JPS6251664A - γ−イオノンの製法 - Google Patents
γ−イオノンの製法Info
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- JPS6251664A JPS6251664A JP19097185A JP19097185A JPS6251664A JP S6251664 A JPS6251664 A JP S6251664A JP 19097185 A JP19097185 A JP 19097185A JP 19097185 A JP19097185 A JP 19097185A JP S6251664 A JPS6251664 A JP S6251664A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(a)産業上の利用分野
本発明は、香料物質として有用なバイオレット様香気を
有するγ−イオノンの新規な製法に関する。
有するγ−イオノンの新規な製法に関する。
更に詳しくは、本発明は下記式(2)
で表わされる2−メチレン−6,6−シメチルシクロヘ
キシルカルバルデヒド(以下γ−シクロシトラールと云
う)を下記式(A) で表わされるアセチリデントリフェニルホスホランと接
触させることを特徴とする下記式(1)で表わされるγ
−イオノンの新規な製法に間する(b)従来の技術 イオノンとしては、α−5β−5γ−の3異性体が知ら
れているが、そのいずれもバイオレット様香気を基調と
するが、3異性体のうちγ−イオノンが、特にその香気
が優れていると云われている。
キシルカルバルデヒド(以下γ−シクロシトラールと云
う)を下記式(A) で表わされるアセチリデントリフェニルホスホランと接
触させることを特徴とする下記式(1)で表わされるγ
−イオノンの新規な製法に間する(b)従来の技術 イオノンとしては、α−5β−5γ−の3異性体が知ら
れているが、そのいずれもバイオレット様香気を基調と
するが、3異性体のうちγ−イオノンが、特にその香気
が優れていると云われている。
従来、γ−イオノンの製造に関しては多くの提案がなさ
れてきたが、γ−イオノンを選択的に高純度、高収率で
得ることはできなかった。例えば、He lv、Ch
im、Ac ta、、41巻、1395ページ(195
8)によれば、下記工程図に示すようにγ−シクロシト
ラールから合成する方法が記載されている。
れてきたが、γ−イオノンを選択的に高純度、高収率で
得ることはできなかった。例えば、He lv、Ch
im、Ac ta、、41巻、1395ページ(195
8)によれば、下記工程図に示すようにγ−シクロシト
ラールから合成する方法が記載されている。
(2) y−lononeこの提案
によれば、原料2−カルボアルコキシ−3,3−ジメチ
ルシクロヘキサン−1−オンから多工程を経てγ−シク
ロシトラールを合成し、これからγ−イオノンを得てい
る。
によれば、原料2−カルボアルコキシ−3,3−ジメチ
ルシクロヘキサン−1−オンから多工程を経てγ−シク
ロシトラールを合成し、これからγ−イオノンを得てい
る。
(C)発明が解決しようとする問題点
上記従来提案で得られるγ−イオノンは、異性体のα−
イオノンが一緒に形成され、γ−イオノンの生成率は、
わずかに10〜15%程度であり残りはα一体であると
いう欠乏があり、γ−イオノンを選択的に得ることはで
きない、更に、上記の混合物からγ一体のみを分離取得
することは極めて困難であるなどの不利益乃至欠点があ
る。
イオノンが一緒に形成され、γ−イオノンの生成率は、
わずかに10〜15%程度であり残りはα一体であると
いう欠乏があり、γ−イオノンを選択的に得ることはで
きない、更に、上記の混合物からγ一体のみを分離取得
することは極めて困難であるなどの不利益乃至欠点があ
る。
(d)問題点を解決するための手段
本発明者らは、上述の従来提案の問題点を解決すべく、
特に上記式(2)のγ−シクロシトラールから異性化を
伴うことなく、γ−イオノンを選択的に合成する方法に
ついて鋭意研究を行ってきた。
特に上記式(2)のγ−シクロシトラールから異性化を
伴うことなく、γ−イオノンを選択的に合成する方法に
ついて鋭意研究を行ってきた。
その結果、上記式(2)γ−シクロシトラールを上記式
(A)アセチリデントリフェニルホスホランと接触反応
させることにより、本発明の目的化合物の上記式(1)
γ−イオノンを異性体の生成をともなうことなく、純度
良く且つ好収率で合成することを発見した。この反応を
反応工程図で示すと以下の様に表わすことができる。
(A)アセチリデントリフェニルホスホランと接触反応
させることにより、本発明の目的化合物の上記式(1)
γ−イオノンを異性体の生成をともなうことなく、純度
良く且つ好収率で合成することを発見した。この反応を
反応工程図で示すと以下の様に表わすことができる。
上記工程図において、式(2)の原料化合物γ−シクロ
シトラールは、後述するようにして、たとえば、1−(
3,3−ジメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メ
タノールから3工程で容易に合成できる。鎖式(2)化
合物の製法は、本願と同日付けの同一出願人の出願に係
わる特願昭60− 号の主題である。
シトラールは、後述するようにして、たとえば、1−(
3,3−ジメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メ
タノールから3工程で容易に合成できる。鎖式(2)化
合物の製法は、本願と同日付けの同一出願人の出願に係
わる特願昭60− 号の主題である。
式(2)γ−シクロシトラールとの反応に用いるアセチ
リデントリフェニルホスホランは、例えば、クロルアセ
トンとトリフェニルホスフィンより得ることのできるホ
スホニウム塩をアルカリで処理することにより容易に得
ることができる。
リデントリフェニルホスホランは、例えば、クロルアセ
トンとトリフェニルホスフィンより得ることのできるホ
スホニウム塩をアルカリで処理することにより容易に得
ることができる。
本発明方法によれば、式(1)γ−イオノンは、式(2
)γ−シクロシトラールと該アセチリデントリフェニル
ホスホランを、好ましくは、有機溶媒中で接触させるこ
とにより容易に形成することができる。
)γ−シクロシトラールと該アセチリデントリフェニル
ホスホランを、好ましくは、有機溶媒中で接触させるこ
とにより容易に形成することができる。
この反応は、例えば、約−30〜約+200゜C程度の
温度範囲、好ましくは約0〜約150゜C程度の温度範
囲の適当な温度条件下、及び例えば約1〜約30時間程
度の反応時間範囲、好ましくは、約5〜約20時間程度
の範囲の適当な反応時間条件下で行うことができる。
温度範囲、好ましくは約0〜約150゜C程度の温度範
囲の適当な温度条件下、及び例えば約1〜約30時間程
度の反応時間範囲、好ましくは、約5〜約20時間程度
の範囲の適当な反応時間条件下で行うことができる。
反応の実施に際して、アセチリデントリフェニルホスホ
ランの使用量は適宜に選択変更できるが、上記式(2)
化合物に体して、例えば約1〜約10モル程度、より好
ましくは約1〜約5モル程度の範囲の使用量を例示する
ことができる。又、有機溶媒としては、例えばトルエン
、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン、エーテル、ジグリムなどが例示できる。これら有
機溶媒の使用量は適宜選択して行うことができるが、上
記式(2)化合物に対して、例えば約1〜100重量倍
程度、より好ましくは約1〜20重量倍程度の範囲を例
示することができる。反応終了後は、常法に従って後処
理して上記式(1)化合物を容易且つ好収率で得ること
ができる。
ランの使用量は適宜に選択変更できるが、上記式(2)
化合物に体して、例えば約1〜約10モル程度、より好
ましくは約1〜約5モル程度の範囲の使用量を例示する
ことができる。又、有機溶媒としては、例えばトルエン
、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン、エーテル、ジグリムなどが例示できる。これら有
機溶媒の使用量は適宜選択して行うことができるが、上
記式(2)化合物に対して、例えば約1〜100重量倍
程度、より好ましくは約1〜20重量倍程度の範囲を例
示することができる。反応終了後は、常法に従って後処
理して上記式(1)化合物を容易且つ好収率で得ること
ができる。
本発明で用いる式(2)γ−シクロシトラールは、例え
ば、下記式(3) 但し式中、R1及びR2はそれぞれ低級アルキル基を示
すか、或いはR1とR2とが一緒になって低級アルキレ
ン基を示す、で表わされる2−(2−メチレン−6,6
−シメチルシクロヘキサンー1−イル”)−N、N−ジ
アルキルもしくはアルキレンアセトニトリルを有機酸と
接触反応せしめることにより、下記式(2)で表わされ
るγ−シクロシトラールに容易に変換できる。
ば、下記式(3) 但し式中、R1及びR2はそれぞれ低級アルキル基を示
すか、或いはR1とR2とが一緒になって低級アルキレ
ン基を示す、で表わされる2−(2−メチレン−6,6
−シメチルシクロヘキサンー1−イル”)−N、N−ジ
アルキルもしくはアルキレンアセトニトリルを有機酸と
接触反応せしめることにより、下記式(2)で表わされ
るγ−シクロシトラールに容易に変換できる。
そして、上記式(3)化合物は、例えば、下記式で表わ
されるそれ自体合成容易な!−(3,3−ジメチル−1
−シクロヘキセン−1−イル)メチルアルコールを、有
機溶媒中、塩基の存在下に、ハロゲン化剤、メシル化剤
もしくはトシル化剤と反応させて形成できる下記式(4
) 但し式中、Xはハロゲン、例えば、Br。
されるそれ自体合成容易な!−(3,3−ジメチル−1
−シクロヘキセン−1−イル)メチルアルコールを、有
機溶媒中、塩基の存在下に、ハロゲン化剤、メシル化剤
もしくはトシル化剤と反応させて形成できる下記式(4
) 但し式中、Xはハロゲン、例えば、Br。
C1、■、メシルオキシ基(OM s )もしくはトシ
ルオキシ(OTs)を示す、 で表わされる1−(3,3−ジメチル−1−シクロヘキ
セン−1−イル)メチレンハライドもしくはメシレート
又はトシレートを、有機溶媒中、塩基の存在下に、N、
N−ジ低級アルキルもしくは低級アルキレン−アミノア
セトニトリルと反応させて容易に得ることができる。
ルオキシ(OTs)を示す、 で表わされる1−(3,3−ジメチル−1−シクロヘキ
セン−1−イル)メチレンハライドもしくはメシレート
又はトシレートを、有機溶媒中、塩基の存在下に、N、
N−ジ低級アルキルもしくは低級アルキレン−アミノア
セトニトリルと反応させて容易に得ることができる。
上記式(2)化合物の合成例の一態様を工程図で示すと
、以下の様に表わすことができる。
、以下の様に表わすことができる。
C)J
上記態様を例に、式(2)化合物の合成について更に詳
しく説明する。
しく説明する。
上記式(4)の1−(3,3−ジメチル−1−シクロヘ
キセン−1−イル)メチレンハライド、もしくはメシレ
ート又はトシレートの合成は、上記式(5)の1−(3
,3−ジメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メチ
ルアルコールを好ましくは有機溶媒中、塩基の存在下に
、ハロゲン化剤、メシル化剤もしくはトシル化剤と反応
させることにより容易に行うことができる。
キセン−1−イル)メチレンハライド、もしくはメシレ
ート又はトシレートの合成は、上記式(5)の1−(3
,3−ジメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メチ
ルアルコールを好ましくは有機溶媒中、塩基の存在下に
、ハロゲン化剤、メシル化剤もしくはトシル化剤と反応
させることにより容易に行うことができる。
反応は、例えば、約−78°〜約+150°C程度の温
度条件下に、例えば、約1〜約5時間程度の反応時間で
好ましく行うことができる。
度条件下に、例えば、約1〜約5時間程度の反応時間で
好ましく行うことができる。
反応に使用する有機溶媒の具体例としては、例えば、エ
ーテル、テトラヒドロフランなどのごときエーテル類を
例示することができる。これら有機溶媒の使用量には、
格別の制約はなく適宜に選択すれば良いが、式(5)化
合物に対して、例えば、約1〜約10重量倍程度の範囲
の使用量を好ましく例示することができる。又、反応に
使用するハロゲン化剤、メシル化剤、トシル化剤の例と
しては、例えば三臭化リン、三塩化リン、メタンスルホ
ニルクロリド、P−)ルエンスルホニルクロリドなどを
あげることができる。上記工程図の例では、ハロゲン化
剤として三臭化リンを用、いた例で示されている。これ
ら剤の使用量も適宜に選択変更できるが、例えば、上記
式(5)化合物に対して、約1〜約3モル程度の範囲の
使用量を好ましく例示することができる。更に塩基とし
ては、例、えばピリジン、トリエチルアミンのごとき有
機塩基を例示することができる。上記工程図の例では、
ピリジンを用いた例で示されている。これら塩基の使用
量は適宜に選択すればよく、例えば、式(5)化合物に
対して、約1.0〜約5モル程度の範囲の使用量を好ま
しくあげることができる0反応終了後は、例えば、有機
層を水洗浄、中和など後処理し、溶媒を留去した後、蒸
留、カラムクロマトのごとき手段を用いて精製し、式く
4)化合物を容易に得ることができる。
ーテル、テトラヒドロフランなどのごときエーテル類を
例示することができる。これら有機溶媒の使用量には、
格別の制約はなく適宜に選択すれば良いが、式(5)化
合物に対して、例えば、約1〜約10重量倍程度の範囲
の使用量を好ましく例示することができる。又、反応に
使用するハロゲン化剤、メシル化剤、トシル化剤の例と
しては、例えば三臭化リン、三塩化リン、メタンスルホ
ニルクロリド、P−)ルエンスルホニルクロリドなどを
あげることができる。上記工程図の例では、ハロゲン化
剤として三臭化リンを用、いた例で示されている。これ
ら剤の使用量も適宜に選択変更できるが、例えば、上記
式(5)化合物に対して、約1〜約3モル程度の範囲の
使用量を好ましく例示することができる。更に塩基とし
ては、例、えばピリジン、トリエチルアミンのごとき有
機塩基を例示することができる。上記工程図の例では、
ピリジンを用いた例で示されている。これら塩基の使用
量は適宜に選択すればよく、例えば、式(5)化合物に
対して、約1.0〜約5モル程度の範囲の使用量を好ま
しくあげることができる0反応終了後は、例えば、有機
層を水洗浄、中和など後処理し、溶媒を留去した後、蒸
留、カラムクロマトのごとき手段を用いて精製し、式く
4)化合物を容易に得ることができる。
例えば、上述の様にして合成することのできる上記式(
4)化合物から上記式(3)で表わされる2−(2−メ
チレン−6,6−シメチルシクロヘキサンー1−イル)
−N、N−ジアルキルもしくはアルキレンアセトニトリ
ルを合成するには、例えば、式(4)化合物を有機溶媒
中、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウムな
どのごとき塩基の存在下にN、N−ジ低級アルキルもし
くは低級アルキレン−アミノアセトニトリルと反応させ
て容易に合成することができる。
4)化合物から上記式(3)で表わされる2−(2−メ
チレン−6,6−シメチルシクロヘキサンー1−イル)
−N、N−ジアルキルもしくはアルキレンアセトニトリ
ルを合成するには、例えば、式(4)化合物を有機溶媒
中、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウムな
どのごとき塩基の存在下にN、N−ジ低級アルキルもし
くは低級アルキレン−アミノアセトニトリルと反応させ
て容易に合成することができる。
反応は、例えば約−78′″〜約+200″C程度の範
囲の温度条件下、例えば約0.5〜48時間程度の反応
時間で好ましく行うことができる。
囲の温度条件下、例えば約0.5〜48時間程度の反応
時間で好ましく行うことができる。
上記反応に際して使用するN、N−ジ低級アルキルもし
くは低級アルキレン−アミノアセトニトリルの使用量と
しては、上記式(4)化合物に対して、例えば、約1〜
約2モル程度の範囲の使用量を好ましくあげることがで
きる。又、塩基の使用量としては、上記式(4)化合物
に対して、例えば、約0.1モル軸約10モル程度の範
囲の使用量を好ましくあげることができる。又、有81
溶媒としては、ジメチルフォルムアルデヒド、テトラヒ
ドロフラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、
トルエン、エーテル、ジオキサンなどが例示できる。こ
れら有機溶媒の使用量には特別の制限はなく、適宜選択
すればよく、式(4)化合物に対して、例えば、約1〜
約100重量倍程度の範囲の使用量を好ましく例示する
ことができる0反応終了後は、例えば、ヘキサン、エー
テルのごとき有機溶媒で反応生成物を抽出し、水洗、乾
燥し、カラムクロマト、蒸留のごとき手段で精製して、
式(3)化合物を容易に得ることができる。
くは低級アルキレン−アミノアセトニトリルの使用量と
しては、上記式(4)化合物に対して、例えば、約1〜
約2モル程度の範囲の使用量を好ましくあげることがで
きる。又、塩基の使用量としては、上記式(4)化合物
に対して、例えば、約0.1モル軸約10モル程度の範
囲の使用量を好ましくあげることができる。又、有81
溶媒としては、ジメチルフォルムアルデヒド、テトラヒ
ドロフラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、
トルエン、エーテル、ジオキサンなどが例示できる。こ
れら有機溶媒の使用量には特別の制限はなく、適宜選択
すればよく、式(4)化合物に対して、例えば、約1〜
約100重量倍程度の範囲の使用量を好ましく例示する
ことができる0反応終了後は、例えば、ヘキサン、エー
テルのごとき有機溶媒で反応生成物を抽出し、水洗、乾
燥し、カラムクロマト、蒸留のごとき手段で精製して、
式(3)化合物を容易に得ることができる。
例えば、上述のようにして得ることのできる式(3)化
合物から、本発明の原料式(2)を合成するには、式(
2)化合物を有機酸と接触させることにより容易に合成
することができる。
合物から、本発明の原料式(2)を合成するには、式(
2)化合物を有機酸と接触させることにより容易に合成
することができる。
反応は、好ましくは溶媒中で行われ、例えば、水、テト
ラヒドロフラン、エーテルなどのごとき溶媒を好ましく
利用できる。これら溶媒は、任意の割合で混合して用い
ることができる。反応温度および反応時間は、使用する
溶媒によって適宜に選択することができるが、例えば、
約O°〜約100°C程度の反応温度及び、例えば、約
0.5〜約48時間程度の反応時間を例示することがで
きる。有機溶媒の使用量としては、例えば式(3)化合
物に対して、約1〜約100重量倍程度の範囲の使用量
を好ましくあげることができる。
ラヒドロフラン、エーテルなどのごとき溶媒を好ましく
利用できる。これら溶媒は、任意の割合で混合して用い
ることができる。反応温度および反応時間は、使用する
溶媒によって適宜に選択することができるが、例えば、
約O°〜約100°C程度の反応温度及び、例えば、約
0.5〜約48時間程度の反応時間を例示することがで
きる。有機溶媒の使用量としては、例えば式(3)化合
物に対して、約1〜約100重量倍程度の範囲の使用量
を好ましくあげることができる。
上記反応に用いる有機酸としては、例えば、シュウ酸、
ギ酸などを好ましくあげることができる。これら有機酸
の使用量としては、式(3)化合物に対して、例えば、
約1〜約5モル程度の範囲を好ましく例示することがで
きる。
ギ酸などを好ましくあげることができる。これら有機酸
の使用量としては、式(3)化合物に対して、例えば、
約1〜約5モル程度の範囲を好ましく例示することがで
きる。
反応終了後は、有機層を食塩水で洗浄し、溶媒を留去し
、例えば、蒸留、カラムクロマトのごとき手段で精製し
て、式(2)化合物を容易に合成することができる。
、例えば、蒸留、カラムクロマトのごとき手段で精製し
て、式(2)化合物を容易に合成することができる。
次に参考例及び実施例により本発明方法実施の数例につ
いて更に詳しく説明する。(e)実施例(e)参考例 γ−シクロシトラールの合成。
いて更に詳しく説明する。(e)実施例(e)参考例 γ−シクロシトラールの合成。
(1)1− (3,3−ジメチル−1−シクロヘキセン
−1−イル)メチレンプロミド式(4%式% −1−イル)メチルアルコール式(5)14g (0,
1モル)をピリジン1gとともに乾燥エーテル100m
1中に仕込む。氷水浴で冷却内温を約10〜約I5°C
に保つ。同温度で三臭化リンlO,8g (0,04モ
ル)を滴下する0滴下終了後、1時間かくはんを続は一
夜放置する。
−1−イル)メチレンプロミド式(4%式% −1−イル)メチルアルコール式(5)14g (0,
1モル)をピリジン1gとともに乾燥エーテル100m
1中に仕込む。氷水浴で冷却内温を約10〜約I5°C
に保つ。同温度で三臭化リンlO,8g (0,04モ
ル)を滴下する0滴下終了後、1時間かくはんを続は一
夜放置する。
反応液を氷水中に注入、エーテル層を分離、食塩水洗浄
、重ソー水で中和、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮す
る。シリカゲルカラムクロマトで精製を行う。
、重ソー水で中和、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮す
る。シリカゲルカラムクロマトで精製を行う。
Rf=0.729 (n−ヘキサン/酢エチ=3/1ワ
コーゲルC−200) 16g、収率;70%。
コーゲルC−200) 16g、収率;70%。
(2)2− (2−メチレン−6,6−シメチルシクロ
ヘキサンー1−イル)N、N−ジメチルアセトニトリル
式(3)の合成。
ヘキサンー1−イル)N、N−ジメチルアセトニトリル
式(3)の合成。
式(4)2.1g (10ミリモル) 、N、N−ジメ
チルアミノアセトニトリル0.84g (10ミリモル
)炭駿カルシウム2.2g (16ミリモル)をDMF
12mlとともに50m1フラスコに仕込みアルゴン下
24時間、室温下撹拌反応する。終了後n−ヘキサン1
00m1を加え水洗浄を行う、硫酸マグネシウム乾燥処
理、濃縮後シリカゲルクロマトで精製することによりR
f=0゜600 (n−ヘキサン/酢エチ=3 /1
)を有する式(3)1.22gを得た。収率;80%。
チルアミノアセトニトリル0.84g (10ミリモル
)炭駿カルシウム2.2g (16ミリモル)をDMF
12mlとともに50m1フラスコに仕込みアルゴン下
24時間、室温下撹拌反応する。終了後n−ヘキサン1
00m1を加え水洗浄を行う、硫酸マグネシウム乾燥処
理、濃縮後シリカゲルクロマトで精製することによりR
f=0゜600 (n−ヘキサン/酢エチ=3 /1
)を有する式(3)1.22gを得た。収率;80%。
(3)γ−シクロシトラール式(2)の合成・フラスコ
に2−(2−メチレン−6,6−シメチルシクロヘキセ
ンー1−イル)−N、N−ジメチルアセトニトリル10
.3g (0,05モル)、98%ギ酸9.2g (0
,2モル)、水31g、テトラヒドロフラン31gを仕
込み、室温で30分間撹拌後、加熱し70’ C(還流
)で20分間撹拌し、冷却後エーテル抽出し有機層を食
塩水洗浄、重ソ水洗浄、食塩水洗浄を行い、硫酸マグネ
シウムで乾燥処理し、エーテルを留去し減圧下に蒸留し
て、沸点80〜85°Cを有する式(1)−1化合物を
4.9g得た。収率;64%。
に2−(2−メチレン−6,6−シメチルシクロヘキセ
ンー1−イル)−N、N−ジメチルアセトニトリル10
.3g (0,05モル)、98%ギ酸9.2g (0
,2モル)、水31g、テトラヒドロフラン31gを仕
込み、室温で30分間撹拌後、加熱し70’ C(還流
)で20分間撹拌し、冷却後エーテル抽出し有機層を食
塩水洗浄、重ソ水洗浄、食塩水洗浄を行い、硫酸マグネ
シウムで乾燥処理し、エーテルを留去し減圧下に蒸留し
て、沸点80〜85°Cを有する式(1)−1化合物を
4.9g得た。収率;64%。
(4)γ−シクロシトラール式(2)の合成。
実施例(3)において、ギ酸の代りにシュウ酸を用いた
他は、実施例(3)同様に行って式(1)−1化合物を
6.9g得た。収率;83%。
他は、実施例(3)同様に行って式(1)−1化合物を
6.9g得た。収率;83%。
(f)実施例
(1)γ−イオノンの合成。
フラスコにアセチリデントリフェニルホスホラン20.
9g (65,8ミリモル)とトルエンgを仕込み遺留
する。これにγ−シクロシトラール5g (32,9ミ
リモル)を加え、更に18時間を行う、その後、除々に
冷却し、10〜15゜Cまで冷却する。ホスホランを濾
別し、結晶はトルエンで洗浄し、濾液と洗浄液をエバポ
レータによりトルエンを回収し、残金にヘキサンを加え
ホスフィンオキサイドを結晶化させ濾別する。結晶は、
゛ヘキサンで洗浄し3液を合わせエバポレータで溶媒を
回収する。得られた粗製をシリカゲルカラムクロマト(
ヘキサン/エーテル=3/1)で精製して、γ−イオノ
ンを4.2g得た。収率;66%。
9g (65,8ミリモル)とトルエンgを仕込み遺留
する。これにγ−シクロシトラール5g (32,9ミ
リモル)を加え、更に18時間を行う、その後、除々に
冷却し、10〜15゜Cまで冷却する。ホスホランを濾
別し、結晶はトルエンで洗浄し、濾液と洗浄液をエバポ
レータによりトルエンを回収し、残金にヘキサンを加え
ホスフィンオキサイドを結晶化させ濾別する。結晶は、
゛ヘキサンで洗浄し3液を合わせエバポレータで溶媒を
回収する。得られた粗製をシリカゲルカラムクロマト(
ヘキサン/エーテル=3/1)で精製して、γ−イオノ
ンを4.2g得た。収率;66%。
(g)効果
γ−シクロシトラールからγ−イオノンを合成する従来
提案の方法においては、異性体のα一体の生成が回避で
きない、しかしながら、本発明方法によれば、γ一体以
外のα一体及びβ一体の異性体を全く生成することなく
、香気的に優れているγ−イオノンのみを選択的に合成
することができることに加えて、従来提案にくらべて工
業的に容易且つ好収率で合成できる利点がある。
提案の方法においては、異性体のα一体の生成が回避で
きない、しかしながら、本発明方法によれば、γ一体以
外のα一体及びβ一体の異性体を全く生成することなく
、香気的に優れているγ−イオノンのみを選択的に合成
することができることに加えて、従来提案にくらべて工
業的に容易且つ好収率で合成できる利点がある。
外1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) で表わされる2−メチレン−6,6−ジメチルシクロヘ
キシルカルバルデヒドを下記式(A)▲数式、化学式、
表等があります▼(A) で表わされるアセチリデントリフエニルホスホランと接
触させることを特徴とする下記式(1)▲数式、化学式
、表等があります▼(1) で表わされるγ−イオノンの製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19097185A JPS6251664A (ja) | 1985-08-31 | 1985-08-31 | γ−イオノンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19097185A JPS6251664A (ja) | 1985-08-31 | 1985-08-31 | γ−イオノンの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6251664A true JPS6251664A (ja) | 1987-03-06 |
JPH0465B2 JPH0465B2 (ja) | 1992-01-06 |
Family
ID=16266717
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19097185A Granted JPS6251664A (ja) | 1985-08-31 | 1985-08-31 | γ−イオノンの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6251664A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002193846A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | トリフルオロプロペニル化合物の製造法 |
-
1985
- 1985-08-31 JP JP19097185A patent/JPS6251664A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002193846A (ja) * | 2000-12-25 | 2002-07-10 | Sumitomo Chem Co Ltd | トリフルオロプロペニル化合物の製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0465B2 (ja) | 1992-01-06 |
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