JPS6187654A - 新規な中間生成物及びその製造方法 - Google Patents
新規な中間生成物及びその製造方法Info
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- JPS6187654A JPS6187654A JP60171937A JP17193785A JPS6187654A JP S6187654 A JPS6187654 A JP S6187654A JP 60171937 A JP60171937 A JP 60171937A JP 17193785 A JP17193785 A JP 17193785A JP S6187654 A JPS6187654 A JP S6187654A
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- Japan
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- formula
- acid addition
- fluorophenyl
- addition salt
- water
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/87—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P25/00—Drugs for disorders of the nervous system
- A61P25/24—Antidepressants
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P25/00—Drugs for disorders of the nervous system
- A61P25/26—Psychostimulants, e.g. nicotine, cocaine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は次の式
で示される新規化合物及びその酸付加塩、式IO化合物
の製造方法、及び該新規化合物を既知の抑うつ゛剤1−
(3−ジメチルアミノプロピル)−1−(4’−フルオ
ロフェニル)−1,5−ジヒドロイソベンゾフラン−5
−カルボニトリルまたはその製薬上受入れられる酸付加
塩の製造に使用することに関する・ 発明の背景 抗抑うつ剤の置換1−ジメチルアミノプロピル−1−フ
ェニルフタラン類(tタハ1− (3−ジメチルアミノ
プロビル)−1−フェニル−1,3−ジヒドロイソベン
ゾフラン類)は米国特許第4,156.19:5号に記
載されている0これらの化合物の中の最も重要なものは
シアノ基を含んでいて、これらの中の一つの1−(3−
ジメチルアミノプロピル) −1−(4’−フルオロフ
ェニル) −1,5−ジヒドロイソベンゾフラン−5−
カルボニトリルは、副作用のほとんどない貴重な抗抑う
つ剤として非常に有望なことが示されている。
の製造方法、及び該新規化合物を既知の抑うつ゛剤1−
(3−ジメチルアミノプロピル)−1−(4’−フルオ
ロフェニル)−1,5−ジヒドロイソベンゾフラン−5
−カルボニトリルまたはその製薬上受入れられる酸付加
塩の製造に使用することに関する・ 発明の背景 抗抑うつ剤の置換1−ジメチルアミノプロピル−1−フ
ェニルフタラン類(tタハ1− (3−ジメチルアミノ
プロビル)−1−フェニル−1,3−ジヒドロイソベン
ゾフラン類)は米国特許第4,156.19:5号に記
載されている0これらの化合物の中の最も重要なものは
シアノ基を含んでいて、これらの中の一つの1−(3−
ジメチルアミノプロピル) −1−(4’−フルオロフ
ェニル) −1,5−ジヒドロイソベンゾフラン−5−
カルボニトリルは、副作用のほとんどない貴重な抗抑う
つ剤として非常に有望なことが示されている。
しかし、この化合物の製造のために米国特許第415へ
195号に記載されている方法には商業的な生産にまで
規、模を大きくすることに若干の問題があるので、この
化合物に至るもつと短い経路を発見して以前に使用され
たメタル化工程に伴う危険を避けようとする研究が更に
必要であるということがわかった。
195号に記載されている方法には商業的な生産にまで
規、模を大きくすることに若干の問題があるので、この
化合物に至るもつと短い経路を発見して以前に使用され
たメタル化工程に伴う危険を避けようとする研究が更に
必要であるということがわかった。
発明の概要
芳香族ニトリルのシアノ基が幾つかの有機及び無機化合
物の攻撃に非常に敏感であるということは確立した事実
である(例えば”Methodender Organ
iaahen Chemie”、 Houben−We
yl、第8巻、54 り〜5 j 、 429 、 G
eorg−Thleme出版、シュトットガルト(19
52)を参照)。
物の攻撃に非常に敏感であるということは確立した事実
である(例えば”Methodender Organ
iaahen Chemie”、 Houben−We
yl、第8巻、54 り〜5 j 、 429 、 G
eorg−Thleme出版、シュトットガルト(19
52)を参照)。
例えばニトリルはグリニヤール試薬の攻撃を受けてケチ
ミンになシ得る:このケチミンは加水分解を受けてケト
ンになシ得る。この方法は、ケトンを製造するための推
薦された標準の方法である( ”Methoden d
er Organischen Chemie”。
ミンになシ得る:このケチミンは加水分解を受けてケト
ンになシ得る。この方法は、ケトンを製造するための推
薦された標準の方法である( ”Methoden d
er Organischen Chemie”。
Houben−Weyl、巻15/2a、 555〜5
66 、 Georg−Thieme出版、シュトット
ガルト)1975))。
66 、 Georg−Thieme出版、シュトット
ガルト)1975))。
現実に、との発明の長所は既に(米国特許第4.134
195号に記載されているようK)本発明の分子と密接
外関係のある分子で得られている。
195号に記載されているようK)本発明の分子と密接
外関係のある分子で得られている。
ニトリルを強酸例えば高パーセンテージの硫酸で処理す
ると通常ニトリル基が加水分解されてカルボン酸アミド
またはカルボン酸が生じるであろうということもよく知
られている。
ると通常ニトリル基が加水分解されてカルボン酸アミド
またはカルボン酸が生じるであろうということもよく知
られている。
米国特許第415へ193号に記載されている最も有用
な製造方法はグリニヤール反応と強酸での処理を含んで
いるが、ニトリル基は常に、該基の既に知られている反
応性のためにそのような工程の後に導入された。典凰的
にシアノ基はDlff中でのハロ置換フタラン(例えば
1−(4’−フルオロフェニル)−5−プロモフタレン
)とシアン化第−銅との反応によって導入されてシアノ
フタラン(例、tば1−(4’−フルオロフェニル)−
s−:yタランカルボニトリル)カ得られ、これはメタ
ル化され、次に3−ジメチルアミノプロピルクルリドと
の反応でアルキル化されて望みの1−(3−ジメチルア
ミノプロピル)−1−フェニルフタラン、特に1−15
−ジメチルアミノプロピル) −1−(4’−フルオロ
フェニル)−5−フタランカルボニトリルが得られた。
な製造方法はグリニヤール反応と強酸での処理を含んで
いるが、ニトリル基は常に、該基の既に知られている反
応性のためにそのような工程の後に導入された。典凰的
にシアノ基はDlff中でのハロ置換フタラン(例えば
1−(4’−フルオロフェニル)−5−プロモフタレン
)とシアン化第−銅との反応によって導入されてシアノ
フタラン(例、tば1−(4’−フルオロフェニル)−
s−:yタランカルボニトリル)カ得られ、これはメタ
ル化され、次に3−ジメチルアミノプロピルクルリドと
の反応でアルキル化されて望みの1−(3−ジメチルア
ミノプロピル)−1−フェニルフタラン、特に1−15
−ジメチルアミノプロピル) −1−(4’−フルオロ
フェニル)−5−フタランカルボニトリルが得られた。
ところで驚くべきことに、本発明の方法によればシアノ
置換化合物を次の経路で十分な収率で製造することがで
きるということが見いだされた: 式Iの化合物は、よく知られた抗抑うつ斎1l−(3−
ジメチルアミノプロピル) −1−(4’−フルオロフ
ェニル)−1,5−ジヒドロイソベンゾフラン−5−カ
ルボニトリルである。
置換化合物を次の経路で十分な収率で製造することがで
きるということが見いだされた: 式Iの化合物は、よく知られた抗抑うつ斎1l−(3−
ジメチルアミノプロピル) −1−(4’−フルオロフ
ェニル)−1,5−ジヒドロイソベンゾフラン−5−カ
ルボニトリルである。
出発物質として使用された5−シアノフタリド(式■)
は既知の化合物である( Tirouflet。
は既知の化合物である( Tirouflet。
L; Bull、 Soc、 8ci、 Bretag
ne 26.55.(1951))。
ne 26.55.(1951))。
式ff、V及び■の’ haJ!”はハロゲン、特に塩
素または臭素を意味する。
素または臭素を意味する。
伴われる二種類のグリニヤール試薬とのシアノ基の反応
によってわずかな量しか副生成物が生じないということ
は実際驚くべきことである。
によってわずかな量しか副生成物が生じないということ
は実際驚くべきことである。
この構想がうまくいくために同様に非常に重畳なのは、
最初のグ17 二ヤール工程で生じた付加生成物(式■
)の開環の速度が驚くべきほどおそいことである。現実
にこれらの二つのグIJ ニヤール反応を次々と同一容
器で行うととができるということは実際的観点から非常
に便利である。
最初のグ17 二ヤール工程で生じた付加生成物(式■
)の開環の速度が驚くべきほどおそいことである。現実
にこれらの二つのグIJ ニヤール反応を次々と同一容
器で行うととができるということは実際的観点から非常
に便利である。
合わせたグIJ 二ヤール工程で生じた新規な(式Iの
)中間生成物は、下記のように単離して精製することが
できる。しかし、粗製物質の閉環を次に行うのがもっと
ずっと便利である。
)中間生成物は、下記のように単離して精製することが
できる。しかし、粗製物質の閉環を次に行うのがもっと
ずっと便利である。
シアノ基は、又閉環の工程での強酸によるかな9強烈な
長引く処理に、驚くべき抵抗力を示す。
長引く処理に、驚くべき抵抗力を示す。
伴われる反応条件の注意深い調節のもとてこのプロセス
は、円滑な実施、つくられる(式Iの)最終生成物の安
定な収率及び高い純度によって証明されるように、工業
的な規模で非常に信頼しうろことが既に示された。
は、円滑な実施、つくられる(式Iの)最終生成物の安
定な収率及び高い純度によって証明されるように、工業
的な規模で非常に信頼しうろことが既に示された。
以下の例は、例証としてだけ示されており、制限的と解
釈すべ色でない。
釈すべ色でない。
例1
乾燥テトラヒドロフラン(1,641)中の1−プロモ
ー4−フルオロベンゼン(5949,5,4モル)を乾
燥テトラヒドロフラン(2501111)中マグネシウ
ムの旋削物(101g、4.15モル)の懸濁液へ還流
のもとで加えることによってグリニヤール溶液を調製す
る。全部を加え終ってから冷却も加熱もせずに30分間
撹拌し続け、次に過剰のマグネシウムの旋削物を除くた
めに濾過する。乾燥テトラヒドロフラン(2,91)中
5−シアノフタリド(450g、2.83モル)の窒素
をパージしたスラリーへ、グリニヤール溶液を5時間で
加える。加える量温度を0〜3℃に保った後に、冷却せ
ずに30分間反応混合物を撹拌し、次に一夜放置する。
ー4−フルオロベンゼン(5949,5,4モル)を乾
燥テトラヒドロフラン(2501111)中マグネシウ
ムの旋削物(101g、4.15モル)の懸濁液へ還流
のもとで加えることによってグリニヤール溶液を調製す
る。全部を加え終ってから冷却も加熱もせずに30分間
撹拌し続け、次に過剰のマグネシウムの旋削物を除くた
めに濾過する。乾燥テトラヒドロフラン(2,91)中
5−シアノフタリド(450g、2.83モル)の窒素
をパージしたスラリーへ、グリニヤール溶液を5時間で
加える。加える量温度を0〜3℃に保った後に、冷却せ
ずに30分間反応混合物を撹拌し、次に一夜放置する。
同日にもう一つのグリニヤール溶液を乾燥テトラヒドロ
フラン(1,tsJ)で3−ジメチルアミノプロピルク
ロリド(542g、2.81モル)及びマグネシウムの
旋削物(811?、3.3モA/)から調製する。翌日
に6−シメチルアミノブロピルマグネシウムクロリドの
F遇した溶液を、最初のグIJ ニヤール反応で得られ
た反応混合物へ、6時間で加える。加える量温度を10
〜12℃に保った後に反応混合物を30分間冷却せずに
撹拌し、次に撹拌せずに室温で一夜放置する。反応混合
物を氷で冷やした水(2#の氷、31の水)の中にそそ
いだ後に、溶液の最終声が6.5〜7.0になるように
酢酸(700Xl、80重量%)を加える。次に、60
日陣で50℃の最高ポット温度に達するまでテトラヒド
ロフラ/を蒸留し、次いでトルエン(4,51)を混合
物に加える。次に、水層の最終−が9になるようにアン
モニア水(50011L!、25重量%)を加え、温度
を45〜50℃に調節し、混合物を15分間撹拌する。
フラン(1,tsJ)で3−ジメチルアミノプロピルク
ロリド(542g、2.81モル)及びマグネシウムの
旋削物(811?、3.3モA/)から調製する。翌日
に6−シメチルアミノブロピルマグネシウムクロリドの
F遇した溶液を、最初のグIJ ニヤール反応で得られ
た反応混合物へ、6時間で加える。加える量温度を10
〜12℃に保った後に反応混合物を30分間冷却せずに
撹拌し、次に撹拌せずに室温で一夜放置する。反応混合
物を氷で冷やした水(2#の氷、31の水)の中にそそ
いだ後に、溶液の最終声が6.5〜7.0になるように
酢酸(700Xl、80重量%)を加える。次に、60
日陣で50℃の最高ポット温度に達するまでテトラヒド
ロフラ/を蒸留し、次いでトルエン(4,51)を混合
物に加える。次に、水層の最終−が9になるようにアン
モニア水(50011L!、25重量%)を加え、温度
を45〜50℃に調節し、混合物を15分間撹拌する。
トルエン層を分離し、水層を一度トルエン(600iu
)で抽出する。合わせたトルエン抽出物を(50℃の)
熱い(60〇−の)水で洗い、次に希酢酸(2,51の
水及びBQQdの酢酸、80重量%)で抽出する。酢酸
抽出物を分離し、トルエン(s、81)と合わせ、次に
水層の最終−が9以上になるようにアンモニア水(90
0R1,25重量%)を加える。
)で抽出する。合わせたトルエン抽出物を(50℃の)
熱い(60〇−の)水で洗い、次に希酢酸(2,51の
水及びBQQdの酢酸、80重量%)で抽出する。酢酸
抽出物を分離し、トルエン(s、81)と合わせ、次に
水層の最終−が9以上になるようにアンモニア水(90
0R1,25重量%)を加える。
トルエン層を分離し、水層を一度トルエン(600d)
で抽出し、次に合わせたトルエン抽出物を四回(50℃
の)熱い(4X11の)水で洗う。
で抽出し、次に合わせたトルエン抽出物を四回(50℃
の)熱い(4X11の)水で洗う。
このトルエン溶液を通常しかに次の工程で使用する。
望ましい場合には、表題化合物を次のように単離して精
製することができる: 上記の熱いトルエン溶液を炭(50g)及びシリカゲ#
(150g、Merclc Darmataat 47
754)と−緒に60℃で30分間撹拌し、次に濾過助
剤で前処理したフィルターで吸引濾過する。この処理を
炭(25fI”)及びシリカゲル(909)で繰返す。
製することができる: 上記の熱いトルエン溶液を炭(50g)及びシリカゲ#
(150g、Merclc Darmataat 47
754)と−緒に60℃で30分間撹拌し、次に濾過助
剤で前処理したフィルターで吸引濾過する。この処理を
炭(25fI”)及びシリカゲル(909)で繰返す。
ヂ過後、トルエンを60℃の最高点まで減圧(2oim
uf)で除く。生じた油(640g>を沸騰ジエチルエ
ーテル(150口0に溶解させ、この溶液を水(150
口0と一緒に激しく撹拌して27〜34℃で10分間で
47%の水性臭化水素(190H/)を加える。次にジ
エチルエーテルを減圧で33〜35℃で蒸留する。追加
の水(sony)を加え、混合物を11℃に冷却する。
uf)で除く。生じた油(640g>を沸騰ジエチルエ
ーテル(150口0に溶解させ、この溶液を水(150
口0と一緒に激しく撹拌して27〜34℃で10分間で
47%の水性臭化水素(190H/)を加える。次にジ
エチルエーテルを減圧で33〜35℃で蒸留する。追加
の水(sony)を加え、混合物を11℃に冷却する。
18時間後に結晶を吸引濾過器で集める。湿ったケーキ
を水(1500Tnl)で炭(579)を使用して再結
晶し、次に25時間減圧オープンで50℃及び220m
mHpで乾燥させる。収量:固形物525g;これを2
−プロパノール(9,5J )とエタノ−/l/(2,
73りとの熱い混合物で炭(82g)とシリカゲル(1
91g)とを使用して更に精製し、その後F液をヘキサ
ン(21)と混合し、次に12℃に冷却する。結晶を吸
引で単離し、次に減圧(200rgtxHf )で室温
で乾燥させる。
を水(1500Tnl)で炭(579)を使用して再結
晶し、次に25時間減圧オープンで50℃及び220m
mHpで乾燥させる。収量:固形物525g;これを2
−プロパノール(9,5J )とエタノ−/l/(2,
73りとの熱い混合物で炭(82g)とシリカゲル(1
91g)とを使用して更に精製し、その後F液をヘキサ
ン(21)と混合し、次に12℃に冷却する。結晶を吸
引で単離し、次に減圧(200rgtxHf )で室温
で乾燥させる。
4−(4−(ジメチルアミノ)−1−(4’−フルオロ
フェニル)−1−ヒドロキシブチル〕−5−(ヒドロキ
シメチル)−ベンゾニトリル、ヒドロプロミドの収量:
4259゜融点205〜206 ℃。
フェニル)−1−ヒドロキシブチル〕−5−(ヒドロキ
シメチル)−ベンゾニトリル、ヒドロプロミドの収量:
4259゜融点205〜206 ℃。
元素分析(C10%PN20□HBr ) :実測値
計算値 %0 56.21 56.74 %H5,695,75 %N 6.53 6.61 %Br 18.86 18.87 唱H−NMR(DMSO−46,内部参照標準としてM
o2B5 ) : 1.1〜1.9 ppm (m、 2H,−CH2−0
H2−OH2N’、 )、2.1〜2.4 s PPZ
II (flAの広いt、 2B、 、’ COH−O
H。
計算値 %0 56.21 56.74 %H5,695,75 %N 6.53 6.61 %Br 18.86 18.87 唱H−NMR(DMSO−46,内部参照標準としてM
o2B5 ) : 1.1〜1.9 ppm (m、 2H,−CH2−0
H2−OH2N’、 )、2.1〜2.4 s PPZ
II (flAの広いt、 2B、 、’ COH−O
H。
−C!H2−) 、 2.7S 〜2.8 ppm (
8,6H,−JJ(cH,)2)、2.85〜3.2(
幅の広いt、 2B、 −OH,N< )、3.85−
4.75 ppm (幅の広いq、 2H,−0%OH
)、5.0〜s、4ppm (幅の広いS、 IH,−
0H)%5.8〜6.2ppm (幅の広いS、 IJ
−OH)、6.95〜7.5 ppm(ff’+ 4L
芳香族の)、7..7〜8.0 ppm (m、 5H
。
8,6H,−JJ(cH,)2)、2.85〜3.2(
幅の広いt、 2B、 −OH,N< )、3.85−
4.75 ppm (幅の広いq、 2H,−0%OH
)、5.0〜s、4ppm (幅の広いS、 IH,−
0H)%5.8〜6.2ppm (幅の広いS、 IJ
−OH)、6.95〜7.5 ppm(ff’+ 4L
芳香族の)、7..7〜8.0 ppm (m、 5H
。
芳香族の)、9.0〜9.75(幅の広い8. IH,
7NH)。
7NH)。
HPLO−分析(8pharisorb S 5 W
;移動相:ヘプタン−プロパノ−ルー2−アンそニア水
−水、85 : 15 : 0.4 : 0.2、Uv
254検出器)の結果、表題化合物の含量は99.6%
であることが明らかになった。
;移動相:ヘプタン−プロパノ−ルー2−アンそニア水
−水、85 : 15 : 0.4 : 0.2、Uv
254検出器)の結果、表題化合物の含量は99.6%
であることが明らかになった。
例2
例IK記載した粗製生成物を含有するトルエン溶液を5
0℃に加熱し、(96%硫酸321y及び氷119gか
ら製造した)70%硫酸を、撹拌しながら加える。この
混合物を80℃に加熱し、この温度に3時間保ち、その
後約30℃に冷却する。次に、冷水(600′111)
及びアンモニア水(60ON/、25重量%)を加え、
混合物(p!(10)を50〜60℃で15分間撹拌す
る。水相を捨て、トルエン層を5回温水(5×11)で
洗う。有機相を無水の硫酸ナト1)ラムで乾燥させ、P
遇し、1時間シリカゲル(375g)と−緒に撹拌する
。シリカゲル(188g)を予め詰めたフィルターで混
合物を戸遇する。
0℃に加熱し、(96%硫酸321y及び氷119gか
ら製造した)70%硫酸を、撹拌しながら加える。この
混合物を80℃に加熱し、この温度に3時間保ち、その
後約30℃に冷却する。次に、冷水(600′111)
及びアンモニア水(60ON/、25重量%)を加え、
混合物(p!(10)を50〜60℃で15分間撹拌す
る。水相を捨て、トルエン層を5回温水(5×11)で
洗う。有機相を無水の硫酸ナト1)ラムで乾燥させ、P
遇し、1時間シリカゲル(375g)と−緒に撹拌する
。シリカゲル(188g)を予め詰めたフィルターで混
合物を戸遇する。
フィルターをトルエン(5,41)ですすぎ1合わせた
p液を減圧(x、 r3 flHt)で50℃の最高温
度に達するまで蒸発させる。次に残渣をアセトン(27
りに溶解させ、炭で一過する。P液を20℃に冷却する
。次に気体の臭化水素(150〜1409)を2時間で
20〜25℃で声が3になるまで導入し、次いで表題化
合物のア七トン溶液をいくらか加えることによって声を
7に調節する。混合物を一夜晶出した状態にしておき、
その後に結晶をP取してヘキサン(750ゴ)でそして
次にアセトン(750m)で洗う。
p液を減圧(x、 r3 flHt)で50℃の最高温
度に達するまで蒸発させる。次に残渣をアセトン(27
りに溶解させ、炭で一過する。P液を20℃に冷却する
。次に気体の臭化水素(150〜1409)を2時間で
20〜25℃で声が3になるまで導入し、次いで表題化
合物のア七トン溶液をいくらか加えることによって声を
7に調節する。混合物を一夜晶出した状態にしておき、
その後に結晶をP取してヘキサン(750ゴ)でそして
次にアセトン(750m)で洗う。
45℃で乾燥後610〜650gの粗製表題化合物の収
量が得られる。この物質を水(1,84)に約55℃で
溶解させ、次に炭を用いてp遇し、20℃に冷却し、種
晶を加えた後に晶出のために一夜放置する。結晶を戸取
し、水(550m)で洗い、乾燥させる。収量=560
〜57011゜一番目の再結晶からの結晶をメタノール
(1,7))と2−プロパツール(5,47)との混合
物に溶解させ、次に炭を用いてp遇し、20℃に冷却し
、晶出させるために一夜放置する。結晶を戸取し、メタ
ノール(1sod)と2−プロパツール(soom)と
の混合物で洗う。乾燥後に510〜520Iの精製され
た物質が得られる。
量が得られる。この物質を水(1,84)に約55℃で
溶解させ、次に炭を用いてp遇し、20℃に冷却し、種
晶を加えた後に晶出のために一夜放置する。結晶を戸取
し、水(550m)で洗い、乾燥させる。収量=560
〜57011゜一番目の再結晶からの結晶をメタノール
(1,7))と2−プロパツール(5,47)との混合
物に溶解させ、次に炭を用いてp遇し、20℃に冷却し
、晶出させるために一夜放置する。結晶を戸取し、メタ
ノール(1sod)と2−プロパツール(soom)と
の混合物で洗う。乾燥後に510〜520Iの精製され
た物質が得られる。
二番目の再結晶からの物質をメタノール(5101)と
アセトン(2,041)との混合物に溶解させ、次に炭
を用いて炉遇する。F液を20℃に冷却し、種晶を加え
た後にヘキサン(4,11)を徐々に1時間で加える。
アセトン(2,041)との混合物に溶解させ、次に炭
を用いて炉遇する。F液を20℃に冷却し、種晶を加え
た後にヘキサン(4,11)を徐々に1時間で加える。
−夜晶出させた後に結晶をF取し、先ずアセトン(15
01Ll)とヘキサ・:y (5001R1)との混合
物で洗い、次に二回ヘキサン(2x S 00 rnl
)で洗う。乾燥後に470〜4801の純粋な1−(
3−ジメチルアミノプロピル) −1−(4’−フルオ
ロフェニル)−1,S−ジヒドロイソベ/ソフランー5
−カルボニトリル、ヒドロプロミドが得られる。
01Ll)とヘキサ・:y (5001R1)との混合
物で洗い、次に二回ヘキサン(2x S 00 rnl
)で洗う。乾燥後に470〜4801の純粋な1−(
3−ジメチルアミノプロピル) −1−(4’−フルオ
ロフェニル)−1,S−ジヒドロイソベ/ソフランー5
−カルボニトリル、ヒドロプロミドが得られる。
融点185〜186℃。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物またはその酸付加塩。 2、5−シアノフタリドと4−フルオロフエニルマグネ
シウムハライドを含有するグリニヤール溶液とを反応さ
せ、平衡の次の構造 ▲数式、化学式、表等があります▼▲数式、化学式、表
等があります▼ で示される化合物を含有する生じた混合物と3−ジメチ
ルアミノプロピルマグネシウムハライドを含有するグリ
ニヤール溶液とを反応させ、反応混合物を加水分解し、
生じた4−〔4−(ジメチルアミノ)−1−(4′−フ
ルオロフエニル)−1−ヒドロキシブチル〕−3−(ヒ
ドロキシメチル)−ベンゾニトリルを遊離塩基またはそ
の酸付加塩として単離することを特徴とする、次の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物またはその酸付加塩の製造方法。 3、1−(3−ジメチルアミノプロピル)−1−(4′
−フルオロフエニル)−1,3−ジヒドロイソベンゾフ
ラン−5−カルボニトリルまたはその無毒の酸付加塩の
製造で中間生成物として次の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物またはその酸付加塩を使用する方法。
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