JPS61243041A - (±)−シス−γ−イロンの製法 - Google Patents
(±)−シス−γ−イロンの製法Info
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- JPS61243041A JPS61243041A JP8263085A JP8263085A JPS61243041A JP S61243041 A JPS61243041 A JP S61243041A JP 8263085 A JP8263085 A JP 8263085A JP 8263085 A JP8263085 A JP 8263085A JP S61243041 A JPS61243041 A JP S61243041A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(α)産業上の利用分野
本発明は、香料物質として有用なイリス様香気を有する
(±)シスーγ−イロンの新規な製法に関する。
(±)シスーγ−イロンの新規な製法に関する。
更に詳しくは、本発明は下記式(2)
で表わされるシスーr−メチルシクロシトラールを有機
溶媒中で下記式 で表わされるアセチリデントリフェニルホスホランと接
触させることを特徴とする下記式(11で表わされる(
±)−シスーγ−イロンの製法ニ関する。
溶媒中で下記式 で表わされるアセチリデントリフェニルホスホランと接
触させることを特徴とする下記式(11で表わされる(
±)−シスーγ−イロンの製法ニ関する。
(b)従来の技術
天然イーJス油中のに8v芳香物質としては、例えば(
+)−シス−α−イロン、(−1)ランス−α−イロン
、(+)−β−イロン、(+)−シス−α−イロン、(
−)−シス−α−イロンカどが知られている。本発明の
上記式(1)(±)−シスーγ−イロンは、天然イソス
油中には、その存在が知られてない。本出願人は、先に
、トランス体の生成を伴わずに、上記式(1)で表わさ
れる(±)−シスーγ−イロンのみを選択的に製造でき
る方法を確立し、又、該弐rl)化合物が天然イリス油
に匹敵する香気を有する特性があることを明らかにして
既に、特願昭59−65094号、特願昭59−217
414号において提案した。又、他の提案として、Ag
rtc、 Biol、 Chgm、* 47 (3)5
81〜586(198!l)に、(±)−トランス−γ
−イロント(±)−シスーγ−イロンが混合物として形
成できることが知られている。
+)−シス−α−イロン、(−1)ランス−α−イロン
、(+)−β−イロン、(+)−シス−α−イロン、(
−)−シス−α−イロンカどが知られている。本発明の
上記式(1)(±)−シスーγ−イロンは、天然イソス
油中には、その存在が知られてない。本出願人は、先に
、トランス体の生成を伴わずに、上記式(1)で表わさ
れる(±)−シスーγ−イロンのみを選択的に製造でき
る方法を確立し、又、該弐rl)化合物が天然イリス油
に匹敵する香気を有する特性があることを明らかにして
既に、特願昭59−65094号、特願昭59−217
414号において提案した。又、他の提案として、Ag
rtc、 Biol、 Chgm、* 47 (3)5
81〜586(198!l)に、(±)−トランス−γ
−イロント(±)−シスーγ−イロンが混合物として形
成できることが知られている。
更に、本発明方法における原料である上記式(2)シス
ーr−メチルシクロシトラールの異性体である下記式(
2)′ で表わされるトランス−γ−メチルシクロシトラールか
ら本発明方法における式(1)目的化合物(±)−シス
ーγ−イロンの異性体である(±)−トランス−r−イ
ロンを製造する下記式で示される方法が提案されている
(特公昭59−19535号)。
ーr−メチルシクロシトラールの異性体である下記式(
2)′ で表わされるトランス−γ−メチルシクロシトラールか
ら本発明方法における式(1)目的化合物(±)−シス
ーγ−イロンの異性体である(±)−トランス−r−イ
ロンを製造する下記式で示される方法が提案されている
(特公昭59−19535号)。
R
−イロン
(6) 発明が解決しようとする問題点上記従来提案
(Agric、 Eiol、 Chetn、) では
、トランス一体、シス一体の混合物が形成され、シス一
体を選択的に形成できないトラブルに加えて、シス一体
の生成割合が、トランス一体:シス一体=9=1と極め
て低いという不利益がある。更に、極めて複雑且つ多工
程を要する操作が必要な不利益、更には、高価な原料を
必要とじ又、収率が低く工業的実施に適さないなどの不
利益がある。
(Agric、 Eiol、 Chetn、) では
、トランス一体、シス一体の混合物が形成され、シス一
体を選択的に形成できないトラブルに加えて、シス一体
の生成割合が、トランス一体:シス一体=9=1と極め
て低いという不利益がある。更に、極めて複雑且つ多工
程を要する操作が必要な不利益、更には、高価な原料を
必要とじ又、収率が低く工業的実施に適さないなどの不
利益がある。
又、上記本発明者の前記特願昭59−65094号及び
特願昭59−217414号の先願提案によれば、トラ
ンス一体が生成することなく選択的に上記式(1)シス
一体化合物を得ることのできる利点があるが、その工程
短縮の改善が望まれる。
特願昭59−217414号の先願提案によれば、トラ
ンス一体が生成することなく選択的に上記式(1)シス
一体化合物を得ることのできる利点があるが、その工程
短縮の改善が望まれる。
更に上記特公昭59−19535号の提案は、トランス
一体のγ−イロンを得る方法であるが、極低温の反応温
度(−78℃)が要求され、又、収率が低い難点がある
。
一体のγ−イロンを得る方法であるが、極低温の反応温
度(−78℃)が要求され、又、収率が低い難点がある
。
(ψ 問題点を解決するための手段
本発明者らは、上述の従来提案の問題点を解決すべく特
に上記式(2)のシスーγ−メチルシクロシトラールか
ら上記式(1)の(±)−シスーγ−イロンを合成する
方法について研究を行ってきた。その結果、上記式(2
)シスーγ−メチルシクロシトラールを有機溶媒中でア
セチリデントリフェニルホスホラン((Cm Ha )
s P ”’!!;”’ )と接触させることにより
、−挙に本発明目的化合物の式(1)(±)−シスーγ
−イロンを容易に且つ好収率で合成できることを発見し
た。この反応を反応工程図で示すと以下のように表わす
ことができる。
に上記式(2)のシスーγ−メチルシクロシトラールか
ら上記式(1)の(±)−シスーγ−イロンを合成する
方法について研究を行ってきた。その結果、上記式(2
)シスーγ−メチルシクロシトラールを有機溶媒中でア
セチリデントリフェニルホスホラン((Cm Ha )
s P ”’!!;”’ )と接触させることにより
、−挙に本発明目的化合物の式(1)(±)−シスーγ
−イロンを容易に且つ好収率で合成できることを発見し
た。この反応を反応工程図で示すと以下のように表わす
ことができる。
上記工程図において、式(2)の原料化合物シス−γ−
メチルシクロシトラールは、本発明者らによって初めて
合成された従来文献未記載の化合物であって、後述する
ようにして、たとえば、1−(3,3,4−トリメチル
−1−シクロヘキセン−1−イル)−メチルアルコール
から3工程で容易に合成することができる。該式(2)
化合物は、それ自体も香気香味賦与乃至変調剤として広
い利用分野で有用な化合物であり、該式(2)化合物、
その製法及びその利用は、本願と同日付けの同一出願人
の出願に係わる特願昭60− 号の主題であ
る。
メチルシクロシトラールは、本発明者らによって初めて
合成された従来文献未記載の化合物であって、後述する
ようにして、たとえば、1−(3,3,4−トリメチル
−1−シクロヘキセン−1−イル)−メチルアルコール
から3工程で容易に合成することができる。該式(2)
化合物は、それ自体も香気香味賦与乃至変調剤として広
い利用分野で有用な化合物であり、該式(2)化合物、
その製法及びその利用は、本願と同日付けの同一出願人
の出願に係わる特願昭60− 号の主題であ
る。
式(21シス−r−メチルシクロシトラールとの反応に
用いるアセチリデントリフェニルホスホランは、例えば
、クロルアセトンとトリフェニホスフインよシ得ること
のできるホスホニウム塩をアルカリで処理することによ
って容易に得ることができる。
用いるアセチリデントリフェニルホスホランは、例えば
、クロルアセトンとトリフェニホスフインよシ得ること
のできるホスホニウム塩をアルカリで処理することによ
って容易に得ることができる。
本発明方法によれば、式(1)(±)−シスーγ−イロ
ンは、式(2)シスーγ−メチルシクロシトラルと該ア
セチリデントリフェニルホスホランヲ、有機溶媒中で接
触させることにより容易に形成することができる。
ンは、式(2)シスーγ−メチルシクロシトラルと該ア
セチリデントリフェニルホスホランヲ、有機溶媒中で接
触させることにより容易に形成することができる。
この反応は、例えば約−30℃〜約200℃程度の温度
範囲、好ましくは約0°〜約150℃程度の温度範囲の
適尚な温度条件下、及び例えば約1〜約30時間程度の
反応時間範囲、好ましくは約5〜約20時間程度の範囲
の適当な反応時間条件下で行うことができる。
範囲、好ましくは約0°〜約150℃程度の温度範囲の
適尚な温度条件下、及び例えば約1〜約30時間程度の
反応時間範囲、好ましくは約5〜約20時間程度の範囲
の適当な反応時間条件下で行うことができる。
反応の実施に際して、アセチリデントリフェニルホスホ
ランの使用量は適宜に選択変更できるが、上記式(1)
化合物に対し、例えば約1〜約10モル程度、よシ好ま
しくは約1〜約5モル程度の範囲の使用量を例示するこ
とができる。又、有機溶媒としては、例えばトルエン、
アセトニトリル、テトロヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、エーテル、ソゲライムなどが例示できる。これら有
機溶媒の使用量は適宜選択して行うことができるが、上
記式(1)化合物に対して例えば約1〜約100重量倍
程度、よシ好ましくは約1〜約20重景倍程度の範囲を
例示することができる。反応終了後は常法に従って後処
理して上記式(1)化合物を容易に且つ好収率で得るこ
とができる。
ランの使用量は適宜に選択変更できるが、上記式(1)
化合物に対し、例えば約1〜約10モル程度、よシ好ま
しくは約1〜約5モル程度の範囲の使用量を例示するこ
とができる。又、有機溶媒としては、例えばトルエン、
アセトニトリル、テトロヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、エーテル、ソゲライムなどが例示できる。これら有
機溶媒の使用量は適宜選択して行うことができるが、上
記式(1)化合物に対して例えば約1〜約100重量倍
程度、よシ好ましくは約1〜約20重景倍程度の範囲を
例示することができる。反応終了後は常法に従って後処
理して上記式(1)化合物を容易に且つ好収率で得るこ
とができる。
本発明方法で用いる式(2)シスーγ−メチルシクロシ
トラールは、たとえば、下記式(3)但し式中、R′及
びR“はそれぞれ低級アルキル基を示すか、歳はR′と
R“は−緒になって低級アルキレン基を示す、 テ表ワサレるシス−2−(2−メチレン−5,6゜6−
ドリメチルシクロヘキサンー1−イル)−#。
トラールは、たとえば、下記式(3)但し式中、R′及
びR“はそれぞれ低級アルキル基を示すか、歳はR′と
R“は−緒になって低級アルキレン基を示す、 テ表ワサレるシス−2−(2−メチレン−5,6゜6−
ドリメチルシクロヘキサンー1−イル)−#。
N−シアルキルもしくは−アルキレンアセトニトリルを
、有機溶媒中で硝酸銀と接触させることにより製造する
ことができる。モして該式(3)化合物は、例えば、下
記式(4) で表わされるそれ自体合成容易な1−(3,5゜4−ト
リメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メチルアル
コールを、有機溶媒中、塩基の存在下に、ハロク°ン化
剤、メシル化剤もしくはトシル化剤と反応させて形成で
きる下記式(4)但し式中、Xは戸口rンたとえばEr
。
、有機溶媒中で硝酸銀と接触させることにより製造する
ことができる。モして該式(3)化合物は、例えば、下
記式(4) で表わされるそれ自体合成容易な1−(3,5゜4−ト
リメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メチルアル
コールを、有機溶媒中、塩基の存在下に、ハロク°ン化
剤、メシル化剤もしくはトシル化剤と反応させて形成で
きる下記式(4)但し式中、Xは戸口rンたとえばEr
。
ct、r、メシルオキシ基(OMs) もしくはトシル
オキシ基(OTm)を示す、で表わされる1−(3,3
,4−)ジメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メ
チレンハライドもしくはメシレート又はトシレートを、
有機溶媒中、塩基の存在下に、N、N−ジ低級アルキル
−もしくは低級アルキレン−アミノアセトニトリルと反
応させて容易に得ることができる。
オキシ基(OTm)を示す、で表わされる1−(3,3
,4−)ジメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メ
チレンハライドもしくはメシレート又はトシレートを、
有機溶媒中、塩基の存在下に、N、N−ジ低級アルキル
−もしくは低級アルキレン−アミノアセトニトリルと反
応させて容易に得ることができる。
上記態様に従って式(2)シスーr−メチルシクロシト
ラールを製造する合成例の一例を工程図で示すと、以下
のように表わすことができる。
ラールを製造する合成例の一例を工程図で示すと、以下
のように表わすことができる。
上記式(4)の1−(3,3,4−)リメテルー1−シ
クロヘキセン−1−イル)−メチレンハライドの合成は
、上記式(5)1−(3,3,4−)ジメチル−1−シ
クロヘキセン−1−イル)−メチルアルコールを好まし
くは有機溶媒中、塩基の存在下に、ハロダン化剤、メシ
ル化剤もしくはトシル化剤と反応させることによシ容易
に行うことができる。
クロヘキセン−1−イル)−メチレンハライドの合成は
、上記式(5)1−(3,3,4−)ジメチル−1−シ
クロヘキセン−1−イル)−メチルアルコールを好まし
くは有機溶媒中、塩基の存在下に、ハロダン化剤、メシ
ル化剤もしくはトシル化剤と反応させることによシ容易
に行うことができる。
反応は、例えば、約−78°〜約+150℃程度の温度
条件下に、例えば、約1〜約5時間程度の反応時間で好
ましく行うことができる。
条件下に、例えば、約1〜約5時間程度の反応時間で好
ましく行うことができる。
反応に使用する有機溶媒の具体例としては、例えばエー
テル、テトラヒドロ7ラン表どの如きエーテル類を例示
することができる。これら有機溶媒の使用量には格別の
制約はなく適宜に選択すれば良いが、式(5)化合物に
対して、例えば、約1〜約10重量倍程度の範囲の使用
量を好ましく例示できる。又、反応に使用するハロダン
化剤、メシル化剤、トシル化剤の例としては、例えば三
臭化リン、三塩化リン、メタンスルホニルクロリド、p
−)ルエンスルホニルクロリドなどヲ挙ケることができ
る。上記工程図の例では、ハロダン化剤として三臭化リ
ンを用いた例で示されている。これら剤の使用量も適宜
に選択変更できるが、例えば上記式(5)に対して、約
1〜約3モル程度の範囲の使用量を好ましく例示するこ
とができる。更に、塩基としては、例えばピリジン、ト
リエチルアミンなどの如き有機塩基を例示することがで
きる。
テル、テトラヒドロ7ラン表どの如きエーテル類を例示
することができる。これら有機溶媒の使用量には格別の
制約はなく適宜に選択すれば良いが、式(5)化合物に
対して、例えば、約1〜約10重量倍程度の範囲の使用
量を好ましく例示できる。又、反応に使用するハロダン
化剤、メシル化剤、トシル化剤の例としては、例えば三
臭化リン、三塩化リン、メタンスルホニルクロリド、p
−)ルエンスルホニルクロリドなどヲ挙ケることができ
る。上記工程図の例では、ハロダン化剤として三臭化リ
ンを用いた例で示されている。これら剤の使用量も適宜
に選択変更できるが、例えば上記式(5)に対して、約
1〜約3モル程度の範囲の使用量を好ましく例示するこ
とができる。更に、塩基としては、例えばピリジン、ト
リエチルアミンなどの如き有機塩基を例示することがで
きる。
上記工程図の例ではピリジンを用いた例で示されている
。これら塩基の使用量は適宜に選択すれば良く、例えば
式(5)化合物に対して、約0.1〜約2モル程度の範
囲の使用量を好ましく挙げることができる。反応終了後
は、例えば、有機層を水洗浄、中和など後処理し、溶媒
を留去した後、蒸留、カラムク四マドの如き手段を用い
て精製し、式(4)化合物を容易に得ることができる。
。これら塩基の使用量は適宜に選択すれば良く、例えば
式(5)化合物に対して、約0.1〜約2モル程度の範
囲の使用量を好ましく挙げることができる。反応終了後
は、例えば、有機層を水洗浄、中和など後処理し、溶媒
を留去した後、蒸留、カラムク四マドの如き手段を用い
て精製し、式(4)化合物を容易に得ることができる。
例えば、上述のようにして得ることのできる上記式(4
)化合物から上記式(3)で表わされる2−(2−メチ
レン−5,6,6−)ジメチルシクロヘキサン−1−イ
ル)−N、N−ソアルキルモシくハアルキレンアミノア
セトニトリルを゛合成するには、例えば、式(4)化合
物を有機溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
リチウム、水酸化バリウムなどの如き塩基の存在下にN
、N−ジ低級アルキルもしくは低級アルキレン−アミノ
アセトニトリルと反応させて容易に合成することができ
る。
)化合物から上記式(3)で表わされる2−(2−メチ
レン−5,6,6−)ジメチルシクロヘキサン−1−イ
ル)−N、N−ソアルキルモシくハアルキレンアミノア
セトニトリルを゛合成するには、例えば、式(4)化合
物を有機溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
リチウム、水酸化バリウムなどの如き塩基の存在下にN
、N−ジ低級アルキルもしくは低級アルキレン−アミノ
アセトニトリルと反応させて容易に合成することができ
る。
反応は、例えば約−78〜約+200℃程度の温度条件
下、例えば約α5〜約48時間程度の反応時間で好まし
く行うことができる。
下、例えば約α5〜約48時間程度の反応時間で好まし
く行うことができる。
上記反応に際して使用するN、N−ジ低級アルキルもし
くは低級アルキレン−アミノアセトニトリルの使用量と
しては、上記式(4)化合物に対して、例えば、約1〜
約2モル程度の範囲の使用量を好ましく挙げることがで
きる。又、塩基の使用量としては、上記式(4)化合物
に対して例えば、約α1〜約10モル程度の範囲の使用
量を好ましく挙げることができる。又、有機溶媒として
は、ジメチ′ルフォルムアミド、テトラヒドロ7ラン、
アセトニトリル、ツメチルスルホキシド、トルエン、エ
ーテル、ソオキサンカどが例示できる。これら有機溶媒
の使用量には格別の制約はなく、適宜選択すればよく、
式(4)化合物に対して例えば約1〜約100重量倍程
度の範囲の使用量を好ましく例示することができる。反
応終了後は、例えば、ヘキサン、エーテル、トルエンの
如き有機溶媒で反応生成物を抽出し、水洗、乾燥し、カ
ラムクロマト、蒸留などの手段で精製して式(3)化合
物を容易に得ることができる。
くは低級アルキレン−アミノアセトニトリルの使用量と
しては、上記式(4)化合物に対して、例えば、約1〜
約2モル程度の範囲の使用量を好ましく挙げることがで
きる。又、塩基の使用量としては、上記式(4)化合物
に対して例えば、約α1〜約10モル程度の範囲の使用
量を好ましく挙げることができる。又、有機溶媒として
は、ジメチ′ルフォルムアミド、テトラヒドロ7ラン、
アセトニトリル、ツメチルスルホキシド、トルエン、エ
ーテル、ソオキサンカどが例示できる。これら有機溶媒
の使用量には格別の制約はなく、適宜選択すればよく、
式(4)化合物に対して例えば約1〜約100重量倍程
度の範囲の使用量を好ましく例示することができる。反
応終了後は、例えば、ヘキサン、エーテル、トルエンの
如き有機溶媒で反応生成物を抽出し、水洗、乾燥し、カ
ラムクロマト、蒸留などの手段で精製して式(3)化合
物を容易に得ることができる。
本発明で用いる原料式(2)化合物のシスーr−メチル
シクロシトラールは、例えば上述のようにして得ること
のできる式(3)化合物を有機溶媒中で硝酸銀と接触さ
せることにより容易に合成することができる。
シクロシトラールは、例えば上述のようにして得ること
のできる式(3)化合物を有機溶媒中で硝酸銀と接触さ
せることにより容易に合成することができる。
反応は、好ましくは有機溶媒中で行われ、例えば、テト
ラヒドロフラン、エーテルなどの如き有機溶媒が好まし
く利用できる。反応温度および反応時間は使用する溶媒
によって適宜に選択できるが、例えば約−20〜約+5
0程度の反応温度及び、例えば、約2〜約48時間程度
の反応時間を例示することができる。有機溶媒の使用量
としては、例えば式+31化合物に対して、約1〜約1
00重量倍程度の範囲の使用量を好ましく例示すること
ができる。
ラヒドロフラン、エーテルなどの如き有機溶媒が好まし
く利用できる。反応温度および反応時間は使用する溶媒
によって適宜に選択できるが、例えば約−20〜約+5
0程度の反応温度及び、例えば、約2〜約48時間程度
の反応時間を例示することができる。有機溶媒の使用量
としては、例えば式+31化合物に対して、約1〜約1
00重量倍程度の範囲の使用量を好ましく例示すること
ができる。
上記反応に用いる硝酸銀の使用量は適宜に選択変更でき
るが、式(3)化合物に対しては、例えば、約(L1〜
1〜約10程度の範囲を例示することができる。・反応
終了後は、生成した結晶を除去し、有機層を分離し、乾
燥して蒸留、カラムクロマトなどの如き手段で精製する
ことによシ、式(2)原料化合物を容易に得ることがで
きる。
るが、式(3)化合物に対しては、例えば、約(L1〜
1〜約10程度の範囲を例示することができる。・反応
終了後は、生成した結晶を除去し、有機層を分離し、乾
燥して蒸留、カラムクロマトなどの如き手段で精製する
ことによシ、式(2)原料化合物を容易に得ることがで
きる。
上述した式(2)化合物の製造例において使用する式(
5)化合物は、同一出願人の出願に係わる特開昭57−
134428号に記載された化合物であって、該特開昭
57−134428号に開示された方法で製造できるが
、本願と同日付けの同一出願人の出願に係わる改良方法
(%願昭60−号)によってさらに有利に製造すること
ができ、好ましい。
5)化合物は、同一出願人の出願に係わる特開昭57−
134428号に記載された化合物であって、該特開昭
57−134428号に開示された方法で製造できるが
、本願と同日付けの同一出願人の出願に係わる改良方法
(%願昭60−号)によってさらに有利に製造すること
ができ、好ましい。
該改良方法によれば、下記工程図に示した式(6)で表
わされる3、3.4−トリメチル−1−シクロヘキセン
ー1−カルバルデヒドを水素化することによって、上記
式(5)化合物を容易に製造することができる。該式(
b)化合物の製造態様を包含した工程図を以下に示す。
わされる3、3.4−トリメチル−1−シクロヘキセン
ー1−カルバルデヒドを水素化することによって、上記
式(5)化合物を容易に製造することができる。該式(
b)化合物の製造態様を包含した工程図を以下に示す。
上記式(5)化合物の合成法について、上記工程図に従
って以下に更に詳しく説明する。
って以下に更に詳しく説明する。
上記工程図において、式(d)2,2.3−)リフチル
−6−ヒドロキシメチレンシクロヘキサノンは、市場で
入手容易若しくは合成容易な2,3−ツメチルシクロヘ
キサノンを、例えば、水素化ナトリウムの存在下に臭化
メチルでメチル化し、次いでナトリウムメトキサイドの
存在下にギ酸エチルと反応させることによシ容易に合成
できる。
−6−ヒドロキシメチレンシクロヘキサノンは、市場で
入手容易若しくは合成容易な2,3−ツメチルシクロヘ
キサノンを、例えば、水素化ナトリウムの存在下に臭化
メチルでメチル化し、次いでナトリウムメトキサイドの
存在下にギ酸エチルと反応させることによシ容易に合成
できる。
式(カ化合物から式(6)2.2t3−)リメチルー6
− (1−エトキシエトキシメチレン)シクロヘキサノ
ンを得るには、式(力比合物を酸の存在下にエチルビニ
ルエーテルと反応させることKより容易に合成すること
ができる。この反応に使用する酸としては、例えばリン
酸、硫酸、塩酸、p−トルエンスルホン酸などを挙げる
ことができる。とれら酸類の使用量としては、酸の種類
によっても異なるが、式(力比合物に対して例えば、約
α5〜約10%程度の範囲を好ましく例示することがで
きる。又、エチルビニルエーテルの使用量は適宜選択す
るととができるが、例えば、式(力比合物に対して約1
〜約10モル程度の範囲を挙げることができる。反応は
、例えば約06〜約50℃程度の温度条件下に例えば約
1〜約5時間程度の条件下で容易に行うことができる。
− (1−エトキシエトキシメチレン)シクロヘキサノ
ンを得るには、式(力比合物を酸の存在下にエチルビニ
ルエーテルと反応させることKより容易に合成すること
ができる。この反応に使用する酸としては、例えばリン
酸、硫酸、塩酸、p−トルエンスルホン酸などを挙げる
ことができる。とれら酸類の使用量としては、酸の種類
によっても異なるが、式(力比合物に対して例えば、約
α5〜約10%程度の範囲を好ましく例示することがで
きる。又、エチルビニルエーテルの使用量は適宜選択す
るととができるが、例えば、式(力比合物に対して約1
〜約10モル程度の範囲を挙げることができる。反応は
、例えば約06〜約50℃程度の温度条件下に例えば約
1〜約5時間程度の条件下で容易に行うことができる。
反応終了後は、たとえば、重炭酸ナトリウム水溶液中に
注入し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して式(C)
化合物を得ることができる。
注入し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して式(C)
化合物を得ることができる。
上記式(b)3,3.4−)ジメチル−1−シクロヘキ
セン−1−カルバルデヒドを合成するには、例えば上述
のようにして合成することのできる式(C)化合物を溶
媒中、還元試薬の存在下に水素化することによυ容易に
合成することができる。反応温度及び反応時間は適当に
選択できるが、例えば約0〜約50℃程度、約1〜約5
時間程度を例示することができる。溶媒としては、例え
ばエタノール、水、イングロビルアルコール、エーテル
、THFを挙げることができる。これら有機溶媒の使用
量も適宜に選択できるが例えば式(C)化合物に対して
約α5〜約5重量%程度の範囲を例示することができる
。又、還元試薬としては、例えば、水素化ホウ素ナトリ
ウム、水素化アルミニウムリチウムなどを例示すること
ができる。これら還元試薬の使用量としては、式(C)
化合物に対して例えば、約イ〜約2モル程度の範囲を挙
げることができる。反応終了後は常法に従って後処理し
て式(6)化合物を容易に合成することができる。
セン−1−カルバルデヒドを合成するには、例えば上述
のようにして合成することのできる式(C)化合物を溶
媒中、還元試薬の存在下に水素化することによυ容易に
合成することができる。反応温度及び反応時間は適当に
選択できるが、例えば約0〜約50℃程度、約1〜約5
時間程度を例示することができる。溶媒としては、例え
ばエタノール、水、イングロビルアルコール、エーテル
、THFを挙げることができる。これら有機溶媒の使用
量も適宜に選択できるが例えば式(C)化合物に対して
約α5〜約5重量%程度の範囲を例示することができる
。又、還元試薬としては、例えば、水素化ホウ素ナトリ
ウム、水素化アルミニウムリチウムなどを例示すること
ができる。これら還元試薬の使用量としては、式(C)
化合物に対して例えば、約イ〜約2モル程度の範囲を挙
げることができる。反応終了後は常法に従って後処理し
て式(6)化合物を容易に合成することができる。
式(5)1−(3,3,4−)リメテルー1−シクロヘ
キセン−1−イル)−メチルアルコールを合成するには
、例えば上述のようにして得ることのできる式(b)化
合物を、例えば有機溶媒中、還元試薬の存在下に、水素
化することによシ容易に合成することができる。反応条
件及び反応方法は、上述の式(C)化合物から式(6)
化合物を合成する方法について述べたところに準じて行
うことにより式(5)化合物を容易に合成することがで
きる。
キセン−1−イル)−メチルアルコールを合成するには
、例えば上述のようにして得ることのできる式(b)化
合物を、例えば有機溶媒中、還元試薬の存在下に、水素
化することによシ容易に合成することができる。反応条
件及び反応方法は、上述の式(C)化合物から式(6)
化合物を合成する方法について述べたところに準じて行
うことにより式(5)化合物を容易に合成することがで
きる。
(g) 実施例及び参考例
参考例 原料式(2)化合物の合成例ニー(1)#、
#−ツメチルアセトニトリルの合成。
#−ツメチルアセトニトリルの合成。
ツメチルアミン50%水溶液90f中に水冷下50%グ
リコノニトリル水溶液114fを加え3時間室温で攪拌
する。エーテルを加え食塩で塩析後抽出を行なう。抽出
液は硫酸マグネシウムで乾燥処理後蒸留し、目的物を得
る。679沸点130〜135℃/ 760 wHg収
率 80% (2+ 1− (5、5、4−)ジメチル−1−シク
ロヘキセン−1−イル)メチレンプロミド式(4)の合
成。
リコノニトリル水溶液114fを加え3時間室温で攪拌
する。エーテルを加え食塩で塩析後抽出を行なう。抽出
液は硫酸マグネシウムで乾燥処理後蒸留し、目的物を得
る。679沸点130〜135℃/ 760 wHg収
率 80% (2+ 1− (5、5、4−)ジメチル−1−シク
ロヘキセン−1−イル)メチレンプロミド式(4)の合
成。
1−(3,4,4−)ジメチル−1−シクロヘキセン−
1−イル)メチルアルコール式(5115,4F(0,
1モル)をピリジン1fとともに乾燥エーテル100献
中に仕込む。氷水浴で冷却内温を10±5℃に保つ。同
温度で三臭化リン10.8F(0,04モル)を滴下す
る。滴下終了後1時間攪拌を続は一夜放置する。
1−イル)メチルアルコール式(5115,4F(0,
1モル)をピリジン1fとともに乾燥エーテル100献
中に仕込む。氷水浴で冷却内温を10±5℃に保つ。同
温度で三臭化リン10.8F(0,04モル)を滴下す
る。滴下終了後1時間攪拌を続は一夜放置する。
反応液を氷水中に注入、エーテル層を分離、食塩水洗、
重ンー水中和、硫酸マグネシウム乾燥処理、濃縮を行な
う。シリカダルカラムクロマトにより精製する。
重ンー水中和、硫酸マグネシウム乾燥処理、濃縮を行な
う。シリカダルカラムクロマトにより精製する。
Rf=0.751(n−ヘキサン/酢エチ=5/1)1
6f収率70%(ワコーグルC−200150ySn−
ヘキサン/酢エチ=9/1) (3) シス−2−(2−メチレン−5,6,6−ド
リメチルシクロヘキサンー1−イル)N。
6f収率70%(ワコーグルC−200150ySn−
ヘキサン/酢エチ=9/1) (3) シス−2−(2−メチレン−5,6,6−ド
リメチルシクロヘキサンー1−イル)N。
N−ジメチルアセトニトリル式(3)の合成。
式(4)2.3 y (10ミリモル)、N、N−ツメ
チルアミノアセトニトリルCL84f(10ミリモル)
炭酸カリウム2.2f(16ミリモル)をDMF12m
lとともに50−フラスコに仕込みアルゴン下24時間
、室温下攪拌反応する。終了後n−ヘキサン100づを
加え水洗を行なう。硫酸マグネシウム乾燥処理、濃縮後
シリカゲルカラムクロマトすることによりRf=0.6
02(′n−ヘキサン/酢エチ=3/1)を有する式(
311,8fを得た。
チルアミノアセトニトリルCL84f(10ミリモル)
炭酸カリウム2.2f(16ミリモル)をDMF12m
lとともに50−フラスコに仕込みアルゴン下24時間
、室温下攪拌反応する。終了後n−ヘキサン100づを
加え水洗を行なう。硫酸マグネシウム乾燥処理、濃縮後
シリカゲルカラムクロマトすることによりRf=0.6
02(′n−ヘキサン/酢エチ=3/1)を有する式(
311,8fを得た。
収率82%
(4) シスーγ−メチルシクロシトラール式(2)
の合成 式+3) 12 fを0.5規定硝酸@’150 m7
!、テトラヒドロフラン2407!、エーテル120−
とともに仕込み、室温下24時間攪拌する。生成した結
晶を口鍋し得られた有キ層を分離、硫酸マグネシウム(
無水)で乾燥する。エバポレーターで濃縮トラール式(
215,3fを得た。収率58.8%IR:3060−
1720,1640,895cIrL−’実施例 式
(1)化合物の合成例ニー1、(±)−シスーγ−イロ
ンの合成 りロルアセトン32.!M、)リフェニルホスフィン1
00fをクロロホルム中45分加熱しエーテルに注ぐ。
の合成 式+3) 12 fを0.5規定硝酸@’150 m7
!、テトラヒドロフラン2407!、エーテル120−
とともに仕込み、室温下24時間攪拌する。生成した結
晶を口鍋し得られた有キ層を分離、硫酸マグネシウム(
無水)で乾燥する。エバポレーターで濃縮トラール式(
215,3fを得た。収率58.8%IR:3060−
1720,1640,895cIrL−’実施例 式
(1)化合物の合成例ニー1、(±)−シスーγ−イロ
ンの合成 りロルアセトン32.!M、)リフェニルホスフィン1
00fをクロロホルム中45分加熱しエーテルに注ぐ。
生成した結晶を集め112fのアセトニルトリフェニル
ホスホニウムクロライドヲ得る。アセトニルトリフェニ
ルホスホニウムクロライド130fを10%の炭酸ナト
リウム水溶液11と8時間攪拌する。得られた、アセチ
リデントリフェニルホスホラン107Fをメタノール−
水より再結し、99fの純品を得た。
ホスホニウムクロライドヲ得る。アセトニルトリフェニ
ルホスホニウムクロライド130fを10%の炭酸ナト
リウム水溶液11と8時間攪拌する。得られた、アセチ
リデントリフェニルホスホラン107Fをメタノール−
水より再結し、99fの純品を得た。
上述のようにして得られたアセチリデントリフエニルホ
スホラン318Fを)ルエン37中に溶解させる。この
中にシスーγ−メチルシクロトラール式+215 Of
を加え24時間加熱還流する。終了後トルエンをエバポ
レーターで留去し、残渣にn−ヘキサンを加え抽出を行
なう。抽出液を合わせ濃縮後、残液を減圧下に蒸留して
沸点1100〜113℃/ 2 ta Hgを有する(
±)−シスーγ−イロン51グ(T=82.5%)を得
た。
スホラン318Fを)ルエン37中に溶解させる。この
中にシスーγ−メチルシクロトラール式+215 Of
を加え24時間加熱還流する。終了後トルエンをエバポ
レーターで留去し、残渣にn−ヘキサンを加え抽出を行
なう。抽出液を合わせ濃縮後、残液を減圧下に蒸留して
沸点1100〜113℃/ 2 ta Hgを有する(
±)−シスーγ−イロン51グ(T=82.5%)を得
た。
2、(±)−シスーγ−イロンの合成
実施例1に於いてトルエンの代りにアセトニトリルを用
いた他は実施例1と同様に行って、(±)−シスーr−
イoン57.5t (Y=95%)を得た。
いた他は実施例1と同様に行って、(±)−シスーr−
イoン57.5t (Y=95%)を得た。
ω効 果
本発明の方法によれば、トランス一体を生成することな
く選択的に(±)−シスーγ−イロンを合成することが
できることに加えて、従来提案の工程数にくらべて大巾
に短縮された工程数で合成可能であり、又安価で且つ好
収率で合成できる利点がある。
く選択的に(±)−シスーγ−イロンを合成することが
できることに加えて、従来提案の工程数にくらべて大巾
に短縮された工程数で合成可能であり、又安価で且つ好
収率で合成できる利点がある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(2) で表わされるシス−γ−メチルシクロシトラールを有機
溶媒中で下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるアセチリデントリフエニルホスホランと接
触させることを特徴とする下記式(1)▲数式、化学式
、表等があります▼(1) で表わされる(±)−シス−γ−イロンの製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8263085A JPS61243041A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | (±)−シス−γ−イロンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8263085A JPS61243041A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | (±)−シス−γ−イロンの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61243041A true JPS61243041A (ja) | 1986-10-29 |
JPH0465065B2 JPH0465065B2 (ja) | 1992-10-16 |
Family
ID=13779764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8263085A Granted JPS61243041A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | (±)−シス−γ−イロンの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61243041A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0255796A (ja) * | 1988-08-19 | 1990-02-26 | T Hasegawa Co Ltd | 香料組成物およびその製造法 |
US5118865A (en) * | 1990-03-26 | 1992-06-02 | Firmenich Sa | Cyclic ketones and their use as perfuming ingredients |
-
1985
- 1985-04-19 JP JP8263085A patent/JPS61243041A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0255796A (ja) * | 1988-08-19 | 1990-02-26 | T Hasegawa Co Ltd | 香料組成物およびその製造法 |
US5118865A (en) * | 1990-03-26 | 1992-06-02 | Firmenich Sa | Cyclic ketones and their use as perfuming ingredients |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0465065B2 (ja) | 1992-10-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |