BR112019009802A2 - composição sensível à radiação, precursor de placa de impressão planográfica e método de fabricação de placa para placa de impressão planográfica - Google Patents

composição sensível à radiação, precursor de placa de impressão planográfica e método de fabricação de placa para placa de impressão planográfica Download PDF

Info

Publication number
BR112019009802A2
BR112019009802A2 BR112019009802A BR112019009802A BR112019009802A2 BR 112019009802 A2 BR112019009802 A2 BR 112019009802A2 BR 112019009802 A BR112019009802 A BR 112019009802A BR 112019009802 A BR112019009802 A BR 112019009802A BR 112019009802 A2 BR112019009802 A2 BR 112019009802A2
Authority
BR
Brazil
Prior art keywords
group
compound
printing plate
radiation
planographic printing
Prior art date
Application number
BR112019009802A
Other languages
English (en)
Other versions
BR112019009802B1 (pt
Inventor
Kudo Kotaro
Tsumura Kyosuke
Shibamoto Tadao
Murakami Taira
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of BR112019009802A2 publication Critical patent/BR112019009802A2/pt
Publication of BR112019009802B1 publication Critical patent/BR112019009802B1/pt

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/282—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety and containing two or more oxygen atoms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/04—Intermediate layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/10—Developable by an acidic solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

são fornecidos uma composição sensível à radiação incluindo: um iniciador radical; um componente polimerizável por radical; e um composto de absorção de radiação, em que a composição mostra dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical em uma curva de quantidade versus tempo de geração de radical após à exposição à radiação formadora de imagem; um precursor de placa de impressão planográfica incluindo: um suporte, e uma camada de gravação de imagem que contém um iniciador radical, um componente polimerizável por radical e um composto de absorção de radiação, e em que a camada de gravação de imagem mostra dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical em uma curva de quantidade versus tempo de geração de radical após à exposição à radiação formadora de imagem; e um método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica utilizando o precursor de placa de impressão planográfica.

Description

“COMPOSIÇÃO SENSÍVEL À RADIAÇÃO, PRECURSOR DE PLACA DE IMPRESSÃO PLANOGRÁFICA E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE PLACA PARA PLACA DE IMPRESSÃO PLANOGRÁFICA”
FUNDAMENTOS DA INVENÇÃO
1. Campo da Invenção [001 ]A presente divulgação refere-se a uma composição sensível à radiação, um precursor de placa de impressão planográfica e um método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica.
2. Descrição da Técnica Relacionada [002]Uma placa de impressão planográfica é tipicamente formada por uma área de imagem lipofílica que recebe tinta durante o processo de impressão e uma área sem imagem hidrofílica que recebe água de umedecimento.
[003]A impressão planográfica é um método de impressão uma imagem ajustando-se uma área de imagem lipofílica de uma placa de impressão planográfica como uma unidade receptora de tinta e uma área sem imagem hidrofílica como uma unidade receptora de água de umedecimento (unidade não receptora de tinta) utilizando-se a propriedade em que a água e a tinta oleosa se repelem, causando uma diferença na adesividade da tinta na superfície da placa de impressão planográfica, imprimindo a tinta apenas em uma área de imagem, e transferindo a tinta para um meio de impressão tal como papel.
[004]Correntemente, em uma etapa de fabricação de placa de preparar uma placa de impressão planográfica de um precursor de placa de impressão planográfica, a exposição da imagem foi realizada utilizando uma tecnologia de computador para placa (CTP). Em outras palavras, a exposição da imagem é realizada por varredura e exposição direta de um precursor de placa de impressão planográfica utilizando um laser ou um diodo a laser sem utilizar uma película fotomecânica.
[005]A partir do interesse crescente no ambiente global, os problemas
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 8/145
2/136 ambientais relacionados a um líquido residual associado com tratamentos úmidos tal como um tratamento de revelação foram destacados em relação à fabicação de placas para um precursor de placa de impressão planográfica. Junto com isso, é desejado simplificar um tratamento de revelação ou não realizar um tratamento de revelação. Como um dos tratamentos de revelação simples, um método referido como “revelação na prensa” foi sugerido. A revelação na prensa é um método de exposição de imagem de um precursor de placa de impressão planográfica, montagem do precursor de placa de impressão planográfica em uma impressora sem realizar um tratamento de revelação úmido da técnica relacionada, e depois remover uma área sem imagem de uma camada de gravação de imagem, em um estágio inicial de uma etapa típica de impressão.
[006]Como precursores de placas de impressão planográficas da técnica relacionada, foram conhecidos aqueles descritos em US7524614B ou WO2016/052443A.
SUMÁRIO DA INVENÇÃO [007]No campo de um precursor de placa de impressão planográfica, é necessário que uma placa de impressão planográfica em que a força de uma camada de gravação de imagem é alta e o número de folhas que podem ser impressas é grande, em outras palavras, uma placa de impressão planográfica tendo excelente durabilidade de impressão, pode ser preparada.
[008]Por exemplo, em uma região que é desviada de uma posição central de irradiação de luz de laser utilizada para a exposição e é irradiada com um laser de baixa potência no campo de um precursor de placa de impressão planográfica, do ponto de vista de reprodutibilidade de tom (realce de definição) de uma placa de impressão planográfica a ser obtida, é necessário que a polimerização de um componente polimerizável por radical não prossiga e uma camada de gravação de imagem em tal região é removida por revelação.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 9/145
3/136 [009]Aqui, de modo a melhorar a durabilidade de impressão, é importante que a reação de polimerização prossiga eficientemente mesmo com uma pequena quantidade de radicais. Além disso, de modo a melhorar a reprodutibilidade de tom, é importante que a reação de polimerização não prossiga na irradiação com um laser de baixa potência.
[010]Em outras palavras, os mecanismos para obter dois efeitos de melhorar a durabilidade de impressão e melhorar a reprodutibilidade de tom são contraditórios entre si e é difícil obter ambos os efeitos.
[011]Um objetivo de uma modalidade da presente invenção é fornecer uma composição sensível à radiação da qual uma placa de impressão planográfica com excelente durabilidade de impressão e reprodutibilidade de tom é obtida.
[012]Um objetivo de uma outra modalidade da presente invenção é fornecer um precursor de placa de impressão planográfica da qual uma placa de impressão planográfica com excelente durabilidade de impressão e reprodutibilidade de tom é obtida.
[013]Um objetivo de uma outra modalidade da presente invenção é fornecer um método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica com excelente durabilidade de impressão e reprodutibilidade de tom.
[014]Os meios para alcançar os objetivos acima descritos incluem os seguintes aspectos.
<1> Uma composição sensível à radiação, compreendendo:
um iniciador radical;
um componente polimerizável por radical; e um composto de absorção de radiação, em que a composição sensível à radiação mostra dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical em uma curva de quantidade versus tempo de geração de radical após a exposição à radiação formadora de imagem.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 10/145
4/136 <2> A composição sensível à radiação de acordo com <1>, em que um intervalo de pico entre um pico da quantidade de geração de radical que é inicialmente gerada em relação ao tempo após a exposição à radiação formadora de imagem e pelo menos um dos picos da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado, entre os picos da quantidade de geração de radical, é de 40 ms ou maior.
<3> A composição sensível à radiação de acordo com <1> ou <2>, em que pelo menos um dos picos da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado em relação ao tempo após a exposição à radiação formadora de imagem, entre os picos da quantidade de geração de radical, é um pico derivado de um produto de decomposição do composto de absorção de radiação.
<4> A composição sensível à radiação, de acordo com qualquer um de <1 > a <3>, em que o iniciador radical contém um iniciador radical doador de elétrons, e o composto de absorção de radiação contém um composto que é decomponível para gerar um radical devido à exposição à radiação formadora de imagem.
<5> A composição sensível à radiação, de acordo com qualquer um de <1 > a <3>, em que o iniciador radical contém um iniciador radical doador de elétrons e um iniciador radical aceitante de elétrons.
<6> A composição sensível à radiação de acordo com <5>, em que uma diferença entre um orbital molecular ocupado mais alto do composto de absorção de radiação e um orbital molecular ocupado mais alto do iniciador radical doador de elétrons é de 0,61 eV ou maior.
<7> A composição sensível à radiação de acordo com <5> ou <6>, em que uma diferença entre um orbital molecular não ocupado mais baixo do iniciador radical aceitante de elétrons e um orbital molecular não ocupado mais baixo do composto de absorção de radiação é de 0,90 eV ou menor.
<8> Um precursor de placa de impressão planográfica, compreendendo:
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 11/145
5/136 um suporte; e uma camada de gravação de imagem que contém um iniciador radical, um componente polimerizável por radical e um composto de absorção de radiação, e em que a camada de gravação de imagem mostra dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical em uma curva de quantidade versus tempo de geração de radical após a exposição à radiação formadora de imagem.
<9> O precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com <8>, compreendendo ainda: uma camada protetora na camada de gravação de imagem.
<10> O precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com <8> ou <9>, em que um intervalo de pico entre um pico da quantidade de geração de radical que é inicialmente gerada em relação ao tempo após a exposição à radiação formadora de imagem e pelo menos um dos picos da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado, entre os picos da quantidade de geração de radical, é de 40 ms ou maior.
<11> O precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer um de <8> a <10>, em que pelo menos um dos picos da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado em relação ao tempo após a exposição à radiação formadora de imagem, entre os picos da quantidade de geração de radical, é um pico derivado de um produto de decomposição do composto de absorção de radiação.
<12> O precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer um de <8> a <11>, em que o iniciador radical contém um iniciador radical doador de elétrons, e o composto de absorção de radiação contém um composto que é decomponível para gerar um radical devido à exposição à radiação formadora de imagem.
<13> O precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer um de <8> a <11>, em que o iniciador radical contém um iniciador radical
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 12/145
6/136 doador de elétrons e um iniciador radical aceitante de elétrons.
<14> O precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com <13>, em que uma diferença entre um orbital molecular ocupado mais alto do iniciador radical doador de elétrons e um orbital molecular ocupado mais alto do composto de absorção de radiação é de 0,61 eV ou maior.
<15> O precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com <13> ou <14>, em que uma diferença entre um orbital molecular não ocupado mais baixo do iniciador radical aceitante de elétrons e um orbital molecular não ocupado mais baixo do composto de absorção de radiação é de 0,90 eV ou menor.
<16> O precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer um de <8> a <15>, compreendendo ainda: uma camada intermédia entre o suporte e a camada de gravação de imagem.
<17> O precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer um de <8> a <16>, em que o composto de absorção de radiação é um composto de absorção de infravermelho.
<18> O precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer um de <8> a <17>, em que a camada de gravação de imagem é removível por qualquer uma ou ambas de água de umedecimento e tinta de impressão.
<19> Um método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica, o método compreendendo as etapas de:
submeter o precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer um de <8> a <17>, à exposição de luz na forma de imagem; e remover uma área sem imagem de uma camada de gravação de imagem a partir do precursor de placa de impressão planográfica exposto na presença de um revelador tendo um pH de 2 a 14.
<20> Um método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica, o método compreendendo as etapas de:
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 13/145
7/136 submeter o precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer um de <8> a <18>, à exposição de luz na forma de imagem; e fornecer qualquer uma ou ambas de tinta de impressão e água de umedecimento em uma impressora para remover uma área sem imagem de uma camada de gravação de imagem.
[015]De acordo com uma modalidade da presente invenção, é possível fornecer uma composição sensível à radiação da qual uma placa de impressão planográfica com excelente durabilidade de impressão e reprodutibilidade de tom é obtida.
[016]De acordo com uma outra modalidade da presente invenção, é possível fornecer um precursor de placa de impressão planográfica da qual uma placa de impressão planográfica com excelente durabilidade de impressão e reprodutibilidade de tom é obtida.
[017]De acordo com ainda uma outra modalidade da presente invenção, é possível fornecer um método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica com excelente durabilidade de impressão e reprodutibilidade de tom.
BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS [018]A Fig. 1 é um gráfico que mostra um exemplo de uma curva de quantidade versus tempo de geração de radical para uma composição sensível à radiação de acordo com a presente divulgação.
[019]A Fig. 2 é uma vista esquemática que ilustra uma estrutura de um dispositivo de tratamento de revelação automático utilizado nos exemplos.
[020]A Fig. 3 é uma vista lateral que ilustra um exemplo de uma célula de tipo radial em um tratamento de rugosidade eletroquímico realizado utilizando uma corrente alternada na preparação de um precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a presente divulgação.
[021 ]A Fig. 4 é um gráfico que mostra um exemplo de um diagrama em forma
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 14/145
8/136 de onda de corrente alternada em forma de onda utilizado para um tratamento de rugosidade eletroquímico na preparação de um precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a presente divulgação.
DESCRIÇÃO DAS MODALIDADES PREFERIDAS [022]Em seguida, a presente divulgação será descrita em detalhes.
[023]Além disso, na presente especificação, a descrição de “um valor numérico xx para um valor numérico yy” indica um intervalo de valores numéricos incluindo xx e yy.
[024]Na presente especificação, “(met)acrila” indica ambos ou qualquer um de acrila ou metacrila, e “(met)acrilato” indica ambos ou qualquer um de acrilato ou metacrilato.
[025]Na presente especificação, “% em massa” tem a mesma definição como que para “% em peso”, e “parte(s) por massa” tem a mesma definição como que para “parte(s) em peso”. Além disso, na presente especificação, uma combinação de dois ou mais aspectos preferidos é um aspecto mais preferido.
[026]Na presente especificação, em um caso onde a substituição ou não substituição não é observada em relação à notação de um grupo em um composto representado por uma fórmula e o grupo pode ainda incluir um substituinte, o grupo inclui não apenas um grupo não substituído, mas também um grupo tendo um substituinte, a menos que de outro modo especificado. Por exemplo, na descrição de “R representa um grupo alquila, um grupo arila ou um grupo heterocíclico” relacionado a uma fórmula, esta sentença indica que “R representa um grupo alquila não substituído, um grupo alquila substituído, um grupo arila não substituído, um grupo arila substituído, um grupo heterocíclico não substituído ou um grupo heterocíclico substituído”.
[027]Na presente especificação, o termo “etapa” indica não apenas uma etapa independente, mas também uma etapa que não pode ser claramente distinguida de
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 15/145
9/136 outras etapas, desde que o propósito intencionado da etapa seja obtido.
(Composição sensível à radiação) [028]Uma composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação inclui um iniciador radical, um componente polimerizável por radical e um composto de absorção de radiação, e mostra dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical em uma curva de quantidade versus tempo de geração de radical após a exposição à radiação formadora de imagem.
[029]Além disso, é preferível que a composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação seja utilizada para formar uma camada de gravação de imagem de um precursor de placa de impressão planográfica.
[030]Como o resultado da pesquisa intensiva conduzida pelos presentes inventores, foi descoberto que tanto a melhoria da durabilidade de impressão quanto a melhoria da reprodutibilidade de tom são obtidas em um caso onde a composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação, um precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação ou um método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação, são utilizados.
[031 ]Os mecanismos detalhados para obter os efeitos acima descritos não são claros, mas podem ser considerados como se segue.
[032]Com a pesquisa intensiva conduzida pelos presentes inventores, foi descoberto que a geração de uma quantidade relativamente pequena de radicais por um longo período de tempo é preferível à geração de uma grande quantidade de radicais em um curto tempo em um caso onde as quantidades totais de geração de radicais são as mesmas umas das outras, porque a taxa de reação do componente polimerizável por radical é aumentada, a curabilidade da camada de gravação de imagem é melhorada e a durabilidade de impressão de uma placa de impressão
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 16/145
10/136 planográfica a ser obtida é melhorada.
[033]Consequentemente, foi descoberto que a durabilidade de impressão de uma placa de impressão planográfica a ser obtida é melhorada projetando-se a composição sensível à radiação ou o precursor de placa de impressão planográfica para ter dois ou mais picos da quantidade de geração de radical na curva de quantidade versus tempo de geração de radical no momento da exposição à radiação.
[034]Além disso, foi descoberto que é improvável que os radicais sejam gerados e a reprodutibilidade de tom de uma placa de impressão planográfica a ser obtida é melhorada em uma região onde tal composição sensível à radiação ou o precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação, é exposto à radiação formadora de imagem de baixa potência.
<Picos de quantidade de geração de radical>
[035]A curva de quantidade versus tempo de geração de radical tendo dois ou mais picos da quantidade de geração de radical após a exposição à radiação formadora de imagem é confirmada por medição com base em absorção nano transitória.
[036]A curva de quantidade versus tempo de geração de radical é uma curva obtida plotando-se o tempo no eixo horizontal e a quantidade de geração de radical no eixo vertical e conectando cada ponto plotado com uma linha reta.
[037]Especificamente, a composição sensível à radiação aplicada a um substrato de quartzo e depois seca ajustando-se a quantidade de revestimento seco para 1,19 g/m2 é irradiada com um pulso de laser de nanossegundo tendo um comprimento de onda utilizado como radiação formadora de imagem. Em sincronização com o pulso de laser de nanossegundo, a luz de laser (um comprimento de onda em que um radical a ser observado tem absorção) para um monitor é oscilada, e uma mudança no número de fóton da luz de laser para um monitor com o passar do tempo é detectada por um tubo fotomultiplicador (PMT) de modo que a
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 17/145
11/136 medição é realizada utilizando uma medição técnica utilizando um osciloscópio.
[038]A medição é realizada na temperatura ambiente (25 °C), e milissegundo (ms) é utilizado como a escala do tempo de medição.
[039]O revestimento é realizado de acordo com um método de revestimento por barra, e a secagem é realizada em um forno. A temperatura e o tempo de secagem da composição em um forno pode ser determinado dependendo da composição sensível à radiação. Por exemplo, a composição pode ser seca a 120 °C por 40 segundos.
[040]Em um caso onde um composto de absorção de radiação do tipo decomposição descrito abaixo é utilizado como o composto de absorção de radiação, é preferível que a temperatura de secagem seja ajustada para ser menor ou igual ou igual à temperatura de decomposição do composto de absorção de radiação do tipo decomposição.
[041 ]Na curva de quantidade versus tempo de geração de radical obtida pela medição acima descrita, um pico imediatamente após a exposição é ajustado para 0 ms, e uma faixa a partir de 15 ms é extraída, e uma curva de atenuação é uma curva ajustada utilizando uma função exponencial representada pela Equação C. O pico ajustado é ajustado como um pico (primeiro pico) da quantidade de geração de radical que é inicialmente gerada.
I = Io exp (-t/τ) (Equação C) [042]Io representa uma quantidade de geração de radical imediatamente após a exposição (t = 0), I representa uma quantidade de geração de radical no tempo t, e τ representa um tempo de vida do radical.
[043]O primeiro pico é subtraído da curva de quantidade versus tempo de geração de radical, e os picos remanescentes são ajustados como picos da quantidade de geração de radical a ser gerada após o pico inicialmente gerado (picos após o pico inicialmente gerado).
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 18/145
12/136 [044]Uma pluralidade de picos após o pico inicialmente gerado pode estar presente.
[045]A Fig. 1 mostra um exemplo de uma curva de quantidade versus tempo de geração de radical para uma composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação.
[046]A Fig. 1 mostra que o pico (primeiro pico) da quantidade de geração de radical que é inicialmente gerada imediatamente após a exposição (0 ms) está presente e uma pluralidade de picos (picos após o pico inicialmente gerado) da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado estão presentes em uma região (50 ms a 200 ms) delimitada pela linha pontilhada.
[047]Além disso, a composição da composição sensível à radiação utilizada na medição é como listada na seguinte tabela.
[Tabela 1]
Quantidade de Revestimento (g/m2)
NK ESTER A-9300-40M 0,2066
Composto 1-1 0,2025
Composto 1-2 0,0099
Composto 1-3 0,0233
Composto 1-4 0,0278
Composto 1-5 0,1838
Composto 1-6 0,0450
Hoku-boron-NA (TPB) 0,0094
TINUVIN 405 0,0400
Composto hidrofílico de baixo peso molecular (1) 0,0599
AMINOCOAT 0,0047
TANAC 0,0387
Microgel (1) 0,3308
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 19/145
13/136
F781F (10 % (aq)) 0,0040
[048]As abreviações na tabela são como a seguir.
• NK ESTER A-9300-40M: tris(acriloiloxietil)isocianurato, (NK ESTER A-9300, fabricado pela Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) • Composto 1-1: composto 1-1 com a seguinte estrutura • Composto 1-2: composto 1-2 com a seguinte estrutura • Composto 1-3: composto 1-3 com a seguinte estrutura • Composto 1-4: composto 1-4 com a seguinte estrutura • Composto 1-5: composto 1-5 com a seguinte estrutura • Composto 1-6: composto 1-6 com a seguinte estrutura • Hoku-boron-NA (TPB): tetrafenil borato de sódio (fabricado pela Hokko Chemical Industry Co., Ltd.) • TINUVIN 405 (UV-528): produto da reação de 2-(2,4-di-hidroxifenil)-4,6-bis(2,4-dimetilfenil)-1,3,5-triazina e éster de ácido (2-etilhexil)-glicídico (fabricado pela BASF SE) • AMINOCOAT: trimetil glicina (fabricado pela Asahi Kasei Corporation) • TANAC: isocianurato de tris(2-hidroxietila) • Microgel (1): microgel obtido utilizando o seguinte método de preparação • F781F (10 % (aq)): tensoativo à base de flúor (fabricado pela DIC Corporation) [049]As estruturas dos compostos 1-1 a 1-6 e um composto hidrofílico de baixo peso molecular (1) são mostradas abaixo. Além disso, Me representa um grupo metila, e cada número no lado inferior direito dos parênteses de cada unidade constitucional do seguinte polímero indica a razão molar.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 20/145
14/136
Composto 1-2
Composto 1-3
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 21/145
15/136
Composto 1-5
Composto 1-6
Composto hidrofílico de baixo peso molecular (1) [050]Um método de preparar o microgel (1) é descrito abaixo.
- Preparação de composto de isocianato polivalente (1) [051 ]0,043 partes de tris(2-etilhexanoato) de bismuto (NEOSTANN U-600 (fabricado pela NITTO KASEI CO., LTD.)) é adicionado a uma solução em suspensão de acetato de etila (25,31 partes) de 17,78 partes (80 mmol) de di-isocianato isoforona e 7,35 partes (20 mmol) do seguinte composto de fenol poli-hídrico (1) e a solução é agitada. A temperatura de reação é ajustada para 50 °C no momento da geração de calor sendo diminuída, e a solução é agitada por 3 horas, obtendo, assim, uma solução
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 22/145
16/136 de acetato de etila (50 % em massa) de um composto de isocianato polivalente (1).
Composto fenol poli-hidrico (1)
- Preparação de microgel (1) [052]Os seguintes componentes da fase oleosa e componentes da fase aquosa são misturados e emulsificados a 12.000 rpm per 10 minutos utilizando um homogeneizador. A emulsão obtida é agitada a 45 °C por 4 horas, 5,20 partes de uma solução aquosa a 10 % em massa de 1,8-diazabiciclo[5,4,0]undeca-7-eno-octilato (UCAT SA102, fabricado pela San-Apro Ltd.) é adicionado à mesma, e a solução é agitada na temperatura ambiente por 30 minutos e deixada para repousar a 45 °C por 24 horas. A concentração de teor de sólidos é ajustada para 20 % em massa utilizando água destilada, obtendo, assim, uma dispersão aquosa do microgel (1). O número de médio diâmetro de partícula desta é medido utilizando um dispositivo de medição de distribuição de tamanho de partícula tipo dispersão por difração a laser (LA-920, fabricado pela Horiba Ltd.) de acordo com um método de dispersão de luz, e o valor é 0,28 pm.
[053]Na composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação, do ponto de vista de melhorar a durabilidade de impressão, um
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 23/145
17/136 intervalo de pico entre um pico da quantidade de geração de radical que é inicialmente gerada em relação ao tempo após a exposição à radiação formadora de imagem e pelo menos um dos picos da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado, entre os picos da quantidade de geração de radical, é preferivelmente 30 ms ou maior, mais preferivelmente 40 ms ou maior, ainda mais preferivelmente em uma faixa de 40 ms a 500 ms e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 50 ms a 300 ms.
[054]Na composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação, do ponto de vista de alcançar tanto a durabilidade de impressão quanto a reprodutibilidade de tom, é preferível que pelo menos um dos picos da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado em relação ao tempo após a exposição à radiação formadora de imagem, entre os picos da quantidade de geração de radical, seja um pico derivado de um produto de decomposição do composto de absorção de radiação.
[055]Por exemplo, em um caso onde a composição sensível à radiação contém um composto de absorção de radiação do tipo decomposição descrito abaixo, pelo menos um dos picos da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado em relação ao tempo se torne um pico derivado de um produto de decomposição do composto de absorção de radiação.
[Radiação formadora de imagem] [056]Exemplos da radiação formadora de imagem de acordo com a presente divulgação incluem luz infravermelha, luz visível, ultravioleta luz e feixes de elétrons, mas a luz infravermelha é preferível e a luz infravermelha tendo um comprimento de onda de 750 nm a 1400 nm é mais preferível.
[057]Em outras palavras, é preferível que o composto de absorção de radiação contido na composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação é um composto de absorção de infravermelho.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 24/145
18/136 [058]Na presente divulgação, o composto de absorção de infravermelho indica um composto tendo um comprimento de onda de absorção máxima a um comprimento de onda de 750 nm a 1400 nm.
[059]Como uma fonte de luz da radiação formadora de imagem de acordo com a presente divulgação, uma fonte de luz tendo um comprimento de onda de emissão entre uma região próxima do infravermelho a uma região infravermelha é preferível, e um laser em estado sólido ou um laser semicondutor é mais preferível. Entre os exemplos, na presente divulgação, é particularmente preferível que a exposição da imagem seja realizada por um laser em estado sólido ou um laser semicondutor que irradia um raio infravermelho tendo um comprimento de onda de 750 nm a 1400 nm.
[060]A potência do laser é preferivelmente 100 mW ou maior. Além disso, de modo a reduzir o tempo de exposição, é preferível utilizar um dispositivo a laser de múltiplos feixes. Além disso, o tempo de exposição por um pixel é preferivelmente em uma faixa de 1.000 microssegundos a 0,001 microssegundos, mais preferivelmente em uma faixa de 500 microssegundos a 0,01 microssegundos e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 300 microssegundos a 0,1 microssegundos.
[061 ]A energia irradiada como a radiação formadora de imagem é preferivelmente em uma faixa de 10 mJ/cm2 a 300 mJ/cm2. Em um caso onde o valor está na faixa acima descrita, a ablação a laser é suprimida e os danos a uma imagem podem ser evitados.
<Aspecto da composição sensível à radiação [062]De acordo com um primeiro aspecto da presente divulgação, a composição sensível à radiação (em seguida, também referida como uma “primeira composição sensível à radiação”) é uma composição sensível à radiação que inclui um iniciador radical, um componente polimerizável por radical e um composto de absorção de radiação e em que o iniciador radical contém um iniciador radical doador
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 25/145
19/136 de elétrons, o composto de absorção de radiação contém um composto que está decomponível para gerar um radical devido à exposição à radiação formadora de imagem, e mostra dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical na curva de quantidade versus tempo de geração de radical após a exposição à radiação formadora de imagem.
[063]Além disso, de acordo com um segundo aspecto da presente divulgação, a composição sensível à radiação (em seguida, também referida como uma “segunda composição sensível à radiação”) é uma composição sensível à radiação que inclui um iniciador radical, um componente polimerizável por radical e um composto de absorção de radiação e em que o iniciador radical contém um iniciador radical doador de elétrons e um iniciador radical aceitante de elétrons, e mostra dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical na curva de quantidade versus tempo de geração de radical após a exposição à radiação formadora de imagem.
[064]Além disso, a segunda composição sensível à radiação também inclui um aspecto em que o iniciador radical inclui um iniciador radical doador de elétrons e um iniciador radical aceitante de elétrons, e o composto de absorção de radiação contém um composto que está decomponível para gerar um radical devido à exposição à radiação formadora de imagem.
<Primeira composição sensível à radiação [065]A primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação inclui um iniciador radical, um componente polimerizável por radical e um composto de absorção de radiação. Além disso, o iniciador radical contém um iniciador radical doador de elétrons, e o composto de absorção de radiação contém um composto que está decomponível para gerar um radical devido à exposição à radiação formadora de imagem.
[066]Por exemplo, a primeira composição sensível à radiação gera o primeiro radical e o segundo radical através da reação mostrada pela seguinte fórmula de
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 26/145
20/136 reação.
[067]Como os resultados, a primeira composição sensível à radiação tem dois ou mais picos da quantidade de geração de radical na curva de quantidade versus tempo de geração de radical após a exposição à radiação formadora de imagem.
ft o
Segundo radical (pico após ao pico inicialmente gerado)
110mJ
830 nm
Iniciador radical de doador de elétrons (exemplo) H;C' GH3
Composto de absorção de radiação (exemplo) [068]Na fórmula de reação, primeiramente, o primeiro radical é gerado a partir do iniciador radical doador de elétrons no momento da irradiação com radiação formadora de imagem. Depois disso, o composto de absorção de radiação aos qual elétrons foram doados é excitado e clivado de modo que o segundo radical é gerado. A geração do primeiro radical corresponde ao primeiro pico descrito acima e a geração do segundo radical corresponde ao pico após o pico inicialmente gerado.
[069]Aqui, especula-se que a posição de pico do pico após o pico inicialmente gerado é determinada com base na estabilidade do produto de decomposição do composto de absorção de radiação.
[Iniciador radical] [070]O iniciador radical na primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação contém um iniciador radical doador de
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 27/145
21/136 elétrons.
[071]Além disso, é preferível que a primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação não contenha um iniciador radical aceitante de elétrons descrito abaixo como um iniciador radical.
- Iniciador radical doador de elétrons [072]O iniciador radical doador de elétrons de acordo com a presente divulgação não está particularmente limitado, mas um complexo alquila ou arilato, um composto de ácido aminoacético, um composto contendo enxofre, um composto contendo estanho ou sulfinates são preferíveis, um grupo alquila ou um complexo arilato, um composto de ácido aminoacético, ou um composto contendo enxofre é mais preferível, e um composto borato, um composto N-fenilglicina ou um composto tiol é ainda mais preferível.
cComplexo alquila ou arilato [073]Como o complexo alquila ou arilato, um composto borato é preferível.
[074]É considerado que uma ligação carbono-hetero é clivada oxidativamente de modo que um radical ativo é gerado no complexo alquila ou arilato.
[Composto borato] [075]Como o composto borato, um composto borato de tetra-arila ou um composto borato triarila monoalquila é preferível, um composto borato de tetra-arila é mais preferível do ponto de vista da estabilidade do composto e da diferença potencial descrita abaixo, e um composto borato de tetra-arila contendo um ou mais grupos arila tendo um grupo de remoção de elétrons é particularmente preferível do ponto de vista da diferença potencial descrita abaixo.
[076]Como o grupo de remoção de elétron, um grupo em que ο σ valor da regra de Hammett é positivo é preferível, e um grupo em que ο σ valor da regra de Hammett está em uma faixa de 0 a 1,2 é mais preferível. Ο σ valor (valor de σΡ e valor de Om) da regra de Hammett é especificamente descrito em Hansch, C.’ Leo, A.’ Taft,
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 28/145
22/136
R. W„ Chem. Rev., 1991,91,165 a 195.
[077]Como o grupo de remoção de elétron, um átomo de halogênio, um grupo trifluorometila ou um grupo ciano é preferível, e um átomo de flúor, um átomo de cloro, um grupo trifluorometila ou um grupo ciano é mais preferível.
[078]Como um contra-cátion do composto borato, um íon de metal alcalino ou um íon tetra-alquilamônio é preferível, um íon sódio, um íon potássio ou um íon tetrabutilamônio é mais preferível.
[079]Em seguida, exemplos preferidos do composto borato serão descritos, mas a presente divulgação não está limitada a estes. Aqui, Xc + representa um cátion monovalente. Entre estes, um íon de metal alcalino ou um íon tetra-alquilamônio é preferível e um íon de metal alcalino ou um íon tetrabutilamônio é mais preferível. Além disso, Bu representa um grupo n-butila.
cComposto de ácido aminoacético [080]É considerado que uma ligação C-X no carbono adjacente ao nitrogênio é clivada devido à oxidação de modo que um radical ativo é gerado no composto de ácido aminoacético. Como X, um átomo de hidrogênio, um grupo carbóxi, um grupo trimetilsilila ou um grupo benzila é preferível. Exemplos específicos destes incluem um N-fenilglicinas (que pode ter um substituinte no grupo fenila) e ácido Nfeniliminodiacético (que pode ter um substituinte no grupo fenila), e um composto N
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 29/145
23/136 fenilglicina é preferível.
[Composto N-fenilglicina] [081]Exemplos do composto N-fenilglicina incluem N-fenilglicina, um composto éster alquílico N-fenilglicina e um composto N-fenilglicina tendo ainda um substituinte em um átomo de nitrogênio ao qual um grupo fenila está ligado.
[082]Do ponto de vista da diferença potencial descrita abaixo, é preferível que o composto N-fenilglicina tenha um substituinte no grupo fenila. Exemplos preferidos do substituinte incluem o grupo de remoção de elétrons acima descrito.
[083]Em seguida, exemplos preferidos do composto N-fenilglicina serão descritos, mas a presente divulgação não está limitada a estes.
cComposto contendo enxofre>
[084]Como o composto contendo enxofre, um composto tiol que tem um grupo tiol (grupo -SH) e gera um radical por divagem do grupo tiol é exemplificado.
[085]Além disso, um composto contendo enxofre obtido substituindo-se o átomo de nitrogênio do composto de ácido aminoacético acima descrito por um átomo de enxofre pode gerar um radical ativo utilizando o mesmo mecanismo como que para o composto de ácido aminoacético.
[086]Como o composto contendo enxofre, um composto contendo um grupo tiol é preferível, um composto tiol tendo 7 ou mais átomos de carbono é mais preferível do ponto de vista do ponto de ebulição (dificuldade em volatilização), um composto (composto tiol aromático) contendo um grupo tiol (grupo mercapto) em um anel aromático é ainda mais preferível, e um composto tendo uma estrutura 2mercaptobenzimidazol, uma estrutura 3-mercapto-1,2,4 triazol ou uma estrutura 2mercaptobenzotiazol é particularmente preferível.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 30/145
24/136 [087]O átomo de hidrogênio ligado ao átomo de nitrogênio na posição 1 na estrutura 2-mercaptobenzimidazol pode ser substituído, e exemplos preferidos do substituinte incluem um grupo alquila e um grupo arila.
[088]Além disso, a estrutura do anel benzene na estrutura 2mercaptobenzimidazol pode ter um substituinte, e exemplos preferidos do substituinte incluem um grupo alquila, um grupo alcóxi e um átomo de halogênio.
[089]O átomo de hidrogênio ligado ao átomo de nitrogênio na posição 4 ou o átomo de carbono na posição 5 na estrutura 3-mercapto-1,2,4 triazol pode ser substituído, e exemplos preferidos do substituinte incluem um grupo alquila e um grupo arila.
[090]A estrutura do anel benzeno na estrutura 2-mercaptobenzotiazol pode ter um substituinte, e exemplos preferidos do substituinte incluem um grupo alquila, um grupo alcóxi e um átomo de halogênio.
[091 ]Em seguida, exemplos preferidos do composto contendo enxofre serão descritos, mas a presente divulgação não está limitada a estes.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 31/145
25/136
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 32/145
26/136
HsCT... ' ' - SH HS. ' ··-' SH
H3C · - '--'SH HS .,· · ''··-'·-- 'SH
SH SH $H
H3C ^- ''' 'XN··
H3C. . ' 'SH Ν·ν . χ ;>·%>'·'
SH
H3C -''· '-- 'SH SH SH
H3C,.....· ..... 'SH p: : ;
h3c ••-''•^•••-•'.••-^•· SH
h3c.. '.. .. -. v '' ''' 'SH . b Λ. SH .,.·· v..... ·· ^:...SH
H3C ' -- -'· SH Xx··”
H3C . ·. ·.. ·-. ·>.·-. ·.·.· X.· V ·>.,.· X.-' ' -'SH
'--'•-''SH
H3C., ..-V..... ··' '- '- 'SH * J'SH
. . . . X......
h3c '''•'''•-'SH .....,.À . .
HS··^--'··
on SH
'''··-'-··- 'SH
cComposto contendo estanho [092]O composto contendo estanho é um composto obtido substituindo-se um átomo de nitrogênio do composto de ácido aminoacético acima descrito com um estanho e pode gerar um radical ativo utilizando o mesmo mecanismo como descrito acima.
<Sulfinatos>
[093]Os sulfinates são compostos sulfinatos tais como arilsulfinato de sódio e podem gerar um radical ativo através de oxidação.
<Teor>
[094]Na primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação, o iniciador radical pode ser utilizado sozinho ou
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 33/145
27/136 em combinação de dois ou mais tipos dos mesmos.
[095]O teor do iniciador radical é preferivelmente em uma faixa de 0,01 % a 30 % em massa, mais preferivelmente em uma faixa de 0,05 % a 25 % em massa e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 0,1 % a 20 % em massa em relação ao teor total de sólido da primeira composição sensível à radiação. Além disso, o teor total de sólido na presente divulgação indica a quantidade total de componentes obtida excluindo-se os componentes voláteis, tais como solventes, da composição.
[096]O componente volátil indica um componente cuja pressão a vapor excede 10 mmHg a 25 °C.
[Componente polimerizável por radical] [097]A primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação contém um componente polimerizável por radical.
[098]Como o componente polimerizável por radical, um composto polimerizável de adição (composto etilenicamente insaturado) tendo pelo menos uma ligação etilenicamente insaturada é preferível. Como o composto etilenicamente insaturado, um composto tendo pelo menos uma ligação terminal etilenicamente insaturada é preferível, e um composto tendo duas ou mais ligações terminais etilenicamente insaturadas é mais preferível. O componente polimerizável por radical pode ter uma forma química tal como um monômero, um pré-polímero, isto é, um dímero, um trímero ou um oligômero, ou uma mistura destes.
[099]Exemplos do monômero incluem ácido carboxílico insaturado (tal como ácido acrílico, ácido metracrílico, ácido itacônico, ácido crotônico, ácido isocrotônico, ou ácido maleico), ésteres destes e amidas destes. Entre estes, ésteres de ácido carboxílico insaturado e um composto álcool poli-hídrico e amidas de ácido carboxílico insaturado e um composto amina polivalente são preferivelmente utilizados. Além disso, reagentes de adição de ésteres de ácido carboxílico insaturados tendo um substituinte nucleofílico tal como um grupo hidróxi, um grupo amina ou um grupo
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 34/145
28/136 mercapto ou amidas com isocianatos ou epóxis monofuncionais ou polifuncionais; e reagentes de condensação de desidratação com ácido carboxilico monofuncional ou polifunctional são adequadamente utilizados. Além disso, os reagentes de adição de ésteres de ácido carboxilico insaturados tendo um substituinte eletrofílico tal como um grupo isocianato ou um grupo epóxi ou amidas com álcoois monofuncionais ou polifunctionais, aminas, ou tióis; e reagentes de substituição de ésteres de ácido carboxilico insaturados tendo um substituinte liberável tal como um átomo de halogênio ou um grupo tosiloxi ou amidas com álcoois monofuncionais ou polifunctionais, aminas ou tióis, são também adequadamente utilizados. Além disso, grupos compostos em que o ácido carboxilico insaturado acima descrito é substituído por ácido fosfônico insaturado, estireno, vinil éter e semelhantes, também podem ser utilizados. Estes compostos são descritos em JP2006-508380A, JP2002-287344A, JP2008-256850A, JP2001-342222A, JP1997-179296A (JP-H09-179296A), JP1997179297A (JP-H09-179297A), JP1997-179298A (JP-H09-179298A), JP2004294935A, JP2006-243493A, JP2002-275129A, JP2003-064130A, JP2003-280187A e JP1998-333321A (JP-H10-333321 A).
[0100]Exemplos específicos de monômeros de ésteres de um composto álcool poli-hídrico e ácido carboxilico insaturado incluem éster de ácido acrílico tal como diacrilato de etileno glicol, diacrilato de 1,3-butanediol, diacrilato de tetrametilenoglicol, diacrilato de propileno glicol, triacrilato de trimetilolpropano, diacrilato de hexanodiol, tetradiacrilato de etileno glicol, tetra-acrilato de pentaeritritol, triacrilato de sorbitol, triacrilato modificado com óxido de etileno (EO) de ácido isocianúrico ou um oligômero de acrilato poliéster. Exemplos do éster de ácido metracrílico incluem dimetacrilato de tetrametileno glicol, dimetacrilato de neopentil glicol, trimetacrilato de trimetilolpropano, dimetacrilato de etileno glicol, trimetacrilato de pentaeritritol, bis[p-(3-metacrilóxi-2-hidroxipropóxi)fenil]dimetilmetano e bis-[p(metacriloxietóxi)fenil]dimetilmetano. Exemplos específicos de monômeros de amidas
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 35/145
29/136 de um composto amina polivalente e ácido carboxílico insaturado incluem metileno bis-acrilamida, metileno bis-metacrilamida, 1,6-hexametileno bis-acrilamida, 1,6hexametileno bis-metacrilamida, dietileno triamina trisacrilamida, xilileno bisacrilamida e xilileno bismetacrilamida.
[0101]Além disso, um composto polimerizável de adição à base de uretano produzido utilizando-se uma reação de adição de isocianato e um grupo hidróxi são também adequados, e os exemplos específicos de tal composto incluem um composto vinil uretano que é formado pela adição de um monômero de vinila contendo um grupo hidróxi representado pela Fórmula (M) a um composto poli-isocianato que tem dois ou mais grupo isocianatos em uma molécula descrito em JP1973-041708B (JP-S48041708B) e contém dois ou mais grupos vinila polimerizáveis em uma molécula.
CH2=C(RM4)COOCH2CH(RM5)OH(M) [0102]Na Fórmula (M), RM4 e RM5 cada um representa independentemente um átomo de hidrogênio ou um grupo metila.
[0103]Além disso, acrilatos de uretano descritos em JP1976-037193A (JPS51-037193A), JP1990-032293B (JP-H02-032293B), JP1990-016765B (JP-H02016765B), JP2003-344997A e JP2006-065210A; compostos de uretano tendo um estrutura à base de óxido de etileno descrito em JP1983-049860B (JP-S58-049860B), JP1981-017654B (JP-S56-017654B), JP1987-039417B (JP-S62-039417B), JP1987039418B (JP-S62-039418B), JP2000-250211A e JP2007-094138A; e compostos de uretano tendo um grupo hidrofílico descrito em US7153632B, JP1996-505958A (JPH08-505958A), JP2007-293221A e JP2007-293223A também são adequados.
[0104]Na primeira composição sensível à radiação, o componente polimerizável por radical pode ser utilizado sozinho ou em combinação de dois ou mais tipos dos mesmos.
[0105]O teor do componente polimerizável por radical é preferivelmente em uma faixa de 5 % a 75 % em massa, mais preferivelmente em uma faixa de 10 % a
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 36/145
30/136 % em massa e particularmente preferivelmente em uma faixa de 15 % a 60 % em massa em relação ao teor total de sólido da primeira composição sensível à radiação.
[Composto de absorção de radiação] [0106]A primeira composição sensível à radiação contém um composto de absorção de radiação.
[0107]O composto de absorção de radiação na primeira composição sensível à radiação é um composto (em seguida, também referida como um composto de absorção de radiação do tipo decomposição”) que é decomposto após a exposição à radiação formadora de imagem para gerar um radical na presença do iniciador radical doador de elétrons acima descrito.
[0108]O composto de absorção de radiação do tipo decomposição não está particularmente limitado, e exemplos deste inclui um composto representado pela Fórmula 1.
[0109]Na Fórmula 1, R1 representa um grupo formado por divagem de uma ligação R1-X devido à exposição à radiação formadora de imagem, X representa -O-, -S- ou -NRN-, Rn representa um grupo hidrocarboneto, R2 e R3 cada um representa independentemente um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila, R2 e R3 podem estar ligados um ao outro para formar um anel, Ar1 e Ar2 cada um representa independentemente um grupo que forma um anel benzene ou um anel naftaleno, Y1 e Y2 cada um representa independentemente um átomo de oxigênio, um átomo de enxofre, -NR°- ou um grupo dialquilmetileno, R4 e R5 cada um representa
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 37/145
31/136 independentemente um grupo alquila, R6 a R9 cada um representa independentemente um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila, R° representa um átomo de hidrogênio, um grupo alquila ou um grupo arila e Za representa um contraíon que neutraliza a carga.
[0110]R1 representa um grupo formado por divagem de uma ligação R1-X devido à exposição à radiação formadora de imagem. Exemplos específicos destes incluem um grupo em que a reação de decomposição ou isomerização prossegue devido à energia térmica externamente aplicada, energia gerada em um caso onde um composto representado pela Fórmula 1 absorve a radiação formadora de imagem tal como raios infravermelhos e o seu estado retorna ao estado fundamental do estado excitado que ocorreu, ou a reação química que procede do estado excitado, e uma ligação R1-X é clivada.
[0111]Na primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação, um radical é gerado devido a esta divagem. Como descrito acima, é considerado que, visto que esta divagem é gerada por transferência de elétrons ou semelhantes, os radicais são gerados um pouco depois da geração do primeiro radical de modo que os picos após o pico inicialmente gerado são formados.
[0112]Um aspecto preferível de R1 será descrito abaixo.
[0113]Como o grupo alquila como R2 a R9 e R°, um grupo alquila tendo 1 a 30 átomos de carbono é preferível, um grupo alquila tendo 1 a 15 átomos de carbono é mais preferível e um grupo alquila tendo 1 a 10 átomos de carbono é ainda mais preferível. O grupo alquila pode ter uma estrutura linear, ramificada ou em anel.
[0114]Exemplos específicos destes incluem um grupo metila, um grupo etila, um grupo propila, um grupo butila, um grupo pentila, um grupo hexila, um grupo heptila, um grupo octila, um grupo nonila, um grupo decila, um grupo undecila, um grupo dodecila, um grupo tridecila, um grupo hexadecila, um grupo octadecila, um
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 38/145
32/136 grupo eicosila, um grupo isopropila, um grupo isobutila, um grupo s-butila, um grupo t-butila, um grupo isopentila, um grupo neopentila, um grupo 1-metilbutila, um grupo iso-hexila, um grupo 2-etilhexila, um grupo 2-metilhexila, um grupo ciclo-hexila, um grupo ciclopentila e um grupo 2-norbornila.
[0115]Entre estes grupos alquila, um grupo metila, um grupo etila, um grupo propila ou um grupo butila é particularmente preferível.
[0116]Além disso, o grupo alquila pode ter um substituinte. Exemplos do substituinte incluem um grupo alcóxi, um grupo arilóxi, um grupo amina, um grupo alquiltio, um grupo ariltio, um átomo de halogênio, um grupo carbóxi, um grupo carboxilato, um grupo sulfo, um grupo sulfonate, um grupo alquiloxicarbonila, um grupo ariloxicarbonila e grupos formados pela combinação destes grupos.
[0117]Como o grupo arila representado por R°, um grupo arila tendo 6 a 30 átomos de carbono é preferível, um grupo arila tendo 6 a 20 átomos de carbono é mais preferível e um grupo arila tendo 6 a 12 átomos de carbono é ainda mais preferível.
[0118]Além disso, o grupo arila pode ter um substituinte. Exemplos do substituinte incluem um grupo alquila, um grupo alcóxi, um grupo arilóxi, um grupo amina, um grupo alquiltio, um grupo ariltio, um átomo de halogênio, um grupo carbóxi, um grupo carboxilato, um grupo sulfo, um grupo sulfonate, um grupo alquiloxicarbonila, um grupo ariloxicarbonila e grupos formados pela combinação destes grupos.
[0119]Exemplos específicos destes incluem um grupo fenila, um grupo naftila, um grupo p-tolila, um grupo p-clorofenila, um grupo p-fluorofenila, um grupo pmetoxifenila, um grupo p-dimetilaminofenila, um grupo p-metiltiofenila e um grupo pfeniltiofenila.
[0120]Entre estes exemplos do grupo arila, um grupo fenila, um grupo pmetoxifenila, um grupo p-dimetilaminofenila ou um grupo naftila é preferível.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 39/145
33/136 [0121 ]É preferível que R2 e R3 sejam ligados um ao outro para formar um anel.
[0122]Em um caso onde R2 e R3 são ligados um ao outro para formar um anel, um anel com 5 ou 6 membros é preferível e um anel de 6 membros é mais preferível.
[0123]Y1 e Y2 cada um representa independentemente um átomo de oxigênio, um átomo de enxofre, -NR°- ou um grupo dialquilmetileno, um -NR°- ou um grupo dialquilmetileno é preferível, e um grupo dialquilmetileno é mais preferível.
[0124]R° representa um átomo de hidrogênio, um grupo alquila ou um grupo arila e preferivelmente um grupo alquila.
[0125]É preferível que R4 e R5 representem o mesmo grupo.
[0126]Além disso, R4 e R5 cada um representa independentemente preferivelmente um grupo alquila linear ou um grupo alquila tendo um grupo sulfonate no terminal e mais preferivelmente um grupo metila, um grupo etila ou um grupo butila tendo um grupo sulfonato no terminal.
[0127]Além disso, o contra-cátion do grupo sulfonato pode ser um grupo amônio quaternário na Fórmula 1, ou um cátion metálico alcalino ou um cátion metálico alcalino terroso.
[0128]Além disso, do ponto de vista de melhorar a solubilidade do composto representado pela Fórmula 1 em água, R4 e R5 cada um representa independentemente preferivelmente um grupo alquila tendo uma estrutura de ânion, mais preferivelmente um grupo alquila tendo um grupo carboxilato ou um grupo sulfonato e ainda mais preferivelmente um grupo alquila tendo um grupo sulfonato no terminal.
[0129]Além disso, do ponto de vista de tornar o comprimento de onda de absorção máxima do composto representado pela Fórmula 1 mais longa, gerando facilmente um radical e melhorando a durabilidade de impressão da placa de impressão planográfica, R4 e R5 cada um representa independentemente preferivelmente um grupo alquila tendo um anel aromático, mais preferivelmente um
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 40/145
34/136 grupo alquila tendo um anel aromático no terminal e particularmente preferivelmente um grupo 2-feniletila, um grupo 2-naftalenil etila ou um grupo 2-(9-antracenil) etila.
[0130]R6 a R9 cada um representa independentemente um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila e preferivelmente um átomo de hidrogênio.
[0131]Ar1 e Ar2 cada um representa independentemente um grupo que forma um anel benzene ou um anel naftaleno. O grupo pode ter um substituinte no anel benzeno ou anel naftaleno. Exemplos do substituinte incluem um grupo alquila, um grupo alcóxi, um grupo arilóxi, um grupo amina, um grupo alquiltio, um grupo ariltio, um átomo de halogênio, um grupo carbóxi, um grupo carboxilato, um grupo sulfo, um grupo sulfonato, um grupo alquiloxicarbonila, um grupo ariloxicarbonila e grupos formados pela combinação destes grupos. Entre estes, um grupo alquila é preferível.
[0132]Além disso, do ponto de vista de tornar o comprimento de onda de absorção máxima do composto representado pela Fórmula 1 mais longa, gerando facilmente um radical e melhorando a durabilidade de impressão da placa de impressão planográfica, Ar1 e Ar2 cada um representa independentemente preferivelmente um grupo que forma um anel naftaleno ou um anel benzeno tendo um grupo alquila ou um grupo alcóxi como um substituinte, mais preferivelmente um grupo que forma um anel naftaleno ou um anel benzeno tendo um grupo alcóxi como um substituinte e particularmente preferivelmente um grupo que forma um anel naftaleno ou um anel benzeno tendo um grupo metóxi como um substituinte.
[0133]Za representa um contra-íon que neutraliza a carga. Em um caso onde Za representa a espécie de ânion, exemplos destes incluem um íon sulfonato, um íon carboxilato, um íon tetrafluoroborato, um íon hexafluorofosfato, um íon ptoluenossulfonato e um íon perclorato. Entre estes, um íon hexafluorofosfato é particularmente preferível. Em um caso onde Za representa a espécie de cátion, um íon de metal alcalino, um íon de metal alcalino terroso, um íon amônio, um íon piridínio ou um íon sulfônio é preferível, um íon sódio, um íon potássio, um íon amônio, um íon
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 41/145
35/136 piridínio ou um íon sulfônio é mais preferível e um íon sódio, um íon potássio ou um íon amônio é ainda mais preferível.
[0134]R1 a R9, R°, Ar1, Ar2, Y1 e Y2 podem ter uma estrutura de ânion ou uma estrutura de cátion. Em um caso onde todos de R1 a R9, R°, Ar1, Ar2, Y1 e Y2 representam um grupo neutramente carregado, Za representa um contra-ânion monovalente. Entretanto, por exemplo, em um caso onde R1 a R9, R°, Ar1, Ar2, Y1 e Y2 têm dois ou mais estruturas de ânion, Za pode representar um contra-cátion.
[0135]Do ponto de vista de gerar facilmente um radical, R1-X- na Fórmula 1 representa preferivelmente um grupo representado por qualquer uma das Fórmulas 1-1 a 1-10, mais preferivelmente um grupo representado por qualquer uma das Fórmulas 1-1 a 1-3 e Fórmulas 1-8 a 1-10 e ainda mais preferivelmente um grupo representado pela Fórmula 1-10. Além disso, em um caso onde R1-X na Fórmula 1 representa um grupo representado pela Fórmula 1-10, o composto representado pela Fórmula 1 contém um grupo etilenicamente insaturado terminal no terminal do composto. A posição do grupo etilenicamente insaturado terminal não é limitada desde que o grupo esteja presente no terminal do composto representado pela Fórmula 1, mas é preferível que o grupo etilenicamente insaturado terminal esteja incluído no substituinte de R4, R5, Ar1 ou Ar2 na Fórmula 1 ou R31 na Fórmula 1 -10.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 42/145
36/136
Fórmula 1-1
Fórmula 1-2
Fórmula 1-3 Fórmula 1-4
Fórmula 1-8 [0136]Nas Fórmulas 1-1 a 1-10, “·“ representa um sítio de ligação em relação ao átomo de carbono ao qual X da Fórmula 1 está ligado, R10 cada um representa independentemente um átomo de hidrogênio, um grupo alquila, um grupo alquenila, um grupo arila, -OR14, -NR15R16 ou -SR17, R11 cada um representa independentemente um átomo de hidrogênio, um grupo alquila ou um grupo arila, R12 representa um grupo arila, -OR14, -NR15R16, -SR17, -C(=O)R18, -OC(=O)R18 ou um átomo de halogênio, R13 representa um grupo arila, um grupo alquenila, um grupo alcóxi ou um grupo ônio, R14 a R17 cada um representa independentemente um átomo de hidrogênio, um grupo alquila ou um grupo arila, R18 cada um representa independentemente um grupo alquila, um grupo arila, -OR14, -NR15R16 ou -SR17, RN representa um grupo hidrocarboneto, X1 e X2 cada um representa independentemente um átomo de oxigênio ou um átomo de enxofre, R21 cada um representa independentemente um
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 43/145
37/136 átomo de hidrogênio, um grupo alquila ou um grupo arila, R22 representa um grupo arila, um grupo alquenila, um grupo alcóxi ou um grupo ônio, R31 representa um grupo alquila, um grupo arila ou um grupo aralquila, e Z1 representa um contra-íon que neutraliza a carga.
[0137]Em um caso onde R10, R11 e R14 a R18 representam um grupo alquila são os mesmos que os aspectos preferíveis do grupo alquila como R2 a R9 e R°.
[0138]O número de átomos de carbono do grupo alquenila como R10 e R13 é preferivelmente em uma faixa de 2 a 30, mais preferivelmente em uma faixa de 2 a 15 e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 2 a 10.
[0139]Os aspectos preferíveis em um caso onde R10 a R18 representam um grupo arila são os mesmos que os aspectos preferíveis do grupo arila como R°.
[0140]Do ponto de vista de gerar facilmente um radical, R10 na Fórmula 1-1 representa preferivelmente um grupo alquila, um grupo alquenila, um grupo arila, OR14, -NR15R16 ou -SR17, mais preferivelmente um grupo alquila, -OR14, -NR15R16 ou -SR17, ainda mais preferivelmente um grupo alquila ou -OR14 e particularmente preferivelmente -OR14.
[0141 ]Além disso, em um caso onde R10 na Fórmula 1 -1 representa um grupo alquila, é preferível que o grupo alquila seja um grupo alquila tendo um grupo ariltio ou um grupo alquiloxicarbonila na posição a.
[0142]Em um caso onde R10 na Fórmula 1 -1 representa -OR14, R14 representa preferivelmente um grupo alquila, mais preferivelmente um grupo alquila tendo 1 a 8 átomos de carbono, ainda mais preferivelmente um grupo isopropila ou um grupo tbutila e particularmente preferivelmente um grupo t-butila.
[0143]Do ponto de vista de gerar facilmente um radical, é preferível que R11 na Fórmula 1-2 represente um átomo de hidrogênio.
[0144]Além disso, do ponto de vista de gerar facilmente um radical, R12 na Fórmula 1-2 representa preferivelmente -C(=O)OR14, -OC(=O)OR14 ou um átomo de
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 44/145
38/136 halogênio e mais preferivelmente -C(=O)OR14 ou -OC(=O)OR14. Em um caso onde R12 na Fórmula 1-2 representa -C(=O)OR14 ou -OC(=O)OR14, é preferível que R14 represente um grupo alquila.
[0145]Do ponto de vista de gerar facilmente um radical, é preferível que R11 na Fórmula 1-3 cada um represente independentemente um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila e mais preferível que pelo menos um R11 na Fórmula 1-3 represente um grupo alquila.
[0146]Além disso, como o grupo alquila representado por R11, um grupo alquila tendo 1 a 10 átomos de carbono é preferível, e um grupo alquila tendo 3 a 10 átomos de carbono é mais preferível.
[0147]Além disso, como o grupo alquila representado por R11, um grupo alquila tendo uma estrutura ramificada ou em anel é preferível, um grupo alquila secundário ou terciário é mais preferível e um grupo isopropila, um grupo ciclopentila, um grupo ciclo-hexila ou um grupo t-butila é ainda mais preferível.
[0148]Além disso, do ponto de vista de gerar facilmente um radical, R13 na Fórmula 1-3 representa preferivelmente um grupo arila, um grupo alcóxi ou um grupo ônio, mais preferivelmente um grupo p-dimetilaminofenila ou um grupo piridínio e ainda mais preferivelmente um grupo piridínio.
[0149]Exemplos do grupo ônio como R13 incluem um grupo piridínio, um grupo amônio e um grupo sulfônio. O grupo ônio pode ter um substituinte. Exemplos do substituinte incluem um grupo alquila, um grupo alcóxi, um grupo arilóxi, um grupo amina, um grupo alquiltio, um grupo ariltio, um átomo de halogênio, um grupo carbóxi, um grupo sulfo, um grupo alquiloxicarbonila, um grupo ariloxicarbonila e grupos formados pela combinação destes grupos. Entre estes, um grupo alquila, um grupo arila e grupos formados pela combinação destes grupos são preferíveis.
[0150]Entre estes, um grupo piridínio é preferível, um grupo N-alquil-3piridínio, um grupo N-benzil-3-piridínio, um grupo N-(alcoxipolialquileneoxialquil)-3
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 45/145
39/136 piridínio, um grupo N-alcoxicarbonilmetil-3-piridínio, um grupo N-alquil-4-piridínio, um grupo N-benzil-4-piridínio, um grupo N-(alcoxipolialquileneoxialquil)-4-piridínio, um grupo N-alcoxicarbonilmetil-4-piridínio ou um grupo N-alquil-3,5-dimetil-4-piridínio é mais preferível, um grupo N-alquil-3-piridínio ou um grupo N-alquil-4-piridínio é ainda mais preferível, um grupo N-metil-3-piridínio, um grupo N-octil-3-piridínio, um grupo Nmetil-4-piridínio ou um grupo N-octil-4-piridínio é particularmente preferível, e um grupo N-octil-3-piridínio ou um grupo N-octil-4-piridínio é mais preferível.
[0151]Além disso, em um caso onde R13 representa um grupo piridínio, exemplos do contra-ânion incluem um ion sulfonate, um ion carboxilato, um íon tetrafluoroborato, um íon hexafluorofosfato, um íon p-toluenossulfonato e um íon perclorato. Entre estes, um íon p-toluenossulfonato ou um íon hexafluorofosfato é preferível.
[0152]Do ponto de vista de gerar facilmente um radical, é preferível que R10 na Fórmula 1-4 represente um grupo alquila ou um grupo arila e mais preferível que um de dois R10 represente um grupo alquila e o outro represente um grupo arila.
[0153]Do ponto de vista de gerar facilmente um radical, R10 na Fórmula 1-5 representa preferivelmente um grupo alquila ou um grupo arila, mais preferivelmente um grupo arila e ainda mais preferivelmente um grupo p-metilfenila.
[0154]Do ponto de vista de gerar facilmente um radical, R10 na Fórmula 1-6 cada um representa independentemente preferivelmente um grupo alquila ou um grupo arila e mais preferivelmente um grupo metila ou um grupo fenila.
[0155]Do ponto de vista de gerar facilmente um radical, Z1 na Fórmula 1-7 pode representar um contra-íon que neutraliza a carga. Em um caso onde Za representa um íon polivalente, exemplos deste são os mesmos que aqueles para Za descrito acima.
[0156]Z1 representa preferivelmente um íon sulfonate, um íon carboxilato, um íon tetrafluoroborato, um íon hexafluorofosfato, um íon p-toluenossulfonato e um íon
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 46/145
40/136 perclorato. Entre estes, um íon p-toluenossulfonato ou um íon hexafluorofosfato é mais preferível.
[0157]Do ponto de vista de gerar facilmente um radical, R21’s na Fórmula 1-8 ou 1-9 cada um representa independentemente um átomo de hidrogênio, um grupo alquila ou um grupo arila, preferivelmente um átomo de hidrogênio, um grupo alquila tendo 1 a 10 átomos de carbono ou um grupo fenila, mais preferivelmente um grupo alquila tendo 3 a 10 átomos de carbono ou um átomo de hidrogênio e ainda mais preferivelmente um átomo de hidrogênio.
[0158]Além disso, como o grupo alquila como R21, um grupo alquila tendo uma estrutura ramificada ou em anel é preferível, um grupo alquila secondário ou terciário é mais preferível e um grupo isopropila, um grupo ciclopentila, um grupo ciclo-hexila ou um grupo t-butila é ainda mais preferível.
[0159]Do ponto de vista de gerar facilmente um radical, R22 na Fórmula 1-8 ou 1-9 representa preferivelmente um grupo arila, um grupo alcóxi ou um grupo ônio, mais preferivelmente um grupo p-dimetilaminofenila ou um grupo piridínio e ainda mais preferivelmente um grupo piridínio.
[0160]Exemplos do grupo ônio como R22 incluem um grupo piridínio, um grupo amônio e um grupo sulfônio. O grupo ônio pode ter um substituinte. Exemplos do substituinte incluem um grupo alquila, um grupo alcóxi, um grupo arilóxi, um grupo amina, um grupo alquiltio, um grupo ariltio, um átomo de halogênio, um grupo carbóxi, um grupo sulfo, um grupo alquiloxicarbonila, um grupo ariloxicarbonila e grupos formados pela combinação destes grupos e um grupo alquila, um grupo arila e grupos formados pela combinação destes grupos são preferíveis. Entre estes, um grupo piridínio é preferível.
[0161]Como o grupo piridínio, um grupo N-alquil-3-piridínio, um grupo Nbenzil-3-piridínio, um grupo N-(alcoxipolialquileneoxialquil)-3-piridínio, um grupo Nalcoxicarbonilmetil-3-piridínio, um grupo N-alquil-4-piridínio, um grupo N-benzil-4
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 47/145
41/136 piridínio, um grupo N-(alcoxipolialquileneoxialquil)-4-piridínio, um grupo Nalcoxicarbonilmetil-4-piridínio ou um grupo N-alquil-3,5-dimetil-4-piridínio é mais preferível, um grupo N-alquil-3-piridínio ou um grupo N-alquil-4-piridínio é ainda mais preferível, um grupo N-metil-3-piridínio, um grupo N-octil-3-piridínio, um grupo N-metil4-piridínio, ou um grupo N-octil-4-piridínio é particularmente preferível e um grupo Noctil-3-piridínio ou um grupo N-octil-4-piridínio é mais preferível.
[0162]Além disso, em um caso onde R22 representa um grupo ônio, exemplos do contra-ânion incluem um ion sulfonate, um íon carboxilato, um íon tetrafluoroborato, um íon hexafluorofosfato, um íon p-toluenossulfonato e um íon perclorato. Entre estes, um íon p-toluenossulfonato ou um íon hexafluorofosfato é preferível.
[0163]Na Fórmula 1-9, RN representa um grupo hidrocarboneto, preferivelmente um grupo alquila, mais preferivelmente um grupo alquila tendo 1 a 4 átomos de carbono e ainda mais preferivelmente um grupo metila.
[0164]Na Fórmula 1-9, é preferível que X1 e X2 represente o mesmo átomo e mais preferível que ambos os X1 e X2 representem um átomo de oxigênio.
[0165]Na Fórmula 1-10, R31 representa um grupo alquila, um grupo arila ou um grupo aralquila, preferivelmente um grupo alquila tendo 1 a 10 átomos de carbono, um grupo arila tendo 6 a 10 átomos de carbono ou um grupo aralquila tendo 7 a 12 átomos de carbono, mais preferivelmente um grupo alquila tendo 1 a 4 átomos de carbono ou um grupo aralquila tendo 7 a 10 átomos de carbono e ainda mais preferivelmente um grupo metila ou um grupo fenilmetila.
[0166]Um anel aromático no grupo arila ou grupo aralquila pode ter um substituinte. Exemplos preferidos do substituinte incluem um grupo alquila, um átomo de halogênio e um substituinte tendo um grupo etilenicamente insaturado. Exemplos do substituinte tendo um grupo etilenicamente insaturado incluem um grupo vinila e um grupo 2-propenila. Entre estes, um grupo vinila é preferível.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 48/145
42/136 [0167]Em seguida, exemplos preferidos da primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação serão descritos, mas a presente divulgação nao esta limitada a estes.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 49/145
43/136
[0168]O composto de absorção de radiação do tipo decomposição pode ser utilizado sozinho ou em combinação de dois ou mais tipos dos mesmos.
[0169]O teor do composto de absorção de radiação do tipo decomposição na primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação é preferivelmente em uma faixa de 0,1 % a 95 % em massa, mais preferivelmente em uma faixa de 1 % a 50 % em massa e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 1 % a 20 % em massa em relação ao teor total de sólido da primeira composição sensível à radiação.
[Polímero Aglutinante] [0170]Do ponto de vista de propriedades de revestimento e propriedades de formação de película, é preferível que a primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação contenha um polímero aglutinante. O tipo de polímero não está particularmente limitado desde que seja utilizado um polímero conhecido, e exemplos preferidos deste incluem um polímero formador de película. Exemplos do polímero formador de película incluem uma resina (met)acrílica, poliuretano, poliéster, poliamida, poliéter, policarbonato, poliureia, poliolefina, uma
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 50/145
44/136 resina vinílica e poliamina. Como a forma de um polímero utilizado na primeira composição sensível à radiação, o polímero pode ser dissolvido na composição e depois adicionado. Exemplos preferidos do polímero a ser dissolvido na composição e depois adicionado incluem uma resina (met)acrílica, poliuretano, poliéster e uma resina vinílica.
[0171]Em um caso onde um polímero é dissolvido na composição e depois adicionado, como um polímero aglutinante (também referido como um “polímero aglutinante para revelação na prensa) adequado para um precursor de placa de impressão planográfica do tipo revelação na prensa, uma resina (met)acrílica, poliuretano, poliéster ou uma resina vinílica é preferível e uma resina (met)acrílica ou poliuretano é mais preferível.
[0172]Como o polímero aglutinante, um polímero tendo uma cadeia de óxido de alquileno é particularmente preferível. O polímero tendo uma cadeia de óxido de alquileno pode ter uma porção poli(óxido de alquileno) na cadeia principal ou em uma cadeia lateral. Além disso, um polímero de enxerto tendo poli(óxido de alquileno) em uma cadeia lateral ou um copolímero em bloco de um bloco formado por uma unidade de repetição contendo poli(óxido de alquileno) e um bloco formado por uma unidade de repetição livre (óxido de alquileno) pode ser utilizado.
[0173]Em um caso onde um polímero tem uma porção poli(óxido de alquileno) na cadeia principal, o poliuretano é preferível. Exemplos do polímero no caso de ter uma porção poli(óxido de alquileno) em uma cadeia lateral incluem uma resina (met)acrílica, polivinil acetal, poliuretano, poliureia, poli-imida, poliamida, uma resina epóxi, poliestireno, uma resina fenol tipo novolac, poliéster, borracha sintética e borracha natural. Entre estes, uma resina (met)acrílica é particularmente preferível.
[0174]Como o óxido de alquileno, óxido de alquileno tendo 2 a 6 átomos de carbono é preferível, e óxido de etileno ou propileno óxido é particularmente preferível.
[0175]O número de repetição de óxidos de alquileno na porção poli(óxido de
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 51/145
45/136 alquileno) é preferivelmente em uma faixa de 2 a 120, mais preferivelmente em uma faixa de 2 a 70 e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 2 a 50.
[0176]Em um caso onde o número de repetição de óxidos de alquileno é 120 ou menos, a degradação da dureza da película é suprimida.
[0177] É preferível que a porção poli(óxido de alquileno) esteja contida em uma cadeia lateral de um polímero como uma estrutura representada pela Fórmula (AO) e mais preferível que a porção poli(óxido de alquileno) esteja contida em uma cadeia lateral de uma resina (met)acrílica como uma estrutura representada pela Fórmula (AO).
--R? (AO )
Q * ” [0178]Na Fórmula (AO), y representa 2 a 120, Ri representa um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila e R2 representa um átomo de hidrogênio ou um grupo orgânico monovalente.
[0179]Como o grupo orgânico monovalente, um grupo alquila tendo 1 a 6 átomos de carbono é preferível. Exemplos específicos destes incluem um grupo metila, um grupo etila, um grupo n-propila, um grupo isopropila, um grupo n-butila, um grupo sec-butila, um grupo isobutila, um grupo tert-butila, um grupo n-pentila, um grupo isopentila, um grupo neopentila, um grupo n-hexila, um grupo iso-hexila, um grupo 1,1-dimetilbutila, um grupo 2,2-dimetilbutila, um grupo ciclopentila e um grupo ciclo-hexila.
[0180]Na Fórmula (AO), y representa preferivelmente 2 a 70 e mais preferivelmente 2 a 50. Ri representa preferivelmente um átomo de hidrogênio ou um grupo metila e particularmente preferivelmente um átomo de hidrogênio. R2 representa particularmente preferivelmente um átomo de hidrogênio ou um grupo metila.
[0181]É preferível que o polímero aglutinante tenha propriedades de reticulação de modo a melhorar a dureza da película de uma camada. De modo a comunicar as propriedades de reticulação ao polímero aglutinante, um grupo de
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 52/145
46/136 reticulação tal como uma ligação etilenicamente insaturada pode ser introduzido no polímero aglutinante de modo que as propriedades de fotoreticulação sejam comunicadas ou o polímero aglutinante possa ter termoplasticidade de modo que propriedades de reticulação térmica sejam comunicadas. O grupo de reticulação pode ser introduzido em qualquer uma de uma cadeia principal ou uma cadeia lateral de um polímero, e exemplos do método para introduzir um grupo de reticulação incluem um método para introduzir um grupo de reticulação realizando-se copolimerização e um método para introduzir um grupo de reticulação realizando-se polimerização e, então, causando uma reação de polímero. De modo a comunicar a termoplasticidade, a temperatura de transição vítrea do polímero pode ser ajustada.
[0182]Exemplos do polímero aglutinante tendo uma ligação etilenicamente insaturada na cadeia principal incluem polibutadieno e poli-isopreno.
[0183]Exemplos do polímero aglutinante tendo uma ligação etilenicamente insaturada em uma cadeia lateral incluem um polímero tendo um grupo (met)acrilato, um grupo (met)acrilamida, um grupo vinila ou um grupo alila em uma cadeia lateral.
[0184]De acordo com o método de ajustar a temperatura de transição vítrea, a temperatura de transição vítrea pode ser ajustada alterando-se a composição dos monômeros a serem copolimerizados ou o peso molecular do polímero.
[0185]Do ponto de vista da dureza da película, o teor (o teor de uma ligação dupla insaturada polimerizável por radicais por titulação de iodo) do grupo de reticulação no polímero aglutinante é preferivelmente em uma faixa de 0,1 a 10,0 mmol, mais preferivelmente em uma faixa de 1,0 a 7,0 mmol e particularmente preferivelmente em uma faixa de 2,0 a 5,5 mmol por 1 g do polímero aglutinante.
[0186]Exemplos específicos 1 a 11 do polímero aglutinante serão descritos abaixo, mas a presente divulgação não está limitada a estes. Nos compostos exemplares mostrados abaixo, o valor numérico (o valor numérico mostrado junto com a unidade de repetição na cadeia principal) mostrado junto com cada unidade de
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 53/145
47/136 repetição indica a porcentagem molar da unidade de repetição. O valor numérico mostrado junto com a unidade de repetição em uma cadeia lateral indica o número de repetição dos sítios de repetição. Além disso, Me representa um grupo metila, Et representa um grupo etila e Ph representa um grupo fenila.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 54/145
48/136
(3)
A 'Γ /40
3 72: .Ο V Me
CO2Et CO^· '2
í''x [ ..-4 V t /3® Λ γ Mn
í C02Me ..0¼ Me >4
(5) -'V Λ' 9 4 x44
I I R ,OV-Me I zx. A .-, I
CO,Me COT' z« CO; ν'' 0' CO2H
ÓH *
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 55/145
49/136 ¢8) ,p'J.4a ,{--'4·% íMú» p
I I K O4~Me ! .-'s À xCO2NH2 004 CO5 V XT γ
OH 3 (« -4¼ xJ43 t\U» ?
I i Λ, I - -X U cof sph Ò04 '4 ,:' co; γ Ό*'
OH
[0187]No peso molecular do polímero aglutinante utilizado na presente divulgação, 0 peso molecular médio ponderado (Mw) deste em termos de poliestireno de acordo com um método de cromatografia de permeação em gel (GPC) é preferivelmente 2.000 ou maior, mais preferivelmente 5.000 ou maior e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 10.000 a 300.000.
[0188]Na presente divulgação, 0 oligômero é ajustado para ter um Mw de 800 ou maior e menor que 2.000 e 0 polímero é ajustado para ter um Mw de 2000 ou
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 56/145
50/136 maior.
[0189]Conforme necessário, polímeros hidrofílicos tais como ácido poliacrílico e álcool polivinílico descrito em JP2008-195018A podem ser utilizados em combinação. Além disso, um polímero lipofílico e um polímero hidrofílico podem ser utilizados em combinação.
[0190]Na primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação, o polímero aglutinante pode ser utilizado sozinho ou em combinação de dois ou mais tipos dos mesmos.
[0191 ]Uma quantidade opcional do polímero aglutinante pode estar contida na primeira composição sensível à radiação.
[0192]O teor do polímero aglutinante pode ser apropriadamente selecionado dependendo das aplicações da primeira composição sensível à radiação, mas é preferivelmente em uma faixa de 1 % a 90 % em massa e mais preferivelmente em uma faixa de 5 % a 80 % em massa em relação ao teor total de sólido da primeira composição sensível à radiação.
[Microgel e partículas de polímero] [0193]De modo a melhorar solubilidade em água da primeira composição sensível à radiação ou melhorar a revelação na prensa em um caso onde a primeira composição sensível à radiação é utilizada no precursor de placa de impressão planográfica, a primeira composição sensível à radiação pode conter pelo menos um selecionado do grupo consistindo em microgéis e partículas de polímero. É preferível que os microgéis ou as partículas de polímero sejam reticulados ou fundidos, ou reticulados e fundidos devido à luz ou calor gerado da irradiação com raios infravermelhos, ou sejam alterados para ter hidrofobicidade. É preferível que os microgéis ou as partículas de polímero sejam pelo menos um selecionado do grupo consistindo em microgéis não reticulados, microgéis reticulados, partículas fundíveis termicamente, partículas de polímero termicamente reativas e partículas de polímero
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 57/145
51/136 tendo um grupo polimerizável. Estes podem ter uma estrutura de invólucro do núcleo ou incluem outros compostos.
[0194]Exemplos adequados das partículas fundíveis termicamente incluem partículas de polímero descritas na Divulgação de Pesquisa N2 33303 em Janeiro de 1992, e nas especificações de JP1997-123387A (JP-H09-123387A), JP1997131850A (JP-H09-131850A), JP1997-171249A (JP-H09-171249A), JP1997-171250A (JP-H09-171250A) e EP931647B.
[0195]Exemplos específicos do polímero que constitui partículas fundíveis termicamente incluem homopolímeros ou copolímeros de monômeros, tais como acrilato ou metacrilato tendo estruturas de etileno, estireno, cloreto vinila, acrilato de metila, acrilato de etila, metacrilato de metila, metacrilato de etila, cloreto de vinilideno, acrilonitrila, vinil carbazol e polialquileno, e misturas destes. Entre estes, poliestireno, estireno, um copolímero contendo acrilonitrila e polimetil metacrilato são preferíveis.
[0196]Exemplos das partículas de polímero termicamente reativas incluem partículas de polímero tendo um grupo termicamente reativo. As partículas de polímero tendo um grupo termicamente reativo são reticuladas por uma reação térmica e têm regiões hidrofóbicas formadas por uma mudança nos grupos funcionais durante a reticulação.
[0197]Como o grupo termicamente reativo em partículas de polímero tendo um grupo termicamente reativo, um grupo funcional que realiza qualquer reação pode ser utilizado desde que uma ligação química seja formada, mas um grupo polimerizável é preferível. Exemplos adequados do grupo polimerizável incluem um grupo etilenicamente insaturado que realiza uma reação de polimerização radical (tal como um grupo acriloila, um grupo metacriloila, um grupo vinila ou um grupo alila); um grupo polimerizável catiônico (tal como um grupo vinila, um grupo vinilóxi, um grupo epóxi ou um grupo oxetanila); um grupo isocianato que realiza uma reação de adição ou um corpo de bloco deste, um grupo epóxi, um grupo vinilóxi e um grupo funcional
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 58/145
52/136 tendo átomos de hidrogênios ativos como os parceiros de reação destes (tal como um grupo amina, um grupo hidróxi ou um grupo carboxi); um grupo carboxi que realiza uma reação de condensação e um grupo hidróxi ou um grupo amina como um parceiro de reação deste; e um ácido anidrido que realiza uma reação de adição de abertura de anel e um grupo amina ou um grupo hidróxi como um parceiro de reação destes.
[0198]Exemplos da microcápsula incluem aquelas obtidas encapsulando-se todos ou alguns dos componentes constituintes da primeira composição sensível à radiação em uma microcápsula como descrito em JP2001-277740A e JP2001277742A. Além disso, o componente constituinte da primeira composição sensível à radiação pode também estar contido em uma porção exceto a microcápsula. Além disso, um aspecto preferido da primeira composição sensível à radiação contendo a microcápsula é um aspecto em que os componentes constituintes hidrofóbicos estão contidos em uma microcápsula e componentes constituintes hidrofílicos estão contidos em uma porção exceto a microcápsula.
[0199]O microgel pode conter alguns dos componentes constituintes da primeira composição sensível à radiação em pelo menos uma da superfície ou dentro da mesma. Particularmente, do ponto de vista de sensibilidade à formação de imagem e durabilidade de impressão, é preferível que o microgel tenha um grupo polimerizável por radicais na superfície deste para obter um microgel reativo.
[0200]De modo a obter uma microcápsula ou um microgel através dos componentes da primeira composição sensível à radiação, um método conhecido pode ser utilizado.
[0201 ]Em um caso onde a primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação contém um polímero na forma de uma microcápsula, um microgel ou partículas de polímero, o diâmetro médio da partícula primária das microcápsulas, dos microgéis ou das partículas de polímero é preferivelmente em uma faixa de 10 a 1000 nm, mais preferivelmente em uma faixa
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 59/145
53/136 de 20 a 300 nm e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 30 a 120 nm.
[0202]0 diâmetro médio da partícula primária pode ser medido de acordo com um método de dispersão de luz.
[0203]0 teor do microgel ou das partículas de polímero é preferivelmente em uma faixa de 5 % a 90 % em massa em relação ao teor total de sólido da primeira composição sensível à radiação.
[Agente absorvente de infravermelho] [0204]A primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação pode conter um agente absorvente de infravermelho. Em um caso onde a primeira composição sensível à radiação contém um agente absorvente de infravermelho, a primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação pode ser adequadamente utilizada como uma composição sensível ao infravermelho.
[0205]Na primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação, o agente absorvente de infravermelho não contém um composto de absorção de radiação do tipo decomposição correspondente ao composto de absorção de radiação acima descrito.
[0206]0 agente absorvente de infravermelho é um composto que tem uma função de converter raios infravermelhos absorvidos em calor. Além disso, o agente absorvente de infravermelho pode ter uma função de ser excitado por raios infravermelhos e transferência de elétron ou transferência de energia para o iniciador radical ou semelhantes.
[0207]0 agente absorvente de infravermelho preferivelmente tem o comprimento de onda de absorção máxima em uma faixa de comprimento de onda de 750 a 1400 nm. Como o agente absorvente de infravermelho, corantes ou pigmentos são preferivelmente utilizados.
[0208]Como o corante, corantes comercialmente disponíveis e corantes
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 60/145
54/136 conhecidos descritos nas literaturas tal como “Corante Handbook” (editada pela Society of Synthetic Organic Chemistry, Japão, publicada em 1970) podem ser utilizados. Exemplos específicos destes incluem corantes tal como um corante azo, um corante azo de sal complexo de metal, um corante azo pirazolona, um corante naftoquinona, um corante antraquinona, um corante de ftalocianina, um corante carbonic, um corante imina quinona, um corante metina, um corante cianina, um agente de coloração de esquarílio, um sal de pirílio e um complexo tiolato de metal.
[0209]Entre os corantes acima descritos, um agente corante de cianina, um agente de coloração de esquarílio e um sal de pirílio são preferíveis. Entre estes, um agente corante de cianina é preferível, e um agente corante de cianina indolenina é particularmente preferível.
[0210]Exemplos específicos do agente corante de cianina incluem compostos descritos nos parágrafos 0017 a 0019 de JP2001 -133969A e compostos descritos nos parágrafos 0016 a 0021 de JP2002-023360A e parágrafos 0012 a 0037 de JP2002040638A. Exemplos preferidos deste incluem compostos descritos nos parágrafos 0034 a 0041 de JP2002-278057A e parágrafos 0080 a 0086 de JP2008-195018A e particularmente exemplos preferidos destes incluem compostos descritos nos parágrafos 0035 a 0043 de JP2007-090850A.
[0211]Além disso, os compostos descritos nos parágrafos 0008 e 0009 de JP1993-005005A (JP-H05-005005A) e parágrafos 0022 a 0025 de JP2001-222101A podem ser preferivelmente utilizados.
[0212]Como os pigmentos, os compostos descritos nos parágrafos 0072 a 0076 de JP2008-195018A são preferíveis.
[0213]O agente absorvente de infravermelho pode ser utilizado sozinho ou em combinação de dois ou mais tipos dos mesmos. Além disso, pigmentos e corantes podem ser utilizados em combinação como o agente absorvente de infravermelho.
[0214]Uma quantidade opcional do agente absorvente de infravermelho pode
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 61/145
55/136 estar contida na primeira composição sensível à radiação. O teor do agente absorvente de infravermelho é preferivelmente em uma faixa de 0,05 % a 30 % em massa, mais preferivelmente em uma faixa de 0,1 % a 20 % em massa e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 0,2 % a 10 % em massa em relação a 100 partes por massa que é o teor total de sólido da primeira composição sensível à radiação.
[Outros componentes] [0215]A primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação pode conter aditivos (por exemplo, tensoativos) exceto aqueles descritos acima, conforme necessário.
[Formação de película de composição] [0216]Uma película de composição pode ser formada dissolvendo-se ou dispersando-se cada componente contido na primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação em um solvente apropriado para preparar uma solução de revestimento, revestindo um suporte ou semelhantes com a solução de revestimento, e secando a solução de revestimento.
[0217]Como o solvente, um solvente conhecido pode ser utilizado. Exemplos específicos destes incluem água, acetona, metil etil cetona (2-butanona), ciclohexano, acetato de etila, dicloreto de etileno, tetra-hidrofurano, toluene, éter monometílico de etileno glicol, éter monoetílico de etileno glicol, éter dimetílico de etileno glicol, éter monometílico de propileno glicol, éter monoetílico de propileno glicol, acetil acetona, ciclo-hexanona, álcool de diacetona, acetato de éter monometílico de etileno glicol, acetato de éter etílico de etileno glicol, éter monoisopropílico de etileno glicol, acetato de éter monobutílico de etileno glicol, 1metóxi-2-propanol, 3-metóxi-1 -propanol, metóxi etanol, éter monometílico de dietileno glicol, éter monoetílico de dietileno glicol, éter dimetílico de dietileno glicol, éter dietílico de dietileno glicol, acetato de éter monometílico de propileno glicol, acetato de éter monoetílico de propileno glicol, acetato de 3-metóxi propila, N,N-dimetilformamida,
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 62/145
56/136 sulfóxido de dimetila, γ-butirolactona, lactato de metila e lactato de etila. O solvente pode ser utilizado sozinho ou na forma de uma mistura de dois ou mais tipos dos mesmos. A concentração de teor de sólidos na solução de revestimento é preferivelmente em uma faixa de 1 % a 50 % em massa.
<Segunda composição sensível à radiação [0218]Uma segunda composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação inclui um iniciador radical, um componente polimerizável por radical e um composto de absorção de radiação. Além disso, o iniciador radical contém um iniciador radical doador de elétrons e um iniciador radical aceitante de elétrons, e a curva de quantidade versus tempo de geração de radical deste tem dois ou mais picos da quantidade de geração de radical após a exposição à radiação formadora de imagem.
[0219]A segunda composição sensível à radiação gera o primeiro radical e o segundo radical através da reação mostrada pela seguinte fórmula de reação.
[0220]Como os resultados, a segunda composição sensível à radiação tem dois ou mais picos da quantidade de geração de radical na curva de quantidade versus tempo de geração de radical após a exposição à radiação formadora de imagem.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 63/145
57/136 / ZU-UMO
110 mJ
830 :itn
Iniciador radical aceitante de elétrons (exemplo) Primeiro radical (primeiro pico)
L :'ϊ / agism • * * /“'S T . .-“--AHxC k / \' V;
Ϊ 0)
Segundo radical i j:‘ (pico após ao pico inicialmente gerado) .W
Iniciador radical doador de elétrons (exemplo)
O Composto de absorção de radiação (exemplo) O
Composto de absorção de radiação (outro exemplo) [0221 ]Na fórmula de reação, especula-se que o composto de absorção de radiação seja excitado devido à irradiação com a radiação formadora de imagem, e a transferência de elétrons para o iniciador radical aceitante de elétrons ocorra de modo que o primeiro radical seja gerado.
[0222]Além disso, especula-se que a transferência de elétrons para o composto de absorção de radiação do iniciador radical doador de elétrons ocorra de modo que o segundo radical seja gerado.
[0223]Visto que existe uma diferença na taxa de reação entre a reação em que o primeiro radical é gerado e a reação em que o segundo radical é gerado, na segunda composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação, a curva de quantidade versus tempo de geração de radical tem dois ou mais picos da quantidade de geração de radical após a exposição à radiação
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 64/145
58/136 formadora de imagem.
[0224]Além disso, especula-se que a geração dos picos após o pico inicialmente gerado seja retardada e a segunda quantidade de geração de radical diminua como a diferença entre o orbital molecular ocupado mais alto (HOMO) do composto de absorção de radiação e o HOMO do iniciador radical doador de elétrons aumente.
[0225]Na fórmula de reação mostrada acima, Ph representa um grupo fenila.
[Iniciador radical] [0226]Os iniciadores radicais na segunda composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação incluem um iniciador radical doador de elétrons e um iniciador radical aceitante de elétrons.
[0227]Aqui, o iniciador radical doador de elétrons na segunda composição sensível à radiação tem a mesma definição como que para o iniciador radical aceitante de elétrons na primeira composição sensível à radiação descrito acima, e os aspectos preferíveis destes também são os mesmos como descrito acima.
- Iniciador radical aceitante de elétrons [0228]Exemplos do iniciador radical aceitante de elétrons incluem um haleto orgânico (a), um composto carbonila (b), um composto azo (c), um peroxide orgânico (d), um composto metaloceno (e), um composto azida (f), um composto hexa-aril biimidazol (g), um composto dissulfona (h), um composto éster de oxima (i) e um composto sal de ônio (j).
[0229]Como o haleto orgânico (a), por exemplo, os compostos descritos nos parágrafos 0022 e 0023 de JP2008-195018A são preferíveis.
[0230]Como o composto carbonila (b), por exemplo, os compostos descritos no parágrafo 0024 de JP2008-195018A são preferíveis.
[0231]Como o composto azo (c), por exemplo, um composto azo e semelhantes descritos em JP1996-108621A (JP-H08-108621 A) podem ser utilizados.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 65/145
59/136 [0232]Como o peróxido orgânico (d), por exemplo, os compostos descritos no parágrafo 0025 de JP2008-195018A são preferíveis.
[0233]Como o composto metaloceno (e), por exemplo, os compostos descritos no parágrafo 0026 de JP2008-195018A são preferíveis.
[0234]Como o composto azida (f), por exemplo, os compostos tal como 2,6bis(4-azidobenzilideno)-4-metilciclo-hexanona podem ser exemplificados.
[0235]Como o composto hexa-aril bi-imidazol (g), por exemplo, os compostos descritos no parágrafo 0027 de JP2008-195018A são preferíveis.
[0236]Como o composto dissulfona (h), por exemplo, os compostos descritos em JP1986-166544A (JP-S61-166544A) e JP2002-328465A podem ser exemplificados.
[0237]Como o composto éster de oxima (I), por exemplo, os compostos descritos nos parágrafos 0028 a 0030 de JP2008-195018A são preferíveis.
[0238]Entre os exemplos do iniciador radical aceitante de elétrons, do ponto de vista da curabilidade, éster de oxima e um sal de ônio são mais preferíveis, e um sal de ônio tal como um sal de iodônio, um sal de sulfônio ou um sal de azônio é ainda mais preferível. Em um caso de utilizar um precursor de placa de impressão planográfica, um sal de iodônio ou um sal de sulfônio é particularmente preferível. Exemplos específicos do sal de iodônio e do sal de sulfônio serão descritos abaixo, mas a presente divulgação não está limitada a estes.
[0239]Como exemplos do sal de iodônio, um sal de difeniliodônio é preferível. Particularmente, um sal de difenil iodônio que tem um grupo doador de elétrons como um substituinte, por exemplo, que é substituído por um grupo alquila ou um grupo alcóxi é preferível, e um sal de difenil iodônio assimétrico é preferível. Exemplos específicos destes incluem difeniliodônio=hexafluorofosfato, 4-metoxifenil-4-(2metilpropil)feniliodônio=hexafluorofosfato, 4-(2-metilpropil)fenil-ptoliliodônio=hexafluorofosfato, 4-hexiloxifenil-2,4,6Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 66/145
60/136 trimetoxifeniliodônio=hexafluorofosfato, 4-hexiloxifenil-2,4dietoxifeniliodônio=tetrafluoroborato, 4-octiloxifenil-2,4,6-trimetoxifeniliodônio=1 perfluorobutanosulfonato, 4-octiloxifenil-2,4,6-trimetoxifeniliodônio=hexafluorofosfato, e bis(4-t-butilfenil)iodônio=hexafluorofosfato.
[0240]Como exemplos do sal de sulfônio, um sal de triaril sulfônio é preferível. Particularmente, um sal de triaril sulfônio que tem um grupo de remoção de elétrons como um substituinte, por exemplo, em que pelo menos alguns grupos no anel aromático foram substituídos com átomos de halogênio é preferível, e um sal de triaril sulfônio em que o número total de substituições de átomos de halogênio no anel aromático é 4 ou mais é mais preferível. Exemplos específicos do sal de sulfônio incluem trifenilssulfônio=hexafluorofosfato, trifenilssulfônio=benzoilformato, bis(4clorofenil)fenilssulfônio=benzoilformato, bis(4-clorofenil)-4metilfenilssulfônio=tetrafluoroborato, tris(4-clorofenil)sulfônio=3,5bis(metoxicarbonil)benzenossulfonato, tris(4-clorofenil)sulfônio=hexafluorofosfato e tris(2,4-diclorofenil)sulfônio=hexafluorofosfato.
[0241 ]O iniciador radical aceitante de elétrons pode ser utilizado sozinho ou em combinação de dois ou mais tipos dos mesmos.
[0242]O teor do iniciador radical aceitante de elétrons é preferivelmente em uma faixa de 0,1 % a 50 % em massa, mais preferivelmente em uma faixa de 0,5 % a 30 % em massa e particularmente preferivelmente em uma faixa de 0,8 % a 20 % em massa em relação ao teor total de sólido da segunda composição sensível à radiação.
[Componente polimerizável por radical] [0243]O componente polimerizável por radical na segunda composição sensível à radiação tem a mesma definição como que para o componente polimerizável por radical na primeira composição sensível à radiação, e os aspectos preferíveis deste também são os mesmos como descrito acima.
[Composto de absorção de radiação]
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 67/145
61/136 [0244]Como o composto de absorção de radiação na segunda composição sensível à radiação, o composto de absorção de radiação na primeira composição sensível à radiação ou o agente absorvente de infravermelho na primeira composição sensível à radiação pode ser utilizado. Os aspectos preferíveis destes compostos são os mesmos que os aspectos preferíveis destes compostos na primeira composição sensível à radiação.
- Orbital molecular ocupado mais alto (HOMO) e orbital molecular não ocupado mais baixo (LUMO)[0245]Do ponto de vista da durabilidade de impressão e da reprodutibilidade de tom, uma diferença (diferença potencial AG2, AG2 = HOMO do composto de absorção de radiação-HOMO do iniciador radical doador de elétrons) entre o orbital molecular ocupado mais alto (HOMO) do composto de absorção de radiação e o HOMO do iniciador radical doador de elétrons na segunda composição sensível à radiação é preferivelmente 0,50 eV ou maior, mais preferivelmente em uma faixa de 0,60 eV a 1,50 eV, ainda mais preferivelmente em uma faixa de 0,61 eV a 1,30 eV e particularmente preferivelmente em uma faixa de 0,65 eV a 1,20 eV.
[0246]Em um caso onde o segundo composto de absorção de radiação contém uma pluralidade de um ou ambos os compostos de absorção de radiação e os iniciadores radicais doadores de elétrons, é preferível que uma combinação dos compostos de absorção de radiação e os iniciadores radicais doadores de elétrons, que permita a diferença entre o HOMO dos compostos de absorção de radiação e o HOMO dos iniciadores radicais doadores de elétrons estar na faixa acima descrita, esteja presente.
[0247]Além disso, do ponto de vista da durabilidade de impressão e da reprodutibilidade de tom, uma diferença (diferença potencial AG3, AG3 = LUMO do iniciador radical aceitante de elétrons-LUMO do composto de absorção de radiação) entre o orbital molecular não ocupado mais baixo (LUMO) do iniciador radical
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 68/145
62/136 aceitante de elétrons e o LUMO do composto de absorção de radiação na segunda composição sensível à radiação é preferivelmente 0,90 eV ou menor, mais preferivelmente 0,85 eV ou menor, ainda mais preferivelmente 0,80 eV ou menor, e ainda mais preferivelmente 0,75 eV ou menor. O limite inferior deste não está particularmente limitado, mas é preferivelmente 0,10 eV ou maior.
[0248]Em um caso onde o segundo composto de absorção de radiação contém uma pluralidade de um ou ambos os compostos de absorção de radiação e os iniciadores radicais aceitadores de elétrons, é preferível que uma combinação dos compostos de absorção de radiação e os iniciadores radicais aceitadores de elétrons, que permita a diferença entre o LUMO dos compostos de absorção de radiação e o LUMO dos iniciadores radicais aceitadores de elétrons estar na faixa acima descrita, esteja presente.
[0249]Na presente divulgação, HOMO e LUMO são calculados de acordo com o seguinte método.
[0250]Primeiro, os contra-ânions nos compostos a serem calculados não são considerados.
[0251 ]A otimização estrutural é realizada por DFT (B3LYP/6-31 G(d)) utilizando software de cálculo químico quântico Gaussian 09.
[0252]A energia orbital molecular (MO) é calculada por DFT (B3LYP/6-31 + G(d,p)/CPCM (solvente = metanol)) utilizando a estrutura obtida pela otimização estrutural acima descrita.
[0253]O Ebare de energia MO (unidade: hartree) obtido pelo cálculo de energia MO acima descrito é convertido para Escalonado (unidade: eV) utilizado como os valores de HOMO e LUMO na presente divulgação de acordo com a seguinte fórmula.
Escalonado = 0,823168 x 27,2114 x Ebare - 1,07634 [0254]Além disso, 27,2114 é simplesmente um coeficiente para converter
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 69/145
63/136 hartree em eV, e 0,823168 e -1,07634 são coeficientes de ajuste e estes são determinados de tal modo que os valores calculados de HOMO e LUMO dos compostos a serem calculados correspondem aos valores medidos.
[0255]Além disso, AG2 (AG2 = HOMO do composto de absorção de radiaçãoHOMO do iniciador radical doador de elétrons) é adquirido a partir da diferença entre HOMO do composto de absorção de radiação e HOMO do iniciador radical doador de elétrons.
[0256]Além disso, AG3 (AG3 = LUMO do iniciador radical aceitante de elétrons-LUMO do composto de absorção de radiação) é adquirido a partir da diferença entre LUMO do iniciador radical aceitante de elétrons e LUMO do composto de absorção de radiação.
[0257]É considerado que a estabilidade do iniciador radical doador de elétrons nos tempos exceto a exposição à radiação formadora de imagem é excelente, e a transferência de elétrons ocorre de HOMO do iniciador radical doador de elétrons para HOMO do composto de absorção de radiação no momento da exposição à radiação formadora de imagem de modo que a excitação do composto de absorção de radiação para o orbital molecular não ocupado mais baixo (LUMO) é promovida e a decomposição do composto de absorção de radiação é promovida, em um caso onde a diferença potencial entre HOMO do composto de absorção de radiação e HOMO do iniciador radical doador de elétrons está na faixa acima descrita.
[0258]Além disso, é considerado que a transferência de elétrons do composto de absorção de radiação para o iniciador radical aceitante de elétrons é promovida, a polimerização do componente polimerizável por radical é promovida, e a curabilidade da composição é excelente, em um caso onde a diferença potencial entre LUMO do iniciador radical aceitante de elétrons e LUMO do composto de absorção de radiação está na faixa acima descrita.
[Polímero aglutinante]
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 70/145
64/136 [0259]É preferível que a segunda composição sensível à radiação contenha um polímero aglutinante.
[0260]0 polímero aglutinante na segunda composição sensível à radiação tem a mesma definição como que para o polímero aglutinante na primeira composição sensível à radiação, e os aspectos preferíveis deste são os mesmos como descrito acima.
[Microgel e partículas de polímero] [0261 ]É preferível que a segunda composição sensível à radiação contenha um microgel e partículas de polímero.
[0262]O microgel e as partículas de polímero na segunda composição sensível à radiação cada um tem a mesma definição como que para o microgel e as partículas de polímero na primeira composição sensível à radiação, e os aspectos preferíveis destes são os mesmos como descrito acima.
[Outros componentes] [0263]A segunda composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação pode conter aditivos (por exemplo, tensoativos) exceto aqueles descrito acima, conforme necessário.
[Formação de película de composição] [0264]Uma película de composição pode ser formada dissolvendo-se ou dispersando-se cada componente contido na segunda composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação em um solvente apropriado para preparar uma solução de revestimento, revestindo um suporte ou semelhantes com a solução de revestimento, e secando a solução de revestimento.
[0265]Como a concentração de teor de sólidos no solvente e a solução de revestimento utilizado na preparação, a concentração de teor de sólidos no solvente e a solução de revestimento em um caso de preparação da solução de revestimento utilizando a primeira composição sensível à radiação descrita acima podem ser
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 71/145
65/136 utilizados.
<Aplicações da composição sensível à radiação [0266]A composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação é preferivelmente utilizada para um material formador de imagem. Exemplos do material formador de imagem incluem materiais formadores de imagem obtidos utilizando-se cura por polimerização da exposição da imagem, tal como um precursor de placa de impressão planográfica, uma placa de circuitos impressos, um filtro de cor e uma máscara fotográfica.
[0267]O material formador de imagem contendo a primeira composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação forma uma região que é curada por ser exposta a uma fonte de luz que irradia radiação formadora de imagem. Exemplos da fonte de luz que irradia radiação formadora de imagem incluem um laser em estado sólido e um laser semicondutor que irradia raios infravermelhos.
(Precursor de placa de impressão planográfica) [0268]Um precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação inclui: um suporte; e uma camada de gravação de imagem que contém um iniciador radical, um componente polimerizável por radical, e um composto de absorção de radiação, e em que uma curva de quantidade versus tempo de geração de radical deste tem dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical após à exposição à radiação formadora de imagem.
[0269]Além disso, do ponto de vista de permitir exposição a raios infravermelhos, é preferível que o composto de absorção de radiação contido no precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação é um composto de absorção de infravermelho.
<Picos de quantidade de geração de radical>
[0270]Na camada de gravação de imagem, a curva de quantidade versus
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 72/145
66/136 tempo de geração de radical tendo dois ou mais picos da quantidade de geração de radical após à exposição à radiação formadora de imagem é confirmada pela medição com base na absorção nano transitória.
[0271]Especificamente, um substrato de quartzo é revestido com uma solução obtida dissolvendo-se a camada de gravação de imagem do precursor de placa de impressão planográfica e secando-se a solução para formar uma película revestida tal que a quantidade de revestimento desta é definida para ser a mesma como a quantidade de revestimento seco da camada de gravação de imagem. A película revestida formada é irradiada com um pulso de laser de nanossegundo tendo um comprimento de onda utilizado como radiação formadora de imagem. Em sincronização com o pulso de laser de nanossegundo, a luz do laser (um comprimento de onda no qual um radical a ser observado tem absorção) para um monitor é oscilada, e uma mudança no número de fótons da luz do laser para um monitor com o passar do tempo é detectada por um tubo fotomultiplicador (PMT) de modo que a medição é realizada utilizando uma técnica de medição utilizando um osciloscópio.
[0272]A solução obtida dissolvendo-se a camada de gravação de imagem do precursor de placa de impressão planográfica pode ser obtida dissolvendo-se a camada de gravação de imagem em um solvente.
[0273]O solvente não é limitado desde que a camada de gravação de imagem possa ser dissolvida, e os exemplos do solvente incluem solventes utilizados para formar a película da composição descrita acima.
[0274]Aqui, em um caso onde é difícil dissolver a camada de gravação de imagem, por exemplo, o precursor de placa de impressão planográfica tem uma camada protetora, a medição é realizada utilizando a composição utilizada para formar a camada de gravação de imagem do precursor de placa de impressão planográfica no lugar da solução obtida dissolvendo-se a camada de gravação de imagem do precursor de placa de impressão planográfica.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 73/145
67/136 [0275]De acordo com o método de medição, em um caso onde dois ou mais picos da quantidade de geração de radical estão presentes na curva de quantidade versus tempo de geração de radical, o precursor de placa de impressão planográfica é considerado ter a camada de gravação de imagem tendo dois ou mais picos da quantidade de geração de radical na curva de quantidade versus tempo de geração de radical após à exposição à radiação formadora de imagem.
[0276]Além disso, os aspectos preferíveis do método de medição com base na absorção nano transitória são os mesmos como os aspectos preferíveis do método de medição com base na absorção nano transitória utilizando a composição sensível à radiação descrita acima.
[0277]Na camada de gravação de imagem de acordo com a presente divulgação, do ponto de vista de melhorar a durabilidade de impressão, um intervalo de pico entre um pico da quantidade de geração de radical que é inicialmente gerado em relação ao tempo após à exposição à radiação formadora de imagem e pelo menos um dos picos da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado, entre os picos da quantidade de geração de radical, é preferivelmente de 30 ms ou maior, mais preferivelmente de 40 ms ou maior, ainda mais preferivelmente em uma faixa de 40 ms a 500 ms, e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 50 ms a 300 ms.
[0278]De acordo com o método descrito acima, o intervalo de pico medido utilizando a solução obtida dissolvendo-se a camada de gravação de imagem do precursor de placa de impressão planográfica pode ser considerado ser o mesmo como o intervalo de pico na camada de gravação de imagem da placa de impressão planográfica.
[0279]Na camada de gravação de imagem de acordo com a presente divulgação, do ponto de vista de alcançar tanto a durabilidade de impressão quantpo a reprodutibilidade de tom, é preferível que pelo menos um dos picos da quantidade
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 74/145
68/136 de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado em relação ao tempo após à exposição à radiação formadora de imagem, entre os picos da quantidade de geração de radical, seja um pico derivado de um produto de decomposição do composto de absorção de radiação.
[0280]Por exemplo, em um caso onde a camada de gravação de imagem contém um composto de absorção de radiação tipo decomposição descrito acima, pelo menos um dos picos da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado em relação ao tempo torna-se um pico derivado de um produto de decomposição do composto de absorção de radiação.
<Aspectos do precursor de placa de impressão planográfica>
[0281 ]De acordo com um primeiro aspecto da presente divulgação, o precursor de placa de impressão planográfica (em seguida, também referido como um “primeiro precursor de placa de impressão planográfica”) é um precursor de placa de impressão planográfica incluindo um suporte; e uma camada de gravação de imagem que contém um iniciador radical, um componente polimerizável por radical e um composto de absorção de radiação, e em que a curva de quantidade versus tempo de geração de radical tem dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical após à exposição à radiação formadora de imagem, em que o iniciador radical contém um iniciador radical doador de elétrons, e o composto de absorção de radiação contém um composto que é decomponível para gerar um radical devido à exposição à radiação formadora de imagem.
[0282]A camada de gravação de imagem do primeiro precursor de placa de impressão planográfica é formado por ser revestido com uma solução de revestimento obtida adicionando-se outros componentes tais como um solvente à primeira composição sensível à radiação conforme necessário.
[0283]De acordo com um segundo aspecto da presente divulgação, o precursor de placa de impressão planográfica (em seguida, também referido como um
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 75/145
69/136 “segundo precursor de placa de impressão planográfica”) é um precursor de placa de impressão planográfica incluindo um suporte; e uma camada de gravação de imagem que contém um iniciador radical, um componente polimerizável por radical e um composto de absorção de radiação, e em que a curva de quantidade versus tempo de geração de radical deste tem dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical após à exposição à radiação formadora de imagem, em que o iniciador radical contém um iniciador radical doador de elétrons e um iniciador radical aceitante de elétrons.
[0284]Além disso, o segundo precursor de placa de impressão planográfica também inclui um aspecto em que o iniciador radical inclui um iniciador radical doador de elétrons e um iniciador radical aceitante de elétrons, e o composto de absorção de radiação contém um composto que é decomponível para gerar um radical devido à exposição à radiação formadora de imagem.
[0285]A camada de gravação de imagem do segundo precursor de placa de impressão planográfica é formada por ser revestida com uma solução de revestimento obtida adicionando-se outros componentes tais como um solvente à segunda composição sensível à radiação conforme necessário.
[0286]Em seguida, a camada de gravação de imagem, a camada intermédia, a camada protetora, e o suporte no primeiro precursor de placa de impressão planográfica ou no segundo precursor de placa de impressão planográfica será coletivamente descrito.
cCamada de gravação de imagerr» [0287]Os detalhes e o teor de cada componente constituinte tal como o iniciador radical, o componente polimerizável por radical, o composto de absorção de radiação, o polímero aglutinante, o microgel, as partículas de polímero, o agente absorvente de infravermelho ou outros componentes contidos na camada de gravação de imagem do primeiro precursor de placa de impressão planográfica ou do segundo
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 76/145
70/136 precursor de placa de impressão planográfica podem ser referidos à descrição da primeira composição sensível à radiação ou da segunda composição sensível à radiação de acordo com a modalidade da presente divulgação.
[0288]De modo a realizar revelação na prensa, é preferível que a camada de gravação de imagem do precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação possa ser removida por qualquer uma ou ambas de água de umedecimento e tinta de impressão descritas abaixo.
[0289]A camada de gravação de imagem de acordo com a presente divulgação pode conter ainda um composto hidrofílico de baixo peso molecular, um agente sensibilizante, um solvente e componentes exceto os componentes constituintes descritos acima.
[Composto hidrofílico de baixo peso molecular] [0290]De modo a melhorar a revelação na prensa ao suprimir a degradação da durabilidade de impressão, a camada de gravação de imagem pode conter um composto hidrofílico de baixo peso molecular. Como o composto hidrofílico de baixo peso molecular, um composto tendo um peso molecular inferior a 1.000 é preferível, um composto tendo um peso molecular inferior a 800 é mais preferível e um composto tendo um peso molecular inferior a 500 é ainda mais preferível.
[0291]Como o composto hidrofílico de baixo peso molecular, os exemplos de um composto orgânico solúvel em água incluem glicóis tais como etileno glicol, dietileno glicol, trietileno glicol, propileno glicol, dipropileno glicol e tripropileno glicol e derivados de éter ou éster destes; polióis tais como glicerina, pentaeritritol, e tris(2hidroxietil)isocianurato; aminas orgânicas tais como trietanolamina, dietanolamina e monoetanolamina e sais destas; ácidos sulfônicos orgânicos tais como ácido alquilsulfônico, ácido toluenossulfônico e ácido benzenossulfônico e sais destes; ácidos sulfâmicos orgânicos tais como ácido alquil sulfâmico e sais destes; ácidos sulfúricos orgânicos tais como ácido alquil sulfúrico e ácido sulfúrico de éter alquílico
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 77/145
71/136 e sais destes; ácidos fosfônicos orgânicos tais como ácido fenil fosfônico e sais deste; ácidos carboxílicos orgânicos tais como ácido tartárico, ácido oxálico, ácido cítrico, ácido málico, ácido láctico, ácido glicônico e aminoácidos e sais destes; e betaínas.
[0292]Entre os exemplos do composto hidrofílico de baixo peso molecular, é preferível que a camada de gravação de imagem contém pelo menos um selecionado do grupo consistindo em polióis, sulfates orgânicos, sulfonatos orgânicos e betaínas.
[0293]Exemplos específicos dos sulfonatos orgânicos incluem um alquil sulfonato tal como n-butil sulfonato de sódio, n-hexil sulfonato de sódio, 2-etilhexil sulfonato de sódio, ciclo-hexil sulfonato de sódio ou n-octil sulfonato de sódio; um alquil sulfonato contendo uma cadeia de óxido de etileno tal como 5,8,11trioxapentadecano-1-sulfonato de sódio, 5,8,11-trioxa-heptadecano-1-sulfonato de sódio, 13-etil-5,8,11-trioxa-heptadecano-1-sulfonato de sódio ou 5,8,11,14tetraoxatetradecosano-1-sulfonato de sódio; um aril sulfonato tal como benzeno sulfonato de sódio, p-tolueno sulfonato de sódio, p-hidroxibenzeno sulfonato de sódio, p-estireno sulfonato de sódio, dimetil-5-sulfonato de ácido isoftálico de sódio, 1-naftil sulfonato de sódio, 4-hidroxinaftil sulfonato de sódio, 1,5-naftaleno dissulfonato de dissódio ou 1,3,6-naftaleno trissulfonato de trissódio; e compostos descritos nos parágrafos 0026 a 0031 de JP2007-276454A e parágrafos 0020 a 0047 de JP2009154525A. O sal pode ser um sal de potássio ou um sal de lítio.
[0294]Exemplos dos sulfates orgânicos incluem uma alquila, uma alquenila, uma alquinila e uma arila de polióxido de etileno e um sulfato de monoéter heterocíclico. O número de unidades de óxido de etileno é preferivelmente em uma faixa de 1 a 4. Como um sal, um sal de sódio, um sal de potássio ou um sal de lítio é preferível. Exemplos específicos destes incluem compostos descritos nos parágrafos 0034 a 0038 de JP2007-276454A.
[0295]Como betaínas, os compostos tendo 1 a 5 átomos de carbono de hidrocarbonetos substituintes para átomos de nitrogênio são preferíveis. Exemplos
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 78/145
72/136 específicos destes incluem acetato de trimetil amônio, acetato de dimetil propil amônio, butirato de 3-hidróxi-4-trimetil amônio, 4-(1-piridinio)butirato, 1 -hidroxietil-1 imidazolioacetato, sulfonate de trimetil amônio metano, sulfonato dimetil propil amônio metano, sulfonato de 3-trimetilamônio-1-propano e sulfonato de 3-(1-piridinio)-1propano.
[0296]Visto que o composto hidrofílico de baixo peso molecular tem uma pequena estrutura de uma porção hidrofóbica e quase não exibe uma ação tensoativa, a hidrofobicidade ou dureza de película de uma área de imagem não é degradada por água de umedecimento permeando em uma porção exposta (área de imagem) da camada de gravação de imagem e a receptividade de tinta ou durabilidade de impressão da camada de gravação de imagem podem ser mantidas satisfatoriamente.
[0297]O teor dos compostos hidrofílicos de baixo peso molecular é preferivelmente em uma faixa de 0,5 % a 20 % em massa, mais preferivelmente em uma faixa de 1 % a 15 % em massa, e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 2 % a 10 % em massa em relação ao teor de sólido total da camada de gravação de imagem. Em um caso onde o teor destes é na faixa descrita acima, excelente revelação na prensa e durabilidade de impressão pode ser obtida.
[0298]Os compostos hidrofílicos de baixo peso molecular podem ser utilizados sozinhos ou na mistura de dois ou mais tipos destes.
[Agente sensibilizante] [0299]De modo a melhorar as propriedades de impressão, a camada de gravação de imagem pode conter um agente sensibilizante tal como um composto fosfônio, um composto de baixo peso molecular contendo nitrogênio ou um polímero contendo grupo amônio. Particularmente, em um caso onde uma camada protetora contém um composto inorgânico em camadas, estes compostos funcionam como um agente de revestimento de superfície do composto inorgânico em camadas e suprimem a degradação das propriedades de impressão devido ao composto
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 79/145
73/136 inorgânico em camadas durante a impressão.
[0300]Como o agente sensibilizante, é preferível que um composto fosfônio, um composto de baixo peso molecular contendo nitrogênio e um polímero contendo grupo amônio sejam utilizados em combinação e mais preferível que um composto fosfônio, sais de amônio quaternário e um polímero contendo grupo amônio sejam utilizados em combinação.
[0301]Exemplos do composto fosfônio incluem compostos fosfônios descritos em JP2006-297907A e JP2007-050660A. Exemplos específicos destes incluem iodeto de tetrabutil fosfônio, brometo de masil trifenil fosfônio, brometo de tetrafenil fosfônio, 1,4-bis(trifenilfosfônio)butano=di(hexafluorofosfato), 1,7bis(trifenilfosfônio)heptano=sulfato e 1,9-bis(trifenilfosfônio)nonano=naftaleno-2,7dissulfonato.
[0302]Exemplos do composto de baixo peso molecular contendo nitrogênio incluem sais de amina e sais de amônio quaternário. Além disso, exemplos destes incluem sais de imidazolínio, sais de benzimidazolínio, sais de piridínio e sais de quinolinic. Entre estes, sais de amônio quaternário e sais de piridínio são preferíveis. Exemplos específicos destes incluem tetrametil amônio=hexafluorofosfato, tetrabutilamônio=hexafluorofosfato, dodeciltrimetilamônio=p-tolueno sulfonate, benziltrietilamônio=hexafluorofosfato, benzildimetiloctilamônio=hexafluorofosfato, benzildimetildodecilamônio=hexafluorofosfato e compostos descritos nos parágrafos 0021 a 0037 de JP2008-284858A e parágrafos 0030 a 0057 de JP2009-090645A.
[0303]0 polímero contendo grupo amônio não é limitado desde que o polímero contenha um grupo amônio na estrutura deste, mas um polímero que contenha, como um componente de copolimerização, 5 % a 80 % em mol de (met)acrilato tendo um grupo amônio na cadeia lateral é preferível. Exemplos específicos destes incluem polímeros descritos nos parágrafos 0089 a 0105 de JP2009-208458A.
[0304]A viscosidade específica reduzida (unidade: ml/g) do polímero contendo
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 80/145
74/136 grupo amônio que é adquirido pelo método de medição descrito em JP2009-208458A é preferivelmente em uma faixa de 5 a 120, mais preferivelmente em uma faixa de 10 a 110 e particularmente preferivelmente em uma faixa de 15 a 100. Em um caso onde a viscosidade específica reduzida é convertida para o peso molecular médio ponderado (Mw), o valor deste é preferivelmente em uma faixa de 10.000 a 150.000, mais preferivelmente em uma faixa de 17.000 a 140.000 e particularmente preferivelmente em uma faixa de 20.000 a 130.000.
[0305]Em seguida, exemplos específicos do polímero contendo grupo amônio serão descritos.
(1) Um 2-(trimetilamônio)etilmetacrilato=p-toluenossulfonato/3,6-dioxaheptilmetacrilato copolímero (razão molar de 10/90, Mw de 45000);
(2) Um 2-(trimetilamônio)etilmetacrilato=hexafluorofosfato/3,6-dioxaheptilmetacrilato copolímero (razão molar de 20/80, Mw de 60000), (3) Um 2-(etildimetilamônio)etilmetacrilato=p- toluenossulfonato/hexilmetacrilato copolímero (razão molar de 30/70, Mw de 45000);
(4) Um copolímero de 2-(trimetilamônio)etilmetacrilato=hexafluorofosfato/2etilhexilmetacrilato (razão molar de 20/80, Mw de 60.000);
(5) Um copolímero de 2- (trimetilamônio)etilmetacrilato=metilsulfato/hexilmetacrilato (razão molar de 40/60, Mw de 70.000);
(6) Um copolímero de 2- (butildimetilamônio)etilmetacrilato=hexafluorofosfato/3,6-dioxa-heptilmetacrilato (razão molar de 25/75, Mw de 65000);
(7) Um copolímero de 2-(butildimetilamônio)etilacrilato=hexafluorofosfato/3,6dioxa-heptilmetacrilato (razão molar de 20/80, Mw de 65.000);
(8) Um copolímero de 2-(butildimetilamônio)etilmetacrilato=13-etil-5,8,11trioxa-1-heptadecanossulfonato/3,6-dioxa-heptilmetacrilato (razão molar de 20/80,
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 81/145
75/136
Mw de 75.000); e (9) Um copolimero de 2- (butildimetilamônio)etilmetacrilato=hexafluorofosfato/3,6-dioxa-heptilmetacrilato/2hidróxi-3-metacriloxipropilmetacrilato (razão molar de 15/80/5, Mw de 65.000) [0306]0 teor de o agente sensibilizante é preferivelmente em uma faixa de 0,01 % a 30,0 % em massa, mais preferivelmente em uma faixa de 0,1 % a 15,0 % em massa, e ainda mais preferivelmente em uma faixa de 1 % a 10 % em massa em relação ao teor de sólido total da camada de gravação de imagem.
[Outros componentes] [0307]A camada de gravação de imagem pode conter um tensoativo, um inibidor de polimerização, um derivado de ácido graxo mais alto, um plasticizador, partículas inorgânicas e um composto inorgânico em camadas como outros componentes. Os detalhes podem ser referidos à descrição nos parágrafos 0114 a 0159 de JP2008-284817A.
[Formação de camada de gravação de imagem] [0308]A camada de gravação de imagem do precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação pode ser formada dispersando-se ou dissolvendo-se cada um dos componentes necessários descritos acima em um solvente conhecido para preparar uma solução de revestimento, revestindo-se um suporte com a solução de revestimento utilizando um método conhecido tal como revestimento por barra e secando-se a solução de revestimento, como descrito nos parágrafos 0142 e 0143 de JP2008-195018A. A quantidade de revestimento da camada de gravação de imagem (teor de sólido) depois de revestir e secar varia dependendo das aplicações deste, mas é preferivelmente em uma faixa de 0,3 a 3,0 g/m2. Em um caso onde a quantidade de revestimento desta é na faixa descrita acima, excelentes características de sensibilidade e película da camada de gravação de imagem são obtidas.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 82/145
76/136 cCamada intermédia>
[0309]0 precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação é preferivelmente forncido com uma camada intermédia (também referida como uma camada de sub-revestimento) entre a camada de gravação de imagem e o suporte conforme necessário. Visto que a união do suporte à camada de gravação de imagem torna-se mais forte em uma porção exposta e o suporte é facilmente separado da camada de gravação de imagem em um porção não exposta, a camada intermédia contribui para melhorar da developabilidade sem degradar a durabilidade de impressão. Além disso, em um caso de exposição de laser infravermelho, a camada intermédia funciona como uma camada isolante térmica de modo que uma degradação na sensibilidade devido ao calor, gerado pela exposição, sendo difundido no suporte seja evitada.
[0310]Exemplos do composto utilizado para a camada intermédia incluem um polímero contendo um grupo de adsorção que pode ser adsorvido para a superfície do suporte e um grupo hidrofílico. Um polímero que contém um grupo de adsorção e um grupo hidrofílico para o propósito de melhorar a adesividade para a camada de gravação de imagem e ainda conter um grupo de reticulação é preferível. O composto utilizado para a camada intermédia pode ser um composto de baixo peso molecular ou um polímero. O composto utilizado para a camada intermédia pode ser utilizado na forma de uma mistura de dois ou mais tipos deste conforme necessário.
[0311]Em um caso onde o composto utilizado para uma camada intermédia é um polímero, um copolímero de um monômero contendo um grupo de adsorção, um monômero contendo um grupo hidrofílico e um monômero contendo um grupo de reticulação é preferível.
[0312]Como o grupo de adsorção que pode ser adsorvido pela superfície de um suporte, um grupo hidróxi fenólico, um grupo carbóxi, -PO3H2, -OPO3H2, CONHSO2-, -SO2NHSO2- ou -COCH2COCH3 é preferível. Como 0 grupo hidrofílico,
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 83/145
77/136 um grupo sulfo ou um sal deste, ou um sal de um grupo carbóxi é preferível. Como o grupo de reticulação, um grupo acrílico, um grupo metacrílico, um grupo acrilamida, um grupo metacrilamida ou um grupo alila é preferível.
[0313]O polímero pode conter um grupo de reticulação introduzido formandose sais entre um substituinte polar do polímero e um composto que tem um substituinte tendo a carga oposta ao substituinte polar e uma ligação etilenicamente insaturada ou pode ser formado por outra copolimerização de monômeros exceto os monômeros descritos acima e preferivelmente monômeros hidrofílicos.
[0314]Especificamente, um agente de acoplamento silano tendo um grupo de reação de ligação dupla etilênico, que pode ser adicionado e polimerizado, descrito em JP1998-282679A (JP-H10-282679A); e um composto fosforoso tendo um grupo de reação de ligação dupla etilênico descrito em JP1990-304441A (JP-H02-304441 A) são adequadamente exemplificados. Além disso, grupos de reticulação (grupos de ligação preferivelmente etilenicamente insaturados) descritos em JP2005-238816A, JP2005-125749A, JP2006-239867A, e JP2006-215263A, e compostos de baixo peso molecular ou alto peso molecular contendo grupos funcionais e grupos hidrofílicos que interagem com a superfície de um suporte são preferivelmente utilizados.
[0315]Exemplos mais preferidos destes incluem polímeros de alto peso molecular contendo grupos de adsorção que podem ser adsorvidos pela superfície de um suporte, grupos hidrofílicos e grupos de reticulação descritos em JP2005-125749A e JP2006-188038A.
[0316]O teor do grupo de ligação etilenicamente insaturado no polímero utilizado para a camada intermédia é preferivelmente em uma faixa de 0,1 mmol a 10,0 mmol e mais preferivelmente em uma faixa de 0,2 mmol a 5,5 mmol em relação a 1 g do polímero.
[0317]O peso molecular médio ponderado (Mw) do polímero utilizado para a camada intermédia é preferivelmente 5.000 ou maior e mais preferivelmente em uma
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 84/145
78/136 faixa de 10.000 a 300.000.
[0318]Para o propósito de prevenir mancha com o passar do tempo, a camada intermédia pode conter um agente quelante, uma amina secundária ou terciária, um inibidor de polimerização, um composto (por exemplo, 1,4-diazabiciclo[2,2,2]octano (DABCO), 2,3,5,6-tetra-hidróxi-p-quinona, cloranila, ácido sulfoftálico, ácido hidroxietil etileno diamina triacético, ácido di-hidroxietil etileno diamina diacético ou ácido hidroxietil imino diacético) que inclui um grupo amino ou um grupo funcional tendo polimerização inibindo a capacidade e um grupo interagindo com a superfície de um suporte, e semelhantes além dos compostos para uma camada intermédia descrita acima.
[0319]A camada intermédia é aplicada de acordo com um método conhecido. A quantidade de revestimento (teor de sólido) da camada intermédia é preferivelmente em uma faixa de 0,1 a 100 mg/m2 e mais preferivelmente em uma faixa de 1 a 30 mg/m2.
cCamada protetora>
[0320]É preferível que o precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação tenha uma camada protetora (também referida como uma camada de sub-revestimento) na camada de gravação de imagem conforme necessário. A camada protetora tem uma função de aumentar a quantidade de geração de radiação particularmente nos picos após o pico inicialmente gerado através do bloqueio de oxigênio para melhorar a durabilidade de impressão, uma função de evitar a geração de dano à camada de gravação de imagem, e uma função de evitar a ablação no momento da exposição de laser de alta iluminância.
[0321 ]Tal camada protetora tendo as características descritas acima é descrita em US3458311A e JP1980-049729B (JP-S55-049729B). Como um polímero com baixa permeabilidade ao oxigênio que é utilizado para uma camada protetora, qualquer um de um polímero solúvel em água e um polímero insolúvel em água é
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 85/145
79/136 adequadamente selecionado e depois utilizado e dois ou mais tipos destes podem ser utilizados em combinação conforme necessário. Exemplos específicos destes incluem álcool polivinílico, álcool polivinílico modificado, polivinilpirrolidona, um derivado de celulose solúvel em água e poli(met)acrilonitrila.
[0322]Como o álcool polivinílico modificado, álcool polivinílico modificado por ácido tendo um grupo carboxi ou um grupo sulfo é preferivelmente utilizado. Especificamente, álcool polivinílico modificado descrito em JP2005-250216A e JP2006-259137A é utilizado.
[0323]Visto que a camada protetora melhora as propriedades de bloqeio de oxigênio, é preferível que a camada protetora contenha um composto inorgânico em camadas. O composto inorgânico em camadas indica uma partícula tendo uma forma tabular fina, e exemplos deste incluem um grupo mica tal como mica natural, mica sintética e semelhantes, talco representado pela Fórmula: 3MgO-4SIOH2O, teniolita, montmorilonita, saponita, hectorita e fosfato de zircônio.
[0324]Um composto inorgânico em camadas que foi preferivelmente utilizado é um composto de mica. Exemplos do composto de mica incluem um grupo mica tal como mica sintética e mica natural representadas pela Fórmula: A(B,C)25D40io(OH,F,0)2 [aqui, A representa pelo menos um elemento selecionado do grupo consistindo em K, Na, e Ca, B e C representa pelo menos um elemento selecionado do grupo consistindo em Fe (II), Fe (III), Μη, Al, Mg e V, e D representa Si ou Al], [0325]No grupo mica, exemplos da mica natural incluem muscovita, mica sódica, flogopita, biotita e lepidolita. Exemplos da mica sintética incluem mica não inchável tal como fluorofogopita KM3(AISÍ30io)F2 ou mica tetrassilícica de potássio KMg2,5(SÍ40io)F2; e mica inchável tal como mica tetrassilícica de Na NaMg2,5(SÍ40io)F2, teniolita de Na ou Li (Na,Li)Mg2Li(SÍ40io)F2, hectorita de Na ou Li à base de montmorilonita (Na,Li)i/8Mg2/5Lii/8(SÍ40io)F2. Além disso, esmectita sintética também é útil.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 86/145
80/136 [0326]Entre os compostos de mica descritos acima, a mica inchável à base de flúor é particularmente útil. Em outras palavras, a mica inchável sintética tem uma estrutura laminada formada de unidades de camadas de estrutura de cristal tendo uma espessura de 10 a 15 Â (angstrom, 1 Â = 0,1 nm), e substituição de átomos de metal na estrutura é significativamente maior do que aquela em outros minerais de argila. Como o resultado, as camadas de estrutura causam escassez de uma carga positiva. De modo a compensar isto, os cátions tais como Li+, Na+, Ca2+ e Mg2+ são adsorvidos entre as camadas. Cátions interpostos entre as camadas são referidos como cátions trocáveis e podem ser trocados por vários cátions. Particularmente, em um caso onde os cátions de camada intermédia são Li+ e Na+, visto que o raio iônico destes é pequeno, as ligações entre estruturas de cristal em camadas são fracas e em grande parte inchadas devido à água. Em um caso onde o cisalhamento é aplicado neste estado, a divagem facilmente ocorre de modo que uma solução estabilizada em água é formada. A mica inchável sintética tem uma tendência forte e é particularmente preferivelmente utilizada.
[0327]Como a forma do composto de mica, do ponto de vista de controlar a difusão, é preferível que a espessura deste é tão pequeno quanto possível e o tamanho plano deste é tão grande quanto possível dentro da faixa na qual a suavidade da superfície de revestimento ou a permeabilidade de raios actínicos não é inibida. Portanto, a razão de aspecto deste é preferivelmente 20 ou maior, mais preferivelmente 100 ou maior e particularmente preferivelmente 200 ou maior. A razão de aspecto é uma razão do eixo principal para a espessura de uma partícula e pode ser medido utilizando, por exemplo, um desenho de projeção obtido de uma microfotografia de partículas. Os efeitos a serem obtidos são aumentados à medida que a razão de aspecto tornam-se maior.
[0328]No diâmetro de partícula do composto de mica, o diâmetro médio principal deste é preferivelmente em uma faixa de 0,3 a 20 pm, mais preferivelmente
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 87/145
81/136 em uma faixa de 0,5 a 10 pm e particularmente preferivelmente em uma faixa de 1 a 5 pm. A espessura média das partículas é preferivelmente 0,1 pm ou menor, mais preferivelmente 0,05 pm ou menor e particularmente preferivelmente 0,01 pm ou menor. Especificamente, por exemplo, como um aspecto preferível em um caso de mica inchável sintética que é um composto representativo, a espessura é em uma faixa de 1 a 50 nm e o tamanho de superfície (diâmetro principal) é em uma faixa de 1 a 20 pm.
[0329]O teor do composto inorgânico em camadas é preferivelmente em uma faixa de 0 % a 60 % em massa e mais preferivelmente em uma faixa de 3 % a 50 % em massa em relação ao teor de sólido total da camada protetora. Em um caso onde uma pluralidade de tipos de composto inorgânico em camadas é utilizado em combinação, é preferível que a quantidade total do composto inorgânico em camadas seja o teor descrito acima. Em um caso onde o teor deste é na faixa descrita acima, a propriedade de bloqueio de oxigênio é melhorada e excelente sensibilidade é obtida. Além disso, a degradação das propriedades de impressão pode ser evitada.
[0330]A camada protetora pode conter aditivos conhecidos tais como um plasticizador para conceder flexibilidade, um tensoativo para melhorar as propriedades de revestimento, e partículas finas inorgânicas para controlar a estabilidade da superfície. Além disso, a camada protetora pode conter um agente sensibilizante descrito na seção da camada de gravação de imagem.
[0331 ]A camada protetora é aplicada de acordo com um método conhecido. A quantidade de revestimento (teor de sólido) da camada protetora é preferivelmente em uma faixa de 0,01 a 10 g/m2, mais preferivelmente em uma faixa de 0,02 a 3 g/m2 e particularmente preferivelmente 0,02 a 1 g/m2.
<Suporte>
[0332]Um suporte do precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação pode ser apropriadamente selecionado de
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 88/145
82/136 suportes conhecidos para um precursor de placa de impressão planográfica e depois utilizado.
[0333]Como o suporte, um suporte tendo uma superfície hidrofílica é preferível.
[0334]Uma placa de alumínio submetido para um tratamento de rugosidade e um tratamento de anodização de acordo com métodos conhecidos é preferível como o suporte.
[0335]A placa de alumínio pode ser submetida a um tratamento apropriadamente selecionado de um tratamento de expansão ou um tratamento de vedação de microporos de uma película anodizada descrita em JP2001-253181A ou JP2001-322365A ou um tratamento de hidrofilização de superfície utilizando silicate de metal alcalino descrito em US2714066A, US3181461A, US3280734A e US3902734A ou um tratamento de hidrofilização de superfície utilizando ácido polivinil fosfônico descrito em US3276868A, US4153461A e US4689272A conforme necessário.
[0336]A rugosidade média da linha central Ra do suporte é preferivelmente em uma faixa de 0,10 a 1,2 pm.
[0337]O suporte pode ter uma camada de revestimento traseira que contém um composto de polímero orgânico descrito em JP1993-045885A (JP-H05-045885A) e um composto alcóxi de silício descrito em JP1994-035174A (JP-H6-035174A) em uma superfície no lado oposto onde a camada de gravação de imagem é fornecida conforme necessário.
(Método de fabricação de placa para placa de impressão planográfica) [0338]De acordo com o primeiro aspecto da presente divulgação, um método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica inclui: uma etapa (etapa de exposição) de submeter o precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação à exposição de luz na forma de
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 89/145
83/136 imagem; e uma etapa (etapa de revelação de revelador) de remover uma área sem imagem de uma camada de gravação de imagem a partir do precursor de placa de impressão planográfica exposto na presença de um revelador tendo um pH de 2 a 14.
[0339]De acordo com o segundo aspecto da presente divulgação, um método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica inclui: uma etapa (etapa de exposição) de submeter o precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação à exposição de luz na forma de imagem; e uma etapa (etapa de revelação na prensa) de fornecer qualquer uma ou ambas de tinta de impressão e água de umedecimento e remover uma área sem imagem de uma camada de gravação de imagem em uma impressora.
<Etapa de exposição [0340]Na primeira modalidade e na segunda modalidade do método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica, a etapa de exposição é comum.
[0341 ]A exposição de imagem na etapa de exposição é realizada expondo-se na forma de imagem o precursor de placa de impressão planográfica à radiação formadora de imagem, mas é preferível que a exposição de imagem seja realizada de acordo com um método de realizar exposição de varredura em dados digitais a um laser infravermelho ou semelhantes.
[0342]O comprimento de onda de uma fonte de luz de exposição é preferivelmente em uma faixa de 750 nm a 1400 nm. Como a fonte de luz tendo um comprimento de onda de 750 nm a 1400 nm, um laser em estado sólido ou um laser semicondutor que irradia raios infravermelhos é adequado. O mecanismo de exposição pode ser qualquer um de um sistema de tambor interno, um sistema de tambor externo ou um sistema de leito plano.
[0343]A etapa de exposição pode ser realizada utilizando um incubador de placa de acordo com um método conhecido. Além disso, a exposição pode ser
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 90/145
84/136 realizada em uma impressora depois que o precursor de placa de impressão planográfica é montado na impressora utilizando uma impressora fornecida com um dispositivo de exposição.
<Etapa de revelação de revelador>
[0344]Uma placa de impressão planográfica pode ser preparada utilizando o precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação selecionando-se apropriadamente um polímero e semelhantes servindo como componentes constituintes da camada de gravação de imagem e realizando-se um tratamento de revelação utilizando um revelador. Como o tratamento de revelação utilizando um revelador, um tratamento (também referido como revelação alcalina) utilizando um revelador com um pH alto de 14 ou menos que contém um agente alcalino ou um tratamento (também referido como revelação simples) utilizando um revelador com um pH de 2 a 11 que contém pelo menos um composto selecionado do grupo consistindo em tensoativos e compostos de polímero solúveis em água pode ser exemplificado. Revelação alcalina e revelação simples pode ser realizada de acordo com métodos conhecidos.
[0345]Em seguida, os detalhes de cada componente do revelador (revelador de tratamento simples) utilizado para a revelação simples serão descritos.
«Tensoativo» [0346]O revelador de tratamento simples pode conter um tensoativo tal como um tensoativo aniônico, um tensoativo não iônico, um tensoativo catiônico ou um tensoativo de betaína.
[0347]Entre estes, do ponto de vista de resistência a riscos e mancha e propriedades de impressão, é preferível que o revelador de tratamento simples contenha pelo menos um selecionado do grupo consistindo em tensoativo aniônicos e tensoativos não iônicos e mais preferível que o revelador de tratamento simples contenha um tensoativo aniônico e um tensoativo não iônico.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 91/145
85/136 [0348]Exemplos preferidos do tensoativo aniônico incluem compostos representados pela Fórmula (I).
R1-Y1-X1 - (I) [0349]Na Fórmula (I), R1 representa um grupo alquila, um grupo cicloalquila, um grupo alquenila, um grupo aralquila ou um grupo arila que pode ter um substituinte.
[0350]Como o grupo alquila, um grupo alquila tendo 1 a 20 átomos de carbono é preferível, e exemplos preferidos específicos deste incluem um grupo metila, um grupo etila, um grupo propila, um grupo n-butila, um grupo sec-butila, um grupo hexila, um grupo 2-etilhexila, um grupo octila, um grupo decila, um grupo dodecila, um grupo hexadecila e um grupo estearila.
[0351 ]O grupo cicloalquila pode ser monocíclico ou policíclico. Como o grupo cicloalquila monocíclico, um grupo cicloalquila monocíclico tendo 3 a 8 átomos de carbono é preferível, e um grupo ciclopropila, um grupo ciclopentila, um grupo ciclohexila ou um grupo ciclo-octila é mais preferível. Exemplos preferidos do grupo cicloalquila policíclico incluem um grupo adamantila, um grupo norbornila, um grupo isobornila, um grupo canfanila, um grupo diciclopentila, um grupo α-pinel e um grupo triciclodecanila.
[0352]Como o grupo alquenila, por exemplo, um grupo alquenila tendo 2 a 20 átomos de carbono é preferível, e exemplos preferidos específicos deste incluem um grupo vinila, um grupo alila, um grupo butenila e um grupo ciclo-hexenila.
[0353]Como o grupo aralquila, por exemplo, um grupo aralquila tendo 7 a 12 átomos de carbono é preferível, e exemplos preferidos específicos deste incluem um grupo benzila, um grupo fenetila e um grupo naftilmetila.
[0354]Como o grupo arila, por exemplo, um grupo arila tendo 6 a 15 átomos de carbono é preferível, e exemplos preferidos específicos deste incluem um grupo fenila, um grupo tolila, um grupo dimetilfenila, um grupo 2,4,6-trimetilfenila, um grupo naftila, um grupo antrila e um grupo 9,10-dimetoxiantrila.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 92/145
86/136 [0355]Como o substituinte, um grupo átomo não metálico monovalente excluindo um átomo de hidrogênio é utilizado, e exemplos preferidos deste incluem um átomo de halogênio (F, Cl, Br ou I), um grupo hidróxi, um grupo alcóxi, um grupo arilóxi, um grupo acila, um grupo amida, um grupo éster, um grupo acilóxi, um grupo carbóxi, um grupo ânion de ácido carboxílico e um grupo ânion de ácido sulfônico.
[0356]Como exemplos específicos do grupo alcóxi nestes substituintes, um grupo metóxi, um grupo etóxi, um grupo propilóxi, um grupo isopropilóxi, um grupo butilóxi, um grupo pentilóxi, um grupo hexilóxi, um grupo dodecilóxi, um grupo estearilóxi, um grupo metoxietóxi, um grupo poli(etilenoóxi) e um grupo poli(propilenoóxi), respectivamente tendo 1 a 40 átomos de carbono, são preferíveis; e estes grupos respectivamente tendo 1 a 20 átomos de carbono são mais preferíveis. Exemplos do grupo arilóxi incluem um grupo fenóxi, um grupo tolilóxi, um grupo xililóxi, um grupo mesitilóxi, um grupo cumenilóxi, um grupo metoxifenilóxi, um grupo etoxifenilóxi, um grupo clorofenilóxi, um grupo bromofenilóxi e um grupo naftilóxi, respectivamente tendo 6 a 18 átomos de carbono. Exemplos do grupo acila incluem um grupo acetila, um grupo propanoila, um grupo butanoila, um grupo benzoila e um grupo naftoila, respectivamente tendo 2 a 24 átomos de carbono. Exemplos do grupo amida incluem um grupo acetamida, um grupo amida de ácido propiônico, um grupo amida de ácido dodecanóico, um grupo amida de ácido palmítico, um grupo amida de ácido esteárico, um grupo amida de ácido benzoico e um grupo amida de ácido naftóico, respectivamente tendo 2 a 24 átomos de carbono. Exemplos do grupo acilóxi incluem um grupo acetóxi, um grupo propanoilóxi, um grupo benzoilóxi e um grupo naftoilóxi, respectivamente tendo 2 a 20 átomos de carbono. Exemplos do grupo éster incluem um grupo éster metílico, um grupo éster etílico, um grupo éster propílico, um grupo éster hexílico, um grupo éster octílico, um grupo éster dodecílico e um grupo éster estearílico, respectivamente tendo 1 a 24 átomos de carbono. O substituinte pode ser formado combinando-se dois ou mais substituintes descritos acima.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 93/145
87/136 [0357]X1 representa um grupo sulfonato, um grupo monoéster de sulfato, um grupo carboxilato ou um grupo fosfato.
[0358]Y1 representa uma ligação única, -CnH2n-, -Cn-mH2(n-m)OCmH2m-, -O(CH2CH2O)n-, -O-(CH2CH2CH2O)n-, -CO-NH- ou um grupo de ligação divalente formado combinando-se dois ou mais destes e satisfaz as expressões de “n > 1 ” e “n > m > 0”.
[0359]Entre os exemplos do composto representado pela Fórmula (I), do ponto de vista de resistência a riscos e mancha, um composto representado pela
[0360]Nas Fórmulas (l-A) e (l-B), RA1 a RA1° cada um independentemente representa um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila, nA representa um número inteiro de 1 a 3, XA1 e XA2 cada um independentemente representa um grupo sulfonato, um grupo monoéster de sulfato, um grupo carboxilato ou um grupo fosfato, e YA1 e YA2 cada um independentemente representa uma ligação única, -CnFEn-, -Cn-mH2(nm)0CmH2m-, -O-(CH2CH2O)n-, -O-(CH2CH2CH2O)n-, -CO-NH- ou um grupo de ligação divalente formado combinando-se dois ou mais destes e satisfaz as expressões de “n > 1 ” e “n > m > 0”. O número total de átomos de carbono em RA1 a RA5 ou RA6 a RA1° e YA1 e YA2 é 3 ou maior.
[0361 ]O número total de átomos de carbono em RA1 a RA5 e Y1A ou RA6 a RA1° e YA2 no composto representado pela Fórmula (l-A) ou (l-B) é preferivelmente 25 ou menos e mais preferivelmente em uma faixa de 4 a 20. A estrutura do grupo alquila descrito acima pode ser linear ou ramificada.
[0362]É preferível que XA1 e XA2 no composto representado pela Fórmula (I
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 94/145
88/136
A) ou (l-B) representem um grupo sulfonato ou um grupo carboxilato. Além disso, a estrutura de sal em XA1 e XA2 é preferível do ponto de vista de que a solubilidade do sal de metal alcalino em um solvente à base de água seja particularmente excelente. Entre as estruturas de sal, um sal de sódio ou um sal de potássio é particularmente preferível.
[0363]Como o composto representado pela Fórmula (l-A) ou (l-B), a descrição nos parágrafos 0019 a 0037 de JP2007-206348A pode ser referida.
[0364]Como o tensoativo aniônico, os compostos descritos nos parágrafos 0023 a 0028 de JP2006-065321A podem ser adequadamente utilizados.
[0365]Exemplos de tensoativo não iônico incluem éteres alquílicos de polioxietileno, éteres alquil fenílicos de polioxietileno, éter polistiril fenílico de polioxietileno, ésteres parciais de ácido graxo de glicerina, ésteres parciais de ácido graxo de sorbitano, ésteres parciais de ácido graxo de pentaeritritol, éster de ácido monograxo de propileno glicol, éster parcial de ácido graxo de sacarose, ésteres parciais de ácido graxo de sorbitano de polioxietileno, ésteres parciais de ácido graxo de sorbitol de polioxietileno, ésteres de ácido graxo de polietilenoglicol, ésteres parciais de ácido graxo de poliglicerina, ésteres parciais de ácido graxo de glicerina de polioxietileno, diglicerinas de polioxietileno, dietanolamidas de ácido graxo, N,Nbis-2-hidroxialquilaminas, alquilamina de polioxietileno, éster de ácido graxo de trietanolamina, óxido de trialquilamina, éteres alquil fenílicos de polioxietileno e copolímeros em bloco de polioxietileno-polioxipropilenpo.
[0366]Além disso, adutos de oxietileno à base de acetileno glicol e à base de álcool de acetileno, tensoativos à base de flúor e tensoativos à base de silicona também podem ser utilizados. Estes tensoativos podem ser utilizados em combinação de dois ou mais tipos destes.
[0367]Exemplos particularmente preferidos do tensoativo não iônico incluem um tensoativo à base de éter aromático não iônico representado pela Fórmula (N1).
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 95/145
89/136
XN-YN-O-(A1)nB-(A2)mB-H - (N1) [0368]Na fórmula, XN representa um grupo aromático que pode ter um substituinte, YN representa uma ligação única ou um grupo alquileno tendo 1 a 10 átomos de carbono, A1 e A2 são grupos diferentes e representam qualquer um de CH2CH2O- ou -CH2CH(CH3)O-, nB e mB cada um independentemente representa um número inteiro de 0 a 100, onde tanto nB quanto mB não representam 0 ao mesmo tempo. Além disso, tanto nB quanto mB não representam 1 ao mesmo tempo em um caso onde qualquer um de nB ou mB representa 0.
[0369]Na fórmula, exemplos do grupo aromático como XN incluem um grupo fenila, um grupo naftila e um grupo antranila. Estes grupos aromáticos podem ter um substituinte. Como 0 substituinte, um grupo orgânico tendo 1 a 100 átomos de carbono é exemplificado. Além disso, na fórmula, este pode representar um copolímero aleatório ou em bloco em um caso onde tanto A quanto B estão presentes.
[0370]Exemplos específicos do grupo orgânico tendo 1 a 100 átomos de carbono incluem grupos hidrocarboneto alifático e grupos hidrocarboneto aromático, que podem ser saturados ou insaturados e lineares ou ramificados, tais como um grupo alquila, um grupo alquenila, um grupo alquinila, um grupo arila e um grupo aralquila, um grupo alcóxi, um grupo arilóxi, um grupo N-alquilamino, um grupo N,Ndialquilamino, um grupo N-arilamino, um grupo Ν,Ν-diarilamino, um grupo N-alquil-Narilamino, um grupo acilóxi, um grupo carbamoilóxi, um grupo N-alquilcarbamoilóxi, um grupo N-arilcarbamoilóxi, um grupo Ν,Ν-dialquilcarbamoilóxi, um grupo N,Ndiarilcarbamoilóxi, um grupo N-alquil-N-arilcarbamoilóxi, um grupo acilamino, um grupo N-alquilacilamino, um grupo N-arilacilamino, um grupo acila, um alcoxicarbonilamino, um grupo alcoxicarbonila, um grupo ariloxicarbonila, um grupo carbamoila, um grupo N-alquilcarbamoila, um grupo Ν,Ν-dialquilcarbamoila, um grupo N-arilcarbamoila, um grupo Ν,Ν-diarilcarbamoila, um grupo N-alquil-N-arilcarbamoila, uma cadeia de polioxialquileno, e 0 grupo orgânico descrito acima ao qual uma cadeia
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 96/145
90/136 de polioxialquileno é ligada. O grupo alquila pode ser linear ou ramificado.
[0371]Além disso, como os tensoativos não iônicos, os compostos descritos nos parágrafos 0030 a 0040 de JP2006-065321A também podem ser adequadamente utilizados.
[0372]O tensoativo pode ser utilizado sozinho ou em combinação de dois ou mais tipos deste.
[0373]O teor de o tensoativo é preferivelmente em uma faixa de 1 % em massa a 25 % em massa, mais preferivelmente em uma faixa de 2 % em massa a 20 % em massa, ainda mais preferivelmente em uma faixa de 3 % em massa a 15 % em massa e particularmente preferivelmente em uma faixa de 5 % em massa a 10 % em massa em relação à massa total do revelador. Em um caso onde o teor deste é na faixa descrita acima, a resistência a riscos e mancha é excelente, a dispersibilidade da espuma de revelação é excelente, e as propriedades de impressão da placa de impressão planográfica a ser obtida são excelentes.
«Composto de polímero solúvel em água» [0374]Do ponto de vista de ajustar a viscosidade do revelador e proteger a superfície de placa da placa de impressão planográfica a ser obtida, o revelador de tratamento simples pode conter um polímero solúvel em água.
[0375]Exemplos do composto de polímero solúvel em água que podem ser continuados no revelador incluem polissacarídeos de soja, amido modificado, goma arábica, dextrina, um derivado de fibra (tal como carboximetil celulose, carboxietil celulose ou metil celulose) e um produto modificado destes, pululano, álcool polivinílico e um derivado destes, polivinilpirrolidona, poliacrilamida e um copolímero de acrilamida, um copolímero de éter vinil metílico/anidrido maleico, um copolímero de acetato de vinila/anidrido maleico e um copolímero de estireno/anidrido maleico.
[0376]Como os polissacarídeos de soja, aqueles que foram conhecidos na técnica relacionada podem ser utilizados. Por exemplo, SOYAFIBE (nome comercial,
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 97/145
91/136 fabricado por FUJI OIL, CO., LTD.) pode ser utilizado como um produto comercialmente disponível, e vários graus de produtos podem ser utilizados. Exemplos preferidos destes incluem produtos em que a viscosidade de uma solução aquosa a 10 % em massa é em uma faixa de 10 mPa/s a 100 mPa/s.
[0377]Como o amido modificado, amido representado pela Fórmula (III) é preferível. Qualquer um de amido tal como milho, batata, tapioca, arroz ou trigo pode ser utilizado como o amido representado pela Fórmula (III). A modificação do amido pode ser realizada de acordo com um método de decompor 5 a 30 resíduos de glicose por uma molécula com um ácido ou uma enzima e adicionar oxipropileno a um álcali.
[0378]Na fórmula, o grau de eterificação (grau de substituição) é em uma faixa de 0,05 a 1,2 por unidade de glicose, n representa um número inteiro de 3 a 30 e m representa um número inteiro de 1 a 3.
[0379]Entre os exemplos do composto de polímero solúvel em água, polissacarídeos de soja, amido modificado, goma arábica, dextrina, carboximetil celulose e álcool polivinílico são particularmente preferíveis.
[0380]Q composto de polímero solúvel em água pode ser utilizado em combinação de dois ou mais tipos deste.
[0381 ]É preferível que o revelador não contenha o composto de polímero solúvel em água ou o teor do composto de polímero solúvel em água seja maior do
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 98/145
92/136 que Ο % em massa e 1 % em massa ou menor em relação à massa total do revelador, mais preferível que o revelador não contenha o composto de polímero solúvel em água ou o teor do composto de polímero solúvel em água seja maior do que 0 % em massa e 0,1 % em massa ou menor em relação à massa total do revelador, ainda mais preferível que o revelador não contenha um composto de polímero solúvel em água ou o teor do composto de polímero solúvel em água seja maior do que 0 % em massa e 0,05 % em massa ou menor em relação à massa total do revelador, e particularmente preferível que o revelador não contenha um composto de polímero solúvel em água. Em um caso do aspecto descrito acima, a viscosidade do revelador é moderada, e a deposição de espuma de revelação e semelhantes em um elemento de rolo de um dispositivo de revelação automático pode ser suprimida.
«Outros aditivos» [0382]O revelador de tratamento simples pode conter um agente umectante, um preservante, um composto quelado, um agente antiespumante, um ácido orgânico, um solvente orgânico, um ácido inorgânico e um sal inorgânico além daqueles descritos acima.
[0383]Exemplos adequados do agente umectante incluem etileno glicol, propileno glicol, trietileno glicol, masileno glicol, hexileno glicol, dietileno glicol, dipropileno glicol, glicerina, trimetilolpropano e diglicerina. O agente umectante pode ser utilizado sozinho ou em combinação de dois ou mais tipos deste. O teor do agente umectante é preferivelmente em uma faixa de 0,1 % em massa a 5 % em massa em relação à massa total do revelador.
[0384]Exemplos preferidos do preservante incluem fenol e um derivado deste, formalina, um derivado de imidazol, um desidroacetato de sódio, derivado de 4isotiazolina-3-ona, benzoisotiazolin-3-ona, 2-metil-4-isotiazolin-3-ona, um derivado de benztriazol, derivados de sais de amônio quaternário, piridina, quinolina e guanidina, diazina, um derivado de triazol, oxazol, um derivado de oxazol, álcool-2-bromo-2
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 99/145
93/136 nitropropano-1,3-diol à base de nitrobromo, 1,1-dibromo-1-nitro-2-etanol e 1,1dibromo-1 -nitro-2-propano.
[0385]A quantidade do preservante a ser adicionado é uma quantidade de exibição estável da eficácia para bactérias, bolores, leveduras ou semelhantes, e é preferivelmente em uma faixa de 0,01 % em massa a 4 % em massa em relação à massa total do revelador ainda que a quantidade deste varia dependendo do tipo de bactérias, bolores e as leveduras. Além disso, é preferível que o preservante seja utilizado em combinação de dois ou mais tipos deste de modo a ser eficaz para esterilizar vários bolores.
[0386]Exemplos do composto quelado incluem ácidos fosfônicos orgânicos tais como ácido tetra-acético de etilenodiamino, um sal de potássio deste, e um sal de sódio deste; ácido penta-acético de dietilenotriamina, um sal de potássio deste, e um sal de sódio deste; ácido trietilenotetramina-hexa-acético, um sal de potássio deste, e um sal de sódio deste; ácido triacético de hidroxietiletilenodiamina, um sal de potássio deste, e um sal de sódio deste; ácido nitrilotriacético e um sal de sódio deste; ácido 1hidroxietano-1,1-difosfônico, um sal de potássio deste, e um sal de sódio deste; e aminotri(ácido metilenofosfônico), um sal de potássio, e um sal de sódio deste. Um sal de uma amina orgânica é eficazmente utilizado no lugar de um sal de sódio ou um sal de potássio de um agente quelante.
[0387]Um agente quelante que é estavelmente presente na composição do líquido de tratamento e não atrapalha a printabilidade é preferível como o agente quelante. O teor do agente quelante é preferivelmente em uma faixa de 0,001 % em massa a 1,0 % em massa em relação à massa total do revelador.
[0388]Como o agente antiespumante, um composto tipo auto-emulsificante à base de silicona típica, um composto tipo emulsificante, um composto não iônico tendo um equilíbrio hidrofílico-lipofílico (HLB) de 5 ou menos pode ser utilizado. Um agente antiespumante de silicona é preferível.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 100/145
94/136 [0389]O teor de o agente antiespumante é adequadamente em uma faixa de 0,001 % em massa a 1,0 % em massa em relação à massa total do revelador.
[0390]Exemplos do ácido orgânico incluem ácido cítrico, ácido acético, ácido oxálico, ácido malônico, ácido salicílico, ácido caprílico, ácido tartárico, ácido málico, ácido láctico, ácido levulínico, ácido p-toluenossulfônico, ácido xilenossulfônico, ácido fítico, ácido glicônico e ácido fosfônico orgânico. O ácido orgânico pode ser utilizado na forma de um sal de metal alcalino ou sal amônio deste. O teor do ácido orgânico é preferivelmente em uma faixa de 0,01 % em massa a 5 % em massa em relação à massa total do revelador.
[0391]Exemplos do solvente orgânico que pode estar contido incluem hidrocarbonetos alifáticos (hexane, heptane, “ISOPAR E, H, G” (fabricado por Exxon Chemical Japan Ltd.), gasolina, querosene e semelhantes), hidrocarbonetos aromáticos (tolueno, xileno e semelhantes), hidrocarboneto halogenado (dicloreto de metileno, dicloreto de etileno, tricleno (tricloroetileno), monoclorobenzeno ou semelhantes) e um solvente polar.
[0392]Exemplos do solvente polar incluem álcoois (tais como metanol, etanol, propanol, isopropanol, álcool benzílico, éter monometílico de etileno glicol, 2etoxietanol, éter monoetílico de dietileno glicol, éter mono-hexílico de dietileno glicol, éter monometílico de trietileno glicol, éter monoetílico de propileno glicol, éter monometílico de propileno glicol, éter monometílico de polietilenoglicol, polipropileno glicol, tetraetileno glicol, éter monobutílico de etileno glicol, éter monobenzílico de etileno glicol, éter monofenílico de etileno glicol, metil fenil carbinol, álcool n-amílico e álcool metil amílico), cetonas (tais como acetona, metil etil cetona, etil butil cetona, metil isobutil cetona e ciclo-hexanona), ésteres (tais como acetato de etila, acetato de propila, acetato de masila, acetato de amila, acetato de benzila, lactato de metila, lactato de masila, acetato de monobutila de etileno glicol, acetato de éter monometílico de propileno glicol, acetato de dietileno glicol, ftalato de dietila e levulinate de butila),
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 101/145
95/136 e outros (tais como fosfato de trietila, fosfato de tricresila, N-feniletanolamina e Nfenildietanolamina).
[0393]Em um caso onde o solvente orgânico é insolúvel em água, o solvente orgânico pode ser utilizado sendo solubilizado em água utilizando um tensoativo ou semelhantes. Em um caso onde o revelador contém um solvente orgânico, do ponto de vista de segurança e inflamabilidade, a concentração do solvente no revelador é preferivelmente inferior a 40 % em massa.
[0394]Exemplos do ácido inorgânico e sal inorgânico incluem ácido fosfórico, ácido metracrílico, fosfato de amônio primário, fosfato de amônio secundário, fosfato de sódio primário, fosfato de sódio secundário, fosfato de potássio primário, fosfato de potássio secundário, tripolifosfato de sódio, pirofosfato de potássio, hexametafosfato de sódio, nitrato de magnésio, nitrato de sódio, nitrato de potássio, nitrato de amônio, sulfato de sódio, sulfato de potássio, sulfato de amônio, sulfite de sódio, sulfito de amônio, hidrogenossulfato de sódio e sulfato de níquel. O teor do sal inorgânico é preferivelmente em uma faixa de 0,01 % em massa a 0,5 % em massa em relação à massa total do revelador.
[0395]O revelador de tratamento simples é obtido dissolvendo-se ou dispersando-se cada um dos componentes descritos acima em água conforme necessário. A concentração de teores de sólido no revelador é preferivelmente em uma faixa de 2 % em massa a 25 % em massa. O revelador pode ser utilizado preparando-se um concentrado e diluindo-se o concentrado com água no momento da utilização.
[0396]É preferível que o revelador de tratamento simples seja um revelador aquoso.
[0397]O pH do revelador de tratamento simples é em uma faixa de 5 a 10, preferivelmente 6 a 9, e mais preferivelmente em uma faixa de 7 a 9. Do ponto de vista de developabilidade e dispersibilidade da camada de gravação de imagem, é
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 102/145
96/136 vantajoso que o pH seja definido para ser alto. Entretanto, do ponto de vista de printabilidade e particularmente manchas, é eficaz que o pH seja definido para ser baixo.
[0398]Do ponto de vista da dispersibilidade da espuma de revelação, é preferível que o revelador de tratamento simples contenha um composto de álcool.
[0399]Exemplos do composto de álcool incluem metanol, etanol, propanol, isopropanol e álcool benzílico. Entre estes, álcool benzílico é preferível.
[0400]Do ponto de vista da dispersibilidade da espuma de revelação, o teor do composto de álcool é preferivelmente em uma faixa de 0,01 % em massa a 5 % em massa, mais preferivelmente em uma faixa de 0,1 % em massa a 2 % em massa e particularmente preferivelmente em uma faixa de 0,2 % em massa a 1 % em massa em relação à massa total do revelador.
- Método de tratamento de revelação [0401 ]Na etapa de remoção (etapa de tratamento de revelação, em um caso onde a revelação é realizada realizando-se um tratamento manualmente, um método de permitir esponja ou algodão absorvente conter uma quantidade suficiente de uma solução aquosa, realizar o tratamento ao esfregar toda a superfície de placa, e suficientemente secar a solução aquosa depois do tratamento ser concluído é adequadamente exemplificado. Em um caso de um tratamento de imersão, por exemplo, um método de imergir o precursor de placa de impressão planográfica em uma bandeja, um tanque profundo ou semelhantes contendo uma solução aquosa por aproximadamente 60 segundos, agitar a solução e suficientemente secar a solução aquosa ao esfregar a superfície de placa com algodão absorvente ou esponja é adequadamente exemplificado.
[0402]É preferível que um dispositivo cuja estrutura e etapas são simplificadas seja utilizado no tratamento de revelação.
[0403]No tratamento de revelação da técnica relacionada, uma camada
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 103/145
97/136 protetora é removida por uma etapa de pré-lavagem com água, revelação é realizada utilizando um revelador alcalino, um álcali é removido por uma etapa de pós-lavagem com água, o tratamento de goma é realizado por uma etapa de revestimento de goma, e secagem é realizada por uma etapa de secagem.
[0404]Na presente divulgação, revelação e revestimento de goma podem ser simultaneamente realizados utilizando um líquido. Portanto, a etapa de pós-lavagem com água e a etapa de tratamento de goma não são particularmente necessários, e é preferível que a etapa de secagem seja realizada depois da revelação e revestimento de goma serem realizados utilizando um líquido. Como a goma, um polímero e mais preferivelmente um composto de polímero solúvel em água e um tensoativo podem ser exemplificados.
[0405]Além disso, é preferível que a remoção da camada protetora, revelação, e revestimento de goma sejam simultaneamente realizados utilizando um líquido sem realizar a etapa de pré-lavagem com água. Além disso, é preferível que o revelador excessivo seja removido utilizando um rolo de aperto depois da revelação e do revestimento de goma e depois de secagem serem realizados.
[0406]A etapa de remoção (etapa de tratamento de revelação) na presente divulgação pode ser realizada de acordo com um método de realizar imersão em um revelador uma vez ou um método de realizar imersão duas vezes ou mais vezes. Entre os exemplos, um método de realizar imersão no revelador uma vez ou duas vezes é preferível.
[0407]A imersão pode ser realizada passando-se o precursor de placa de impressão planográfica exposto através de um tanque de revelador no qual o revelador é armazenado ou pulverizando-se o revelador na superfície de placa do precursor de placa de impressão planográfica exposto utilizando uma pulverização ou semelhantes.
[0408]Além disso, na presente divulgação, o tratamento de revelação é
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 104/145
98/136 realizado utilizando um líquido (um tratamento de líquido) mesmo em um caso onde o precursor de placa de impressão planográfica é imerso no revelador duas vezes ou mais vezes ou em um caso onde o precursor de placa de impressão planográfica é imerso, duas vezes ou mais vezes, no mesmo revelador como descrito acima ou um revelador (líquido de fadiga) obtido dissolvendo-se ou dispersando-se componentes da camada de gravação de imagem utilizando o revelador e o tratamento de revelação.
[0409]Além disso, é preferível que um elemento de fricção seja utilizado no tratamento de revelação e também preferível que um elemento de fricção tal como uma escova seja fornecido em um banho de revelação que remove uma área sem imagem da camada de gravação de imagem.
[0410]O tratamento de revelação na presente divulgação pode ser realizado imergindo-se o precursor de placa de impressão planográfica que foi submetido ao tratamento de exposição no revelador e friccionando-se o precursor com escovas ou bombeando-se o líquido de tratamento adicionado a um tanque externo utilizando uma bomba, pulverizando-se o revelador de um bocal de pulverização, e friccionando-se o precursor com escovas a uma temperatura de preferivelmente de 0 °C a 60 °C e mais preferivelmente de 15 °C a 40 °C, de acordo com um método convencional. Estes tratamentos de revelação podem ser continuamente realizados tempos múltiplos. Por exemplo, o tratamento de revelação pode ser realizado bombeando-se o revelador adicionado a um tanque externo utilizando uma bomba, pulverizando-se o revelador de um bocal de pulverização, friccionando-se a superfície de placa com escovas, pulverizando-se o revelador a partir do bocal de pulverização novamente, e friccionando-se a superfície de placa com as escovas. Em um caso onde o tratamento de revelação é realizado utilizando um dispositivo de revelação automático, visto que o revelador se torna fatigado à medida que a quantidade de tratamento aumenta, é preferível que a capacidade de tratamento seja recuperada utilizando um
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 105/145
99/136 reabastecedores ou um novo revelador.
[0411]O tratamento de revelação na presente divulgação também pode ser realizado utilizando um revestimento de goma ou um dispositivo de revelação automático que se sabe ser utilizado para uma placa pré-sensibilizada (PS) e placa para computador (CTP) na técnica relacionada. Em um caso onde um dispositivo de revelação automático é utilizado, por exemplo, qualquer sistema entre um sistema de realizar o tratamento bombeando-se o revelador adicionado a um tanque de revelação ou o revelador adicionado a um tanque externo utilizando uma bomba e pulverizandose o revelador de um bocal de pulverização, um sistema de realizar o tratamento imergindo-se uma placa de impressão em um tanque enchido com o revelador e transportando-se a placa de impressão utilizando um rolo de guia no revelador, e um assim chamado sistema de tratamento descartável, que é um sistema de realizar o tratamento fornecendo-se o revelador substancialmente não usado por uma quantidade necessária para cada placa pode ser utilizado. Em todos os sistemas, é preferível que um mecanismo de fricção utilizando escovas ou um moletom seja fornecido. Por exemplo, os dispositivos de revelação automáticos comercialmente disponíveis (Clean Out Unit C85/C125, Clean-Out Unit + C85/120, FCF 85V, FCF 125V, FCF News (fabricado por Glunz & Jensen); e Azura CX85, Azura CX125, e Azura CX150 (fabricado por AGFA GRAPHICS) podem ser utilizados. Além disso, um dispositivo no qual uma porção de exposição de laser e uma porção de dispositivo de revelação automático são integralmente incorporados também pode utilizado.
<Etapa de revelação na prensa>
[0412]Na etapa de revelação na prensa, uma porção não exposta do precursor de placa de impressão planográfica é removida em um estágio inicial da impressão, a superfície do suporte hidrofílico é exposta junto com a remoção, e uma área sem imagem é formada em um caso onde pelo menos um selecionado do grupo consistindo em tinta de impressão e água de umedecimento e preferivelmente a tinta
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 106/145
100/136 de impressão e a água de umedecimento são fornecidas e a impressão (revelação na prensa) é iniciada sem realizar qualquer tratamento de revelação no precursor de placa de impressão planográfica exposto de imagem. Como a tinta de impressão e a água de umedecimento, a tinta de impressão conhecida para impressão planográfica e a água de umedecimento são utilizadas. Aqui, a tinta de impressão ou a água de umedecimento podem ser inicialmente fornecidas à superfície do precursor de placa de impressão planográfica, mas é preferível que tinta de impressão seja inicialmente fornecida a esta de um ponto de vista de evitar a contaminação de água de umedecimento pelos componentes de camada de gravação de imagem removidos.
[0413]Nesta maneira, o precursor de placa de impressão planográfica é submetido à revelação na prensa em uma impressora off-sete utilizado como é para uma pluralidade de folhas de impressão.
[0414]O método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação pode incluir etapas conhecidas exceto as etapas descritas acima. Exemplos de outras etapas incluem uma etapa de placa inspeção de confirmar a orientação ou posição do precursor de placa de impressão planográfica antes de cada etapa e uma etapa de confirmação de confirmar a imagem impressa depois da etapa de revelação na prensa.
Exemplos [0415]Em seguida, as modalidades da presente invenção serão descritas em detalhe com base nos exemplos, mas a presente divulgação não é limitado a estes. No composto de polímero, o peso molecular é um peso molecular médio ponderado (Mw) em relação ao poliestireno de acordo com um método de cromatografia de permeação em gel (GPC) e a razão de unidades de repetição é uma porcentagem molar a menos que de outro modo especificado. Além disso, “parte(s)” indica(m) “parte(s) em massa” a menos que de outro modo especificado.
(Exemplos 1 a 35 e Exemplos Comparativos 1 a 4)
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 107/145
101/136 <Preparação de suporte>
[0416]De modo a remover óleo de rolamento em uma superfície de uma placa de alumínio (Material JIS A 1050) tendo uma espessura de 0,3 mm, um tratamento desengurdurante foi realizado utilizando uma solução aquosa de aluminate de sódio a 10 % em massa a 50 °C por 30 segundos, a superfície do alumínio foi granulada utilizando três escovas de náilon tendo um diâmetro de 0,3 mm e uma suspensão de água-pomes (gravidade específica de 1,1 g/cm3) tendo um diâmetro médio de 25 pm e depois suficientemente lavada com água. Esta placa de alumínio foi imersa em uma solução aquosa de hidróxido de sódio a 25 % em massa a 45 °C por 9 segundos, gravada, lavada com água, e imersa em uma solução aquosa de ácido nítrico a 20 % em massa a 60 °C por 20 segundos, e depois lavada com água. A quantidade de água-forte da superfície granulada neste momento foi de aproximadamente 3 g/m2.
[0417]Em seguida, um tratamento eletroquímico de rugosidade foi continuamente realizado utilizando uma tensão AC de 60 Hz. Como a solução eletrolítica, uma solução aquosa de ácido nítrico a 1 % em massa (incluindo 0,5 % em massa de íons alumínio) foi utilizada a uma temperatura líquida de 50 °C. Utilizando uma corrente alternada de forma de onda retangular trapezoidal tendo TP de tempo, até que o valor de corrente atingisse um pico de zero, de 0,8 ms e a razão de atribuição de 1:1 como uma forma de onda de fonte de alimentação AC, o tratamento eletroquímico de rugosidade foi realizado utilizando um eletrodo de carbono como um eletrodo contador. Como um ânodo auxiliar, ferrita foi utilizada. A densidade de corrente foi de 30 A/dm2 como o valor de corrente de pico, e 5 % da corrente que flui da fonte de alimentação foi separado para um ânodo auxiliar. A quantidade elétrica na eletrólise de ácido nítrico foi de 175 C/dm2 que é uma quantidade elétrica em um caso onde a placa de alumínio foi um ânodo. Posteriormente, a lavagem com água utilizando um pulverizador foi realizada.
[0418]Em seguida, um tratamento eletroquímico de rugosidade foi realizado
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 108/145
102/136 de acordo com o mesmo método como o método para eletrólise de ácido nítrico sob a condição de uma quantidade elétrica de 50 C/dm2 em um caso onde uma placa de alumínio é um ânodo em uma solução aquosa de ácido clorídrico a 0,5 % em massa (incluindo 0,5 % em massa de íons alumínio) e uma solução eletrolítica a uma temperatura líquida de 50 °C. Subsequentemente, a lavagem com água utilizando um pulverizador foi realizada.
[0419]Em seguida, 2,5 g/m2 de uma película anodizada DC foram fornecidos nesta placa de alumínio a uma densidade de corrente de 15 A/dm2 utilizando uma solução aquosa de ácido nítrico a 15 % em massa (incluindo 0,5 % em massa de íons alumínio) como uma solução eletrolítica, lavada com água, e depois seca, preparando, assim, um suporte. O diâmetro de poro médio (diâmetro de poro médio de superfície) na camada de superfície da película anodizada foi de 10 nm.
[0420]0 diâmetro de poro na camada de superfície da película anodizada foi medido observando-se a superfície a uma ampliação de 150.000 vezes utilizando um resolução ultra-alta tipo SEM (S-900, fabricado por Hitachi, Ltd.) sem realizar um tratamento de deposição de vapor e semelhantes para comunicar a condutividade a um tensão de aceleração relativamente baixa de 12 V, extraindo aleatoriamente 50 poros, e adquirindo o valor médio. O desvio padrão foi de ± 10 % ou menos.
<Formação de camada de sub-revestimento>
[0421 ]Em seguida, o suporte foi revestido com uma solução de revestimento de camada de sub-revestimento (1) tal que a quantidade de revestimento seco desta foi definido para 20 mg/m2, preparando, assim, um suporte tendo uma camada de subrevestimento.
[Solução de revestimento de camada de sub-revestimento (1)] • Composto (1) para camada de sub-revestimento tendo a seguinte estrutura: 0,18 partes • Metanol: 55,24 partes
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 109/145
103/136 • Água: 6,15 partes
Composto (1) para camada não revestida <Formação de camada de gravação de imagem» [0422]A camada de sub-revestimento foi revestida por barra com a seguinte solução de revestimento de camada de gravação de imagem (1) e seca em um forno a 100 °C por 60 segundos, formando, assim, uma camada de gravação de imagem tendo uma quantidade de revestimento seco de 1,0 g/m2.
[0423]A solução de revestimento de camada de gravação de imagem (1) foi preparada misturando-se o seguinte líquido fotossensível (1) e a seguinte solução de microgel imediatamente antes de revestir e agitar a solução.
[0424]Além disso, no líquido fotossensível (1), o composto A corresponde a um iniciador radical aceitante de elétrons ou iniciador radical doador de elétrons que gera o primeiro pico e o composto B corresponde a um composto de absorção de radiação ou iniciador radical doador de elétrons que gera picos após o pico inicialmente gerado.
[Líquido fotossensível (1)] • Polímero aglutinante (1) [a seguinte estrutura]: 0,240 partes • Composto de absorção de radiação: 0,030 partes • Composto A listado na Tabela 2 ou 3: a quantidade listada na Tabela 2 ou 3 • Composto B listado na Tabela 2 ou 3: a quantidade listada na Tabela 2 ou 3 • Componente polimerizável por radical: 0,192 partes, tris(acriloiloxietil)isocianurato (NK ESTER A-9300, fabricado por Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) • Composto hidrofílico de baixo peso molecular: 0,062 partes, tris(2
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 110/145
104/136 hidroxietil)isocianurato • Composto hidrofílico de baixo peso molecular (1) [a seguinte estrutura]: 0,050 partes • Agente sensibilizante: 0,055 partes, composto fosfônio (1) [a seguinte estrutura] • Agente sensibilizante: 0,018 partes, benzil-dimetil-octil amônio sal de PFe • Agente sensibilizante: 0,035 partes, polímero contendo grupo amônio (1) [a seguinte estrutura, viscosidade específica reduzida de 44 ml/g] • Tensoativo à base de flúor (1) [a seguinte estrutura]: 0,008 partes • 2-Butanona: 1,091 partes • 1-Metóxi-2-propanol: 8,609 partes [Solução de microgel] • Microgel (1): 2,640 partes • Água destilada: 2,425 partes [0425]As estruturas do polímero aglutinante (1), o composto hidrofílico de baixo peso molecular (1), o composto fosfônio (1), o polímero contendo grupo amônio (1) e o tensoativo à base de flúor (1) utilizados para o líquido fotossensível (1) são mostrados abaixo. Além disso, Me representa um grupo metila, e cada número no lado direito inferior dos parênteses de cada unidade constitucional do polímero indica a razão molar.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 111/145
105/136
Composto hidrofílico de baixo peso molecular (1)
Composto fosfônio (1)
Polímero contendo grupo amônio (1)
Tensoativo à base de fluorina (1) ( Mw = 13.000 ) [0426]Um método de preparar um microgel (1) utilizado para a solução de microgel será descrito abaixo.
- Preparação de composto isocianato polivalente (1)[0427]0,043 partes de tris(2-etilhexanoato) de bismuto (NEOSTANN U-600
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 112/145
106/136 (fabricado por NITTO KASEI CO., LTD.)) foi adicionado a uma solução de suspensão de acetato de etila (25,31 partes) de 17,78 partes (80 mmol) de di-isocianato de isoforona e 7,35 partes (20 mmol) do seguinte composto fenol poli-hídrico (1), e a solução foi agitada. A temperatura de reação foi definida para 50 °C no momento da geração de calor sendo subsidiada, e a solução foi agitada por 3 horas, obtendo, assim, uma solução de acetato de etila (50 % em massa) de um composto isocianato polivalente (1).
Composto fenol poli-hídrico (1)
- Preparação de microgel (1)[0428]Os seguintes componentes de fase oleosa e os componentes de fase aquosa foram misturados entre si e emulsificados a 120.00 rpm por 10 minutos utilizando um homogeneizador. A emulsão obtida foi agitada a 45 °C por 4 horas, 5,20 partes de uma solução aquosa a 10 % em massa de 1,8-diazabiciclo[5,4,0]undeca-7eno-octilato (U-CAT SA102, fabricado por San-Apro Ltd.) foram adicionadas a esta, e a solução foi agitada na temperatura ambiente por 30 minutos e deixada repousar a 45 °C por 24 horas. A concentração de teores de sólido foi ajustada para 20 % em
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 113/145
107/136 massa utilizando água destilada, obtendo, assim, uma dispersão aquosa do microgel (1). O diâmetro médio de partícula volumétrico foi medido utilizando um dispositivo de medição de distribuição de tamanho de partícula LA-920 tipo dispersão por difração a laser (fabricado por Horiba Ltd.) de acordo com um método de dispersão de luz, e o valor foi de 0,28 pm.
cComponentes de fase oleosa>
[0429](Componente 1) acetato de etila: 12,0 partes [0430](Componente 2) aduto (solução de acetato de etila a 50 % em massa, fabricada por Mitsui Chemicals, Inc.) obtido adicionando-se trimetilolpropano (6 mol) e di-isocianato de xileno (18 mol) e adicionando-se polioxietileno de um terminal de metila (1 mol, número de repetição de unidades de oxietileno: 90) a este: 3,76 partes [0431](Componente 3) composto isocianato polivalente (1) (como solução de acetato de etila a 50 % em massa): 15,0 partes [0432](Componente 4) solução a 65 % em massa de penta-acrilato de dipentaeritritol (SR-399, fabricada por Sartomer Japan Inc.) em acetato de etila: 11,54 partes [0433](Componente 5) 10 % solução de tensoativo tipo sulfonate (PIONINE A-41-C, fabricada por TAKEMOTO OIL & FAT Co., Ltd.) em acetato de etila: 4,42 partes cComponentes de fase aquosa>
[0434]Água destilada: 46,87 partes cFormação de camada protetora>
[0435]Em cada exemplo e em cada exemplo comparativo, a camada de gravação de imagem foi revestida por barra com a solução de revestimento de camada protetora com a seguinte composição e seca em um forno a 120 °C por 60 segundos para formar uma camada protetora tendo uma quantidade de revestimento seco de 0,15 g/m2. Além disso, a camada protetora não tinha sido formada em um caso onde
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 114/145
108/136 “não disponível” é observado nas colunas da camada protetora na Tabela 2 ou 3.
[Solução de revestimento de camada protetora] • Dispersão composta de camada inorgânica (1) [descrita abaixo]: 1,5 partes • Solução aquosa a 6 % em massa contendo álcool polivinílico (CKS50, fabricada por Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., modificada por ácido sulfônico, grau de saponificação: 99 % em mol ou maior, grau de polimerização: 300): 0,55 partes • Solução aquosa a 6 % em massa contendo álcool polivinílico (PVA-405, fabricada por KURARAY CO., LTD., grau de saponificação: 81,5 % em mol, grau de polimerização: 500): 0,03 partes • Solução aquosa a 1 % em massa contendo tensoativo (éter laurílico de polioxietileno, EMALEX 710, fabricada por Nihon Emulsão Co., Ltd.): 0,86 partes • Água de troca iônica: 6,0 partes [0436]Um método de preparar a dispersão composta de camada inorgânica (1) utilizada para a solução de revestimento de camada protetora é descrito abaixo.
- Preparação de dispersão composta de camada inorgânica (1)[0437]6,4 partes de mica sintética (SOMASIF ME-100, fabricada por CO-OP CHEMICAL CO., LTD.) foram adicionadas a 193,6 partes de água de troca iônica e dispersaram-se de tal modo que o diâmetro médio de partícula (método de dispersão a laser) fosse definido para 3 pm utilizando um homogeneizador. A razão de aspecto das partículas dispersas obtidas foi de 100 ou maior.
______ [Tabela 2] _____________________________________________________________
Composto de absorção de radiação Composto A Composto B Cama da protet ora Difere nça em LUM O entre comp osto A e comp osto de Difere nça em HOM O entre comp osto Be comp osto de Posiçã o onde os picos após o pico inicialm ente gerado foram gerado s
Ti po HO MO (eV) LU MO (eV ) Ti PO LU MO (eV ) Teor (Part es) Ti PO HO MO (eV) Teor (Part es)
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 115/145
109/136
absor ção de radiaç ão (eV) absor ção de radiaç ão (eV) (ms)
Exe mplo 1 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B- 1 5,90 6 0,01 0 Dispo nível 0,748 0,606 200
Exe mplo 2 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B2 5,95 9 0,01 0 Dispo nível 0,748 0,659 250
Exe mplo 3 IR -2 5,43 7 3,8 14 A1 2,9 52 0,11 0 B3 6,04 8 0,01 0 Dispo nível 0,863 0,612 260
Exe mplo 4 IR -2 5,43 7 3,8 14 A1 2,9 52 0,11 0 B4 6,19 4 0,01 0 Dispo nível 0,863 0,758 275
Exe mplo 5 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B5 6,32 9 0,01 0 Dispo nível 0,748 1,029 350
Exe mplo 6 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B6 6,58 9 0,01 0 Dispo nível 0,748 1,289 400
Exe mplo 7 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B7 5,91 1 0,01 0 Dispo nível 0,748 0,611 220
Exe mplo 8 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B8 6,20 5 0,01 0 Dispo nível 0,748 0,905 300
Exe mplo 9 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B9 6,34 2 0,01 0 Dispo nível 0,748 1,042 350
Exe mplo 10 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B- 10 6,40 9 0,01 0 Dispo nível 0,748 1,109 380
Exe mplo 11 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B11 5,93 1 0,01 0 Dispo nível 0,748 0,631 230
Exe mplo 12 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B- 12 6,11 3 0,01 0 Dispo nível 0,748 0,813 290
Exe mplo 13 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B- 13 6,19 2 0,01 0 Dispo nível 0,748 0,892 300
Exe mplo 14 IR -1 5,30 0 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B14 6,26 8 0,01 0 Dispo nível 0,748 0,968 330
Exe mplo 15 IR -2 - - B- 1 - 0,03 0 IR -2 - 0,03 0 Dispo nível - - 150
Exe mplo 16 IR -3 - - B- 1 - 0,03 0 IR -3 - 0,03 0 Dispo nível - - 150
Exe mplo 17 IR -4 - - B- 1 - 0,03 0 IR -4 - 0,03 0 Dispo nível - - 200
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 116/145
110/136
Exe mplo 18 IR -5 - - B- 1 - 0,03 0 IR -5 - 0,03 0 Dispo nível - - 150
Exe mplo 19 IR -3 - - B5 - 0,03 0 IR -3 - 0,03 0 Dispo nível - - 150
Exe mplo 20 IR -4 - - B5 - 0,03 0 IR -4 - 0,03 0 Dispo nível - - 200
[Tabela 3]
Composto de absorção de radiação Composto A Composto B Cama da protet ora Difere nça em LUM O entre comp osto A e comp osto de absor ção de radia ção (eV) Difere nça em HOM O entre comp osto Be comp osto de absor ção de radia ção (eV) Posiçã o onde picos após o pico inicial mente gerado foram gerado s (ms)
Ti po HO MO (eV) LU MO (eV ) Ti PO LU MO (eV ) Teor (part es) Ti PO HO MO (eV) Teor (part es)
Exempl 0 21 IR -5 - - B5 - 0,03 0 IR -5 - 0,03 0 Dispo nível 150
Exempl o22 IR -6 - - B5 - 0,03 0 IR -6 - 0,03 0 Dispo nível - - 210
Exempl o23 IR -7 - - B5 - 0,03 0 IR -7 - 0,03 0 Dispo nível - - 200
Exempl o24 IR -1 5,3 00 3,7 00 A2 3,0 36 0,11 0 B- 1 5,9 06 0,01 0 Dispo nível 0,664 0,606 150
Exempl o25 IR -1 5,3 00 3,7 00 A3 3,1 57 0,11 0 B- 1 5,9 06 0,01 0 Dispo nível 0,543 0,606 100
Exempl o26 IR -2 5,4 37 3,8 14 A3 3,1 57 0,11 0 B- 1 5,9 06 0,01 0 Dispo nível 0,657 0,469 70
Exempl o27 IR -1 5,3 00 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B- 15 6,7 59 0,01 0 Dispo nível 0,748 1,459 600
Exempl o28 IR -1 5,3 00 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B- 16 6,6 21 0,01 0 Dispo nível 0,748 1,321 500
Exempl o29 IR -1 5,3 00 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B- 1 5,9 06 0,01 0 Não dispo nível 0,748 0,606 10
Exempl o 30 IR -1 5,3 00 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B- 6 6,5 89 0,01 0 Não dispo nível 0,748 1,289 10
Exempl IR - - A- - 0,11 B- - 0,01 Não 0,748 0,611 50
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 117/145
111/136
0 31 -1 5,3 00 3,7 00 1 2,9 52 0 7 5,9 11 0 dispo nível
Exempl o32 IR -1 5,3 00 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B8 6,2 05 0,01 0 Não dispo nível 0,748 0,905 20
Exempl o33 IR -1 5,3 00 3,7 00 A1 2,9 52 0,11 0 B9 6,3 42 0,01 0 Não dispo nível 0,748 1,042 10
Exempl o34 IR -2 5,4 37 3,8 14 A1 2,9 52 0,11 0 B3 6,0 48 0,01 0 Dispo nível 0,863 0,612 200
Exempl o35 IR -2 5,4 37 3,8 14 A1 2,9 52 0,11 0 B4 6,1 94 0,01 0 Dispo nível 0,863 0,758 250
Exempl 0 Compa rativo 1 IR -1 5,3 00 3,7 00 A1 2,9 52 0,16 2 - - - Dispo nível - - -
Exempl 0 Compa rativo 2 IR -1 5,3 00 3,7 00 A1 2,9 52 0,16 2 - - - Não dispo nível - - -
Exempl 0 Compa rativo 3 IR -1 5,3 00 3,7 00 - - - B- 1 5,9 06 0,01 0 Dispo nível - - -
Exempl 0 Compa rativo 4 IR -1 5,3 00 3,7 00 - - - - - - Não dispo nível - - -
[0438]Na Tabela 2 ou 3, a descrição de nas colunas do tipo de composto indica que o composto correspondente não foi continuado.
[0439]Além disso, na Tabela 2 ou 3, a descrição de nas colunas de LUMO, HOMO, a diferença (eV) em LUMO entre o composto A e o composto de absorção de radiação e a diferença (eV) em HOMO entre o composto de absorção de radiação e o composto B indicam que o composto correspondente não foi continuado ou HOMO ou LUMO não foi calculado.
[0440]Além disso, na Tabela 2 ou 3, a descrição de (IR-2) a (IR-5) nas colunas do composto B indica que novos compostos não foram adicionados como o composto B porque o composto de absorção de radiação corresponde ao composto B.
[0441 ]O pico de radical (ms) após o pico inicialmente gerado indica a posição de pico do pico com o valor de área entre os picos após o pico inicialmente gerado na curva de quantidade versus tempo de geração de radical.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 118/145
112/136 [0442]Além disso, no presente exemplo, LUMO, HOMO, e os valores dos picos de radicas (ms) após o pico inicialmente gerado foram calculados ou medidos de acordo com os métodos descritos acima.
[0443]Em seguida, os detalhes dos compostos listados como abreviações na
Tabela 2 ou 3 serão descritos. Na fórmula química, Ph representa um grupo fenila.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 119/145
113/136
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 120/145
114/136 <Avaliação de reprodutibilidade de tom (revelação na prensa)>
[0444]Os precursores de placa de impressão planográfica obtidos em cada exemplo e em cada exemplo comparativo foram expostos em Luxei PLATESETTER T-6000III (fabricado por Fujifilm Corporation) equipado com um laser semicondutor infravermelho sob condições de uma velocidade de rotação de tambor de superfície externa de 1.000 rpm, uma potência de laser de 70 % e uma resolução de 2.400 dpi (ponto por polegada, 1 polegada = 2,54 cm). A imagem exposta tinha uma imagem sólida e um gráfico de ponto de meio-tom de 50 % de uma tela FM tendo pontos com um diâmetro de 20 pm.
[0445]Uma impressora LITHRONE26 (fabricada por KOMORI Corporation) foi ligada ao cilindro de placa sem realizar o tratamento de revelação em cada um dos precursores de placa de impressão planográfica exposta obtidos. Depois que a velocidade de um rolo de abastecimento de água em relação ao cilindro de placa foi diminuída por 5 %, a água de umedecimento e a tinta foram fornecidas utilizando um método padrão de início de impressão automático para LITHRONE26 utilizando água de umedecimento, em que a razão de volume de Ecolity-2 (fabricado por Fujifilm Corporation) para água de torneira foi de 2:98, e a tinta preta de Fusão de cor de espaço G (fabricada por DIC Graphics Corporation) para realizar revelação na prensa, a impressão foi realizada em 500 folhas de papel Tokubishi Art (76,5 kg) a uma velocidade de impressão de 10.000 folhas por hora.
[0446]A densidade (densidade sólida) da área de imagem sólida do material impresso 500-th foi definida como DS, a densidade da porção de ponto de meio-tom foi definida como DT e a % da área de ponto de meio-tom foi calculada de acordo com a seguinte Equação de Murray-Davies (Equação M). Um caso onde a % da área de ponto de meio-tom foi diminuída, comparada a um caso onde o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 1 foi utilizado, foi avaliada como A, e um caso onde a % da área de ponto de meio-tom deste foi aumentada ou a mesma
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 121/145
115/136 comparada ao caso onde o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 1 foi utilizado, foi avaliada como B.
% da área de ponto de meio-tom = (1 -1O’DT)/( 1 -10’DS) x 100 Equação (M) [0447]Os resultados de avaliação são listados na Tabela 4.
<Avaliação de durabilidade de impressão (revelação na prensa)>
[0448]Depois que a reprodutibilidade de tom descrita acima foi avaliada e a impressão foi continuada. Como o número de folhas impressas foi aumentado, visto que a camada de gravação de imagem foi gasta e a receptividade de tinta foi degradada, a densidade de tinta no papel de impressão foi degradada. A durabilidade de impressão foi avaliada com base no número de folhas impressas (número X de folhas impressas) até que a densidade de reflexão de luz total (dispositivo de medição: eXact, fabricado por Video jet X-Rite, Inc.) da tinta em uma faixa de comprimento de onda de medição de 400 a 700 nm em uma placa de impressão exposta à mesma quantidade de exposição de luz foi diminuída por 0,1 do que aquela no início da impressão. A durabilidade de impressão foi avaliada utilizando o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 1 como uma referência com base na durabilidade de impressão relativa definida como a seguir. Em um caso onde o valor da durabilidade de impressão relativa é alto, isto indica que a durabilidade de impressão é alta.
[0449]Durabilidade de impressão relativa = (número X de folhas impressas no caso onde o precursor de placa de impressão planográfica alvo foi utilizado)/(número X de folhas impressas no caso onde precursor de placa de impressão planográfica de referência foi utilizado) x 100 [0450]0s resultados de avaliação são listados na Tabela 4.
<Avaliação de reprodutibilidade de tom (revelação de revelador)>
[0451]Exposição de imagem de 50 % de matriz de tela foi realizada nos precursores de placa de impressão planográfica obtidos em cada exemplo e em cada
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 122/145
116/136 exemplo comparativo em Trendsetter 3244VX (fabricado por Creo Corporation, equipado com laser semicondutor infravermelho de 40 W tipo arrefecimento de água (830 nm)) sob condições de uma potência de 9 W, uma velocidade de rotação de tambor de superfície externa de 210 rpm e uma resolução de 2.400 dpi. O tempo de irradiação foi definido para 2,38 microssegundos. Em seguida, o tratamento de revelação foi realizado ajustando-se um aquecedor tal que a superfície de placa atingindo a temperatura em uma porção pré-aquecida atingisse 100 °C a uma velocidade de transporte na qual o tempo para imersão (tempo de revelação) em um revelador foi definido para 20 segundos utilizando um revelador e um dispositivo de tratamento de revelação automático tendo uma estrutura ilustrada na Fig. 2. Além disso, o seguinte revelador 1 foi utilizado como o revelador.
<Revelador 1>
• Tensoativo-1 (SOFTAZLINE LPB-R, fabricado por Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.): 15 partes • Tensoativo-2 (SOFTAZLINE LAO, fabricado por Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.): 4 partes • Agente quelante, succinate de etilenodiamino trissódico (OCTAQUEST E30, fabricado por InnoSpec Inc.): 0,68 partes • 2-Bromo-2-nitropropano-1,3 diol: 0,025 partes • 2-Metil-4-isotiazolin-3-ona: 0,025 partes • Agente antiespumante à base de silicona (TSA739, fabricado por GE Toshiba Silicones Co., Ltd.): 0,15 partes • Gliconato de sódio: 1,5 partes • Carbonato de sódio: 1,06 partes • Hidrogenocarbonato de sódio: 0,52 partes • Água: 77,04 partes • pH: 9,8
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 123/145
117/136 [0452]A placa de impressão planográfica obtida foi ligada a uma impressora SOR-M (fabricada por Heidelberger Druckmaschinen AG), e a impressão foi realizada a uma velocidade de impressão de 6.000 folhas por hora utilizando água de umedecimento (EU-3 (fabricada por Fujifilm Corporation), solução de águaforte):água:álcool isopropílico = 1:89:10 (razão de volume)) e tinta preta TRANS-G (N) (fabricada por DIC Corporation).
[0453]A densidade (densidade sólida) da área de imagem sólida do material impresso 500-th foi definida como DS, a densidade da porção de ponto de meio-tom foi definida como DT e a % da área de ponto de meio-tom foi calculada de acordo com a seguinte Equação de Murray-Davies (Equação M). Um caso onde a % da área de ponto de meio-tom foi diminuída, comparada a um caso onde o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 1 foi utilizado, foi avaliada como A, e um caso onde a % da área de ponto de meio-tom desta foi aumentada ou a mesma comparada ao caso onde o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 1 foi utilizado, foi avaliada como B.
% da área de ponto de meio-tom = (1 -1O’DT)/( 1 -10’DS) x 100 Equação (M) [0454]Os resultados de avaliação são listados na Tabela 4.
<Avaliação de durabilidade de impressão (revelação de revelador)>
[0455]Depois que a reprodutibilidade de tom descrita acima foi avaliada e a impressão foi continuada. Como o número de folhas impressas foi aumentado, visto que a camada de gravação de imagem foi gasta e a receptividade de tinta foi degradada, a densidade de tinta no papel de impressão foi degradada. A durabilidade de impressão foi avaliada com base no número de folhas impressas (número X de folhas impressas) até que a densidade de reflexão de luz total (dispositivo de medição: eXact, fabricado por Video jet X-Rite, Inc.) da tinta em uma faixa de comprimento de onda de medição de 400 a 700 nm em uma placa de impressão exposta à mesma quantidade de exposição de luz foi diminuída por 0,1 do que aquela no início da
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 124/145
118/136 impressão. A durabilidade de impressão foi avaliada utilizando o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 1 como uma referência com base na durabilidade de impressão relativa definida como a seguir. Em um caso onde o valor da durabilidade de impressão relativa é alto, isto indica que a durabilidade de impressão é alta.
[0456]Durabilidade de impressão relativa = (número X de folhas impressas no caso onde o precursor de placa de impressão planográfica alvo foi utilizado)/(número X de folhas impressas no caso onde precursor de placa de impressão planográfica de referência foi utilizado) x 100 [0457]Os resultados de avaliação são listados na Tabela 4.
[Tabela 4]_______________________________________________
Reprodutibilidade de tom (revelação na prensa) Durabilidade de impressão relativa (revelação na prensa) Reprodutibilidade de tom (revelação de revelador) Durabilidade de impressão relativa (revelação de revelador)
Exemplo 1 A 130 A 130
Exemplo 2 A 200 A 200
Exemplo 3 A 190 A 190
Exemplo 4 A 200 A 200
Exemplo 5 A 170 A 170
Exemplo 6 A 170 A 170
Exemplo 7 A 190 A 190
Exemplo 8 A 200 A 200
Exemplo 9 A 160 A 160
Exemplo 10 A 150 A 150
Exemplo 11 A 190 A 190
Exemplo 12 A 190 A 190
Exemplo 13 A 160 A 160
Exemplo 14 A 150 A 150
Exemplo 15 A 190 A 190
Exemplo 16 A 190 A 190
Exemplo 17 A 190 A 190
Exemplo 18 A 190 A 190
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 125/145
119/136
Exemplo 19 A 190 A 190
Exemplo 20 A 190 A 190
Exemplo 21 A 190 A 190
Exemplo 22 A 190 A 190
Exemplo 23 A 190 A 190
Exemplo 24 A 130 A 130
Exemplo 25 A 130 A 130
Exemplo 26 A 115 A 115
Exemplo 27 A 145 A 145
Exemplo 28 A 145 A 145
Exemplo 29 A 105 A 105
Exemplo 30 A 105 A 105
Exemplo 31 A 160 A 160
Exemplo 32 A 105 A 105
Exemplo 33 A 105 A 105
Exemplo 34 A 200 A 200
Exemplo 35 A 200 A 200
Exemplo Comparativo 1 - 100 - 100
Exemplo Comparativo 2 A 20 A 20
Exemplo Comparativo 3 A 10 A 10
Exemplo Comparativo 4 A 0 A 0
[0458]Na Tabela 4, os resultados da reprodutibilidade de tom (revelação na prensa) e da reprodutibilidade de tom (revelação de revelador) do Exemplo Comparativo 1 são observados como visto que o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 1 foi utilizado como uma referência. Além disso, no Exemplo Comparativo 4, a durabilidade de impressão é observada como “0” visto que pontos de meio-tom não puderam ser formados pela revelação.
(Exemplos 36 e 37 e Exemplo Comparativo 5 a 8) <Preparação de suporte>
<Placa de alumínio
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 126/145
120/136 [0459]Um metal fundido foi preparado utilizando uma liga de alumínio contendo 0,06 % em massa de Si, 0,30 % em massa de Fe, 0,005 % em massa de Cu, 0,001 % em massa de Mn, 0,001 % em massa de Mg, 0,001 % em massa de Zn e 0,03 % em massa de Ti e, como o restante, Al e impurezas inevitáveis, um tratamento e filtração de metal fundido foram realizados, e um lingote tendo uma espessura de 500 mm e uma largura de 1200 mm foi preparado de acordo com um método de fundição DC (método de fundição semi-contínuo). A superfície foi raspada utilizando um esmeril de superfície tendo uma espessura média de 10 mm e aquecida a 550 °C e mantido o estado por aproximadamente 5 horas. Depois que a temperatura foi diminuída a 400 °C, uma folha laminada tendo uma espessura de 2,7 mm foi obtida utilizando um laminador a quente. Além disso, um tratamento térmico foi realizado a 500 °C utilizando uma máquina de recozimento contínuo, e uma laminação a frio foi realizada de modo que a espessura da folha laminada fosse acabada a 0,24 mm, obtendo, assim, uma placa de alumínio formada de material JIS 1050. O seguinte tratamento de superfície foi realizado depois que a largura desta placa de alumínio foi ajustada para 1.030 mm.
cTratamento de superfície>
[0460]0 tratamento de superfície foi realizado realizando-se continuamente os seguintes tratamentos de (b) a (j).
[0461]Além disso, corte líquido foi realizado utilizando um rolo de pressão depois de cada tratamento e lavagem com água.
(b) Água-forte alcalina [0462]A placa de alumínio obtida na maneira descrita acima foi submetida a um tratamento de água-forte pulverizando-se uma solução aquosa em que a concentração de soda cáustica foi de 2,6 % em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5 % em massa a uma temperatura de 70 °C de modo que 6 g/m2 da placa de alumínio fossem dissolvidos. Posteriormente, a lavagem com água
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 127/145
121/136 pulverizando-se foi realizada.
(c) Tratamento de desmutilação [0463]Um tratamento de desmutilação foi realizado pulverizando-se uma solução aquosa de ácido (contendo 0,5 % em massa de íons alumínio) tendo uma concentração de ácido nítrico de 1 % em massa a uma temperatura de 30 °C. Posteriormente, a lavagem com água foi realizada utilizando uma pulverização. Como a solução aquosa de ácido nítrico utilizada para o tratamento de desmutilação, um líquido residual utilizado para a etapa de realizar o tratamento eletroquímico de rugosidade utilizando a corrente alternada em uma solução aquosa de ácido nítrico foi utilizado.
(d) Tratamento eletroquímico de rugosidade [0464]Um tratamento eletroquímico de rugosidade foi continuamente realizado utilizando uma tensão AC de 60 Hz. Como uma solução eletrolítica neste momento, uma solução aquosa contendo 10,5 g/L de ácido nítrico (contendo 5 g/L de íons alumínio e 0,007 % em massa de íons amônio) a uma temperatura líquida de 50 °C foi utilizado. A forma de onda de fonte de alimentação AC é uma forma de onda ilustrada na Fig. 4. Além disso, utilizando uma forma de onda retangular trapezoidal AC tendo TP de tempo, até que o valor de corrente atingisse um pico de zero, de 0,8 ms e a razão de atribuição de 1:1 como a forma de onda de fonte de alimentação AC, o tratamento eletroquímico de rugosidade foi realizado utilizando um eletrodo de carbono como um eletrodo contador. Como um ânodo auxiliar, ferritafoi utilizada. Uma célula eletrolítica ilustrada na Fig. 3 foi utilizada como a célula eletrolítica. A densidade de corrente foi de 30 A/dm2 em relação ao valor de corrente de pico, e a quantidade elétrica foi de 220 C/dm2 como a quantidade elétrica total no momento da anodização da placa de alumínio. Além disso, 5 % da corrente da fonte de alimentação fluiu separadamente para o ânodo auxiliar. Posteriormente, a lavagem com água foi realizada utilizando uma pulverização.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 128/145
122/136 (e) Tratamento de água-forte alcalina [0465]A placa de alumínio foi submetida a um tratamento de água-forte pulverizando-se uma solução aquosa em que a concentração de soda cáustica foi de 26 % em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5 % em massa a uma temperatura de 32 °C de modo que 0,25 g/m2 da placa de alumínio fosse dissolvido. Além disso, um componente de fuligem principalmente contendo hidróxido de alumínio gerado no momento do tratamento eletroquímico de rugosidade utilizando a corrente alternada no estágio anterior foi removido, uma porção de borda de uma depressão gerada foi dissolvida para suavizar a porção de borda. Posteriormente, a lavagem com água pulverizando-se foi realizada.
(f) Tratamento de desmutilação [0466]Um tratamento de desmutilação foi realizado pulverizando-se uma solução aquosa de ácido (contendo 4,5 % em massa de íons alumínio) tendo uma concentração de ácido sulfúrico de 15 % em massa a uma temperatura de 30 °C. Posteriormente, a lavagem com água foi realizada utilizando uma pulverização. Como a solução aquosa de ácido nítrico utilizada para o tratamento de desmutilação, um líquido residual utilizado para a etapa de realizar o tratamento eletroquímico de rugosidade utilizando a corrente alternada em uma solução aquosa de ácido nítrico foi utilizado.
(g) Tratamento eletroquímico de rugosidade [0467]Um tratamento eletroquímico de rugosidade foi continuamente realizado utilizando uma tensão AC de 60 Hz. Como uma solução eletrolítica neste momento, uma solução aquosa contendo 2,5 g/L de ácido clorídrico (contendo 5 g/L de íons alumínio) a uma temperatura de 35 °C foi utilizada. A forma de onda de fonte de alimentação AC é uma forma de onda ilustrada na Fig. 4. Além disso, utilizando uma forma de onda retangular trapezoidal AC tendo TP de tempo, até que o valor de corrente atingisse um pico de zero, de 0,8 ms e a razão de atribuição de 1:1 como a
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 129/145
123/136 forma de onda de fonte de alimentação AC, o tratamento eletroquimico de rugosidade foi realizado utilizando um eletrodo de carbono como um eletrodo contador. Como um ânodo auxiliar, ferrita foi utilizada. Uma célula eletrolítica ilustrada na Fig. 3 foi utilizada como a célula eletrolítica. A densidade de corrente foi de 25 A/dm2 em relação ao valor de corrente de pico, e a quantidade elétrica foi de 50 C/dm2 como a quantidade elétrica total no momento da anodização da placa de alumínio. Posteriormente, a lavagem com água foi realizada utilizando uma pulverização.
(h) Tratamento de água-forte alcalina [0468]A placa de alumínio foi submetida a um tratamento de água-forte pulverizando-se uma solução aquosa em que a concentração de soda cáustica foi de 26 % em massa e a concentração de íons alumínio foi de 6,5 % em massa a uma temperatura de 32 °C de modo que 0,1 g/m2 da placa de alumínio fosse dissolvido. Além disso, um componente de fuligem principalmente contendo hidróxido de alumínio gerado no momento do tratamento eletroquimico de rugosidade utilizando a corrente alternada no estágio anterior foi removido, uma porção de borda de uma depressão gerada foi dissolvida para suavizar a porção de borda. Posteriormente, a lavagem com água pulverizando-se foi realizada.
(i) Tratamento de desmutilação [0469]Um tratamento de desmutilação foi realizado pulverizando-se uma solução aquosa de ácido (contendo 0,5 % em massa de íons alumínio) tendo uma concentração de ácido sulfúrico de 25 % em massa a uma temperatura de 60 °C. Posteriormente, a lavagem com água foi realizada utilizando uma pulverização.
(j) Tratamento de anodização [0470]Um tratamento de anodização foi realizado com um dispositivo de anodização tendo uma estrutura ilustrada na Fig. 3, obtendo, assim, cada suporte para uma placa de impressão planográfica do Exemplo 36, Exemplo 37 e Exemplos Comparativos 5 a 8. Como a solução eletrolítica fornecida à primeira e segunda
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 130/145
124/136 porções de eletrólise, ácido sulfúrico foi utilizado. A solução eletrolítica tinha uma concentração de ácido sulfúrico de 170 g/L (contendo 0,5 % em massa de íons alumínio) e a temperatura desta foi de 38 °C. Posteriormente, a lavagem com água foi realizada utilizando uma pulverização. A quantidade de revestimento de óxido final foi de 2,7 g/m2.
[0471 ]Em seguida, um suporte utilizado para o seguinte teste foi preparado por ser revestido com a seguinte solução de revestimento de camada de subrevestimento (2) tal que a quantidade de revestimento seco foi definida para 15 mg/m2.
<Solução de revestimento de camada de sub-revestimento (2)>
• Composto (2) para camada de sub-revestimento tendo a seguinte estrutura: 0,18 partes • Etilenodiaminatetra-acetato de tetrassódio: 0,10 partes • Éter laurílico de polioxietileno: 0,03 partes • Água: 61,39 partes chJ ch3'
Composto (2) para camada de sub-revestimento Mw: 100.000 [0472]Os números no lado direito inferior dos parênteses de cada unidade constitucional no composto (2) para uma camada de sub-revestimento indica as razões de massa e o número no lado direito inferior dos parênteses de cada unidade
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 131/145
125/136 de etileno-óxi indica os números de repetição.
<Preparação de precursor de placa de impressão planográfica>
(3) Formação de camada de gravação de imagem [0473]A camada de sub-revestimento no suporte formada na maneira descrita acima foi revestida por barra com uma solução de revestimento de camada de gravação de imagem (2) com a seguinte composição e seca em um forno a 100° por 60 segundos, formando, assim, uma camada de gravação de imagem tendo uma quantidade de revestimento seco de 1,0 g/m2.
[0474]A solução de revestimento de camada de gravação de imagem (2) foi obtida misturando-se um líquido fotossensível (2) e uma solução de microgel (2) descrita abaixo imediatamente antes de revestir e depois de agitar a solução.
cLíquido fotossensível (2)>
• Polímero aglutinante (2): 0,480 partes [a seguinte estrutura, Mw: 50.000, n: número de unidades de óxido de etileno (EO): 4] • Composto de absorção de radiação: 0,030 partes • Composto A listado na Tabela 5: a quantidade listada na Tabela 5 • Composto B listado na Tabela 5: a quantidade listada na Tabela 5 • Composto polimerizável por radical: 0,192 partes, tris(acriloiloxietil)isocianurato (NK ESTER A-9300, fabricado por Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) • Composto hidrofílico de baixo peso molecular: 0,052 partes, tris(2hidroxietil)isocianurato • Composto hidrofílico de baixo peso molecular (1): 0,099 partes • Agente sensibilizante: 0,12 partes, composto fosfônio (1) [a estrutura mostrada acima] • Agente sensibilizante: 0,035 partes, polímero contendo grupo amônio (1) [a estrutura mostrada acima]
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 132/145
126/136 • Agente sensibilizante: 0,032 partes, benzil-dimetil-octil amônio sal de PFe • Corante de Violeta de Etila [a seguinte estrutura]: 0,030 partes • Tensoativo à base de flúor (1): 0,02 partes [a estrutura mostrada acima] • 2-Butanona: 1,091 partes • 1-Metóxi-2-propanol: 8,609 partes <Solução de microgel (2)>
• Microgel (2): 1,580 partes • Água destilada: 1,455 partes
S-Polímero
Os X o
Polímero-S 'γ' Ύ S-Polímero
Ò O' ô
I
S-Polímero
Porção de polímero mostrada abaixo
ÇH* , ÇH3 , ÇH3
4~CH2 -C 4 4 CHS C 4 4cH^C'4 vI Ao
COOMe COOCOO n i1
OHCH
Polímero aglutinante (2) [0475]Além disso, Me representa um grupo metila, e cada número no lado direito inferior dos parênteses de cada unidade constitucional do polímero aglutinante (2) indica a razão molar.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 133/145
127/136
Violeta de Etila [0476]Um método de síntese do microgel descrito acima (2) é como a seguir.
- Síntese de microgel (2)[0477]10 partes de um aduto (TAKENATE D-110N, fabricado por Mitsui Chemicals Polyuretanos, Inc.) de trimetilolpropano e di-isocianato de xileno, 5,54 partes de penta-acrilato de dipentaeritritol (SR399, fabricado por Sartomer Japan Inc.), e 0,1 partes de PIONINE A-41C (fabricado por TAKEMOTO OIL & FAT Co., Ltd.), como componentes de fase oleosa, foram dissolvidas em 17 partes de acetato de etila. Como um componente de fase aquosa, 40 partes de uma solução aquosa a 4 % em massa de PVA-205 foram preparadas. Os componentes de fase oleosa e os componentes de fase aquosa foram misturados entre si e emulsificados a 120.00 rpm por 10 minutos utilizando um homogeneizador. 25 partes de água destilada foram adicionadas à emulsão obtida, e o resultante foi agitado na temperatura ambiente (25 °C, o mesmo se aplica em seguida) por 30 minutos e agitado a 50 °C por 3 horas. A solução de microgel obtida nesta maneira foi diluída com água destilada tal que a concentração de teores de sólido foi definida para 15 % em massa, preparando, assim,
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 134/145
128/136 um microgel (2). O diâmetro médio de partícula do microgel medido por um método de dispersão de luz foi de 0,2 pm.
(4) Formação de camada protetora [0478]Em cada exemplo e em cada exemplo comparativo, a camada de gravação de imagem foi revestida por barra com a seguinte solução de revestimento de camada protetora (2) com a seguinte composição e seca em um forno a 120 °C por 60 segundos para formar uma camada protetora tendo uma quantidade de revestimento seco de 0,15 g/m2.
[0479]Além disso, a camada protetora não tinha sido formada em um caso onde “não disponível” é observado nas colunas da camada protetora na Tabela 5.
<Solução de revestimento de camada protetora (2)>
• Dispersão composta de camada inorgânica (1): 1,5 partes • Polímero hidrofílico (1): 0,55 partes, [a seguinte estrutura, Mw: 30.000] • Solução aquosa a 6 % em massa contendo álcool polivinílico (CKS50, fabricada por Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., modificada por ácido sulfônico, grau de saponificação de 99 % em mol ou maior, grau de polimerização de 300): 0,10 partes • Solução aquosa a 6 % em massa contendo álcool polivinílico (PVA-405, fabricada por KURARAY CO., LTD., grau de saponificação de 81,5 % em mol, grau de polimerização de 500): 0,03 partes • Solução aquosa a 80 % em massa contendo tensoativo (RAPISOL A-80 (nome comercial), fabricada por NOF Corporation): 0,011 partes • Água de troca iônica: 6,0 partes
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 135/145
129/136
RAPfSOL A-80
[0480]Além disso, Me representa um grupo metila, e cada número no lado direito inferior dos parênteses de cada unidade constitucional do polímero hidrofílico (1) indica a razão molar.
[Tabela 5]
Composto de absorção de radiação Composto A Composto B Cam ada prote tora Líqui do de trata ment 0 Difer ença em LUM O entre com post o A e com post o de abso rção de radia ção (eV) Difer ença em HOM O entre com post o B e com post o de abso rção de radia ção (eV) Posiç ão onde picos após o pico inicial mente gerad 0 foram gerad os (ms)
Ti P 0 HO MO (eV ) LU M O (eV ) Ti P 0 LU M O (eV ) Teo r (par tes) Ti P 0 HO MO (eV ) Teo r (par tes)
Exem pio 36 IR -1 5,3 00 3,7 00 A2 3,0 36 0,1 10 B- 1 5,9 06 0,0 10 Disp oníve I (1) 0,66 4 0,60 6 150
Exem pio 37 IR -1 5,3 00 3,7 00 A2 3,0 36 0,1 10 B- 1 5,9 06 0,0 10 Disp oníve I (2) 0,66 4 0,60 6 150
Exem pio IR -1 5,3 3,7 A2 3,0 0,1 62 - - - Disp oníve (1) - - -
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 136/145
130/136
Comp arativo 5 00 00 36 I
Exem pio Comp arativo 6 IR -1 5,3 00 3,7 00 - - - B- 1 5,9 06 0,0 10 Não dispo nível (1) - - -
Exem pio Comp arativo 7 IR -1 5,3 00 3,7 00 A2 3,0 36 0,1 62 - - - Disp oníve I (2) - - -
Exem pio Comp arativo 8 IR -1 5,3 00 3,7 00 - - - B- 1 5,9 061 0,0 1 Não dispo nível (2) - - -
[0481 ]Na Tabela 5, a descrição de nas colunas do tipo de composto indica que o composto correspondente não foi continuado.
[0482]Além disso, na Tabela 5, a descrição de nas colunas de LUMO, HOMO, a diferença (eV) em LUMO entre o composto A e o composto de absorção de radiação e a diferença (eV) em HOMO entre o composto de absorção de radiação e o composto B indicam que o composto correspondente não foi continuado ou HOMO ou LUMO não foi calculado.
<Avaliação de reprodutibilidade de tom (revelação de revelador)>
[Exposição] [0483]Os precursores de placa de impressão planográfica dos Exemplos 35 e 36 ou Exemplos Comparativos 5 a 8 foram expostos em Luxei PLATESETTER T6000III (fabricado por Fujifilm Corporation) equipado com um laser semicondutor infravermelho sob condições de uma velocidade de rotação de tambor de superfície externa de 1.000 rpm, uma potência de laser de 70 % e uma resolução de 2.400 dpi (ponto por polegada, 1 polegada = 2,54 cm). A imagem exposta tinha uma imagem sólida e um gráfico de ponto de meio-tom de 50 % de uma tela FM tendo pontos com um diâmetro de 20 pm.
[Tratamento de revelação] [0484]Em seguida, o precursor de placa de impressão planográfica foi
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 137/145
131/136 submetido a um tratamento de revelação utilizando um dispositivo de tratamento de revelação ilustrado na Fig. 2. Aqui, o “tratamento de revelação” indica um tratamento combinado tendo um ou mais tratamentos selecionados do grupo consistindo em remoção da camada protetora, revestimento de goma e secagem além da revelação aa camada de gravação de imagem.
[0485]Como o líquido de tratamento utilizado para o tratamento de revelação, qualquer um do líquido de tratamento (1) ou do líquido de tratamento (2) com a seguinte composição listada na Tabela 5 foi utilizado.
cLíquido de tratamento (1)>
• pH = 8,4 • PELEX NBL (alquil naftaleno sulfonate de sódio, fabricado por Kao Corporation, tensoativo aniônico): 2,5 % em massa • NEWCOL B13 (éter arílico de polioxietileno, fabricado por Nippon Nyukazai Co., Ltd., tensoativo não iônico): 2,0 % em massa • Álcool benzílico (fabricado por Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0,6 % em massa • Hidrogenofosfato dedissódio (fabricado porWako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0,3 % em massa • Hidrogenocarbonato de sódio (fabricado porWako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0,225 % em massa • Gliconato de sódio (fabricado por Fuso Chemical Co., Ltd.): 3,0 % em massa • Agente antiespumante (polidimetilsiloxano, SILCOLAPSE 432, fabricado por Bluestar Silicones): 0,002 % em massa • Água: 91,373 % em massa cLíquido de tratamento (2)>
• pH = 8,4 • PELEX NBL (alquil naftaleno sulfonate de sódio, fabricado por Kao
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 138/145
132/136
Corporation, tensoativo aniônico): 2,5 % em massa • LUGALVAN BNO24 (éter arílico de polioxietileno, fabricado por BASF SE, tensoativo não iônico): 2,0 % em massa • Álcool benzílico (fabricado por Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0,6 % em massa • Hidrogenofosfato dedissódio (fabricado porWako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0,3 % em massa • Hidrogenocarbonato de sódio (fabricado porWako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0,225 % em massa • Gliconato de sódio (fabricado por Fuso Chemical Co., Ltd.): 3,0 % em massa • Agente antiespumante (polidimetilsiloxano, SILCOLAPSE 432, fabricado por Bluestar Silicones): 0,002 % em massa • Água: 91,373 % em massa [0486]O dispositivo de tratamento de revelação ilustrado na Fig. 2 é um dispositivo de tratamento automático incluindo dois rolos de escova totativa 11. Um rolo de escova tendo um diâmetro externo de 90 mm, no qual fibras de tereftalato de polibutileno (diâmetro de cerda: 200 pm, comprimento de cerda: 17 mm) foram implantadas, foi utilizado como o primeiro rolo de escova rotativa 11, e o rolo foi deixado girar 200 vezes (a velocidade circunferencial da ponta da escova: 0,94 m/s) por minuto na mesma direção como a direção de transporte. Além disso, um rolo de escova tendo um diâmetro externo de 60 mm, no qual fibras de tereftalato de polibutileno (diâmetro de cerda: 200 pm, comprimento de cerda: 17 mm) foram implantadas, foi utilizado como o segundo rolo de escova rotativa 11, e o rolo foi deixado girar 200 vezes (a velocidade periférica da ponta da escova: 0,63 m/s) por minuto na direção oposta à direção de transporte. Um precursor de placa de impressão planográfica 30 depois de ser exposto foi transportado na direção de transporte ilustrada na figura entre três pares de rolos de transporte 13 de um suporte
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 139/145
133/136 de alimentação de placa 18 para uma suporte de descarga de placa 19 a uma velocidade de transporte de 100 cm/min em uma placa de guia de transporte 14 fornecida durante o processo tal que o precursor de placa de impressão planográfica 30 foi deixado passar através um espaço entre o rolo de escova rotativa 11 e um rolo de recebimento 12.
[0487]Em quatro tubos de pulverização 15, o revelador armazenado em um tanque de líquido de tratamento 20 foi fornecido por uma bomba de circulação 21 através de um filtro 17 utilizando uma linha de tubos 16, e o revelador foi fornecido à superfície de placa de cada tubo de pulverização 15 realizando-se o banho. Além disso, o volume do tanque de líquido de tratamento 20 foi de 10 litros, e o revelador foi reciclado. A placa de impressão planográfica descarregada do dispositivo de tratamento de revelação foi seca por uma secadora 22 sem ser lavada com água.
[0488]A direção de rotação do rolo de escova rotativa utilizado na presente divulgação pode ser a mesma ou oposta à direção de transporte do precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a modalidade da presente divulgação. Além disso, em um caso onde o rolo de escova rotativa é deixado girar em uma direção de eixo de rotação do rolo de escova, isto também é eficaz para a revelação.
[0489]A placa de impressão planográfica obtida foi ligada a uma impressora SOR-M (fabricada por Heidelberger Druckmaschinen AG), e a impressão foi realizada a uma velocidade de impressão de 6.000 folhas por hora utilizando água de umedecimento (EU-3 (fabricada por Fujifilm Corporation), solução de águaforte):água:álcool isopropílico = 1:89:10 (razão de volume)) e tinta preta TRANS-G (N) (fabricada por DIC Corporation).
[0490]A densidade (densidade sólida) da área de imagem sólida do material impresso 500-th foi definida como DS, a densidade da porção de ponto de meio-tom foi definida como DT e a % da área de ponto de meio-tom foi calculada de acordo com a seguinte Equação de Murray-Davies (Equação M). Um caso onde a % da área de
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 140/145
134/136 ponto de meio-tom foi diminuída, comparada a um caso onde o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 5 foi utilizado, foi avaliada como A, e um caso onde a % da área de ponto de meio-tom desta foi aumentada ou a mesma comparada ao caso onde o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 5 foi utilizado, foi avaliada como B.
% da área de ponto de meio-tom = (1 -10’DT)/( 1 -10’DS) x 100 Equação (M) [0491 ]Os resultados de avaliação são listados na Tabela 6.
<Avaliação de durabilidade de impressão (revelação de revelador)>
[0492]Depois que a reprodutibilidade de tom descrita acima foi avaliada e a impressão foi continuada. Como o número de folhas impressas foi aumentado, visto que a camada de gravação de imagem foi gasta e a receptividade de tinta foi degradada, a densidade de tinta no papel de impressão foi degradada. A durabilidade de impressão foi avaliada com base no número de folhas impressas (número X de folhas impressas) até que a densidade de reflexão de luz total (dispositivo de medição: eXact, fabricado por Video jet X-Rite, Inc.) da tinta em uma faixa de comprimento de onda de medição de 400 a 700 nm em uma placa de impressão exposta à mesma quantidade de exposição de luz foi diminuída por 0,1 do que aquela no início da impressão. A durabilidade de impressão foi avaliada utilizando o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 5 como uma referência com base na durabilidade de impressão relativa definida como a seguir. Em um caso onde o valor da durabilidade de impressão relativa é alto, isto indica que a durabilidade de impressão é alta.
[0493]Durabilidade de impressão relativa = (número X de folhas impressas no caso onde o precursor de placa de impressão planográfica alvo foi utilizado)/(número X de folhas impressas no caso onde precursor de placa de impressão planográfica de referência foi utilizado) x 100 [0494]Os resultados de avaliação são listados na Tabela 6.
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 141/145
135/136 [Tabela 6]
Reprodutibilidade de tom (revelação de revelador) Durabilidade de impressão relativa (revelação de revelador)
Exemplo 36 A 140
Exemplo 37 A 140
Exemplo Comparativo 5 - 100
Exemplo Comparativo 6 A 100
Exemplo Comparativo 7 A 10
Exemplo Comparativo 8 A 10
[0495]Na Tabela 6, o resultado da reprodutibilidade de tom (revelação de revelador) do Exemplo Comparativo 5 é observado como visto que o precursor de placa de impressão planográfica do Exemplo Comparativo 5 foi utilizado como uma referência.
Explicação de Referências
11: rolo de escova rotativa
12: rolo de recebimento
13: rolo de transporte
14: placa de guia de transporte
15: tubo de pulverização
16: linha de tubos
17: filtro
18: suporte de alimentação de placa
19: suporte de descarga de placa
20: tanque de líquido de tratamento
21: bomba de circulação
22:secadora
30: precursor de placa de impressão planográfica
32: direção de transporte
211: placa de alumínio
Petição 870190066469, de 15/07/2019, pág. 142/145
136/136
212: rolo de tambor radial
213a, 213b: polo principal
214: líquido de tratamento eletrolítico
215: porta de fornecimento de solução eletrolítica
216: abertura
217: passagem de solução eletrolítica
218: ânodo auxiliar
219a, 219b: tiristor
220: fonte de alimentação AC
240: célula eletrolítica principal
250: célula ânodo auxiliar

Claims (4)

REIVINDICAÇÕES
1. Precursor de placa de impressão planográfica, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende:
um suporte; e uma camada de gravação de imagem que compreende um iniciador radical, um componente polimerizável por radical e um composto de absorção de radiação, e em que uma curva de quantidade versus tempo de geração de radical tem dois ou mais picos de uma quantidade de geração de radical após à exposição à radiação formadora de imagem, em que o iniciador radical compreende um iniciador radical doador de elétrons e um iniciador radical aceitante de elétrons, e em que o composto de absorção de radiação compreende um composto representado pela seguinte Fórmula 1:
[Fórmula 1]
em que, na Fórmula 1, R1 representa um grupo capaz de clivar a ligação R1X devido à exposição à radiação formadora de imagem, X representa -S- ou -NRN-, RN representa um grupo hidrocarboneto, R2 e R3 representam independentemente um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila, R2 e R3 podem ser ligados um ao outro para formar um anel, Ar1 e Ar2 representam independentemente um grupo formador de um anel benzene ou um grupo formador de um anel naftaleno, Y1 e Y2 representam independentemente um átomo de oxigênio, um átomo de enxofre, -NR°- ou um grupo
Petição 870190045232, de 14/05/2019, pág. 19/22
2. Precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que ο X na Fórmula 1 representa -S-
2/4 dialquilmetileno, R4 e R5 representam independentemente um grupo alquila, R6 a R9 representam independentemente um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila, R° representa um átomo de hidrogênio, um grupo alquila ou um grupo arila, e Za representa um contra-íon que neutraliza a carga.
3/4 um dos picos da quantidade de geração de radical que são gerados após o pico inicialmente gerado, entre os picos da quantidade de geração de radical, é de 40 ms ou maior.
9. Precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, CARACTERIZADO pelo fato de que uma diferença entre um orbital molecular ocupado mais alto do iniciador radical doador de elétrons e um orbital molecular ocupado mais alto do composto de absorção de radiação é de 0,61 eV ou maior.
10. Precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 9, CARACTERIZADO pelo fato de que uma diferença entre um orbital molecular não ocupado mais baixo do iniciador radical aceitante de elétrons e um orbital molecular não ocupado mais baixo do composto de absorção de radiação é de 0,90 eV ou menor.
11. Precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, CARACTERIZADO pelo fato de que a camada de gravação de imagem é removível por qualquer uma ou ambas de água de umedecimento e tinta de impressão.
12. Método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica, o método CARACTERIZADO pelo fato de que compreende:
uma etapa de submeter o precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11, à exposição de luz na forma de imagem; e uma etapa de remover uma área sem imagem de uma camada de gravação de imagem a partir do precursor de placa de impressão planográfica exposto na presença de um revelador tendo um pH de 2 a 14.
13. Método de fabricação de placa para uma placa de impressão planográfica, o método CARACTERIZADO pelo fato de que compreende:
Petição 870190045232, de 14/05/2019, pág. 21/22
3. Precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a reivindicação 1 ou reivindicação 2, CARACTERIZADO pelo fato de que o composto de absorção de radiação é um composto de absorção de radiação do tipo decomposição.
4. Precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, CARACTERIZADO pelo fato de que o iniciador radical doador de elétrons compreende um composto borato.
5. Precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a reivindicação 4, CARACTERIZADO pelo fato de que o composto borato tem um ou mais grupos arila tendo um grupo de remoção de elétrons.
6. Precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, CARACTERIZADO pelo fato de que o iniciador radical aceitante de elétrons compreende um sal de iodônio.
7. Precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com a reivindicação 6, CARACTERIZADO pelo fato de que o sal de iodônio tem um grupo doador de elétrons como um substituinte.
8. Precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, CARACTERIZADO pelo fato de que um intervalo de pico entre um pico da quantidade de geração de radical que é inicialmente gerado em relação ao tempo após à exposição à radiação formadora de imagem e pelo menos
Petição 870190045232, de 14/05/2019, pág. 20/22
4/4 uma etapa de submeter o precursor de placa de impressão planográfica, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11; e uma etapa de fornecer qualquer uma ou ambas de tinta de impressão e água de umedecimento em uma impressora e remover uma área sem imagem de uma camada de gravação de imagem.
BR112019009802-0A 2016-11-16 2017-11-08 Precursor de placa de impressão planográfica em prensa e método para fabricação de placa em prensa para placa de impressão planográfica BR112019009802B1 (pt)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016223580 2016-11-16
JP2016-223580 2016-11-16
JP2017-080570 2017-04-14
JP2017080570 2017-04-14
PCT/JP2017/040319 WO2018092661A1 (ja) 2016-11-16 2017-11-08 輻射線感光性組成物、平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
BR112019009802A2 true BR112019009802A2 (pt) 2019-08-13
BR112019009802B1 BR112019009802B1 (pt) 2022-12-13

Family

ID=62146307

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BR112019009802-0A BR112019009802B1 (pt) 2016-11-16 2017-11-08 Precursor de placa de impressão planográfica em prensa e método para fabricação de placa em prensa para placa de impressão planográfica

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11370862B2 (pt)
EP (1) EP3543790B1 (pt)
JP (1) JP6792633B2 (pt)
CN (1) CN109952536B (pt)
BR (1) BR112019009802B1 (pt)
WO (1) WO2018092661A1 (pt)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BR112019022492A2 (pt) * 2017-07-13 2020-05-12 Fujifilm Corporation Precursor de placa de impressão litográfica e método para produção de placa de impressão litográfica
WO2020090995A1 (ja) * 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020090996A1 (ja) * 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP2020069790A (ja) * 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
JP2020069789A (ja) * 2018-10-31 2020-05-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020111259A1 (ja) * 2018-11-30 2020-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
WO2020158138A1 (ja) * 2019-01-31 2020-08-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
EP3900943A4 (en) 2019-01-31 2022-05-25 FUJIFILM Corporation ORIGINAL PLATE OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, METHOD OF MAKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING
US11185915B2 (en) 2019-08-30 2021-11-30 Applied Materials, Inc. Deposition of reactive metals with protection layer for high volume manufacturing
EP4112321A4 (en) * 2020-02-28 2023-08-09 FUJIFILM Corporation ORIGINAL PLATE OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, METHOD OF MAKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING
US11714354B2 (en) * 2020-03-25 2023-08-01 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
EP4159460A4 (en) 2020-05-29 2023-11-08 FUJIFILM Corporation LAMINATED BODY
WO2021241457A1 (ja) * 2020-05-29 2021-12-02 富士フイルム株式会社 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
CN115697718A (zh) 2020-05-29 2023-02-03 富士胶片株式会社 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法
WO2022212032A1 (en) 2021-04-01 2022-10-06 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
US20230314935A1 (en) 2022-03-03 2023-10-05 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use
EP4245542A1 (en) 2022-03-18 2023-09-20 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method
US20240069439A1 (en) 2022-08-12 2024-02-29 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursor and method of use

Family Cites Families (107)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE540601A (pt) 1950-12-06
BE606888A (pt) 1960-08-05 1900-01-01
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
US3280734A (en) 1963-10-29 1966-10-25 Howard A Fromson Photographic plate
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
ZA6807938B (pt) 1967-12-04
JPS4841708B1 (pt) 1970-01-13 1973-12-07
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
JPS5549729B2 (pt) 1973-02-07 1980-12-13
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US3902734A (en) 1974-03-14 1975-09-02 Twm Mfg Co Frames for axle suspension systems
JPS5311314B2 (pt) 1974-09-25 1978-04-20
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3406101A1 (de) 1984-02-21 1985-08-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur zweistufigen hydrophilierenden nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit waessrigen loesungen und deren verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
JP2655349B2 (ja) 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2988756B2 (ja) 1991-04-26 1999-12-13 協和醗酵工業株式会社 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物
JP2739395B2 (ja) 1991-08-19 1998-04-15 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2907643B2 (ja) 1992-07-16 1999-06-21 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版およびその処理方法
US5607813A (en) 1993-01-20 1997-03-04 Agfa-Gevaert, N.V. Photopolymerizable composition of high sensitivity and method for obtaining images therewith
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
DE69620336T2 (de) 1995-10-24 2002-10-24 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit Wasser als Entwickler
DE69517174T2 (de) 1995-10-24 2000-11-09 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographische Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindenden Entwicklung
DE69613078T2 (de) 1995-11-09 2001-11-22 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit
DE69608522T2 (de) 1995-11-09 2001-01-25 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit
JPH09179296A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179297A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH09179298A (ja) 1995-12-22 1997-07-11 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JP3839552B2 (ja) 1997-06-03 2006-11-01 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法
EP0931647B1 (en) 1998-01-23 2003-04-02 Agfa-Gevaert A heat sensitive element and a method for producing lithographic plates therewith
JP2000250211A (ja) 1999-03-01 2000-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP2001133969A (ja) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2001277740A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001277742A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP4092055B2 (ja) 2000-02-09 2008-05-28 三菱製紙株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2001253181A (ja) 2000-03-09 2001-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感熱性平版印刷用原板
JP3449342B2 (ja) 2000-03-30 2003-09-22 三菱化学株式会社 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法
JP2001322365A (ja) 2000-05-16 2001-11-20 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷用原板
JP2002023360A (ja) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
JP4156784B2 (ja) 2000-07-25 2008-09-24 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
JP2002202592A (ja) * 2000-10-25 2002-07-19 Mitsubishi Chemicals Corp 近赤外レーザー露光用光重合性組成物及び光重合性平版印刷版
JP4319363B2 (ja) 2001-01-15 2009-08-26 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP4414607B2 (ja) 2001-03-14 2010-02-10 富士フイルム株式会社 ラジカル重合性化合物
JP2002287344A (ja) 2001-03-27 2002-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性平版印刷版
WO2002087882A1 (fr) 2001-04-26 2002-11-07 Mitsubishi Chemical Corporation Methode et dispositif de traitement et d'impression regeneratifs
JP2003005350A (ja) * 2001-06-21 2003-01-08 Mitsubishi Chemicals Corp ネガ型平版印刷版の作製方法
JP2002328465A (ja) 2001-04-27 2002-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2003064130A (ja) 2001-08-29 2003-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
JP3989270B2 (ja) 2002-03-25 2007-10-10 富士フイルム株式会社 光重合性組成物
EP1359008B1 (de) 2002-04-29 2005-08-31 Agfa-Gevaert Strahlungsempfindliches Gemisch, damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, und Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte
DE10255663B4 (de) 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente
JP4299032B2 (ja) 2003-03-28 2009-07-22 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
JP4139724B2 (ja) * 2003-04-10 2008-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
ATE491968T1 (de) 2003-07-22 2011-01-15 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4351933B2 (ja) 2004-03-05 2009-10-28 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版およびこれを用いた平版印刷版の製版方法
JP4792253B2 (ja) 2004-07-29 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP2006065210A (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2006188038A (ja) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
JP4469734B2 (ja) 2005-02-03 2010-05-26 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2006239867A (ja) 2005-02-28 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5172097B2 (ja) 2005-02-28 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷版原版の製造方法
JP2006243493A (ja) 2005-03-04 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP4393408B2 (ja) 2005-03-16 2010-01-06 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版
US7153632B1 (en) 2005-08-03 2006-12-26 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP5170960B2 (ja) 2005-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及び平版印刷方法
JP2007094138A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP2007206348A (ja) 2006-02-01 2007-08-16 Fujifilm Corp 平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法
JP5238170B2 (ja) 2006-03-14 2013-07-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4796890B2 (ja) 2006-03-31 2011-10-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
JP2007293221A (ja) 2006-03-31 2007-11-08 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
US7524614B2 (en) 2006-05-26 2009-04-28 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4826918B2 (ja) 2007-04-03 2011-11-30 三菱化学株式会社 光重合性組成物
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2008284858A (ja) 2007-05-21 2008-11-27 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US7781143B2 (en) 2007-05-31 2010-08-24 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use
JP5376844B2 (ja) 2007-06-21 2013-12-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP2009090645A (ja) 2007-09-20 2009-04-30 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP5322537B2 (ja) 2007-10-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US8084182B2 (en) * 2008-04-29 2011-12-27 Eastman Kodak Company On-press developable elements and methods of use
JP5449898B2 (ja) * 2008-09-22 2014-03-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
JP2010221692A (ja) * 2009-02-26 2010-10-07 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
US8257907B2 (en) 2009-06-12 2012-09-04 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
JP5622484B2 (ja) * 2009-08-20 2014-11-12 富士フイルム株式会社 発色感光性組成物、平版印刷版原版及び新規シアニン色素
WO2011115125A1 (ja) * 2010-03-19 2011-09-22 富士フイルム株式会社 発色感光性組成物、平版印刷版原版及びその製版方法
US8632941B2 (en) * 2011-09-22 2014-01-21 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors with IR dyes
US9029063B2 (en) * 2011-09-22 2015-05-12 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
JP5690696B2 (ja) 2011-09-28 2015-03-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP5579217B2 (ja) 2012-03-27 2014-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5699112B2 (ja) * 2012-07-27 2015-04-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
CN104619512A (zh) * 2012-09-20 2015-05-13 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及制版方法
CN104703809B (zh) * 2012-09-26 2017-03-08 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及制版方法
JP2014162156A (ja) * 2013-02-26 2014-09-08 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、及び、これを用いた製版方法
EP2778782B1 (en) * 2013-03-13 2015-12-30 Kodak Graphic Communications GmbH Negative working radiation-sensitive elements
JP6012870B2 (ja) * 2013-07-18 2016-10-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
US9201302B2 (en) * 2013-10-03 2015-12-01 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor
BR112017003349B1 (pt) * 2014-08-22 2022-12-20 Fujifilm Corporation Composto, composição de desenvolvimento de cor, precursor de placa de impressão litográfica e método para produção de placa para placa de impressão litográtfica
BR112017006649A2 (pt) 2014-09-30 2017-12-26 Fujifilm Corp precursor da placa de impressão planográfica, e, métodos de produção de um precursor da placa de impressão planográfica e de impressão
JP6523981B2 (ja) * 2016-01-29 2019-06-05 富士フイルム株式会社 ネガ型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法
WO2017141882A1 (ja) 2016-02-19 2017-08-24 富士フイルム株式会社 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び発色性化合物
BR112019003802B1 (pt) * 2016-08-31 2022-12-20 Fujifilm Corporation Composição de revelação de cor, precursor de placa de impressão planográfica, método para produção de placa de impressão planográfica e composto

Also Published As

Publication number Publication date
WO2018092661A1 (ja) 2018-05-24
JP6792633B2 (ja) 2020-11-25
CN109952536A (zh) 2019-06-28
JPWO2018092661A1 (ja) 2019-08-08
EP3543790A1 (en) 2019-09-25
EP3543790A4 (en) 2019-12-11
CN109952536B (zh) 2022-07-08
EP3543790B1 (en) 2023-12-13
US11370862B2 (en) 2022-06-28
BR112019009802B1 (pt) 2022-12-13
US20190329545A1 (en) 2019-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BR112019009802A2 (pt) composição sensível à radiação, precursor de placa de impressão planográfica e método de fabricação de placa para placa de impressão planográfica
JP6865757B2 (ja) 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物
JP7062635B2 (ja) 硬化性組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物
JP6285036B2 (ja) 発色組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、発色剤
ES2322655T5 (es) Método para fabricar una plancha de impresión litográfica
JP5277039B2 (ja) 平版印刷版原版およびその製版方法
JP6934939B2 (ja) 平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法
BRPI0616819A2 (pt) método para a produção de uma placa para impressão litográfica
JP6956787B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、有機ポリマー粒子、及び、感光性樹脂組成物
JP7065979B2 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び、硬化性組成物
JP6977065B2 (ja) 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
JP5211187B2 (ja) 平版印刷版原版及び製版方法
WO2018221134A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版原版作製用樹脂組成物、及び、平版印刷版の作製方法
WO2016136654A1 (ja) 機上現像用平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、印刷方法
JP4526346B2 (ja) 感光性平版印刷版材料
BR112019017433A2 (pt) método para produzir chapa de impressão litográfica
WO2020137919A1 (ja) 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷方法
JP2017047564A (ja) 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の製版方法
WO2023054210A1 (ja) 平版印刷方法、及び、機上現像型平版印刷版用版面洗浄剤
JP2006276520A (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2011209515A (ja) ネガ型感光性平版印刷版
JP4787567B2 (ja) 感光性平版印刷版の処理方法
JP2009198529A (ja) 感光性平版印刷版
JP2003107743A (ja) 平版印刷版の製版方法及び感光性平版印刷版用現像液
JP4526425B2 (ja) 感光性組成物及び感光性平版印刷版の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
B06W Patent application suspended after preliminary examination (for patents with searches from other patent authorities) chapter 6.23 patent gazette]
B350 Update of information on the portal [chapter 15.35 patent gazette]
B09A Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette]
B16A Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette]

Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 20 (VINTE) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 08/11/2017, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS