水性部分的结构小,且几乎没有表面活性作用,因此润版液不会浸透于图像记录层曝光部(图像部)而降低图像部的疏水性或成膜强度,且能够良好地维持图像记录层的受墨性及印刷耐久性。
相对于图像记录层的总固体成分,低分子亲水性化合物的含量优选为0.5~20质量%,更优选为1~15质量%,进一步优选为2~10质量%。若在上述范围内,则可获得良好的机上显影性和印刷耐久性。
低分子亲水性化合物可以单独使用1种,也可以混合使用2种以上。
〔增感剂〕
为了提高着墨性,图像记录层可以含有鏻化合物、含氮低分子化合物、含铵基聚合物等增感剂。尤其,在保护层含有无机层状化合物的情况下,这些化合物作为无机层状化合物的表面覆盖剂而发挥功能,能够抑制因无机层状化合物而印刷中途的着墨性下降。
作为增感剂,优选同时使用鏻化合物、含氮低分子化合物及含铵基聚合物,更优选同时使用鏻化合物、季铵盐类及含铵基聚合物。
作为鏻化合物,可举出日本特开2006-297907号公报及日本特开2007-050660号公报中所记载的鏻化合物。作为具体例,可举出四丁基碘化膦、丁基三苯基溴化膦、四苯基溴化鏻、1,4-双(三苯基膦)丁烷二(六氟磷酸盐)、1,7-双(三苯基膦)庚烷硫酸盐、1,9-双(三苯基膦)壬烷萘-2,7-二磺酸盐等。
作为含氮低分子化合物,可举出胺盐类、季铵盐类。并且,还可举出咪唑啉鎓盐类、苯并咪唑啉鎓盐类、吡啶鎓盐类、喹啉翁盐类。其中,优选季铵盐类及吡啶鎓盐类。作为具体例,可举出六氟磷酸四甲基铵盐、六氟磷酸四丁基铵、对甲苯磺酸十二烷基三甲基铵、六氟磷酸苄基三乙基铵、六氟磷酸苄基二甲基辛基铵、六氟磷酸苄基二甲基十二烷基铵、日本特开2008-284858号公报的0021~0037段、日本特开2009-090645号公报的0030~0057段中所记载的化合物等。
作为含铵基聚合物,可以在其结构中具有铵基,优选含有5~80摩尔%的在侧链上具有铵基的(甲基)丙烯酸酯来作为共聚成分的聚合物。作为具体例,可举出日本特开2009-208458号公报的0089~0105段中所记载的聚合物。
关于含铵基聚合物,通过日本特开2009-208458号公报中所记载的测定方法求出的比浓粘度(单位:ml/g)的值优选为5~120的范围,更优选为10~110的范围,尤其优选为15~100的范围。在将上述比浓粘度换算为重均分子量(Mw)的情况下,优选为10,000~150,000,更优选为17,000~140,000,特别优选为20,000~130,000。
以下,示出含铵基聚合物的具体例。
(1)2-(三甲基铵基)甲基丙烯酸乙酯对甲苯磺酸盐/3,6-二氧杂甲基丙烯酸庚酯共聚物(摩尔比10/90,Mw4.5万)
(2)2-(三甲基铵基)甲基丙烯酸乙酯=六氟磷酸盐/3,6-二氧杂甲基丙烯酸庚酯共聚物(摩尔比20/80,Mw6.0万)
(3)2-(乙基二甲基铵基)甲基丙烯酸乙酯对甲苯磺酸盐/甲基丙烯酸己酯共聚物(摩尔比30/70,Mw4.5万)
(4)2-(三甲基铵基)甲基丙烯酸乙酯=六氟磷酸盐/2-乙基己基甲基丙烯酸酯共聚物(摩尔比20/80,Mw6.0万)
(5)2-(三甲基铵基)甲基丙烯酸乙酯=甲基硫酸盐/甲基丙烯酸己酯共聚物(摩尔比40/60,Mw7.0万)
(6)2-(丁基二甲基铵)甲基丙烯酸乙酯=六氟磷酸盐/3,6-二氧杂甲基丙烯酸庚酯共聚物(摩尔比25/75,Mw6.5万)
(7)2-(丁基二甲基铵)丙烯酸乙酯=六氟磷酸盐/3,6-二氧杂甲基丙烯酸庚酯共聚物(摩尔比20/80,Mw6.5万)
(8)2-(丁基二甲基铵)甲基丙烯酸乙酯=13-乙基-5,8,11-三氧杂-1-十七烷磺酸盐/3,6-二氧杂甲基丙烯酸庚酯共聚物(摩尔比20/80,Mw7.5万)
(9)2-(丁基二甲基铵)甲基丙烯酸乙酯=六氟磷酸盐/3,6-二氧杂甲基丙烯酸庚酯/2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基甲基丙烯酸丙酯共聚物(摩尔比15/80/5,Mw6.5万)
相对于图像记录层的总固体成分,增感剂的含量优选为0.01~30.0质量%,更优选为0.1~15.0质量%,进一步优选为1~10质量%。
〔其他成分〕
在图像记录层中能够含有表面活性剂、聚合抑制剂、高级脂肪酸衍生物、增塑剂、无机粒子、无机层状化合物等来作为其他成分。具体而言,能够参考日本特开2008-284817号公报的0114~0159段的记载。
〔图像记录层的形成〕
本公开所涉及的平版印刷版原版中的图像记录层例如能够通过如下方式形成:如日本特开2008-195018号公报的0142~0143段中所记载,将必要的上述各成分分散或溶解于公知的溶剂中来制备涂布液,通过棒涂机涂布等公知的方法将涂布液涂布于支撑体上并进行干燥。涂布、干燥后的图像记录层的涂布量(固体成分)根据用途而不同,但优选为0.3~3.0g/m2。若在上述范围内,则可获得良好的灵敏度和图像记录层的良好的皮膜特性。
<中间层>
优选本公开所涉及的平版印刷版原版在图像记录层与支撑体之间具有中间层(有时还称为底涂层。)。关于中间层,由于在曝光部强化支撑体与图像记录层的密合,而在未曝光部使得容易产生图像记录层从支撑体的剥离,因此不会损害印刷耐久性而有助于提高显影性。并且,在红外线激光曝光的情况下,中间层作为绝热层而发挥功能,由此还具有防止通过曝光而产生的热扩散于支撑体而使灵敏度下降的效果。
作为中间层中所使用的化合物,可举出具有能够吸附到支撑体表面的吸附性基团及亲水性基团的聚合物。为了提高与图像记录层的密合性,优选具有吸附性基团及亲水性基团,还具有交联性基团的聚合物。中间层中所使用的化合物可以是低分子化合物,也可以是聚合物。中间层中所使用的化合物可以根据需要混合2种以上来使用。
在中间层中所使用的化合物为聚合物的情况下,优选具有吸附性基团的单体、具有亲水性基团的单体及具有交联性基团的单体的共聚物。
作为能够吸附到支撑体表面的吸附性基团,优选酚性羟基、羧基、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-、-COCH2COCH3。作为亲水性基团,优选磺基或其盐、羧基的盐。作为交联性基团,优选丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙烯酸酰胺基、甲基丙烯酸酰胺基、烯丙基等。
聚合物可以具有通过聚合物的极性取代基和具有含有与上述极性取代基相反的电荷的取代基及烯属不饱和键的化合物的盐形成引入的交联性基团,且可以进一步与除上述以外的单体、优选亲水性单体共聚。
具体而言,可优选举出日本特开平10-282679号公报中所记载的具有能够加成聚合的烯属双键反应性基团的硅烷偶联剂、日本特开平2-304441号公报中所记载的具有烯属双键反应性基团的磷化合物。还可优选使用日本特开2005-238816号、日本特开2005-125749号、日本特开2006-239867号、日本特开2006-215263号的各公报中所记载的具有交联性基团(优选烯属不饱和键基团)、与支撑体表面相互作用的官能团及亲水性基团的低分子或高分子化合物。
作为更优选的化合物,可举出日本特开2005-125749号公报及日本特开2006-188038号公报中所记载的具有能够吸附到支撑体表面的吸附性基团、亲水性基团及交联性基团的高分子聚合物。
关于中间层中所使用的聚合物中的烯属不饱和键基团的含量,每1g聚合物中,优选为0.1~10.0mmol,更优选为0.2~5.5mmol。
中间层中所使用的聚合物的重均分子量(Mw)优选为5,000以上,更优选为1万~30万。
中间层中,除了上述中间层用化合物以外,为了防止经时产生的污染,还可以含有螯合剂、仲胺或叔胺、聚合抑制剂、具有含有氨基或聚合抑制能的官能团且具有与支撑体表面相互作用的基团的化合物(例如,1,4-二氮杂二环[2.2.2]辛烷(DABCO)、2,3,5,6-四羟基-对苯醌、氯醌、磺基邻苯二甲酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二羟乙基乙二胺二乙酸、羟乙基亚氨二乙酸等)等。
中间层通过公知的方法来进行涂布。中间层的涂布量(固体成分)优选为0.1~100mg/m2,更优选为1~30mg/m2。
<保护层>
优选本公开所涉及的平版印刷版原版在图像记录层上具有保护层(有时称为外涂层。)。保护层通过氧气阻断而除了具有尤其使第二以后的峰值中的自由基产生量增加并提高印刷耐久性的功能以外,还具有防止在图像记录层中产生划痕及防止高照度激光曝光时的烧蚀的功能。
关于这种特性的保护层,例如记载于美国专利第3,458,311号说明书及日本特公昭55-049729号公报中。作为保护层中所使用的低氧渗透性聚合物,能够适当选择水溶性聚合物、水不溶性聚合物的任何一种来使用,还能够根据需要混合2种类以上来使用。具体而言,例如可举出聚乙烯醇、改性聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、水溶性纤维素衍生物、聚(甲基)丙烯腈等。
作为改性聚乙烯醇,可优选使用具有羧基或磺基的酸改性聚乙烯醇。具体而言,可举出日本特开2005-250216号公报及日本特开2006-259137号公报中所记载的改性聚乙烯醇。
为了提高阻氧性,优选保护层含有无机层状化合物。无机层状化合物为具有薄的平板状的形状的粒子,例如可举出天然云母、合成云母等云母组、由式:3MgO·4SiO·H2O表示的滑石、带云母、蒙脱石、皂石、锂蒙脱石、磷酸锆等。
优选使用的无机层状化合物为云母化合物。作为云母化合物,例如可举出由式:A(B,C)2-5D4O10(OH,F,O)2〔其中,A为选自包含K、Na及Ca的组中的至少1种元素,B及C为选自包含Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg及V的组中的至少1种元素,D为Si或Al。〕表示的天然云母、合成云母等云母组。
云母组中,作为天然云母,可举出白云母、鈉云母、金云母、黑云母及鳞片云母。作为合成云母,可举出氟金云母KMg3(AlSi3O10)F2、钾四硅云母KMg2.5(Si4O10)F2等非溶胀性云母及Na四氟硅云母NaMg2.5(Si4O10)F2、Na或Li带云母(Na,Li)Mg2Li(Si4O10)F2、蒙脱石系Na或Li锂蒙脱石(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si4O10)F2等溶胀性云母等。而且,合成绿土也有用。
上述云母化合物中,氟系溶胀性云母特别有用。即,溶胀性合成云母具有包含厚度为(埃,)左右的单位晶格层的层叠结构,晶格内金属原子取代明显大于其他粘土矿物。其结果,晶格层发生正电荷不足,为了补偿其,在层间吸附有Li+、Na+、Ca2 +、Mg2+等氧离子。将这些介于层间的氧离子称为交换性氧离子,且能够与各种氧离子进行交换。尤其,在层间的氧离子为Li+、Na+的情况下,离子半径小,因此层状晶格间的键合弱,通过水而大幅溶胀。若在该状态下施加剪切力,则容易断裂,在水中形成稳定的溶胶。溶胀性合成云母的该倾向强,特别优选使用。
作为云母化合物的形状,从控制扩散的观点考虑,厚度越薄越好,只要不抑制涂布面的平滑性或活性光线的透射性,则平面尺寸越大越好。因此,纵横比优选为20以上,更优选为100以上,特别优选为200以上。纵横比为长径与粒子的厚度之比,例如能够根据基于粒子的显微镜照片的投影图来进行测定。纵横比越大,则所获得的效果越大。
关于云母化合物的粒径,其平均长径优选为0.3~20μm,更优选为0.5~10μm,特别优选为1~5μm。粒子的平均厚度优选为0.1μm以下,更优选为0.05μm以下,特别优选为0.01μm以下。具体而言,例如,在作为代表性化合物的溶胀性合成云母的情况下,作为优选的形态,厚度为1~50nm左右,表面尺寸(长径)为1~20μm左右。
相对于保护层的总固体成分,无机层状化合物的含量优选为0~60质量%,更优选为3~50质量%。即使在同时使用多种无机层状化合物的情况下,也优选无机层状化合物的总量为上述含量。若在上述范围内,则阻氧性得到提高,可获得良好的灵敏度。并且,能够防止着墨性下降。
保护层可以含有用于赋予挠性的增塑剂、用于提高涂布性的表面活性剂、用于控制表面滑动性的无机微粒等公知的添加物。并且,可以在保护层中含有图像记录层中所记载的增感剂。
保护层通过公知的方法来进行涂布。保护层的涂布量(固体成分)优选为0.01~10g/m2,更优选为0.02~3g/m2,特别优选为0.02~1g/m2。
<支撑体>
本公开所涉及的平版印刷版原版的支撑体能够从公知的平版印刷版原版用支撑体中适当选择而使用。
作为支撑体,优选具有亲水性表面的支撑体。
作为支撑体,优选通过公知的方法进行粗面化处理并进行阳极氧化处理而得的铝板。
铝板还可以根据需要适当选择并进行日本特开2001-253181号公报及日本特开2001-322365号公报中所记载的阳极氧化皮膜的微孔的放大处理或封孔处理、如美国专利第2,714,066号、美国专利第3,181,461号、美国专利第3,280,734号及美国专利第3,902,734号的各说明书中所记载那样的基于碱金属硅酸盐的表面亲水化处理、如美国专利第3,276,868号、美国专利第4,153,461号及美国专利第4,689,272号的各说明书中所记载那样的基于聚乙烯膦酸等的表面亲水化处理。
支撑体中,优选中心线平均粗糙度为0.10~1.2μm。
支撑体可以根据需要在与图像记录层相反的一侧的面具有包含日本特开平5-045885号公报中所记载的有机高分子化合物或日本特开平6-035174号公报中所记载的硅的烷氧基化合物等的背涂层。
(平版印刷版的制版方法)
本公开所涉及的平版印刷版的制版方法的第一形态包含将本公开所涉及的平版印刷版原版曝光成图像状的工序(曝光工序)、及对于经曝光的上述平版印刷版原版,在pH为2~14的显影液的存在下,去除非图像部的图像记录层的工序(显影液显影工序)。
本公开所涉及的平版印刷版的制版方法的第二形态包含将本公开所涉及的平版印刷版原版曝光成图像状的工序(曝光工序)、及在印刷机上供给印刷油墨及润版液中的任一种或两种而去除非图像部的图像记录层的工序(机上显影工序)。
<曝光工序>
上述平版印刷版的制版方法的第一形态和第二形态中,曝光工序是共同的。
曝光工序中的图像曝光可通过将图像形成辐射以图像状曝光于平版印刷版原版上来进行,但是优选通过利用红外线激光等扫描曝光数字数据的方法来进行。
关于曝光光源的波长,可优选使用750~1,400nm。作为750~1,400nm的光源,优选辐射红外线的固体激光及半导体激光。曝光机构可以为内鼓方式、外鼓方式、平板方式等中的任一个。
曝光工序能够利用板定型机等并通过公知的方法来进行。并且,可以利用具备曝光装置的印刷机,将平版印刷版原版安装于印刷机之后,在印刷机上进行曝光。
<显影液显影工序>
本公开所涉及的平版印刷版原版能够通过适当选择图像记录层的构成成分即聚合物等,通过使用显影液的显影处理来制作平版印刷版。使用显影液的显影处理包括使用包含碱剂且pH为14以下的高pH的显影液的形态(还称为碱显影)、以及使用含有选自包含表面活性剂及水溶性高分子化合物的组中的至少1种化合物且pH为2~11左右的显影液的形态(还称为简单显影)。碱显影及简单显影能够通过公知的方法来实施。
以下,对简单显影中所使用的显影液(简单处理显影液)的各成分的详细内容进行说明。
<<表面活性剂>>
在简单处理显影液中可以含有阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、甜菜碱表面活性剂等表面活性剂。
其中,从抗刮伤污染性及着墨性的观点考虑,优选上述显影液包含选自包含阴离子表面活性剂及非离子表面活性剂的组中的至少1种,更优选包含阴离子表面活性剂及非离子表面活性剂。
作为阴离子表面活性剂,可优选举出由下述式(I)表示的化合物。
R1-Y1-X1(I)
式(I)中,R1表示可以具有取代基的烷基、环烷基、烯基、芳烷基或芳基。
作为烷基,例如优选碳原子数1~20的烷基,具体而言,能够优选举出甲基、乙基、丙基、正丁基、仲丁基、己基、2-乙基己基、辛基、癸基、十二烷基、十六烷基、十八烷基等。
作为环烷基,可以是单环型,也可以是多环型。作为单环型,优选为碳原子数3~8的单环型环烷基,更优选为环丙基、环戊基、环己基或环辛基。作为多环型,例如能够优选举出金刚烷基、降冰片基、异冰片基、莰基、二环戊基、α-菔基、三环癸烷基等。
作为烯基,例如优选为碳原子数2~20的烯基,具体而言,能够优选举出乙烯基、烯丙基、丁烯基、环己烯基等。
作为芳烷基,例如优选为碳原子数7~12的芳烷基,具体而言,能够优选举出苄基、苯乙基、萘甲基等。
作为芳基,例如优选为碳原子数6~15的芳基,具体而言,能够优选举出苯基、甲苯基、二甲基苯基、2,4,6-三甲基苯基、萘基、蒽基、9,10-二甲氧基蒽基等。
并且,作为取代基,可使用除了氢原子以外的一价非金属原子团,作为优选的例子,可举出卤素原子(F、Cl、Br或I)、羟基、烷氧基、芳氧基、酰基、酰胺基、酯基、酰氧基、羧基、羧酸阴离子基、磺酸阴离子基等。
作为这些取代基中的烷氧基的具体例,可举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、十二烷氧基、硬脂氧基、甲氧基乙氧基、聚(乙烯氧基)、聚(丙烯氧基)基等优选为碳原子数1~40的烷氧基,更优选为碳原子数1~20的烷氧基。作为芳氧基,可举出苯氧基、甲苯氧基、二甲苯氧基、均三甲苯基氧基、枯烯氧基、甲氧基苯氧基、乙氧基苯氧基、氯苯氧基、溴苯氧基、萘氧基等碳原子数6~18的芳氧基。作为酰基,可举出乙酰基、丙酰基、丁酰基、苯甲酰基、萘甲酰基等碳原子数2~24的酰基。作为酰胺基,可举出乙酰胺基、丙酸酰胺基、十二烷酸酰胺基、棕榈酸酰胺基、硬脂酸酰胺基、苯甲酸酰胺基、萘甲酸酰胺基等碳原子数2~24的酰胺基。作为酰氧基,可举出乙酰氧基、丙酰氧基、苯甲酰氧基、萘甲酰氧基等碳原子数2~20的酰氧基。作为酯基,可举出甲酯基、乙酯基、丙酯基、己酯基、辛酯基、十二烷基酯基、十八烷基酯基等碳原子数1~24的酯基。取代基可以由上述取代基的2个以上的组合构成。
X1表示磺酸盐基、硫酸单酯盐基、羧酸盐基或磷酸盐基。
Y1表示单键、-CnH2n-、-Cn-mH2(n-m)OCmH2m-、-O-(CH2CH2O)n-、-O-(CH2CH2CH2O)n-、-CO-NH-或由它们的2个以上的组合构成的2价连接基团,且为n≥1、n≥m≥0。
其中,由式(I)表示的化合物中,从抗刮伤污染性的观点考虑,优选由下述式(I-A)或式(I-B)表示的化合物。
[化学式25]
式(I-A)及式(I-B)中,RA1~RA10分别独立地表示氢原子或烷基,nA表示1~3的整数,XA1及XA2分别独立地表示磺酸盐基、硫酸单酯盐基、羧酸盐基或磷酸盐基,YA1及YA2分别独立地表示单键、-CnH2n-、-Cn-mH2(n-m)OCmH2m-、-O-(CH2CH2O)n-、-O-(CH2CH2CH2O)n-、-CO-NH-或组合它们的2个以上而成的2价连接基团,且满足n≥1及n≥m≥0,RA1~RA5或RA6~RA10中及YA1或YA2中的碳原子数的总和为3以上。
由上述式(I-A)或式(I-B)表示的化合物中的RA1~RA5及Y1A或RA6~RA10及YA2的总碳原子数优选为25以下,更优选为4~20。上述烷基的结构可以是直链,也可以是支链。
由式(I-A)或式(I-B)表示的化合物中的XA1及XA2优选为磺酸盐基或羧酸盐基。并且,XA1及XA2中的盐结构中,碱金属盐尤其对水系溶剂的溶解性良好,因此优选。其中,尤其优选钠盐或钾盐。
并且,作为由上述式(I-A)或式(I-B)表示的化合物,能够参阅日本特开2007-206348号公报的0019~0037段的记载。
而且,作为阴离子表面活性剂,还能够优选使用日本特开2006-065321号公报的0023~0028段中所记载的化合物。
并且,作为非离子表面活性剂,可举出聚氧乙烯烷基醚类、聚氧乙烯烷基苯基醚类、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚、甘油脂肪酸偏酯类、脱水山梨糖醇脂肪酸偏酯类、新戊四醇脂肪酸偏酯类、丙二醇单脂肪酸酯、蔗糖脂肪酸偏酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇脂肪酸偏酯类、聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸偏酯类、聚乙二醇脂肪酸酯类、聚甘油脂肪酸偏酯类、聚氧乙烯甘油脂肪酸偏酯类、聚氧乙烯二甘油类、脂肪酸二乙醇酰胺类、N,N-双-2-羟基烷基胺类、聚氧乙烯烷基胺、三乙醇胺脂肪酸酯、三烷基氧化胺、聚氧乙烯烷基苯基醚类、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物类等。
并且,还能够同样地使用乙炔二醇系与乙炔醇系的氧乙烯加成物、氟系、硅酮系等表面活性剂。这些表面活性剂能够同时使用两种以上。
作为非离子表面活性剂可尤其优选举出由下述式(N1)表示的非离子性芳香族醚系表面活性剂。
XN-YN-O-(A1)nB-(A2)mB-H(N1)
式中,XN表示可以具有取代基的芳香族基,YN表示单键或碳原子数1~10的亚烷基,A1及A2为彼此不同的基团,且表示-CH2CH2O-或-CH2CH(CH3)O-中的任一个,nB及mB分别独立地表示0~100的整数,其中,nB与mB不会同时为0,并且当nB及mB中的任一个为0时,nB及mB不会为1。
式中,作为XN的芳香族基,可举出苯基、萘基、蒽基等。这些芳香族基可以具有取代基。作为取代基,可举出碳原子数1~100的有机基团。另外,式中,A及B同时存在时,可以是无规则或嵌段共聚物。
作为上述碳原子数1~100的有机基团的具体例,可以是饱和也可以是不饱和可以是直链也可以是支链的脂肪族烃基、芳香族烃基,例如可举出烷基、烯基、炔基、芳基、芳烷基等,除此以外可举出烷氧基、芳氧基、N-烷基氨基、N,N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N,N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰氧基、氨基甲酰氧基、N-烷基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、N,N-二烷基氨基甲酰氧基、N,N-二芳基氨基甲酰氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰氧基、酰氨基、N-烷基酰氨基、N-芳基酰氨基、酰基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N,N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N,N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、与聚氧化烯链、聚氧化烯链键合的上述有机基团等。上述烷基可以是直链,也可以是支链。
并且,作为非离子表面活性剂,还能够优选使用日本特开2006-065321号公报的0030~0040段中所记载的化合物。
表面活性剂可以单独使用一种,也可以同时使用两种以上。
表面活性剂的含量相对于显影液的总质量优选为1质量%~25质量%,更优选为2质量%~20质量%,进一步优选为3质量%~15质量%,尤其优选为5质量%~10质量%。若在上述范围内,则抗刮伤污染性进一步优异,显影残渣的分散性优异,并且所获得的平版印刷版的着墨性优异。
<<水溶性高分子化合物>>
从调整显影液的粘度且保护所获得的平版印刷版的版面的观点考虑,简单处理显影液能够包含水溶性高分子。
作为水溶性高分子,能够含有大豆多糖类、改性淀粉、阿拉伯树胶、糊精、纤维素衍生物(例如羧甲基纤维素、羧乙基纤维素、甲基纤维素等)及其改性体、普鲁兰多糖、聚乙烯醇及其衍生物、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酰胺及丙烯酰胺共聚物、乙烯基甲基醚/马来酸酐共聚物、醋酸乙烯酯/马来酸酐共聚物、苯乙烯/马来酸酐共聚物等水溶性高分子化合物。
作为上述大豆多糖类,能够使用以往已知的物质,例如作为市售品有Soyafibe(FUJI OIL CO.,LTD.制造),且能够使用各种品级的物质。能够优选使用的物质的10质量%水溶液的粘度在10mPa/秒~100mPa/秒的范围。
作为上述改性淀粉,优选由下述式(III)表示的淀粉。作为由式(III)表示的淀粉,还能够使用玉米、马铃薯、木薯、米、小麦等中的任一种淀粉。这些淀粉的改性能够通过利用酸或酶等在每1分子中葡萄糖残基数为5~30的范围内进行分解,进而在碱中加成氧化丙烯的方法等来制成。
[化学式26]
式中,醚化度(取代度)为每葡萄糖单元0.05~1.2的范围,n表示3~30的整数,m表示1~3的整数。
作为在上述水溶性高分子化合物中也尤其优选的化合物,可举出大豆多糖类、改性淀粉、阿拉伯胶、糊精、羧甲基纤维素、聚乙烯醇等。
水溶性高分子化合物还能够同时使用2种以上。
优选上述显影液不含水溶性高分子化合物、或者相对于显影液的总质量,水溶性高分子化合物的含量超过0质量%且为1质量%以下,更优选不含水溶性高分子化合物、或者相对于显影液的总质量,水溶性高分子化合物的含量超过0质量%且为0.1质量%以下,进一步优选不含水溶性高分子化合物、或者相对于显影液的总质量,水溶性高分子化合物的含量超过0质量%且为0.05质量%以下,特别优选不含水溶性高分子化合物。若为上述形态,则显影液的粘度适当,从而能够抑制显影残渣等堆积在自动显影机的辊部件中。
<<其他添加剂>>
除了上述以外,简单处理显影液还能够含有湿润剂、防腐剂、螯合化合物、消泡剂、有机酸、有机溶剂、无机酸、无机盐等。
作为湿润剂,可优选使用乙二醇、丙二醇、三乙二醇、丁二醇、己二醇、二乙二醇、二丙二醇、甘油、三羟甲基丙烷、二甘油等。这些湿润剂可以单独使用,也可以同时使用两种以上。上述湿润剂的含量相对于显影液的总质量优选为0.1质量%~5质量%。
作为防腐剂,能够优选举出苯酚或其衍生物、福尔马林、咪唑衍生物、脱氢乙酸钠、4-异噻唑啉-3-酮衍生物、苯并异噻唑啉-3-酮、2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮、苯并三唑衍生物、脒胍衍生物、季铵盐类、吡啶、喹啉、胍等衍生物、二嗪、三唑衍生物、噁唑、噁嗪衍生物、硝基溴醇系2-溴-2-硝基丙烷-1,3-二醇、1,1-二溴-1-硝基-2-乙醇、1,1-二溴-1-硝基-2-丙醇等。
防腐剂的添加量为相对于细菌、霉菌、酵母等稳定地发挥其效力的量,且根据细菌、霉菌、酵母的种类而不同,但相对于显影液的总质量优选为0.01质量%~4质量%的范围。并且,优选同时使用两种以上的防腐剂,以使对各种霉菌、杀菌有效力。
作为螯合化合物,例如能够举出如乙二胺四乙酸、其钾盐、其钠盐;二亚乙基三胺五乙酸、其钾盐、其钠盐;三亚乙基四胺六乙酸、其钾盐、其钠盐;羟基乙基乙二胺三乙酸、其钾盐、其钠盐;次氮基三乙酸、其钠盐;1-羟基乙烷-1,1-二膦酸、其钾盐、其钠盐;氨基三(亚甲基膦酸)、其钾盐、其钠盐等那样的有机膦酸类。替代上述螯合剂的钠盐、钾盐,有机胺盐也有效。
这些螯合剂优选为稳定地存在于处理液组成中,且不阻碍印刷性。作为螯合剂的含量,相对于显影液的总质量优选为0.001质量%~1.0质量%。
作为消泡剂,能够使用通常的聚硅氧系的自乳化型、乳化型、非离子系的HLB(Hydrophilic-Lipophilic Balance:亲水亲油平衡值)为5以下等化合物。优选硅酮系消泡剂。
消泡剂的含量相对于显影液的总质量优选为0.001质量%~1.0质量%的范围。
作为有机酸,可举出柠檬酸、乙酸、草酸、丙二酸、水杨酸、辛酸、酒石酸、苹果酸、乳酸、乙酰丙酸、对甲苯磺酸、二甲苯磺酸、植酸、葡萄糖酸、有机膦酸等。有机酸还能够以其碱金属盐或铵盐的形态使用。有机酸的含量相对于显影液的总质量优选为0.01质量%~5质量%的量。
作为能够含有的有机溶剂,例如可举出脂肪族烃类(己烷、庚烷、“ISOPAR E、ISOPAR H、ISOPAR G”(Esso Chemical CO.,Ltd.制造)、汽油、煤油等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)、卤化烃(二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烯(Trichlorethylene)、一氯苯等)、极性溶剂等。
作为极性溶剂,可举出醇类(甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、苄醇、乙二醇单甲醚、2-乙氧基乙醇、二甘醇单乙基醚、二甘醇单己基醚、三甘醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、聚乙二醇单甲醚、聚丙二醇、四甘醇、乙二醇单丁醚、乙二醇单苄醚、乙二醇单苯基醚、甲基苯基甲醇、正戊醇、甲基戊醇等)、酮类(丙酮、甲基乙基酮、乙基丁基酮、甲基异丁基酮、环己酮等)、酯类(乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、乙酸苄酯、乳酸甲酯、乳酸丁酯、乙二醇单丁基乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、二甘醇乙酸酯、邻苯二甲酸二乙酯、乙酰丙酸丁酯等)、其它(磷酸三乙酯、磷酸三甲苯酯、N-苯基乙醇胺、N-苯基二乙醇胺等)。
并且,当上述有机溶剂不溶于水时,还能够使用表面活性剂等使其可溶于水而使用,当显影液中含有有机溶剂时,从安全性、可燃性的观点考虑,显影液中的溶剂的浓度优选小于40质量%。
作为无机酸及无机盐,可举出磷酸、偏磷酸、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、磷酸二氢钠、磷酸氢二钠、磷酸二氢钾、磷酸氢二钾、三聚磷酸钠、焦磷酸钾、六偏磷酸钠、硝酸镁、硝酸钠、硝酸钾、硝酸铵、硫酸钠、硫酸钾、硫酸铵、亚硫酸钠、亚硫酸铵、硫酸氢钠、硫酸镍等。无机盐的含量相对于显影液的总质量优选为0.01质量%~0.5质量%的量。
简单处理显影液可根据需要将上述各成分溶解或分散于水中而获得。显影液的固体成分浓度优选为2质量%~25质量%。并且,作为显影液,还能够制作浓缩液,并在使用时用水稀释来使用。
并且,简单处理显影液优选为水性显影液。
简单处理显影液的pH为5~10,优选为6~9,更优选为7~9。从显影性或图像记录层的分散性的观点考虑,有利的是将pH的值设定为较高,但关于印刷性、特别是污染,有效的是将pH的值设定为较低。
并且,从显影残渣的分散性的观点考虑,简单处理显影液优选含有醇化合物。
作为醇化合物,可举出甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、苄醇等。其中,优选苄醇。
从显影残渣的分散性的观点考虑,作为醇化合物的含量,相对于显影液的总质量,优选为0.01质量%~5质量%,更优选为0.1质量%~2质量%,尤其优选为0.2质量%~1质量%。
-显影处理方法-
上述去除工序(显影处理工序)中,当为手动处理时,作为显影处理方法,例如可优选举出使海绵、脱脂棉中充分含有水溶液,一边擦拭整个版面一边进行处理,并在处理结束之后充分进行干燥的方法。当为浸渍处理时,例如可优选举出将平版印刷版原版在含有水溶液的大桶、深槽中浸渍约60秒并搅拌之后,一边用脱脂棉、海绵等擦拭一边充分进行干燥的方法。
在显影处理中优选使用将结构简单化并将工序简单化的装置。
以往的显影处理中,通过前水洗工序去除保护层,接着通过碱性显影液进行显影,然后通过后水洗工序去除碱,通过涂胶工序进行胶处理,通过干燥工序进行干燥。
本公开中,能够用1液同时进行显影及涂胶。由此,无需特别进行后水洗工序及胶处理工序,优选用1液进行显影和涂胶之后,进行干燥工序。作为胶,可举出聚合物,更优选举出水溶性高分子化合物及表面活性剂。
而且,优选不进行前水洗工序而用1液同时进行保护层的去除、显影及涂胶。并且,优选在显影及涂胶之后,使用挤压辊去除剩余的显影液之后,进行干燥。
本公开中的上述去除工序(显影处理工序)中,可以是在上述显影液中浸渍1次的方法,也可以是浸渍2次以上的方法。其中,可优选举出在上述显影液中浸渍1次或2次的方法。
关于浸渍,可以使已曝光的平版印刷版原版钻进蓄积有显影液的显影液槽中,也可以通过喷雾器等向已曝光的平版印刷版原版的版面上喷射显影液。
另外,本公开中,即使在显影液中浸渍2次以上的情况下,当使用相同的显影液或使用显影液和通过显影处理图像记录层的成分溶解或分散的显影液(疲劳液)浸渍2次以上时,称为用1液进行的显影处理(1液处理)。
并且,显影处理中,优选使用擦拭部件,优选在去除图像记录层非图像部的显影浴中设置刷子等擦拭部件。
关于本公开中的显影处理,能够按照常规方法,并通过优选在0℃~60℃、更优选在15℃~40℃的温度下,例如将经曝光处理的平版印刷版原版浸渍在显影液中并利用刷子擦拭或用泵抽吸注入到外部的罐中的处理液而从喷嘴喷射并利用刷子擦拭等来进行。这些显影处理还能连续进行多次。例如,能够通过用泵抽吸注入到外部的罐中的处理液而从喷嘴喷射并利用刷子擦拭之后,再次从喷嘴喷射处理液并利用刷子擦拭等来进行。当使用自动显影机来进行显影处理时,显影液随着处理量的增大而疲劳,因此优选使用补充液或新鲜的显影液恢复处理能力。
在本公开中的显影处理中,还能够使用以往已知为用于PS版(PresensitizedPlate:预制感光版)及CTP(Computer to Plate:计算机直接制版)的胶涂布机、自动显影机。当使用自动显影机时,例如还能够应用利用泵抽吸注入到显影槽中的显影液或注入到外部的罐中的显影液而从喷嘴喷射并进行处理的方式、在装满显影液的槽中通过液中导辊等浸渍传送印刷版而进行处理的方式、及对每一版供给所需量的实质上未使用的显影液而进行处理的所谓的一次性处理方式中的任一方式。在任何方式中,更优选有基于刷子、双面绒等的擦洗机构。例如,能够利用市售的自动显影机,(Clean Out Unit C85/C125、Clean-Out Unit+C85/120、FCF 85V、FCF 125V、FCF News(Glunz&Jensen公司制)、Azura CX85、Azura CX125、Azura CX150(AGFA GRAPHICS公司制)。并且,还能够利用将激光曝光部和自动显影机部分组装成一体的装置。
<机上显影工序>
机上显影工序中,若不对图像曝光后的平版印刷版原版实施任何显影处理,而在印刷机上供给选自包含印刷油墨及润版液的组中的至少一种、优选印刷油墨及润版液并开始印刷(机上显影),则在印刷过程中的初始阶段去除平版印刷版原版的未曝光部分,随其亲水性支撑体表面暴露并形成非图像部。作为印刷油墨及润版液,使用公知的平版印刷用印刷油墨及润版液。不管是印刷油墨还是润版液均可以第一个供给到平版印刷版原版表面,但是从防止被去除了润版液的图像记录层成分污染的观点考虑,优选第一个供给印刷油墨。
如此,平版印刷版原版在胶版印刷机上进行机上显影,并在该状态下用于多张印刷。
除了上述工序以外,本公开所涉及的平版印刷版的制版方法还可以包括公知的其他工序。作为其他工序,例如可举出在各工序之前确认平版印刷版原版的位置或朝向等的检版工序或者在机上显影工序之后确认印刷图像的确认工序等。
实施例
以下,通过实施例对本发明的实施方式进行详细说明,但本公开并不限定于此。另外,高分子化合物中,除了特别规定以外,分子量为以利用凝胶渗透色谱(GPC)法的聚苯乙烯换算值计的重均分子量(Mw),重复单元的比率为摩尔百分比。并且,只要无特别说明,则“份”是指“质量份”。
(实施例1~实施例35及比较例1~比较例4)
<支撑体的制作>
为了去除厚度为0.3mm的铝板(材质为JIS A 1050)的表面的轧制油,使用10质量%铝酸钠水溶液在50℃的条件下经30秒钟实施脱脂处理之后,使用3个植入有直径为0.3mm的尼龙硬毛束的尼龙刷子和中值粒径为25μm的浮石-水悬浮液(比重为1.1g/cm3)对铝板表面进行砂目化,并利用水充分进行了清洗。将铝板经9秒钟浸渍于45℃的25质量%氢氧化钠水溶液中,并进行蚀刻,水洗后,进一步在60℃的条件下经20秒钟浸渍于20质量%硝酸水溶液中,并进行了水洗。砂目化表面的蚀刻量约为3g/m2。
接着,使用60Hz的交流电压连续进行了电化学粗面化处理。电解液为硝酸1质量%水溶液(包含0.5质量%的铝离子),且液温为50℃。关于交流电源波形,使用电流值从零达到峰值为止的时间TP为0.8msec、duty比为1:1、梯形的矩形波交流,且将碳电极作为对电极来进行了电化学粗面化处理。在辅助阳极中使用了铁氧体。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2,使从电源流出的5%的电流向辅助阳极分流。硝酸电解中的电量为在铝板为阳极时的电量175C/dm2。然后,进行了利用喷雾器的水洗。
接着,使用盐酸0.5质量%水溶液(包含0.5质量%的铝离子)、液温为50℃的电解液,在铝板为阳极时的电量50C/dm2的条件下,通过与硝酸电解相同的方法进行电化学粗面化处理,然后,进行了利用喷雾器的水洗。
接着,在铝板上将15质量%硫酸水溶液(包含0.5质量%的铝离子)作为电解液以15A/dm2的电流密度形成2.5g/m2的直流阳极氧化覆膜之后,进行水洗、干燥而制作了支撑体。阳极氧化覆膜的表层中的平均孔径(表面平均孔径)为10nm。
通过如下方法进行了阳极氧化覆膜的表层中的孔径的测定:使用超高分辨率型SEM(Hitachi,Ltd.制造的S-900),在12V的相对低的加速电压下,不实施赋予导电性的蒸镀处理等,而以15万倍的倍率观察表面,随机提取50个孔并求出平均值。标准偏差为±10%以下。
<底涂层的形成>
接着,在上述支撑体上涂布下述底涂层用涂布液(1),以使干燥涂布量成为20mg/m2,而制作了具有底涂层的支撑体。
〔底涂层用涂布液(1)〕
·下述结构的底涂层用化合物(1):0.18份
·甲醇:55.24份
·水:6.15份
[化学式27]
<图像记录层的形成>
在底涂层上棒涂下述图像记录层涂布液(1),并在100℃的条件下经60秒钟进行烘干而形成了干燥涂布量为1.0g/m2的图像记录层。
图像记录层涂布液(1)通过即将进行涂布之前将下述感光液(1)及微凝胶液进行混合并搅拌来制备。
另外,下述感光液(1)中,化合物A相当于产生第一峰值的受电子型自由基引发剂或供电子型自由基引发剂,且化合物B相当于产生第二以后的峰值的辐射吸收化合物或供电子型自由基引发剂。
〔感光液(1)〕
·粘合剂聚合物(1)〔下述结构〕:0.240份
·辐射吸收化合物:0.030份
·表2或3中所记载的化合物A:表2或3中所记载的量
·表2或3中所记载的化合物B:表2或3中所记载的量
·自由基聚合性成分:0.192份、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯(NK酯A-9300,Shin-Nakamura Chemical CO.,Ltd.制造)
·低分子亲水性化合物:0.062份
三(2-羟乙基)异氰脲酸酯
·低分子亲水性化合物(1)〔下述结构〕0.050份
·增感剂:0.055份、鏻化合物(1)〔下述结构〕
·增感剂:0.018份、苄基-二甲基-辛基铵·PF6盐
·增感剂0.035份、含铵基聚合物(1)〔下述结构,比浓粘度为44ml/g〕
·氟系表面活性剂(1)〔下述结构〕:0.008份
·2-丁酮:1.091份
·1-甲氧基-2-丙醇:8.609份
〔微凝胶液〕
·微凝胶(1):2.640份
·蒸馏水:2.425份
以下示出上述感光液(1)中所使用的粘合剂聚合物(1)、低分子亲水性化合物(1)、鏻化合物(1)、含铵基聚合物(1)及氟系表面活性剂(1)的结构。另外,Me表示甲基,下述聚合物的各构成单元的括号的右下方的数字表示摩尔比。
[化学式28]
[化学式29]
[化学式30]
以下示出上述微凝胶液中所使用的微凝胶(1)的制备法。
-多元异氰酸酯化合物(1)的制备-
向异佛尔酮二异氰酸酯17.78份(80mmol)与下述多元酚化合物(1)7.35份(20mmol)的乙酸乙酯(25.31份)悬浮溶液添加三(2-乙基己酸酯)铋(NEOSTANN U-600,NITTO KASEI CO.,LTD.制造)0.043份而进行了搅拌。在发热得到抑制的时刻将反应温度设定在50℃,并搅拌3小时而获得了多价异氰酸酯化合物(1)的乙酸乙酯溶液(50质量%)。
[化学式31]
-微凝胶(1)的制备-
将下述油相成分及水相成分进行混合,并使用均质器以12000rpm乳化了10分钟。将所获得的乳化物在45℃的条件下搅拌4小时之后,添加1,8-二氮杂双环[5.4.0]-十一碳-7-烯-辛酸盐(U-CAT SA102,San-Apro Ltd.制造)10质量%水溶液5.20份,在室温下搅拌30分钟,并在45℃的条件下静置了24小时。用蒸馏水将固体成分浓度调整为20质量%而获得了微凝胶(1)的水分散液。使用激光衍射/散射式粒度分布测定装置(LA-920,HORIBA,Ltd.制造),通过光散射法测定数均粒径的结果,为0.28μm。
<油相成分>
(成分1)乙酸乙酯:12.0份
(成分2)将三羟甲基丙烷(6摩尔)与二甲苯二异氰酸酯(18摩尔)进行加成,进一步加成甲基一末端聚氧乙烯(1摩尔,氧乙烯单元的重复数量:90)而成的加成物(50质量%乙酸乙酯溶液,Mitsui Chemicals,Inc.制造):3.76份
(成分3)多元异氰酸酯化合物(1)(作为50质量%乙酸乙酯溶液):15.0份
(成分4)二新戊四醇五丙烯酸酯(SR-399、Sartomer Company,Inc制造)的65质量%乙酸乙酯溶液:11.54份
(成分5)磺酸盐型表面活性剂(PIONIN A-41-C、TAKEMOTO OIL&FAT CO.,LTD制造)的10%乙酸乙酯溶液:4.42份
<水相成分>
蒸馏水:46.87份
<保护层的形成>
各实施例或比较例中,在图像记录层上棒涂下述组成的保护层涂布液,并在120℃的条件下经60秒钟进行烘干,而形成了干燥涂布量为0.15g/m2的保护层。另外,在表2或表3中的保护层栏中记载为“无”的例子中,未形成保护层。
〔保护层涂布液〕
·无机层状化合物分散液(1)〔下述〕:1.5份
·聚乙烯醇(CKS50,Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.制造,磺酸改性,皂化度为99摩尔%以上,聚合度为300)6质量%水溶液:0.55份
·聚乙烯醇(PVA-405,Kuraray Co.,Ltd.制造,皂化度为81.5摩尔%,聚合度为500)6质量%水溶液:0.03份
·表面活性剂(聚氧乙烯月桂基醚,EMALEX 710,Nihon Emulsion Co.,Ltd.制造)1质量%水溶液:0.86份
·离子交换水:6.0份
以下示出上述保护层涂布液中所使用的无机层状化合物分散液(1)的制备法。
-无机层状化合物分散液(1)的制备-
向离子交换水193.6份添加合成云母(SOMASIF ME-100,Co-op Chemical Co.,Ltd.制造)6.4份,使用均质器分散至体积平均粒径(激光散射法)成为3μm。所获得的分散粒子的纵横比为100以上。
表2或表3中,化合物的种类栏中的“-”的记载表示不含该化合物。
并且,表2或表3中,LUMO、HOMO、化合物A与辐射吸收化合物的LUMO的差(eV)、或辐射吸收化合物与化合物B的HOMO的差(eV)栏中的“-”的记载,表示不含该化合物或者未进行HOMO或LUMO的计算。
而且,表2或表3中,化合物B栏中的(IR-2)~(IR-5)的记载,表示由于辐射吸收化合物相当于化合物B,因此未添加作为化合物B的新的化合物。
所谓第二以后的自由基峰值(ms),表示自由基产生量与时间的曲线上的、第二以后的峰值中面积值最大的峰值的峰值位置。
另外,本实施例中,LUMO、HOMO及第二以后的自由基峰值(ms)的值通过上述方法进行了计算或测定。
以下,记载表2或表3中以缩写的形式记载的化合物的详细内容。下述化学式中,Ph表示苯基。
[化学式32]
[化学式33]
[化学式34]
[化学式35]
<色调再现性(机上显影)的评价>
对于各实施例及比较例中所获得的平版印刷版原版,通过搭载红外线半导体激光的Fujifilm Corporation制造的Luxel PLATESETTER T-6000III,在外鼓转速1,000rpm、激光输出70%、分辨率2,400dpi(dot per inch(每英寸点数),1inch=2.54cm)的条件下进行了曝光。曝光图像中包含实心图像及20μm点FM屏幕的50%网点图。
不对所获得的已曝光的平版印刷版原版进行显影处理,而安装于KOMORICorporation.制造的印刷机LITHRONE26的印版滚筒上。使供水辊相对于印版滚筒减速5%之后,使用Ecolity-2(Fujifilm Corporation制造)/自来水=2/98(容量比)的润版液和Space Color Fusion G黑色油墨(DIC CORPORATION制造),通过LITHRONE26的标准自动印刷启动方法供给润版液和油墨并进行机上显影之后,以每小时10,000张的印刷速度,在TOKUBISHI铜版(76.5kg)纸上印刷了500张。
将第500张印刷品的实心图像部的浓度(实心浓度)设为DS,将网点部的浓度设为DT,根据以下默里-戴维斯式(式M)导出了网点面积%。若网点面积%相较于使用了比较例1的平版印刷版原版的情况减少则设为A,在增加或相等的情况下设为B。
网点面积%=(1-10-DT)/(1-10-DS)×100式(M)
将评价结果记载于表4中。
<印刷耐久性(机上显影)的评价>
在进行上述色调再现性评价之后,进一步持续进行了印刷。随着印刷张数的增加,图像记录层逐渐磨损且油墨接受性下降,因此印刷纸中的油墨浓度下降。以相同曝光量进行了曝光的印刷版中,根据直至测定波长范围:400~700nm内的油墨的总光线反射浓度(测定装置:Videojet X-Rite K.K.制造,eXact)相较于印刷开始时下降0.1为止的印刷张数(印刷张数X),对印刷耐久性进行了评价。关于印刷耐久性评价,由将比较例1作为基准平版印刷版原版,以如下方式定义的相对印刷耐久性表示。相对印刷耐久性的数字越大,则表示印刷耐久性越高。
相对印刷耐久性=(使用目标平版印刷版原版时的印刷张数X)/(使用基准平版印刷版原版时的印刷张数X)×100
将评价结果记载于表4中。
<色调再现性(显影液显影)的评价>
对于各实施例或比较例中的平版印刷版原版,通过Creo公司制造的Trendsetter3244VX(搭载水冷式40W红外线半导体激光(830nm)),在输出9W、外鼓转速210rpm、分辨率2,400dpi的条件下进行了50%平网图像曝光。将照射时间设为2.38μ秒。接着,使用显影液,通过图2所示的结构的自动显影处理机,以预热部中的版面达到温度成为100℃的加热器设定、显影液中的浸渍时间(显影时间)成为20秒的传送速度实施了显影处理。另外,显影液使用了下述显影液1。
<显影液1>
·表面活性剂-1(Kawaken Fine Chemicals Co.,Ltd.制造:Softazoline LPB-R):15份
·表面活性剂-2(Kawaken Fine Chemicals Co.,Ltd.制造:Softazoline LAO):4份
·螯合剂乙二胺二琥珀酸三钠(InnoSpec specialty chemicals公司制造:Octaquest E30):0.68份
·2-溴-2-硝基丙烷-1,3二醇:0.025份
·2-甲基-4-异噻唑啉-3-酮:0.025份
·硅酮系消泡剂(GE TOSHIBA SILICON CO.,LTD.制造:TSA739):0.15份
·葡萄糖酸钠:1.5份
·碳酸钠:1.06份
·碳酸氢钠:0.52份
·水:77.04份
·pH:9.8
将所获得的平版印刷版安装于Heidelberger Druckmaschinen AG制造的印刷机SOR-M,并使用润版液(EU-3(Fujifilm Corporation制造的蚀刻液)/水/异丙醇=1/89/10(容量比))和TRANS-G(N)黑色油墨(Dainippon Ink and Chemicals,Inc.制造),以每小时6,000张的印刷速度进行了印刷。
将第500张印刷品的实心图像部的浓度(实心浓度)设为DS,将网点部的浓度设为DT,根据以下默里-戴维斯式(式M)导出了网点面积%。若网点面积%相较于使用了比较例1的平版印刷版原版的情况减少,则设为A,在增加或相等的情况下设为B。
网点面积%=(1-10-DT)/(1-10-DS)×100 式(M)
将评价结果记载于表4中。
<印刷耐久性(显影液显影)的评价>
在进行上述色调再现性评价之后,进一步持续进行了印刷。随着印刷张数的增加,图像记录层逐渐磨损且油墨接受性下降,因此印刷纸中的油墨浓度下降。以相同曝光量进行了曝光的印刷版中,根据直至测定波长范围:400~700nm内的油墨的总光线反射浓度(测定装置:Videojet X-Rite K.K.制造,eXact)相较于印刷开始时下降0.1为止的印刷张数(印刷张数X),对印刷耐久性进行了评价。关于印刷耐久性评价,由将比较例1作为基准平版印刷版原版,以如下方式定义的相对印刷耐久性表示。相对印刷耐久性的数字越大,则表示印刷耐久性越高。
相对印刷耐久性=(使用目标平版印刷版原版时的印刷张数X)/(使用基准平版印刷版原版时的印刷张数X)×100
将评价结果记载于表4中。
[表4]
表4中,由于比较例1的色调再现性(机上显影)及色调再现性(显影液显影)的结果为基准,因此记载为“-”。并且,比较例4中,无法通过显影形成网点,因此将印刷耐久性记载为“0”。
(实施例36及实施例37以及比较例5~比较例8)
<支撑体的制作>
<铝板>
含有Si:0.06质量%、Fe:0.30质量%、Cu:0.005质量%、Mn:0.001质量%、Mg:0.001质量%、Zn:0.001质量%、Ti:0.03质量%,剩余部分使用Al和不可避免的杂质的铝合金来制备熔液,在进行了熔液处理及过滤的基础上,通过DC铸造法(半连续铸造法)制作了厚度500mm、宽度1,200mm的铸块。通过表面切割机将表面切取成平均10mm的厚度之后,在550℃的条件下,均热保持约5小时,并降低至温度400℃的时刻,使用热轧机而形成为厚度2.7mm的轧制板。而且,使用连续退火机在500℃的条件下进行热处理之后,通过冷轧精加工成厚度0.24mm而获得了JIS 1050材的铝板。将该铝板制成宽度1,030mm之后,进行了以下所示的表面处理。
<表面处理>
表面处理是通过连续进行以下(b)~(j)的各种处理而进行的。
另外,各处理及水洗之后通过轧辊进行了排液。
(b)碱蚀刻处理
使用氢氧化钠浓度2.6质量%、铝离子浓度6.5质量%、温度70℃的水溶液,对在上述中获得的铝板进行了基于喷雾器的蚀刻处理而将铝板溶解了6g/m2。然后,进行了基于喷雾器的水洗。
(c)去污处理
用温度30℃的硝酸浓度1质量%水溶液(包含0.5质量%的铝离子。)进行基于喷雾器的去污处理,然后用喷雾器进行了水洗。去污处理中所使用的硝酸性水溶液使用了在硝酸性水溶液中使用交流进行电化学粗面化处理的工序的废液。
(d)电化学粗面化处理
使用60Hz的交流电压连续进行了电化学粗面化处理。此时的电解液为硝酸10.5g/L水溶液(包含5g/L的铝离子,且包含0.007质量%的铵离子。),且为液温50℃。交流电源波形为图4所示的波形,且使用电流值从零达到峰值为止的时间TP为0.8msec,duty比1:1,梯形的矩形波交流,将碳电极作为对电极来进行了电化学粗面化处理。辅助阳极使用了铁氧体。所使用的电解槽使用了图3所示的电解槽。电流密度以电流的峰值计为30A/dm2,电量以铝板为阳极时的电量的总和计为220C/dm2。使从电源流过的5%的电流向辅助阳极分流。然后,进行了基于喷雾器的水洗。
(e)碱蚀刻处理
使用氢氧化钠浓度26质量%、铝离子浓度6.5质量%的水溶液,在32℃的条件下对铝板进行基于喷雾器的蚀刻处理而将铝板溶解0.25g/m2,去除以使用前级交流进行了电化学粗面化处理时所生成的氢氧化铝为主体的污迹成分,并且溶解所生成的凹坑的边缘部分而使边缘部分平滑。然后,进行了基于喷雾器的水洗。
(f)去污处理
用温度30℃的硫酸浓度15质量%水溶液(包含4.5质量%的铝离子。)进行基于喷雾器的去污处理,然后用喷雾器进行了水洗。去污处理中所使用的硝酸性水溶液使用了在硝酸性水溶液中使用交流而进行电化学粗面化处理的工序的废液。
(g)电化学粗面化处理
使用60Hz的交流电压连续进行了电化学粗面化处理。此时的电解液为盐酸2.5g/L水溶液(包含5g/L的铝离子。),且温度为35℃。交流电源波形为图4所示的波形,且使用电流值从零达到峰值为止的时间TP为0.8msec,duty比1:1,梯形的矩形波交流,将碳电极作为对电极来进行了电化学粗面化处理。辅助阳极使用了铁氧体。所使用的电解槽使用了图3所示的电解槽。电流密度以电流的峰值计为25A/dm2、电量以铝板为阳极时的电量的总和计为50C/dm2。然后,进行了基于喷雾器的水洗。
(h)碱蚀刻处理
使用氢氧化钠浓度26质量%、铝离子浓度6.5质量%的水溶液,在32℃的条件下对铝板进行基于喷雾器的蚀刻处理而将铝板溶解0.1g/m2,去除以使用前级交流进行了电化学粗面化处理时所生成的氢氧化铝为主体的污迹成分,并且溶解所生成的凹坑的边缘部分而使边缘部分平滑。然后,进行了基于喷雾器的水洗。
(i)去污处理
用温度60℃的硫酸浓度25质量%水溶液(包含0.5质量%的铝离子。)进行基于喷雾器的去污处理,然后进行了基于喷雾器的水洗。
(j)阳极氧化处理
使用图3所示的结构的阳极氧化装置进行阳极氧化处理而获得了实施例36及实施例37以及比较例5~比较例8的平版印刷版用支撑体。作为向第一电解部及第二电解部供给的电解液,使用了硫酸。电解液均为硫酸浓度170g/L(包含0.5质量%的铝离子。),且温度为38℃。然后,进行了基于喷雾器的水洗。最终的氧化覆膜量为2.7g/m2。
接着,涂布下述底涂层用涂布液(2),以使干燥涂布量成为15mg/m2,而制作了以下实验中所使用的支撑体。
<底涂层用涂布液(2)>
·下述结构的底涂层用化合物(2):0.18份
·乙二胺四乙酸四钠:0.10份
·聚氧乙烯十二烷基醚:0.03份
·水:61.39份
[化学式36]
另外,上述底涂层用化合物(2)中的各构成单元的括号右下侧的数值表示质量比,并且乙烯氧基单元的括号右下侧的数值表示重复数量。
<平版印刷版原版的制作>
(3)图像记录层的形成
在如上述那样形成的支撑体上的底涂层上棒涂下述组成的图像记录层涂布液(2)之后,在100℃的条件下烘干60秒而形成了干燥涂布量1.0g/m2的图像记录层。
图像记录层涂布液(2)通过即将进行涂布之前将下述感光液(2)及微凝胶液(2)进行混合并搅拌来获得。
<感光液(2)>
·粘合剂聚合物(2):0.480份〔下述结构,Mw:50,000,n:环氧乙烷(EO)单元数=4〕
·辐射吸收化合物:0.030份
·表5中所记载的化合物A:表5中所记载的量
·表5中所记载的化合物B:表5中所记载的量
·自由基聚合性化合物:0.192份、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯(NK酯A-9300,Shin-Nakamura Chemical CO.,Ltd.制造)
·低分子亲水性化合物:0.052份
三(2-羟基丁基)异氰脲酸酯
·低分子亲水性化合物(1):0.099份
·增感剂:0.12份、鏻化合物(1)〔上述结构〕
·增感剂:0.035份、含铵基聚合物(1)〔上述结构〕
·增感剂:0.032份、苄基-二甲基-辛基铵·PF6盐
·着色剂乙基紫〔下述结构〕:0.030份
·氟系表面活性剂(1):0.02份〔上述结构〕
·2-丁酮:1.091份
·1-甲氧基-2-丙醇:8.609份
<微凝胶液(2)>
·微凝胶(2):1.580份
·蒸馏水:1.455份
[化学式37]
另外,Me表示甲基,上述粘合剂聚合物(2)的各构成单元的括号的右下方的数字表示摩尔比。
[化学式38]
上述微凝胶(2)的合成法如下所示。
-微凝胶(2)的合成-
作为油相成分,将三羟甲基丙烷与二甲苯二异氰酸酯的加成体(MITSUICHEMICALS POLYURETHANES,INC.制造,Takenate D-110N)10份、二新戊四醇五丙烯酸酯(Sartomer Japan Inc.制造,SR399)5.54份及PIONIN A-41C(TAKEMOTO OIL&FAT CO.,LTD制造)0.1份溶解在乙酸乙酯17份中。作为水相成分制备了PVA-205的4质量%水溶液40份。将油相成分及水相成分进行混合,并使用均质器以12,000rpm乳化了10分钟。将所获得的乳化物添加到蒸馏水25份中,在室温(25℃,以下相同)下搅拌30分钟之后,在50℃的条件下搅拌了3小时。使用蒸馏水进行稀释以使如此获得的微凝胶液的固体成分浓度成为15质量%而将其作为上述微凝胶(2)。通过光散射法对微凝胶的平均粒径进行测定的结果,平均粒径为0.2μm。
(4)保护层的形成
各实施例或比较例中,在上述图像记录层上进一步棒涂下述组成的保护层涂布液(2)之后,在120℃的条件下烘干60秒而形成了干燥涂布量为0.15g/m2的保护层。
另外,表5中,关于在保护层栏中记载为“无”的例子,未进行保护层的形成。
<保护层涂布液(2)>
·上述无机层状化合物分散液(1):1.5份
·亲水性聚合物(1):0.55份、〔下述结构、Mw:3万〕
·聚乙烯醇(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.制造,CKS50,磺酸改性,皂化度为99摩尔%以上,聚合度为300)6质量%水溶液:0.10份
·聚乙烯醇(KURARAY CO.,LTD.制造的PVA-405,皂化度为81.5摩尔%,聚合度为500)6质量%水溶液:0.03份
·表面活性剂(商品名称:RAPISOL A-80,NOF CORPORATION.制造)80质量%水溶液:0.011份
·离子交换水:6.0份
[化学式39]
另外,上述亲水性聚合物(1)的各构成单元的括号右下侧的数字表示摩尔比。
表5中,化合物的种类栏中的“-”的记载表示不含该化合物。
并且,表5中,LUMO、HOMO、化合物A与辐射吸收化合物的LUMO的差(eV)、或辐射吸收化合物与化合物B的HOMO的差(eV)栏中的“-”的记载,表示不含该化合物或者未进行HOMO或LUMO的计算。
<色调再现性(显影液显影)的评价>
〔曝光〕
对于实施例35及实施例36或比较例5~比较例8的平版印刷版原版,通过搭载红外线半导体激光的Fujifilm Corporation制造的Luxel PLATESETTER T-6000III,在外鼓转速1,000rpm、激光输出70%、分辨率2,400dpi(dot per inch,1inch=2.54cm)的条件下进行了曝光。曝光图像中包含实心图像及20μm点FM屏幕的50%网点图。
〔显影处理〕
接着,平版印刷版原版使用图2中所例示的显影处理机实施了显影处理。在此,所谓“显影处置”,是指除了图像形成层的显影以外还包含选自包含保护层的去除、涂胶及干燥的组中的1个以上的处理的复合处理。
关于显影处理中所使用的处理液,使用了下述组成的处理液(1)或处理液(2)中记载于表5中的处理液。
<处理液(1)>
·pH=8.4
·PELEX NBL(烷基萘磺酸钠,Kao Corporation制造的阴离子表面活性剂):2.5质量%
·NEWCOL B13(聚氧乙烯芳基醚,Nippon Nyukazai Co,Ltd.制造的非离子表面活性剂):2.0质量%
·苄基醇(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造):0.6质量%
·磷酸氢二钠(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造):0.3质量%
·碳酸氢钠(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造):0.225质量%
·葡萄糖酸钠(FUSO CHEMICAL CO.,LTD制造):3.0质量%
·消泡剂(聚二甲基硅氧烷,Bluestar Silicones公司制造的SILCOLAPSE432):0.002质量%
·水91.373质量%
<处理液(2)>
·pH=8.4
·PELEX NBL(烷基萘磺酸钠,Kao Corporation制造的阴离子表面活性剂):2.5质量%
·LUGALVAN BNO24(聚氧乙烯芳基醚,BASF公司制造的非离子表面活性剂):2.0质量%
·苄基醇(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造):0.6质量%
·磷酸氢二钠(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造):0.3质量%
·碳酸氢钠(Wako Pure Chemical Industries,Ltd.制造):0.225质量%
·葡萄糖酸钠(FUSO CHEMICAL CO.,LTD制造):3.0质量%
·消泡剂(聚二甲基硅氧烷,Bluestar Silicones公司制造的SILCOLAPSE432):0.002质量%
·水:91.373质量%
图2中所记载的显影处理机为具有2个旋转刷辊11的自动处理机。作为旋转刷辊11,对于第一个旋转刷辊11,使用植入了聚对苯二甲酸丁二醇酯制纤维(毛的直径为200μm,毛的长度为17mm)且外径为90mm的刷辊,沿与传送方向相同的方向每分钟旋转了200次(刷子的前端的周速为0.94m/秒)。并且,对于第二个旋转刷辊11,使用植入了聚对苯二甲酸丁二醇酯制纤维(毛的直径为200μm,毛的长度为17mm)且外径为60mm的刷辊,沿与传送方向相反的方向每分钟旋转了200次(刷子的前端的周速为0.63m/秒)。关于已曝光的平版印刷版原版30的传送,以平版印刷版原版30通过旋转刷辊11和与其对置的接纳辊12之间的方式,在三对传送辊13之间沿所图示的传送方向,从供版台18至排版台19,在中途设置的传送导板14上以100cm/分钟的传送速度进行。
通过循环泵21,将利用管路16通过滤波器17而储藏在处理液罐20中的处理液供给到4个部位的喷管15中,并从各喷管15通过淋浴供给到版面上。另外,处理液罐20的容量为10升,并循环使用了处理液。从显影处理机排出的平版印刷版无需水洗而通过烘干机22进行了干燥。
本公开中所使用的旋转刷辊的旋转方向可以是与本公开所涉及的平版印刷版原版的传送方向相同的方向,也可以是与其相反的方向。而且,使旋转刷辊沿刷辊的旋转轴向摆动,这对于显影是有效的。
将所获得的平版印刷版安装于Heidelberger Druckmaschinen AG制造的印刷机SOR-M,并使用润版液(EU-3(Fujifilm Corporation制造的蚀刻液)/水/异丙醇=1/89/10(容量比))和TRANS-G(N)黑色油墨(Dainippon Ink and Chemicals,Inc.制造),以每小时6,000张的印刷速度进行了印刷。
将第500张印刷品的实心图像部的浓度(实心浓度)设为DS,将网点部的浓度设为DT,根据以下默里-戴维斯式(式M)导出了网点面积%。若网点面积%相较于使用了比较例5的平版印刷版原版的情况减少则设为A,在增加或相等的情况下设为B。
网点面积%=(1-10-DT)/(1-10-DS)×100式(M)
将评价结果记载于表6中。
<印刷耐久性(显影液显影)的评价>
在进行上述色调再现性评价之后,进一步持续进行了印刷。随着印刷张数的增加,图像记录层逐渐磨损且油墨接受性下降,因此印刷纸中的油墨浓度下降。以相同曝光量进行了曝光的印刷版中,根据直至测定波长范围:400~700nm内的油墨的总光线反射浓度(测定装置:Videojet X-Rite K.K.制造,eXact)相较于印刷开始时下降0.1为止的印刷张数(印刷张数X),对印刷耐久性进行了评价。关于印刷耐久性评价,由将比较例5作为基准平版印刷版原版,以如下方式定义的相对印刷耐久性表示。相对印刷耐久性的数字越大,则表示印刷耐久性越高。
相对印刷耐久性=(使用目标平版印刷版原版时的印刷张数X)/(使用基准平版印刷版原版时的印刷张数X)×100
将评价结果记载于表6中。
[表6]
表6中,由于比较例5的色调再现性(显影液显影)的结果是基准,因此记载为“-”。
符号说明
11-旋转刷辊,12-接纳辊,13-传送辊,14-传送导板,15-喷管,16-管路,17-过滤器,18-供版台,19-排版台,20-处理液罐,21-循环泵,22-烘干机,30-平版印刷版原版,32-传送方向,211-铝板,212-径向鼓辊,213a、213b-主极,214-电解处理液,215-电解液供给口,216-狭缝,217-电解液通路,218-辅助阳极,219a、219b-晶闸管,220-交流电源,240-主电解槽,250-辅助阳极槽。
Claims (13)
1.一种平版印刷版原版,其包含:
支撑体;及
图像记录层,包含自由基引发剂、自由基聚合性成分及辐射吸收化合物,且在图像形成辐射暴露后的自由基产生量与时间的曲线上具有2个以上的自由基产生量的峰值,
所述自由基引发剂包含供电子型自由基引发剂及受电子型自由基引发剂,
所述辐射吸收化合物包含由下述式1表示的化合物:
式1中,R1表示R1-X键通过图像形成辐射暴露而开裂的基团,X表示-S-或-NRN-,RN表示烃基,R2及R3分别独立地表示氢原子或烷基,R2及R3任选地相互连结而形成环,Ar1及Ar2分别独立地表示形成苯环的基团或形成萘环的基团,Y1及Y2分别独立地表示氧原子、硫原子、-NR0-或二烷基亚甲基,R4及R5分别独立地表示烷基,R6~R9分别独立地表示氢原子或烷基,R0表示氢原子、烷基或芳基,Za表示中和电荷的抗衡离子。
2.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中,
所述式1中,X表示-S-。
3.根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版,其中,
所述辐射吸收化合物为分解型辐射吸收化合物。
4.根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版,其中,
所述供电子型自由基引发剂包含硼酸盐化合物。
5.根据权利要求4所述的平版印刷版原版,其中,
所述硼酸盐化合物包含1个以上的具有吸电子基的芳基。
6.根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版,其中,
所述受电子型自由基引发剂包含碘鎓盐。
7.根据权利要求6所述的平版印刷版原版,其中,
所述碘鎓盐具有供电子性基团来作为取代基。
8.根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版,其中,
所述自由基产生量的峰值中所包含的、在图像形成辐射暴露后相对于时间而第一个产生的自由基产生量的峰值与第二个以后产生的自由基产生量的峰值中的至少一个的峰值间隔为40ms以上。
9.根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版,其中,
所述供电子型自由基引发剂的最高占据分子轨道与所述辐射吸收化合物的最高占据分子轨道之差为0.61eV以上。
10.根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版,其中,
所述受电子型自由基引发剂的最低未占分子轨道与辐射吸收化合物的最低未占分子轨道之差为0.90eV以下。
11.根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版,其能够通过选自润版液及印刷油墨组成的组中的至少一者来去除所述图像记录层。
12.一种平版印刷版的制版方法,其包括:
将权利要求1至11中任一项所述的平版印刷版原版曝光成图像状的工序;及
对于经曝光的所述平版印刷版原版,在pH为2~14的显影液的存在下,去除非图像部的图像记录层的工序。
13.一种平版印刷版的制版方法,其包括:
将权利要求1至11中任一项所述的平版印刷版原版曝光成图像状的工序;及
在印刷机上供给选自印刷油墨及润版液组成的组中的至少一者而去除非图像部的图像记录层的工序。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016223580 | 2016-11-16 | ||
JP2016-223580 | 2016-11-16 | ||
JP2017-080570 | 2017-04-14 | ||
JP2017080570 | 2017-04-14 | ||
PCT/JP2017/040319 WO2018092661A1 (ja) | 2016-11-16 | 2017-11-08 | 輻射線感光性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109952536A CN109952536A (zh) | 2019-06-28 |
CN109952536B true CN109952536B (zh) | 2022-07-08 |
Family
ID=62146307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201780070357.9A Active CN109952536B (zh) | 2016-11-16 | 2017-11-08 | 辐射感光性组合物、平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11370862B2 (zh) |
EP (1) | EP3543790B1 (zh) |
JP (1) | JP6792633B2 (zh) |
CN (1) | CN109952536B (zh) |
BR (1) | BR112019009802B1 (zh) |
WO (1) | WO2018092661A1 (zh) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BR112019022492A2 (pt) * | 2017-07-13 | 2020-05-12 | Fujifilm Corporation | Precursor de placa de impressão litográfica e método para produção de placa de impressão litográfica |
WO2020090995A1 (ja) * | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
WO2020090996A1 (ja) * | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
JP2020069790A (ja) * | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
JP2020069789A (ja) * | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
WO2020111259A1 (ja) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
WO2020158138A1 (ja) * | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
EP3900943A4 (en) | 2019-01-31 | 2022-05-25 | FUJIFILM Corporation | ORIGINAL PLATE OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, METHOD OF MAKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING |
US11185915B2 (en) | 2019-08-30 | 2021-11-30 | Applied Materials, Inc. | Deposition of reactive metals with protection layer for high volume manufacturing |
EP4112321A4 (en) * | 2020-02-28 | 2023-08-09 | FUJIFILM Corporation | ORIGINAL PLATE OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, METHOD OF MAKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING |
US11714354B2 (en) * | 2020-03-25 | 2023-08-01 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
EP4159460A4 (en) | 2020-05-29 | 2023-11-08 | FUJIFILM Corporation | LAMINATED BODY |
WO2021241457A1 (ja) * | 2020-05-29 | 2021-12-02 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
CN115697718A (zh) | 2020-05-29 | 2023-02-03 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
WO2022212032A1 (en) | 2021-04-01 | 2022-10-06 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
US20230314935A1 (en) | 2022-03-03 | 2023-10-05 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
EP4245542A1 (en) | 2022-03-18 | 2023-09-20 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method |
US20240069439A1 (en) | 2022-08-12 | 2024-02-29 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and method of use |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003005350A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | ネガ型平版印刷版の作製方法 |
CN101687407A (zh) * | 2007-05-31 | 2010-03-31 | 伊斯曼柯达公司 | 用于负性工作平版印刷板的可成像元件和方法 |
WO2013043421A2 (en) * | 2011-09-22 | 2013-03-28 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors |
JP2014024278A (ja) * | 2012-07-27 | 2014-02-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
WO2014050435A1 (ja) * | 2012-09-26 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
CN103814330A (zh) * | 2011-09-22 | 2014-05-21 | 伊斯曼柯达公司 | 阴图制版平版印刷板前体 |
CN103826856A (zh) * | 2011-09-28 | 2014-05-28 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版的制版方法 |
JP2014162156A (ja) * | 2013-02-26 | 2014-09-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及び、これを用いた製版方法 |
EP2778782A1 (en) * | 2013-03-13 | 2014-09-17 | Kodak Graphic Communications GmbH | Negative working radiation-sensitive elements |
Family Cites Families (98)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE540601A (zh) | 1950-12-06 | |||
BE606888A (zh) | 1960-08-05 | 1900-01-01 | ||
US3181461A (en) | 1963-05-23 | 1965-05-04 | Howard A Fromson | Photographic plate |
US3280734A (en) | 1963-10-29 | 1966-10-25 | Howard A Fromson | Photographic plate |
US3458311A (en) | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
ZA6807938B (zh) | 1967-12-04 | |||
JPS4841708B1 (zh) | 1970-01-13 | 1973-12-07 | ||
DE2064079C2 (de) | 1970-12-28 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
JPS5549729B2 (zh) | 1973-02-07 | 1980-12-13 | ||
DE2361041C3 (de) | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
US3902734A (en) | 1974-03-14 | 1975-09-02 | Twm Mfg Co | Frames for axle suspension systems |
JPS5311314B2 (zh) | 1974-09-25 | 1978-04-20 | ||
DE2822189A1 (de) | 1978-05-20 | 1980-04-17 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
DE2822190A1 (de) | 1978-05-20 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
DE3036694A1 (de) | 1980-09-29 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3048502A1 (de) | 1980-12-22 | 1982-07-22 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE3406101A1 (de) | 1984-02-21 | 1985-08-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern |
JP2525568B2 (ja) | 1985-01-18 | 1996-08-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光可溶化組成物 |
JP2655349B2 (ja) | 1989-05-18 | 1997-09-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JP2988756B2 (ja) | 1991-04-26 | 1999-12-13 | 協和醗酵工業株式会社 | 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物 |
JP2739395B2 (ja) | 1991-08-19 | 1998-04-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JP2907643B2 (ja) | 1992-07-16 | 1999-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版およびその処理方法 |
US5607813A (en) | 1993-01-20 | 1997-03-04 | Agfa-Gevaert, N.V. | Photopolymerizable composition of high sensitivity and method for obtaining images therewith |
JPH08108621A (ja) | 1994-10-06 | 1996-04-30 | Konica Corp | 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法 |
DE69620336T2 (de) | 1995-10-24 | 2002-10-24 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit Wasser als Entwickler |
DE69517174T2 (de) | 1995-10-24 | 2000-11-09 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung einer lithographische Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindenden Entwicklung |
DE69613078T2 (de) | 1995-11-09 | 2001-11-22 | Agfa Gevaert Nv | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit |
DE69608522T2 (de) | 1995-11-09 | 2001-01-25 | Agfa Gevaert Nv | Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit |
JPH09179296A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Mitsubishi Chem Corp | 光重合性組成物 |
JPH09179297A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Mitsubishi Chem Corp | 光重合性組成物 |
JPH09179298A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Mitsubishi Chem Corp | 光重合性組成物 |
JPH10282679A (ja) | 1997-04-08 | 1998-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性平版印刷版 |
JP3839552B2 (ja) | 1997-06-03 | 2006-11-01 | コダックポリクロームグラフィックス株式会社 | 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法 |
EP0931647B1 (en) | 1998-01-23 | 2003-04-02 | Agfa-Gevaert | A heat sensitive element and a method for producing lithographic plates therewith |
JP2000250211A (ja) | 1999-03-01 | 2000-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
JP2001133969A (ja) | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型平版印刷版原版 |
JP2001277740A (ja) | 2000-01-27 | 2001-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP2001277742A (ja) | 2000-01-27 | 2001-10-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
JP4092055B2 (ja) | 2000-02-09 | 2008-05-28 | 三菱製紙株式会社 | 感光性組成物および感光性平版印刷版材料 |
JP2001253181A (ja) | 2000-03-09 | 2001-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ポジ型感熱性平版印刷用原板 |
JP3449342B2 (ja) | 2000-03-30 | 2003-09-22 | 三菱化学株式会社 | 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法 |
JP2001322365A (ja) | 2000-05-16 | 2001-11-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱性平版印刷用原板 |
JP2002023360A (ja) | 2000-07-12 | 2002-01-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型画像記録材料 |
JP4156784B2 (ja) | 2000-07-25 | 2008-09-24 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料及び画像形成方法 |
JP2002202592A (ja) * | 2000-10-25 | 2002-07-19 | Mitsubishi Chemicals Corp | 近赤外レーザー露光用光重合性組成物及び光重合性平版印刷版 |
JP4319363B2 (ja) | 2001-01-15 | 2009-08-26 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
JP4414607B2 (ja) | 2001-03-14 | 2010-02-10 | 富士フイルム株式会社 | ラジカル重合性化合物 |
JP2002287344A (ja) | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性平版印刷版 |
WO2002087882A1 (fr) | 2001-04-26 | 2002-11-07 | Mitsubishi Chemical Corporation | Methode et dispositif de traitement et d'impression regeneratifs |
JP2002328465A (ja) | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2003064130A (ja) | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
JP3989270B2 (ja) | 2002-03-25 | 2007-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
EP1359008B1 (de) | 2002-04-29 | 2005-08-31 | Agfa-Gevaert | Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte |
DE10255663B4 (de) | 2002-11-28 | 2006-05-04 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Elemente |
JP4299032B2 (ja) | 2003-03-28 | 2009-07-22 | 三菱製紙株式会社 | 感光性平版印刷版材料 |
JP4139724B2 (ja) * | 2003-04-10 | 2008-08-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
ATE491968T1 (de) | 2003-07-22 | 2011-01-15 | Fujifilm Corp | Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren |
JP4644458B2 (ja) | 2003-09-30 | 2011-03-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP4351933B2 (ja) | 2004-03-05 | 2009-10-28 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法 |
JP4792253B2 (ja) | 2004-07-29 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
JP2006065210A (ja) | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP2006188038A (ja) | 2004-12-10 | 2006-07-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および製版方法 |
JP4469734B2 (ja) | 2005-02-03 | 2010-05-26 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP2006239867A (ja) | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP5172097B2 (ja) | 2005-02-28 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版原版の製造方法 |
JP2006243493A (ja) | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP4393408B2 (ja) | 2005-03-16 | 2010-01-06 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版 |
US7153632B1 (en) | 2005-08-03 | 2006-12-26 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive compositions and imageable materials |
JP4759343B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP5170960B2 (ja) | 2005-08-29 | 2013-03-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び平版印刷方法 |
JP2007094138A (ja) | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP2007206348A (ja) | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法 |
JP5238170B2 (ja) | 2006-03-14 | 2013-07-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4796890B2 (ja) | 2006-03-31 | 2011-10-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
JP2007293221A (ja) | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
US7524614B2 (en) | 2006-05-26 | 2009-04-28 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
JP2008195018A (ja) | 2007-02-15 | 2008-08-28 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP4826918B2 (ja) | 2007-04-03 | 2011-11-30 | 三菱化学株式会社 | 光重合性組成物 |
JP5046744B2 (ja) | 2007-05-18 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP2008284858A (ja) | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP5376844B2 (ja) | 2007-06-21 | 2013-12-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP2009090645A (ja) | 2007-09-20 | 2009-04-30 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP5322537B2 (ja) | 2007-10-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
US8084182B2 (en) * | 2008-04-29 | 2011-12-27 | Eastman Kodak Company | On-press developable elements and methods of use |
JP5449898B2 (ja) * | 2008-09-22 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
JP2010221692A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-10-07 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
US8257907B2 (en) | 2009-06-12 | 2012-09-04 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements |
JP5622484B2 (ja) * | 2009-08-20 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 発色感光性組成物、平版印刷版原版及び新規シアニン色素 |
WO2011115125A1 (ja) * | 2010-03-19 | 2011-09-22 | 富士フイルム株式会社 | 発色感光性組成物、平版印刷版原版及びその製版方法 |
JP5579217B2 (ja) | 2012-03-27 | 2014-08-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
CN104619512A (zh) * | 2012-09-20 | 2015-05-13 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及制版方法 |
JP6012870B2 (ja) * | 2013-07-18 | 2016-10-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
US9201302B2 (en) * | 2013-10-03 | 2015-12-01 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor |
BR112017003349B1 (pt) * | 2014-08-22 | 2022-12-20 | Fujifilm Corporation | Composto, composição de desenvolvimento de cor, precursor de placa de impressão litográfica e método para produção de placa para placa de impressão litográtfica |
BR112017006649A2 (pt) | 2014-09-30 | 2017-12-26 | Fujifilm Corp | precursor da placa de impressão planográfica, e, métodos de produção de um precursor da placa de impressão planográfica e de impressão |
JP6523981B2 (ja) * | 2016-01-29 | 2019-06-05 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法 |
WO2017141882A1 (ja) | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 富士フイルム株式会社 | 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び発色性化合物 |
BR112019003802B1 (pt) * | 2016-08-31 | 2022-12-20 | Fujifilm Corporation | Composição de revelação de cor, precursor de placa de impressão planográfica, método para produção de placa de impressão planográfica e composto |
-
2017
- 2017-11-08 BR BR112019009802-0A patent/BR112019009802B1/pt active IP Right Grant
- 2017-11-08 CN CN201780070357.9A patent/CN109952536B/zh active Active
- 2017-11-08 EP EP17872234.4A patent/EP3543790B1/en active Active
- 2017-11-08 WO PCT/JP2017/040319 patent/WO2018092661A1/ja unknown
- 2017-11-08 JP JP2018551587A patent/JP6792633B2/ja active Active
-
2019
- 2019-05-12 US US16/409,856 patent/US11370862B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003005350A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | ネガ型平版印刷版の作製方法 |
CN101687407A (zh) * | 2007-05-31 | 2010-03-31 | 伊斯曼柯达公司 | 用于负性工作平版印刷板的可成像元件和方法 |
WO2013043421A2 (en) * | 2011-09-22 | 2013-03-28 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursors |
CN103814330A (zh) * | 2011-09-22 | 2014-05-21 | 伊斯曼柯达公司 | 阴图制版平版印刷板前体 |
CN103826856A (zh) * | 2011-09-28 | 2014-05-28 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版的制版方法 |
JP2014024278A (ja) * | 2012-07-27 | 2014-02-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
WO2014050435A1 (ja) * | 2012-09-26 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
JP2014162156A (ja) * | 2013-02-26 | 2014-09-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、及び、これを用いた製版方法 |
EP2778782A1 (en) * | 2013-03-13 | 2014-09-17 | Kodak Graphic Communications GmbH | Negative working radiation-sensitive elements |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018092661A1 (ja) | 2018-05-24 |
JP6792633B2 (ja) | 2020-11-25 |
CN109952536A (zh) | 2019-06-28 |
JPWO2018092661A1 (ja) | 2019-08-08 |
EP3543790A1 (en) | 2019-09-25 |
EP3543790A4 (en) | 2019-12-11 |
EP3543790B1 (en) | 2023-12-13 |
US11370862B2 (en) | 2022-06-28 |
BR112019009802B1 (pt) | 2022-12-13 |
BR112019009802A2 (pt) | 2019-08-13 |
US20190329545A1 (en) | 2019-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109952536B (zh) | 辐射感光性组合物、平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法 | |
CN111655503B (zh) | 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 | |
JP7062635B2 (ja) | 硬化性組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物 | |
CN110678335B (zh) | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法、聚合物粒子及组合物 | |
JP2009516221A (ja) | 平版印刷版の製造方法 | |
JP2009516222A (ja) | 平版印刷版の製造方法 | |
JP6956787B2 (ja) | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、有機ポリマー粒子、及び、感光性樹脂組成物 | |
JPWO2016136655A1 (ja) | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、印刷方法 | |
CN110891797B (zh) | 平版印刷版的制作方法 | |
CN111683820B (zh) | 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 | |
EP2888630B1 (en) | Negative-working lithographic printing plate precursors and use | |
CN110719847B (zh) | 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 | |
CN110691701A (zh) | 平版印刷版原版、平版印刷版原版制作用树脂组合物及平版印刷版的制作方法 | |
CN111670121B (zh) | 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 | |
EP3191895B1 (en) | Method for making lithographic printing plates | |
WO2018043124A1 (ja) | 平版印刷版の製版方法、及び平版印刷用湿し水 | |
JPWO2018159087A1 (ja) | 平版印刷版の作製方法 | |
CN111148638B (zh) | 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |