JPWO2011021623A1 - フルオロアルキル基含有n−置換(メタ)アクリルアミド化合物、その重合体およびその用途 - Google Patents
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 91
- -1 acrylamide compound Chemical class 0.000 title description 30
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 title description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 42
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 33
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 134
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 38
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 claims description 32
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 14
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 34
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 33
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 22
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 18
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 18
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 12
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 8
- 229940024606 amino acid Drugs 0.000 description 8
- 235000001014 amino acid Nutrition 0.000 description 8
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 6
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 6
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 6
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 6
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 6
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 4
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N perfluorooctanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 3
- 239000007877 V-601 Substances 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229960005261 aspartic acid Drugs 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CKLJMWTZIZZHCS-UHFFFAOYSA-N D-OH-Asp Natural products OC(=O)C(N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CKLJMWTZIZZHCS-UWTATZPHSA-N L-Aspartic acid Natural products OC(=O)[C@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-UWTATZPHSA-N 0.000 description 2
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N acryloyl chloride Chemical compound ClC(=O)C=C HFBMWMNUJJDEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- BTCSSZJGUNDROE-UHFFFAOYSA-N gamma-aminobutyric acid Chemical compound NCCCC(O)=O BTCSSZJGUNDROE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SRJOCJYGOFTFLH-UHFFFAOYSA-N isonipecotic acid Chemical compound OC(=O)C1CCNCC1 SRJOCJYGOFTFLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006569 (C5-C6) heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C(F)(F)F)C=C1 PDCBZHHORLHNCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLXKOJJOQWFEFD-UHFFFAOYSA-N 6-aminohexanoic acid Chemical compound NCCCCCC(O)=O SLXKOJJOQWFEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N DMF Natural products CC1=CC=C(C)O1 GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical group [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 229960002684 aminocaproic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000012754 barrier agent Substances 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006367 bivalent amino carbonyl group Chemical group [H]N([*:1])C([*:2])=O 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)(=O)O WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960003692 gamma aminobutyric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229960002989 glutamic acid Drugs 0.000 description 1
- 229960002449 glycine Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 125000005499 phosphonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical class [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
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Abstract
Description
CH2=CR1−CONJ−CKR2−(CH2)n−COO−Q1−Rf1 (a)
式中の記号は以下の意味を示す。
R1:水素原子またはメチル基、
R2:水素原子または下記式(r)で表される基、
−(CH2)m−COO−Q2−Rf2 (r)
nおよびm:相互に独立して、0〜4の整数
Rf1およびRf2:相互に独立して、炭素数1〜6のポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテル基、
Q1およびQ2:相互に独立して、単結合または2価の連結基、
J:水素原子または炭素数1〜3のアルキル基、
K:水素原子、炭素数1〜3のアルキル基または式(r)で表される基。
ただし、式中の−CONJ−CKR2−部分は、下記式(s1)または(s2)で表される構造であってもよい。
jおよびk:相互に独立して、単結合または炭素数1〜3のアルキレン基。ただしjとkが同時に単結合になることはない。該アルキレン基は、式(r)で表される基で置換されていてもよい。また、式(r)で表される基は、式(a)で表される化合物中に複数存在する場合には、それぞれ同一でも異なる構造でも構わない。
CH2=CR1−CONH−CHR2−(CH2)n−COO−Q1−Rf1 (a1)
式中の記号は前記と同じ意味を示す。
式中の記号は前記と同じ意味を示す。
また、前記式(a)、式(a1)または式(a2)において、Q1およびQ2が直鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
また、本発明は、樹脂付着防止剤としての表面処理剤を提供する。
また、本発明は、フラックス這い上がり防止剤としての表面処理剤を提供する。
本発明において、前記物品は電子部品であるのが好ましい。
−(CH2)m−COO−Q2−Rf2 (r)
ここで、mは、0〜4の整数であり、撥油性に優れるという観点から、0または1が好ましい。
Rf2は、炭素数1〜6のポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテル基である。具体的には、下記Rf1と同様のものが挙げられ、Rf1と同一であっても異なっていてもよい。
樹脂付着防止性能がより優れるという観点から、R2は式(r)で表される基が好適である。
Q2は、単結合または2価の連結基である。具体的には、下記Q1と同様のものが挙げられ、Rf1と同一であっても異なっていてもよい。
ポリフルオロアルキル基とは、アルキル基の水素原子の2個ないし全部がフッ素原子に置換された部分フルオロ置換またはパーフルオロ置換アルキル基を意味する。ポリフルオロアルキル基は、直鎖構造または分岐構造のいずれであってもよい。なお、ポリフルオロアルキル基の炭素数は、分岐構造の場合は分岐構造も含めた数である。
直鎖構造としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基が挙げられる。分岐構造としては、イソプロピル基、s−ブチル基、t−ブチル基、3−メチルブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、イソヘキシル基が挙げられる。
また、ポリフルオロエーテル基とは、上記ポリフルオロアルキル基中の1箇所以上の炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された基を意味する。
例えば、式(a)において、「−Q1−Rf1」が「−C2H4−C6F13」で表される基の場合、Q1が「C2H4」であり、Rf1が「C6F13」である。同様に、「−Q1−Rf1」が「−CH2−CHF−CH2−CF2H」で表される基の場合、Q1が「CH2」であり、Rf1が「CHF−CH2−CF2H」である。
また、Rf基としては、撥油性および樹脂付着防止性能に優れるという観点から、ポリフルオロアルキル基が好ましい。さらに、Rf基は、実質的に全フッ素置換されたパーフルオロアルキル基(RF基)が好ましく、直鎖のRF基であることがより好ましい。
Rfは、撥油性能および樹脂付着防止性能により優れるという観点から、−C6F13、−C4F9であるのが好ましい。
2価の連結基としては、炭素数が1〜10の直鎖状もしくは分岐状の2価のアルキレン基もしくは炭素数が2〜10のアルケニレン基、6員環芳香族基、4〜6員環の飽和もしくは不飽和の脂肪族基、5〜6員環の複素環基、−(C2H4O)p−、−(C3H6O)q−(ここでのpおよびqはそれぞれ独立して1〜10(平均))、または下記式(q)で表される2価の連結基が挙げられる。これら2価の連結基は組み合わされていても良く、環基は縮合していても良い。2価の連結基は、原子量の合計が500以下であることが好ましい。
−Y−Z− (q)
式中の記号は以下の意味を示す。
Y:炭素数が1〜10の直鎖状もしくは分岐状の2価のアルキレン基、6員環芳香族基、4〜6員環の飽和もしくは不飽和の脂肪族基、5〜6員環の複素環基、またはこれらの縮合した環基。
Z:−O−、−S−、−CO−、−COO−、−COS−、−N(R)−、−SO2−、−PO2−、−N(R)−COO−、−N(R)−CO−、−N(R)−SO2−、−N(R)−PO2−。
R:水素原子、炭素数1〜3のアルキル基。
ただし、Zの向きは逆でも構わない。
ただし、Q1および式(r)中のQ2がアルキレン基またはオキシアルキレン基であり、フッ素原子が置換した構造である場合は、前記ポリフルオロアルキル基の炭素数の決定の定義に基づき、Q1およびQ2の構造も決定される。
ただし、式中の−CONJ−CKR2−部分は、下記式(s1)または(s2)で表される構造であってもよい。
jおよびkは、相互に独立して、単結合または炭素数1〜3のアルキレン基である。ただし、jとkが同時に単結合になることはない。該アルキレン基は、式(r)で表される基で置換されていてもよい。
また、式(a)中に式(r)で表される基が複数存在する場合は、それぞれ同一でも異なる構造でも構わない。
CH2=CR1−CONH−CHR2−(CH2)n−COO−Q1−Rf1 (a1)
式中の記号は前記と同じ意味を示す。
CH2=CR1−CONH−CHR2−(CH2)n−COO−(CH2)p−Rf1 (a1−1)
式中の記号は以下の意味を示す。
R2:水素原子または下記式(r−1)で表される基、
−(CH2)m−COO−(CH2)q−Rf2 (r−1)
pおよびqは0〜6の整数であり、n、m、R1、Rf1およびRf2は、式(a)における定義と同じである。
式中の記号は、式(a1−1)における定義と同じである。
R2:水素原子または上記式(r−1)で表される基、
tは0〜6の整数であり、j、k、n、R1、Rf1およびRf2は、式(a)における定義と同じである。
第一工程:下記化合物(1)(アミノ酸)と、下記化合物(2)(アルコール)を、酸触媒(3)の存在下、水と共沸可能な溶媒中で、生成する水を除去しながら還流を行い、化合物(4)(アミノ酸エステル)を生成する工程。
第二工程:生成したアミノ酸エステル(4)を、塩基の存在下(メタ)アクリル酸クロライド(5)と反応させて、目的化合物(a)を得る工程。
NHJ1−CK1R3 (CH2)n−COOH (1)
(式中、R3:Hまたは−(CH2) n−COOH)
HO−Q1−Rf1 (2)
X−H+ (3)
X− +NJ1H2−CK1R2−(CH2)n −COO−Q1−Rf1 (4)
CH2=CR1−COCl (5)
CH2=CR1−CONJ1−CK1R2−(CH2)n−COO−Q1−Rf1(a)
Xは酸触媒(3)の共役塩基であり、J1およびK1は相互に独立して水素原子または炭素数1〜3のアルキル基。
ただし、式中の−NJ1−CK1−部分は、下記式(s11)または(s21)で表される構造であってもよい。
j1およびk1:相互に独立して、単結合または炭素数1〜3のアルキレン基。ただしj1およびk1が同時に単結合になることはない。
なお、目的化合物(a)中のR2が−(CH2)n −COO−Q1−Rf1と異なる−(CH2)m−COO−Q2−Rf2である場合には、アミノ酸(1)中のR3が−(CH2)m−COOH(m≠n)であるか、および/または、アルコール(2)とともに他のアルコールHO−Q2−Rf2を併用することにより、上記と同様のスキームにより得ることができる。
第一工程において、化合物(1)としては各種アミノ酸が挙げられ、和光純薬工業株式会社や東京化成工業株式会社等から市販品として入手できる。中でも化合物(a1)を得る場合は、グリシン、β−アラニン、アスパラギン酸が好ましい。また、化合物(a2)を得る場合は、イソニペコチン酸が好ましい。
化合物(2)のアルコールは和光純薬工業株式会社や東京化成工業株式会社等から市販品として入手可能である。また、公知の方法(特公昭40−1905、特公昭58−39135、特公昭52−8807など)にて合成することができる。化合物(2)としては、C6F13−(CH2)2−OH、C4F9−(CH2)2−OH、C2F5−(CH2)2−OH、(CF3)2CH−OHが挙げられ、C6F13−(CH2)2−OHが好ましい。
化合物(3)は和光純薬工業株式会社や東京化成工業株式会社等から市販品として入手可能である。化合物(3)としては、p−トルエンスルホン酸、塩酸、硫酸などが挙げられ、p−トルエンスルホン酸が好ましい。
溶媒としては、水と共沸可能な炭化水素系溶剤が好ましい。
炭化水素系溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられ、シクロヘキサンが好ましい。
溶媒の使用量については、反応が安全にかつ安定に実施できる量であればよい。好ましくは化合物(1)に対して質量で0.2〜20倍量の範囲である。
反応は還流下で生成する水を除去しながら行うことが好ましい。生成する水を除去できるようにDean−Stark装置などを取り付けた反応器で行うことが好ましい。
化合物(3)の使用量は、化合物(1)に対して、1当量以上であることが好ましい。より好ましくは、化合物(1)に対して1.01〜3当量の範囲である。
第二工程において、化合物(5)は和光純薬工業株式会社や東京化成工業株式会社などから試薬として入手可能である。また、実験化学講座(丸善)等、有機合成の成書に記載されている酸ハロゲン化物の合成方法にて得ることもできる。
化合物(5)の使用量は化合物(4)に対して0.7〜10当量が好ましく、1.0〜5当量の範囲がより好ましい。
第二工程は塩基の存在下反応を行う。塩基としては、トリエチルアミンなどの第三級アミン、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの無機塩が挙げられる。中でも、トリエチルアミン、トリメチルアミンなどの第三級アミンが好ましい。
溶媒は反応に影響しなければ各種用いることができる。例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニトリル、アセトン、ジエチルエーテル、DMF、DMSO等の非プロトン性極性溶剤、各種フッ素系溶剤などが挙げられる。中でも溶解性が優れるという観点から塩化メチレン、クロロホルム等が好ましい。
反応は発熱的に進行するので、氷水などで反応器を冷却しながら、化合物(4)をゆっくりと滴下することが好ましい。その後発熱が見られなくなった後は、室温付近で反応を行うことが好ましい。具体的には5℃〜25℃の範囲が好ましい。
なお、化合物(a)から導かれる重合単位(A)は、次のように表すことができる。
本発明の重合体において、重合単位(A)の含有量は5〜100質量%であることが好ましく、10〜100質量%であることがより好ましく、30〜100質量%であることが特に好ましい。本発明の重合体における重合単位(A)の含有量が上記範囲内であると、本発明の重合体を含む表面処理剤の撥油性能が良好になるからである。また、10〜100質量%、より好ましくは30〜100質量%の範囲であると、撥油性能に加えて、本発明の重合体を含む樹脂付着防止剤の樹脂付着防止性能も良好になるからである。
本発明の重合体において、重合単位(A)は、一種でも二種以上であっても良い。重合単位(A)を二種以上含む場合は、その合計量が上記範囲内であると好ましい。
式中の記号は以下の意味を示す。
Rb1:水素原子またはメチル基、
Rfb1:炭素数1〜6のポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテル基、
Qb1:単結合または2価の連結基。
本発明の重合体において、重合単位(B)は、一種でも二種以上であっても良い。重合単位(B)を二種以上含む場合は、その合計量が上記範囲内であると好ましい。
CH2=CH−COO−CH2−CF3
CH2=C(CH3)−COO−CH2−CF3
CH2=CH−COO−CH2−CF2CF3
CH2=C(CH3)−COO−CH2−CF2CF3
CH2=CH−COO−CH(CF3)2
CH2=C(CH3)−COO−CH(CF3)2
CH2=CH−COO−(CH2)2−(CF2)4F
CH2=C(CH3)−COO−(CH2)2−(CF2)4F
CH2=CH−COO−(CH2)2−(CF2)6F
CH2=C(CH3)−COO−(CH2)2−(CF2)6F
CH2=CH−COO−(CH2)2−(CF2)2CF(CF3)2
CH2=C(CH3)−COO−(CH2)2−(CF2)2CF(CF3)2
CH2=C(Rc1)−COO−Qc1−Rc2
式中、Rc1:水素原子またはメチル基であり、Qc1:単結合または2価の連結基であり、Rc2:−OH、−Si(OAk)3(Akは炭素数1〜3の直鎖状または分岐状のアルキル基)、−CH3、−CH2CH2N(CH3)2、−(CH2)mH(m=2〜20)、−CH2CH(CH3)2、−CH2−C(CH3)2−OCO−Ph、−CH2Ph、−CH2CH2OPh、−CH2N+(CH3)3Cl−、−(CH2CH2O)mCH3(m=2〜20)、−(CH2)2−NCO、
である。
また、Qc1の二価の連結基としては、前記化合物(a)のQ1およびQ2と同様の構造が挙げられる。Qc1としては、単結合、直鎖状または分岐状のアルキレン基が好ましい。
CH2=C(Rc3)−CONRc4−Qc2−Rc5
式中、Rc3:水素原子またはメチル基であり、Rc4:−CmH2m+1(m=2〜20)または−Hであり、Qc2:単結合または2価の連結基であり、Rc5:−H、−OH、−COOH、−CH3、−CH2CH2N(CH3)2、−(CH2)mH(m=2〜20)、−CH(CH3)2、−C(CH3)3、−C(CH3)2SO3H、−CH2N+(CH3)3Clまたは−Phである。
式中、Rc6:−H、CH3、−Cl、−CHO、−COOH、−CH2Cl、−CH2NH2、−CH2N(CH3)2、−CH2N+(CH3)3Cl−、−CH2N+H3Cl−、−CH2CN、−CH2COOH、−CH2N(CH2COOH)2、−CH2SH、−CH2SO3Naまたは−CH2OCOCH3である。
また、重合性化合物(c3)としては、以下のようなエポキシ基を有する化合物も挙げられる。
CH2=CH−CONH−CH2−CH2−OH
CH2=C(CH3)−CONH−CH2−CH2−OH
CH2=CH−CONH−CH2−OH
CH2=C(CH3)−CONH−CH2−OH
CH2=CH−COO−CH2−CH2−OH
CH2=C(CH3)−COO−CH2−CH2−OH
本発明の重合体において、重合単位(C)は、一種でも二種以上であっても良い。重合単位(C)を二種以上含む場合は、その合計量が上記範囲内であると好ましい。
m−キシレンヘキサフルオリド(以下、m−XHFと記す。)
p−キシレンヘキサフルオリド
CF3CH2CF2CH3
CF3CH2CF2H
C6F13OCH3
C6F13OC2H5
C3F7OCH3
C3F7OC2H5
C6F13H
CF2HCF2CH2OCF2CF2H
CF3CFHCFHCF2CH3
CF3(OCF2CF2)n(OCF2)mOCF2H
C8F17OCH3
C7F15OCH3
C4F9OCH3
C4F9OC2H5
C4F9CH2CH3
CF3CH2OCF2CF2CF2H
C6F13C2H5
(上記例示中、m、nはそれぞれ独立に1〜20を表す。)
本発明の表面処理剤における本発明の重合体の濃度は最終的濃度であればよく、例えば本発明のはんだ用フラックス這い上がり防止剤を直接調製する場合には、重合直後の重合体を含む溶液中の重合体濃度(固形分濃度)が1質量%を超えていてもなんら差し支えない。高濃度の重合体を含む溶液は、最終的に上記好ましい濃度となるように適宜に希釈することができる。希釈した溶液は、そのまま表面処理剤とすることができる。
該被膜は、本発明の表面処理剤から溶媒が除去されて形成されるものであり、主として、本発明の重合体からなるものである。ここで、主としてとは、該被膜が、本発明の重合体のみから形成されていてもよく、前記のように悪影響を与えない範囲で他の成分を含んでいてもよいことを意味する。
該被膜における、本発明の重合体の含有量は、95質量%以上が好ましく、99質量%以上がより好ましい。
被覆方法としては一般的な被覆加工方法が採用できる。例えば浸漬塗布、スプレー塗布又はローラー等による塗布等の方法がある。
本発明の表面処理剤の塗布後は、溶媒の沸点以上の温度で乾燥を行うことがより好ましい。無論、被処理物の材質などにより加熱乾燥が困難な場合には、加熱を回避して乾燥すべきである。なお、熱処理の条件は、塗布する組成物の組成や、塗布面積等に応じて選択すればよい。
本発明の表面処理剤が、はんだ用フラックス這い上がり防止剤である場合は、該フラックス這い上がり防止剤を、フラックスの這い上がりを防止したい電子部品(コネクタなど)に塗布して被膜を形成することができる。
以下の実施例および比較例において記号で示す化合物を表1に示す。
[第一工程]
300mL四つ口フラスコに2−パーフルオロヘキシルエチルアルコール21.8g(60mmol)とグリシン(和光純薬工業株式会社製)4.5g(60mmol)とp−トルエンスルホン酸一水和物(和光純薬工業株式会社製)11.97g(63mmol)とシクロヘキサン100gを仕込み、生成する水を除去しながら還流を17時間行った。反応液を40℃以下に冷却し、析出した固体を水およびアセトンで洗浄しながら減圧濾過を行った。得られた固体を真空乾燥し、グリシン2−パーフルオロヘキシルエチルエステルp−トルエンスルホン酸塩を白色の固体として27.8g得た。収率は78%であった。
[第二工程]
50mLフラスコに、第一工程で得たグリシン2−パーフルオロヘキシルエチルエステルp−トルエンスルホン酸塩5.8g(10mmol)を塩化メチレン20g中に懸濁し、0℃でトリエチルアミン(和光純薬工業株式会社製)を2.2g(22mmol)滴下した。そこへメタクリル酸クロリド(和光純薬工業株式会社製)1.0g(10mmol)をゆっくりと滴下した。室温で3時間撹拌を行い、水を加えて反応を停止した。2層にわかれた下層を分取し、1%塩酸で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥を行い、減圧濃縮を行うことで目的とする化合物(a−1)を淡黄色透明液体として3.9g(ガスクロマトグラフィー純度94%)得た。
得られた化合物(a−1)の1H−NMRとGC−MSのデータを以下に示す。
1H−NMR(300MHz、溶媒:CDCl3、標準物質:TMS)、σ(ppm):6.30(brs,1H,NHCO),5.78(s,1H,CH2=C),5.41(s,1H,CH2=C),4.47(t,2H,J=6.5Hz,O−CH2),4.14−4.10(m,2H,N−CH2−COO−CH2),2.60−2.43(m,2H,CH2−CF2),2.0(s,3H,CH3)
GC−MS M+=489
実施例1においてメタクリル酸クロリドをアクリル酸クロリド(和光純薬工業株式会社製)とした以外は同様に合成し、白色固体として化合物(a−2)を得た。
得られた化合物(a−2)の1H−NMRとGC−MSのデータを以下に示す。
1H−NMR(300MHz、溶媒:CDCl3、標準物質:TMS)、σ(ppm):6.34(dd,1H,J=17.0,1.4Hz,CH2=C)6.17(dd,1H,J=17.1,10.1,CH2=C),6.12(s,1H,NH),5.72(dd,1H,J=10.2,1.4Hz,CH2=CH),4.49(t,2H,J=6.5Hz,O−CH2),4.16(d,2H,J=5.3Hz,N−CH2−CO),2.43−2.60(m,2H,CH2−CF2)
GC−MS M+=475
実施例1においてグリシンをβ−アラニン(和光純薬工業株式会社製)とした以外は同様に合成し、淡黄色透明液体として化合物(a−3)を得た。
得られた化合物(a−3)の1H−NMRとGC−MSのデータを以下に示す。
1H−NMR(300MHz、溶媒:CDCl3、標準物質:TMS)、σ(ppm):6.39(brs,1H,NH)5.69(s,1H,CH2=C),5.33(s,1H,CH2=C),4.42(t,2H,J=6.5Hz,O−CH2)3.63−3.51(m,2H,N−CH2),2.62(t,2H,J=5.9Hz,CH2−CO),2.58−2.43(m,2H,CH2−CF2),1.95(s,3H,CH3)
GC−MS M+=503
実施例1においてグリシンを4−アミノ酪酸(東京化成工業株式会社製)とした以外は同様に合成し、淡黄色透明液体として化合物(a−4)を得た。
得られた化合物(a−4)の1H−NMRとGC−MSのデータを以下に示す。
1H−NMR(300MHz、溶媒:CDCl3、標準物質:TMS)、σ(ppm):6.01(brs,1H,NH),5.71(s,1H,CH2=C),5.33(s,1H,CH2=C),4.39(t,2H,J=6.5Hz,O−CH2),3.40−3.27(m,2H,N−CH2),2.56−2.23(m,4H,CH2−CO,CH2−CF2),1.96−1.83(m,5H,CH3,C−CH2−C)
GC−MS M+=517
実施例1においてグリシンを6−アミノヘキサン酸(和光純薬工業株式会社製)とした以外は同様に合成し、白色固体として化合物(a−5)を得た。
得られた化合物(a−5)の1H−NMRとGC−MSのデータを以下に示す。
1H−NMR(300MHz、溶媒:CDCl3、標準物質:TMS)、σ(ppm):5.98(brs,1H,NH),5.67(s,1H,CH2=C),5.31(s,1H,CH2=C),4.38(t,2H,J=6.5Hz,O−CH2),3.35−3.28(m,2H,N−CH2),2.56−2.29(m,4H,CH2−CO,CH2−CF2),1.96(s,3H,CH3)1.72−1.52(m,4H,−CH2−),1.32−1.43(m,2H,−CH2−)
GC−MS M+=545
実施例1においてグリシンをL−アスパラギン酸(和光純薬工業株式会社製)4.0g(30mmol)、p−トルエンスルホン酸一水和物を6.0g(32mmol)とした以外は同様に合成し、淡黄色固体として化合物(a−6)を得た。
得られた化合物(a−6)の1H−NMRとGC−MSのデータを以下に示す。
1H−NMR(300MHz、溶媒:CDCl3、標準物質:TMS)、σ(ppm):6.80(d,1H,J=7.7Hz,NH),5.77(s,1H,CH2=C),5.41(s,1H,CH2=C),4.95−4.89(m,1H,CH),4.59−4.32(m,4H,O−CH2),3.13−2.92(m,2H,CH2−CO),2.57−2.38(m,4H,CH2−CF2)1.97(s,3H,CH3)
GC−MS M+=893
実施例6においてL−アスパラギン酸をL−グルタミン酸(和光純薬工業株式会社製)とした以外は同様に合成し、淡黄色粘ちょう液体として化合物(a−7)を得た。
得られた化合物(a−7)の1H−NMRとGC−MSのデータを以下に示す。
1H−NMR(300MHz、溶媒:CDCl3、標準物質:TMS)、σ(ppm):6.66(d,1H,J=7.5Hz,NH),5.78(s,1H,CH2=C),5.41(s,1H,CH2=C),4.68(td,1H,J=7.8,5.0Hz,CH),4.53−4.37(m,4H,O−CH2),2.60−2.38(m,6H,CH2−CF2,CH2−CO),2.33−2.22(m,1H,−CH2−)2.13−2.01(m,1H,−CH2−)
GC−MS M+=907
実施例6においてメタクリル酸クロリドをアクリル酸クロリド(和光純薬工業株式会社製)とした以外は同様に合成し、白色固体として化合物(a−8)を得た。
得られた化合物(a−8)の1H−NMRとGC−MSのデータを以下に示す。
1H−NMR(300MHz、溶媒:CDCl3、標準物質:TMS)、σ(ppm):6.71(d,1H,J=7.9Hz,NH),6.36−6.12(m,2H,CH2=CH),5.73−5.65(m,1H,CH2=C),4.99−4.95(m,1H,CH),4.59−4.31(m,4H,O−CH2),3.13−2.91(m,2H,CH2−CO),2.57−2.39(m,4H,CH2−CF2)
GC−MS M+=879
実施例1においてグリシンをイソニペコチン酸(東京化成工業株式会社製)とした以外は同様に合成し、淡黄色透明液体として化合物(a−9)を得た。
得られた化合物(a−9)の1H−NMRとGC−MSのデータを以下に示す。
H−NMR(300MHz、溶媒:CDCl3、標準物質:TMS)、σ(ppm):6.62−6.53(m,1H,=CH2−CO),6.30−6.23(m,1H,CH2=C),5.71−5.67(m,1H,CH2=C),4.49−4.40(m,3H,O−CH2,N−CH2−),3.98−3.94(m,1H,N−CH2−),3.21−2.86(m,2H,N−CH2−),2.65−2.40(m,3H,CH2−CF2,CH−CO)2.34−1.62(m,4H,−CH2−)
GC−MS M+=529
実施例1で得られた化合物(a−1)1gとm−XHF2gと開始剤V−601(和光純薬工業株式会社製ジメチル2,2’-アゾビス(2−メチルプロピオナート))0.01gを密閉容器に仕込み70℃で18時間重合反応を行った。反応後、メタノールにて再沈精製を行い、白色固体として重合体(1)を得た。
化合物(a−1)に代えて表2に記載の各化合物をモノマー質量比率で用いた以外は同様にして重合反応を行い、それぞれ白色固体として重合体(2)〜(18)を得た。
実施例2で得られた化合物(a−2)2.94gとHEAA0.06gとm−XHF12gと開始剤V−601(和光純薬工業株式会社製ジメチル2,2’-アゾビス(2−メチルプロピオナート))0.03gを密閉容器に仕込み70℃で18時間重合反応を行った。反応後、メタノールにて再沈精製を行い、白色固体として重合体(19)を得た。
実施例6で得られた化合物(a−6)4.98gとHEAA0.02gとm−XHF10gと開始剤V−601(和光純薬工業株式会社製ジメチル2,2’-アゾビス(2−メチルプロピオナート))0.03gを密閉容器に仕込み70℃で18時間重合反応を行った。反応後、メタノールにて再沈精製を行い、白色固体として重合体(20)を得た。
前記化合物(a−6)に代えて化合物(a−8)を用いた以外は実施例12と同様にして重合反応を行い、白色固体として重合体(21)を得た。
C6FMAの単独重合である以外は実施例8と同様に重合を行い、白色の固体として比較重合体(1)を得た。
C6FAの単独重合である以外は実施例8と同様に重合を行い、白色の固体として比較重合体(2)を得た。
CmFMA22.5gと、m−XHF52.5gと開始剤AIBN18.8mgとを密閉容器に仕込み、70℃で15時間重合反応を行った。反応後m−XHFを加え17%の溶液として比較重合体(3)を得た。
なお、比較製造例3で使用されたアルキル基の平均炭素数が9の2−パーフルオロアルキルエチルメタクリレート中、アルキル基の炭素数が6の2−パーフルオロアルキルエチルメタクリレートの含有量(GC分析による。)は、2%であった。
実施例10〜実施例13で得られた各重合体(1)〜(21)を、それぞれm−XHFで希釈し、1%濃度の各溶液を調製し、表面処理剤(1)〜(21)を得た。
比較製造例1〜3で得られた比較重合体(1)〜(3)について実施例14と同様に1%濃度の溶液を調製し、比較処理剤(1)〜(3)を得た。
<動的接触角測定方法>
表面処理剤(1)〜(21)および比較処理剤(1)〜(3)を常温とし、各々にガラス板を浸漬した。そして1分後に取り出し約120℃で5分間乾燥させ、被膜を形成させた。
次に各々の処理剤の被膜を形成した各ガラス板の被膜上に、n−ヘキサデカン(n−HD)、またはn−ブチルグリシジルエーテル(BGE)をそれぞれ20μl滴下し、ガラス板を傾斜させて動的接触角を測定した。接触角の測定には自動接触角計OCA−20[dataphysics社製]を用いた。液滴が転落し始める時のガラス板の傾斜角度を転落角、転落しているときの前進の角を前進角、後退の角を後退角とした。評価結果を表3に示す。
前進角・後退角が大きいほど、転落角が小さいほど撥性を示す。また、表中の「−」は測定不能であったことを意味する。
長さが約5cmの錫めっきしたリード線を用意し、各々のリード線の3cm以上の部分を表面処理剤(1)〜(21)および比較処理剤(1)〜(3)の各々に1分間浸漬し、被膜を形成した。
次に、約120℃で10分間乾燥させた後、よく攪拌したエポキシ樹脂組成物にリード線の被膜形成部分の2cmを浸漬した。そして、1mm/sのスピードで引き上げ、約25度の室内で垂直な状態で保持した。エポキシ樹脂組成物が全く垂れず、浸漬した2cmの部分にエポシキ樹脂組成物が付着したままであったものを「×」、これに対してエポキシ樹脂組成物がリード線の末端まで落ちきったものを「○」、半分以上落ちてきたが末端まで落ちなかったものを「△」とした。結果を表3に示す。
なお、ここでのエポキシ樹脂組成物は、主剤としてペルコートCE−30(ペルノックス株式会社製)100質量部と、希釈剤としてペルノックスSP−30(ペルノックス株式会社製)10質量部を配合して調合したものを用いた。
実施例10〜実施例13で得られた重合体(2)、(6)、(8)、(9)、(16)〜(21)をそれぞれ表に記載の組成の溶剤および濃度で希釈し、表面処理剤(22)〜(39)を得た。
(比較例4〜7)
比較製造例1、2で得られた比較重合体(1)、(2)を表4に記載の組成の溶剤および濃度で希釈し、比較処理剤(4)〜(7)を得た。
接触角の測定方法は以下のとおりである。なお、IPAの接触角は55度以上、好ましくは60度以上であればフラックス這い上がり防止剤としては良好である。
<接触角の測定>
ガラス板を表面処理剤(22)〜(39)の各々に、常温で1分間浸漬後、取出して室温で乾燥させて、這い上がり防止剤の被膜を処理した。ガラス板に、2−プロパノール(IPA)を滴下して接触角の測定を行った。接触角の測定には、自動接触角計OCA−20[dataphysics社製]を用いた。
また、該表面処理剤はエポキシ樹脂に含まれる成分のひとつであるBGEに対する撥性および樹脂付着防止性能が従来のものと同等であった。このことは、本発明が生体及び環境へのリスクが大きく低下させながらも、高い性能を有する樹脂付着防止剤の提供を可能にしたことを示す。
また、該表面処理剤は、高い撥IPA性を有し、特に低濃度においても高い撥IPA性を維持できることが分った。このことは、被膜による接触不良などを起こし難いとともに高い撥IPA性を有する、高い性能を有するフラックス這い上がり防止剤の提供を可能にしたことを示す。
また、本発明の表面処理剤は、本発明の化合物(a)から導かれる重合体が高いTgおよびTmを有することから、被膜が硬いことが分る。このことは、表面処理剤としての性能を発揮しやすいとともに、フラックス這い上がり防止剤として用いた場合など、本発明の重合体を含む被膜を形成した部品の切断処理などにおいて、切断金型への被膜の付着が生じ難く、作業性が向上するという効果を有することを示す。
Claims (11)
- 下記式(a)で表される化合物。
CH2=CR1−CONJ−CKR2−(CH2)n−COO−Q1−Rf1 (a)
式中の記号は以下の意味を示す。
R1:水素原子またはメチル基、
R2:水素原子または下記式(r)で表される基、
−(CH2)m−COO−Q2−Rf2 (r)
nおよびm:相互に独立して、0〜4の整数
Rf1およびRf2:相互に独立して、炭素数1〜6のポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテル基、
Q1およびQ2:相互に独立して、単結合または2価の連結基、
J:水素原子または炭素数1〜3のアルキル基、
K:水素原子、炭素数1〜3のアルキル基または式(r)で表される基。
ただし、式中の−CONJ−CKR2−部分は、下記式(s1)または(s2)で表される構造であってもよい。
jおよびk:相互に独立して、単結合または炭素数1〜3のアルキレン基。ただしjとkが同時に単結合になることはない。該アルキレン基は、式(r)で表される基で置換されていてもよい。また、式(r)で表される基が式(a)で表される化合物中に複数存在する場合には、それぞれ同一でも異なる構造でも構わない。 - 下記式(a1)で表される請求項1に記載の化合物。
CH2=CR1−CONH−CHR2−(CH2)n−COO−Q1−Rf1 (a1)
(式中の記号は前記式(a)中の記号と同じ意味を示す。) - 下記式(a2)で表される請求項1に記載の化合物。
(式中の記号は前記式(a)中の記号と同じ意味を示す。) - 前記Rf1およびRf2がパーフルオロアルキル基である請求項1〜3のいずれかに記載の化合物。
- 前記Q1およびQ2が直鎖状のアルキレン基である請求項1〜4のいずれかに記載の化合物。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の化合物から導かれる重合単位を含む重合体。
- 請求項6に記載の重合体を含む表面処理剤。
- 樹脂付着防止剤である請求項7に記載の表面処理剤。
- フラックス這い上がり防止剤である請求項7に記載の表面処理剤。
- 表面の少なくとも一部に、請求項6に記載の重合体を含む被膜を有する物品。
- 前記の物品が電子部品である、請求項10に記載された物品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011527679A JP5719299B2 (ja) | 2009-08-20 | 2010-08-17 | フルオロアルキル基含有n−置換(メタ)アクリルアミド化合物、その重合体およびその用途 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009190833 | 2009-08-20 | ||
JP2009190833 | 2009-08-20 | ||
JP2011527679A JP5719299B2 (ja) | 2009-08-20 | 2010-08-17 | フルオロアルキル基含有n−置換(メタ)アクリルアミド化合物、その重合体およびその用途 |
PCT/JP2010/063866 WO2011021623A1 (ja) | 2009-08-20 | 2010-08-17 | フルオロアルキル基含有n-置換(メタ)アクリルアミド化合物、その重合体およびその用途 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011021623A1 true JPWO2011021623A1 (ja) | 2013-01-24 |
JP5719299B2 JP5719299B2 (ja) | 2015-05-13 |
Family
ID=43607074
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011527679A Active JP5719299B2 (ja) | 2009-08-20 | 2010-08-17 | フルオロアルキル基含有n−置換(メタ)アクリルアミド化合物、その重合体およびその用途 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9000110B2 (ja) |
EP (1) | EP2468778B1 (ja) |
JP (1) | JP5719299B2 (ja) |
KR (1) | KR101730676B1 (ja) |
CN (1) | CN102471405B (ja) |
TW (1) | TW201120066A (ja) |
WO (1) | WO2011021623A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5931758B2 (ja) * | 2011-02-18 | 2016-06-08 | Agcセイミケミカル株式会社 | 界面活性剤、該界面活性剤を含む組成物、その用途および含フッ素化合物 |
JP5889309B2 (ja) | 2011-08-29 | 2016-03-22 | Agcセイミケミカル株式会社 | 化粧品用共重合体、化粧品粉体用表面処理剤、化粧用粉体および化粧料 |
JP6093547B2 (ja) * | 2011-12-26 | 2017-03-08 | Agcセイミケミカル株式会社 | 混合溶剤および表面処理剤 |
EP3404700B1 (en) * | 2016-01-13 | 2020-05-13 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Liquid composition for imparting alcohol-repellency to semiconductor substrate material, and method for treating surface of semiconductor substrate using said liquid composition |
CN109267040B (zh) * | 2018-10-24 | 2020-03-31 | 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 | 一种丙烯酰胺纳米涂层及其制备方法 |
CN110665768B (zh) | 2019-07-26 | 2022-04-26 | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 | 防水纳米膜及其制备方法、应用和产品 |
JP7420522B2 (ja) * | 2019-10-01 | 2024-01-23 | Agcセイミケミカル株式会社 | 硬化性組成物、塗料、硬化物、及び塗工物 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3997604A (en) * | 1967-01-02 | 1976-12-14 | Produits Chimiques Ugine Kuhlmann | Mixtures of perfluoroaliphatic substituted amino compounds and the method for preparing the same |
JPS528807B2 (ja) | 1972-04-14 | 1977-03-11 | ||
JPS5839135B2 (ja) | 1978-07-03 | 1983-08-27 | ダイキン工業株式会社 | ポリフルオロアルコ−ル類の製法 |
JPS60262812A (ja) * | 1984-06-08 | 1985-12-26 | Neos Co Ltd | 付着防止剤 |
JPS6112777A (ja) * | 1984-06-26 | 1986-01-21 | Neos Co Ltd | 付着防止剤 |
JPS619480A (ja) * | 1984-06-26 | 1986-01-17 | Neos Co Ltd | 付着防止剤 |
JPH01139667A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-01 | Asahi Glass Co Ltd | 樹脂付着防止剤 |
DE68910722T2 (de) | 1988-04-13 | 1994-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Elektrophotographisches Ausgangsmaterial für eine lithographische Druckplatte. |
JP2502120B2 (ja) | 1988-04-19 | 1996-05-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 電子写真式平版印刷用原版 |
US5219705A (en) * | 1988-07-04 | 1993-06-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor of direct image type |
JP2641510B2 (ja) | 1988-07-04 | 1997-08-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 直描型平版印刷用原版 |
US4931582A (en) * | 1988-11-04 | 1990-06-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fluorinated, acrylamide-functional monomers |
US4971424A (en) | 1989-10-26 | 1990-11-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Co. | Radiation curable cladding compositions |
JP2968019B2 (ja) | 1990-03-06 | 1999-10-25 | セイミケミカル株式会社 | 樹脂付着防止剤 |
JP2894865B2 (ja) * | 1991-04-24 | 1999-05-24 | 富士写真フイルム株式会社 | 電子写真式平版印刷用原版 |
US5368931A (en) * | 1991-07-10 | 1994-11-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor of direct image type |
JP2762185B2 (ja) * | 1991-10-23 | 1998-06-04 | 株式会社ネオス | 付着防止剤 |
JP3461366B2 (ja) * | 1993-06-29 | 2003-10-27 | 株式会社ネオス | 付着防止剤 |
JP3448080B2 (ja) * | 1993-06-29 | 2003-09-16 | 株式会社ネオス | 付着防止剤 |
JP2718397B2 (ja) * | 1995-06-22 | 1998-02-25 | ダイキン工業株式会社 | 熱硬化性樹脂の付着防止剤及び付着防止方法 |
JPH10158462A (ja) * | 1996-11-28 | 1998-06-16 | Nof Corp | リード端子部用樹脂付着防止剤及びこれを施した電子部品 |
JPH10287867A (ja) | 1997-04-14 | 1998-10-27 | Seimi Chem Co Ltd | 撥水撥油性材料 |
JP4996837B2 (ja) | 2004-11-18 | 2012-08-08 | Agcセイミケミカル株式会社 | 潤滑オイルのバリア剤組成物およびその用途 |
WO2008059654A1 (fr) * | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Agc Seimi Chemical Co., Ltd. | Composition pour empêcher un brouillage du flux pour brasage, élément électronique pour un brasage enrobé avec la composition, procédé de brasage de l'élément et produit électrique |
KR101431298B1 (ko) * | 2007-05-30 | 2014-08-20 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 방오 가공제 조성물 및 그 제조 방법 그리고 가공물품 |
JP2008297482A (ja) | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Agc Seimi Chemical Co Ltd | 樹脂組成物、それを用いた樹脂成形体、および塗料 |
JP2009007538A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Ft-Net:Kk | フッ素系表面改質組成物 |
CN101952082B (zh) * | 2008-01-18 | 2013-03-13 | Agc清美化学股份有限公司 | 焊剂上爬防止组合物、被覆了该组合物的锡焊用电子构件、该构件的锡焊方法及电气产品 |
-
2010
- 2010-08-17 JP JP2011527679A patent/JP5719299B2/ja active Active
- 2010-08-17 CN CN201080032144.5A patent/CN102471405B/zh active Active
- 2010-08-17 US US13/391,120 patent/US9000110B2/en active Active
- 2010-08-17 EP EP10809964.9A patent/EP2468778B1/en active Active
- 2010-08-17 WO PCT/JP2010/063866 patent/WO2011021623A1/ja active Application Filing
- 2010-08-17 KR KR1020127004050A patent/KR101730676B1/ko active IP Right Grant
- 2010-08-20 TW TW099127956A patent/TW201120066A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102471405A (zh) | 2012-05-23 |
TW201120066A (en) | 2011-06-16 |
KR20120055560A (ko) | 2012-05-31 |
EP2468778A1 (en) | 2012-06-27 |
WO2011021623A1 (ja) | 2011-02-24 |
US20120149860A1 (en) | 2012-06-14 |
CN102471405B (zh) | 2014-06-25 |
KR101730676B1 (ko) | 2017-04-26 |
EP2468778A4 (en) | 2014-05-28 |
JP5719299B2 (ja) | 2015-05-13 |
EP2468778B1 (en) | 2016-10-12 |
US9000110B2 (en) | 2015-04-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130614 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |