JPS6251637A - 2−メチレン−6,6−ジメチル又は5,6,6−トリメチルシクロヘキシルカルバルデヒドの製法 - Google Patents
2−メチレン−6,6−ジメチル又は5,6,6−トリメチルシクロヘキシルカルバルデヒドの製法Info
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- JPS6251637A JPS6251637A JP19097485A JP19097485A JPS6251637A JP S6251637 A JPS6251637 A JP S6251637A JP 19097485 A JP19097485 A JP 19097485A JP 19097485 A JP19097485 A JP 19097485A JP S6251637 A JPS6251637 A JP S6251637A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(a)産業上の利用分野
本発明はイリス様香気を有する香料物質として価値の高
いγ−イロン、バイオレット様香気を有する香料物質と
して価値の高いγ−イオノシ及びローズ様香気を有する
香料物質として価値の高いγ−ダマスコンの合成中間体
として有用な下記式(1)で表わされる化合物の新規な
製法に間する詳しくは、本発明は下記式(1) 但し式中1.Rは水素原子もしくはメチル基を示す、 で表わされる2−メチレン−6,6−ジメチル又は5,
6.6−ドリメチルシクロへキシルカルバルデヒドの新
規な製法に関する。
いγ−イロン、バイオレット様香気を有する香料物質と
して価値の高いγ−イオノシ及びローズ様香気を有する
香料物質として価値の高いγ−ダマスコンの合成中間体
として有用な下記式(1)で表わされる化合物の新規な
製法に間する詳しくは、本発明は下記式(1) 但し式中1.Rは水素原子もしくはメチル基を示す、 で表わされる2−メチレン−6,6−ジメチル又は5,
6.6−ドリメチルシクロへキシルカルバルデヒドの新
規な製法に関する。
更に詳しくは、本発明はγ−イオノン及びγ−ダマセノ
ンの合成中間体として有用な上記式(1)に包含される
下記式(1) −1 で表わされる2−メチレン−6,6−シメチルシクロへ
キシルカルバルデヒド(以下γ−シクロシトラールと云
う)ならびにγ−イロンの合成中間体として有用な上記
式(1)に包含される下記式で表わされる2−メチレン
−5,6,6−)リメチルシクロへキシルカルバルデヒ
ド(以下γ−メチルシクロシトラールと云う)の新規な
製法に間する。
ンの合成中間体として有用な上記式(1)に包含される
下記式(1) −1 で表わされる2−メチレン−6,6−シメチルシクロへ
キシルカルバルデヒド(以下γ−シクロシトラールと云
う)ならびにγ−イロンの合成中間体として有用な上記
式(1)に包含される下記式で表わされる2−メチレン
−5,6,6−)リメチルシクロへキシルカルバルデヒ
ド(以下γ−メチルシクロシトラールと云う)の新規な
製法に間する。
(b)従来の技術
従来、上記式(1)に包含される上記式(1)−1のγ
−シクロシトラールの製法に関して、以下の様な提案が
知られている。[テトラヘドロンレター:Tetrah
edron Letter25、(32)3457〜
3458 (1984)] N (イ) 6口)この提
案によれば、上記式(イ)で表わされる2−(2−メチ
レン−6,6−シメチルシクロヘキサンー1−イル)−
N、N−ジメチルアセトニトリルを水−ジエチルエーテ
ル−テトラヒドロフラン中、硝酸銀と接触反応させるこ
とにより上記式(ロ)のγ−シクロシトラールを合成す
る方法が記載されている。
−シクロシトラールの製法に関して、以下の様な提案が
知られている。[テトラヘドロンレター:Tetrah
edron Letter25、(32)3457〜
3458 (1984)] N (イ) 6口)この提
案によれば、上記式(イ)で表わされる2−(2−メチ
レン−6,6−シメチルシクロヘキサンー1−イル)−
N、N−ジメチルアセトニトリルを水−ジエチルエーテ
ル−テトラヒドロフラン中、硝酸銀と接触反応させるこ
とにより上記式(ロ)のγ−シクロシトラールを合成す
る方法が記載されている。
(c)発明が解決しようとする問題点
上記従来提案において使用する硝酸銀は、非常に高価な
試薬であり、工業的生産方法には不向きである。加えて
硝酸銀は、公害の恐れがありその取り扱いには十分注意
する必要があり、工業的方法には不適当である。
試薬であり、工業的生産方法には不向きである。加えて
硝酸銀は、公害の恐れがありその取り扱いには十分注意
する必要があり、工業的方法には不適当である。
(d)問題点を解決するための手段
本発明者らは、上述のごとき欠点乃至不利益を有する硝
酸銀に代わる触媒について鋭意研究を行ってきた。
酸銀に代わる触媒について鋭意研究を行ってきた。
その結果、下記式(2)
但し式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、R1及び
R2はそれぞれ低級アルキル基を示すか、或いはR1と
R2とが一緒になって低級アルキレン基を示す、 で表わされる2−(2−メチレン−6,6−ジメチル又
は5,6.6−)ツメチルシクロヘキサン−1−イル)
−N、N−ジアルキルもしくはアルキレンアセトニトリ
ルを有81酸と接触反応せしめることにより、2重結合
の異性化を全く伴うことなく好純度、好収率で下記式(
1) 但し式中、Rは水素原子もしくはメチル基を示す、 で表わされる2−メチレン−6,6−ジメチル又は5,
6.6−)リメチルシクロへキシルカルバルデヒドに容
易に変換できることを発見した。
R2はそれぞれ低級アルキル基を示すか、或いはR1と
R2とが一緒になって低級アルキレン基を示す、 で表わされる2−(2−メチレン−6,6−ジメチル又
は5,6.6−)ツメチルシクロヘキサン−1−イル)
−N、N−ジアルキルもしくはアルキレンアセトニトリ
ルを有81酸と接触反応せしめることにより、2重結合
の異性化を全く伴うことなく好純度、好収率で下記式(
1) 但し式中、Rは水素原子もしくはメチル基を示す、 で表わされる2−メチレン−6,6−ジメチル又は5,
6.6−)リメチルシクロへキシルカルバルデヒドに容
易に変換できることを発見した。
そして、上記式(2)化合物は、例えば、下記式但し式
中、Rは水素原子又はメチル基を示す、 で表わされるそれ自体合成容易な1− (3,3−ジメ
チル又は3,3.4−)ツメチル−1−シクロヘキセン
−1−イル)メチルアルコールを、有機溶媒中、塩基の
存在下に、ハロゲン化剤、メシル化剤もしくはトシル化
剤と反応させて形成できる下記式(3) 但し式中、Xはハロゲン、例えば、Br。
中、Rは水素原子又はメチル基を示す、 で表わされるそれ自体合成容易な1− (3,3−ジメ
チル又は3,3.4−)ツメチル−1−シクロヘキセン
−1−イル)メチルアルコールを、有機溶媒中、塩基の
存在下に、ハロゲン化剤、メシル化剤もしくはトシル化
剤と反応させて形成できる下記式(3) 但し式中、Xはハロゲン、例えば、Br。
C1、■、メシルオキシ基(OMs)もしくはトシルオ
キシ(OTs)を示し、Rは上記したと同義、 で表わされる1−(3,3−ジメチル又は3,3.6−
ドリメチルー1−シクロヘキセン−1−イル)メチレン
ハライドもしくはメシレート又はトシレートを、有機溶
媒中、塩基の存在下に、N。
キシ(OTs)を示し、Rは上記したと同義、 で表わされる1−(3,3−ジメチル又は3,3.6−
ドリメチルー1−シクロヘキセン−1−イル)メチレン
ハライドもしくはメシレート又はトシレートを、有機溶
媒中、塩基の存在下に、N。
N−ジ低級アルキルもしくは低級アルキレン−アミノア
セトニトリルと反応させて容易に得ることができる。
セトニトリルと反応させて容易に得ることができる。
従って、本発明の目的は、香料物質として価値の高いγ
−イオノン、γ−イロン及びγ−ダマスコンの合成中間
体として有用な上記式(1)化合物を、上述のごとき不
利益乃至欠点のない製造方法を提供するにある。
−イオノン、γ−イロン及びγ−ダマスコンの合成中間
体として有用な上記式(1)化合物を、上述のごとき不
利益乃至欠点のない製造方法を提供するにある。
本発明の上記目的及び更に多くの他の目的ならびに利点
は、以下の記載から一層明らかになるであろう。
は、以下の記載から一層明らかになるであろう。
上記式(1)化合物の合成例の一態様を工程図で示すと
、以下の様に表わすことができる。
、以下の様に表わすことができる。
上記態様を例に、式(1)化合物の合成について更に詳
しく説明する。
しく説明する。
上記式(3)の1−(3,3−ジメチル又は3.3..
4−)ツメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メチ
レンハライドもしくはメシレート又はトシレートの合成
は、上記式(4)の1−(3,3−ジメチル又は3,3
.4−トリメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メ
チルアルコールを好ましくは有機溶媒中、塩基の存在下
に、ハロゲン化剤、メシル化剤もしくはトシル化剤と反
応させることにより容易に行うことができる。
4−)ツメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メチ
レンハライドもしくはメシレート又はトシレートの合成
は、上記式(4)の1−(3,3−ジメチル又は3,3
.4−トリメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メ
チルアルコールを好ましくは有機溶媒中、塩基の存在下
に、ハロゲン化剤、メシル化剤もしくはトシル化剤と反
応させることにより容易に行うことができる。
反応は、例えば、約−78°〜約+150°C程度の温
度条件下に、例えば、約、1〜約5時間程度の反応時間
で好ましく行うことができる。
度条件下に、例えば、約、1〜約5時間程度の反応時間
で好ましく行うことができる。
反応に使用する有機溶媒の具体例としては、例えば、エ
ーテル、テトラヒドロフランなどのごときエーテル類を
例示することができる。これら有機溶媒の使用量には、
格別の制約はなく適宜に選択すれば良いが、式(4)化
合物に対して、例えば、約1〜約10重量倍程度の範囲
の使用量を好ましく例示することができる。又、反応に
使用するハロゲン化剤、メシル化剤、トシル化剤の例と
しては、例えば三臭化リン、三塩化リン、メタンスルホ
ニルクロリド、P−)ルエンスルホニルクロリドなどを
あげることができる。上記工程図の例では、ハロゲン化
剤として三臭化リンを用いた例で示されている。これら
剤の使用量も適宜に選択変更できるが、例えば、上記式
(4)化合物に対して、約1〜約3モル程度の範囲の使
用量を好ましく例示することができる。更に塩基として
は、例えばピリジン、トリエチルアミンのごとき有機塩
基を例示することができる。上記工程図の例では、とリ
ジンを用いた例で示されている。これら塩基の使用量は
適宜に選択すればよく、例えば、式(4)化合物に対し
て、約1〜約5モル程度の範囲の使用量を好ましくあげ
ることができる。
ーテル、テトラヒドロフランなどのごときエーテル類を
例示することができる。これら有機溶媒の使用量には、
格別の制約はなく適宜に選択すれば良いが、式(4)化
合物に対して、例えば、約1〜約10重量倍程度の範囲
の使用量を好ましく例示することができる。又、反応に
使用するハロゲン化剤、メシル化剤、トシル化剤の例と
しては、例えば三臭化リン、三塩化リン、メタンスルホ
ニルクロリド、P−)ルエンスルホニルクロリドなどを
あげることができる。上記工程図の例では、ハロゲン化
剤として三臭化リンを用いた例で示されている。これら
剤の使用量も適宜に選択変更できるが、例えば、上記式
(4)化合物に対して、約1〜約3モル程度の範囲の使
用量を好ましく例示することができる。更に塩基として
は、例えばピリジン、トリエチルアミンのごとき有機塩
基を例示することができる。上記工程図の例では、とリ
ジンを用いた例で示されている。これら塩基の使用量は
適宜に選択すればよく、例えば、式(4)化合物に対し
て、約1〜約5モル程度の範囲の使用量を好ましくあげ
ることができる。
反応終了後は、例えば、有機層を水洗浄、中和など後処
理し、溶媒を留去した後、蒸留、カラムクロマトのごと
き手段を用いて精製し、式(3)化合物を容易に得るこ
とができる。
理し、溶媒を留去した後、蒸留、カラムクロマトのごと
き手段を用いて精製し、式(3)化合物を容易に得るこ
とができる。
例えば、上述の様にして合成することのできる上記式(
3)化合物から上記式(2)で表わされる2−(2−メ
チレン−6,6−ジメチル又は5.6.6−)ツメチル
シクロヘキサン−l−イル)−N、N−ジアルキルもし
くはアルキレンアセトニトリルを合成するには、例えば
、式(3)化合物を有11溶媒中、炭酸カルシウム、炭
酸ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化リチウム、水酸化カリウムなどのごとき塩基の存在下
にN、N−ジ低級アルキルもしくは低級アルキレン−ア
ミノアセトニトリルと反応させて容易に合成することが
できる。
3)化合物から上記式(2)で表わされる2−(2−メ
チレン−6,6−ジメチル又は5.6.6−)ツメチル
シクロヘキサン−l−イル)−N、N−ジアルキルもし
くはアルキレンアセトニトリルを合成するには、例えば
、式(3)化合物を有11溶媒中、炭酸カルシウム、炭
酸ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化リチウム、水酸化カリウムなどのごとき塩基の存在下
にN、N−ジ低級アルキルもしくは低級アルキレン−ア
ミノアセトニトリルと反応させて容易に合成することが
できる。
反応は、例えば約−78°〜約+200’ C程度の範
囲の温度条件下、例えば約0.5〜48時間程度の反応
時間で好ましく行うことができる。
囲の温度条件下、例えば約0.5〜48時間程度の反応
時間で好ましく行うことができる。
上記反応に際して使用するN、N−ジ低級アルキルもし
くは低級アルキレン−アミノアセトニトリルの使用量と
しては、上記式(3)化合物に対して、例えば、約1〜
約2モル程度の範囲の使用量を好ましくあげることがで
きる。又、塩基の使用量としては、上記式(3)化合物
に対して、例えば、約0.1モル−約10モル程度の範
囲の使用量を好ましくあげることができる。又、有8!
!溶媒としては、ジメチルフォルムアルデヒド、テトラ
ヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド
、トルエン、エーテル、ジオキサンなどが例示できる。
くは低級アルキレン−アミノアセトニトリルの使用量と
しては、上記式(3)化合物に対して、例えば、約1〜
約2モル程度の範囲の使用量を好ましくあげることがで
きる。又、塩基の使用量としては、上記式(3)化合物
に対して、例えば、約0.1モル−約10モル程度の範
囲の使用量を好ましくあげることができる。又、有8!
!溶媒としては、ジメチルフォルムアルデヒド、テトラ
ヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド
、トルエン、エーテル、ジオキサンなどが例示できる。
これら有機溶媒の使用量には特別の制限はなく、適宜選
択すればよく、式(3)化合物に対して、例えば、約1
〜約100重量倍程一度の範囲の使用量を好ましく例示
することができる。反応終了後は、例えば、ヘキサン、
エーテルのごとき有機溶媒で反応生成物を抽出し、水洗
、乾燥し、そのまま次の加水分解を行ってもよいし又、
カラムクロマト、蒸留のごとき手段で精製して、式(2
)化合物を容易に得ることができる。
択すればよく、式(3)化合物に対して、例えば、約1
〜約100重量倍程一度の範囲の使用量を好ましく例示
することができる。反応終了後は、例えば、ヘキサン、
エーテルのごとき有機溶媒で反応生成物を抽出し、水洗
、乾燥し、そのまま次の加水分解を行ってもよいし又、
カラムクロマト、蒸留のごとき手段で精製して、式(2
)化合物を容易に得ることができる。
本発明の式(1)で表わされるγ−シクロシトラール又
はγ−メチルシクロシトラールは、例えば、上述のよう
にして得ることのできる式(2)化合物を、有機酸と接
触させることにより容易に合成することができる。
はγ−メチルシクロシトラールは、例えば、上述のよう
にして得ることのできる式(2)化合物を、有機酸と接
触させることにより容易に合成することができる。
反応は、好ましくは溶媒中で行われ、例えば、水、テト
ラヒドロフラン、エーテルなどのごとき溶媒を好ましく
利用できる。これら溶媒は、任意の゛割合で混合して用
いることができる。反応温度および反応時間は、使用す
る溶媒によって適宜に選択することができるが、例えば
、約O°〜約100°C程度の反応温度及び、例えば、
約0.5〜約48時間程度の反応時間を例示することが
できる。有機溶媒の使用量としては、例えば式(2)化
合物に対して、約1〜約100重量倍程度の範囲の使用
量を好ましくあげることができる。
ラヒドロフラン、エーテルなどのごとき溶媒を好ましく
利用できる。これら溶媒は、任意の゛割合で混合して用
いることができる。反応温度および反応時間は、使用す
る溶媒によって適宜に選択することができるが、例えば
、約O°〜約100°C程度の反応温度及び、例えば、
約0.5〜約48時間程度の反応時間を例示することが
できる。有機溶媒の使用量としては、例えば式(2)化
合物に対して、約1〜約100重量倍程度の範囲の使用
量を好ましくあげることができる。
上記反応に用いる有機酸としては、例えば、シュウ酸、
ギ酸、などを好ましくあげることができる。これら有機
酸の使用量としては、式(2)化合物に対して、例えば
、約1〜約5モル程度の範囲を好ましく例示することが
できる。
ギ酸、などを好ましくあげることができる。これら有機
酸の使用量としては、式(2)化合物に対して、例えば
、約1〜約5モル程度の範囲を好ましく例示することが
できる。
反応終了後は、有機層を食塩水で洗浄し、溶媒を留去し
、例えば、蒸留、カラムクロマトのごとき手段で精製し
て、式(1)化合物を容易に合成することができる。
、例えば、蒸留、カラムクロマトのごとき手段で精製し
て、式(1)化合物を容易に合成することができる。
例えば、上述の様にして合成することのできる式(1)
化合物を利用して、γ−イオノン及びγ−ダマスコンの
合成方法の1例を、製造工程図で示すと例えば下記の様
に表わすことができる。
化合物を利用して、γ−イオノン及びγ−ダマスコンの
合成方法の1例を、製造工程図で示すと例えば下記の様
に表わすことができる。
7−10none
H
上記工程図に従って、後に参考例に示すようにしてγ−
イオノン及びγ−ダマセノンが容易に合成することがで
きる。
イオノン及びγ−ダマセノンが容易に合成することがで
きる。
次に実施例により本発明方法実施の数例について更に詳
しく説明する。尚、参考のために、式(2)化合物の製
造例についても一緒に記載しである0 (e)実施例 γ−シクロシトラール及びγ−メチルシクロシトラール
の合成。
しく説明する。尚、参考のために、式(2)化合物の製
造例についても一緒に記載しである0 (e)実施例 γ−シクロシトラール及びγ−メチルシクロシトラール
の合成。
(1)1− (3,3−ジメチル−1−シクロヘキセン
−1−イル)メチレンプロミド式(3%式% −1−イル)メチルアルコニル式(4)14g(0,1
モル)をピリジン1gとともに乾燥エーテル100m1
中に仕込む。氷水浴で冷却内温を約10〜約1540に
保つ。同温度で三臭化リン10.8g (0,04モル
)を滴下する。滴下終了後、1時間かくはんを続は一夜
放置する。
−1−イル)メチレンプロミド式(3%式% −1−イル)メチルアルコニル式(4)14g(0,1
モル)をピリジン1gとともに乾燥エーテル100m1
中に仕込む。氷水浴で冷却内温を約10〜約1540に
保つ。同温度で三臭化リン10.8g (0,04モル
)を滴下する。滴下終了後、1時間かくはんを続は一夜
放置する。
反応液を氷水中に注入、エーテル層を分離、食塩水洗浄
、重ソー水で中和、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮す
る。シリカゲルカラムクロマトで精製を行う。
、重ソー水で中和、硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮す
る。シリカゲルカラムクロマトで精製を行う。
Rf=0.729 (n−ヘキサン/酢エチ=3/l
ワコーゲルC−200) 16 g、収率;70%。
ワコーゲルC−200) 16 g、収率;70%。
(2)2− (2−メチレン−6,6−シメチルシクロ
ヘキサンー1−イル)N、N−ジメチルアセトニトリル
式(2)の合成。
ヘキサンー1−イル)N、N−ジメチルアセトニトリル
式(2)の合成。
式(3)2.1g (10ミリモル) 、N、N−ジメ
チルアミノアセトニトリル0.84g (10ミリモル
)炭酸カルシウム2.2g (16ミリモル)をDMF
12mlとともに50 m lフラスコに仕込みアルゴ
ン下24時間、室温下撹拌反応する。終了後n−ヘキサ
ン100m1を加え水洗浄を行う。硫酸マグネシウム乾
燥処理、濃縮後シリカゲルクロマトで精製することによ
りRf=0゜600 (n−ヘキサン/酢エチ=3 /
1 ’)を有する式(2)1.22gを得た。収率;8
0%。
チルアミノアセトニトリル0.84g (10ミリモル
)炭酸カルシウム2.2g (16ミリモル)をDMF
12mlとともに50 m lフラスコに仕込みアルゴ
ン下24時間、室温下撹拌反応する。終了後n−ヘキサ
ン100m1を加え水洗浄を行う。硫酸マグネシウム乾
燥処理、濃縮後シリカゲルクロマトで精製することによ
りRf=0゜600 (n−ヘキサン/酢エチ=3 /
1 ’)を有する式(2)1.22gを得た。収率;8
0%。
(3)1− (3,3,4−)リフチル−1−シクロヘ
キセン−1−イル)メチレンプロミドの式(3)の合成
。
キセン−1−イル)メチレンプロミドの式(3)の合成
。
式(4)のアルコールとして、1− (3,3゜4−ト
リメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メチルアル
コールを用いた他は、実施例(1)と同様に行って、式
(3)化合物を18.3g得た。収率;80%。
リメチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メチルアル
コールを用いた他は、実施例(1)と同様に行って、式
(3)化合物を18.3g得た。収率;80%。
(4)2− (2−メチレン−5,6,6−)ツメチル
シクロヘキセン−1−イル) −N、 N−ジメチルア
セトニトリル式(3)の合成。
シクロヘキセン−1−イル) −N、 N−ジメチルア
セトニトリル式(3)の合成。
式(3)のプロミドとして、1− (3,3,4−トリ
メチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メチレンプロ
ミドを用いた他は、実施例(2)と同様に行って、式(
2)化合物を1.8g得た。
メチル−1−シクロヘキセン−1−イル)メチレンプロ
ミドを用いた他は、実施例(2)と同様に行って、式(
2)化合物を1.8g得た。
収率;82%。
(5)γ−シクロシトラール式(1)−1の合成。
フラスコに2−(2−メチレン−6,6−シメチルシク
ロヘキセンー1−イル)−N、N−ジメチルアセトニト
リル10.3g (0,05モル)、98%ギ酸9.2
g (0,2モル)、水31g、テトラヒドロフラン3
1gを仕込み、室温で30分間撹拌後、加熱し70°C
(還流)で20分間撹拌し、冷却後エーテル抽出し有j
aNを食塩水洗浄、重ソ水洗浄、食塩水洗浄を行い、硫
酸マグネシウムで乾燥処理し、エーテルを留去し減圧下
に蒸留して、沸点80〜85°Cを有する式(1)−1
化合物を4.9g得た。収率:64%。
ロヘキセンー1−イル)−N、N−ジメチルアセトニト
リル10.3g (0,05モル)、98%ギ酸9.2
g (0,2モル)、水31g、テトラヒドロフラン3
1gを仕込み、室温で30分間撹拌後、加熱し70°C
(還流)で20分間撹拌し、冷却後エーテル抽出し有j
aNを食塩水洗浄、重ソ水洗浄、食塩水洗浄を行い、硫
酸マグネシウムで乾燥処理し、エーテルを留去し減圧下
に蒸留して、沸点80〜85°Cを有する式(1)−1
化合物を4.9g得た。収率:64%。
(6)γ−シクロシトラール式(1)−1の合成。
実施例(5)において、ギ酸の代りにシュウ酸を用いた
他は、実施例(5)同様に行って式(1)−1化合物を
6.1g得た。収率;82%。
他は、実施例(5)同様に行って式(1)−1化合物を
6.1g得た。収率;82%。
γ−メチルシクロシトラール式(1)−2の合成。
2−(2−メチレン−5,6,6−)ツメチルシクロヘ
キサン−1−イル)=N、N−ジメチルアセトニトリル
を用いた他は、実施例(5)同様に行って、式(1)−
2化合物を6.9gを得た、収率;83%。
キサン−1−イル)=N、N−ジメチルアセトニトリル
を用いた他は、実施例(5)同様に行って、式(1)−
2化合物を6.9gを得た、収率;83%。
(7)γ−メチルシクロシトラール式(1)−2の合成
。
。
実施例(5)において、ギ酸の代りにシュウ酸を用いた
他は、実施例(5)と同様に行って式(1)−2化合物
を7g得た。収率;85%。
他は、実施例(5)と同様に行って式(1)−2化合物
を7g得た。収率;85%。
(f)参考例
(1)γ−イオノンの合成。
フラスコにアセチリアントリフェニルホスホラン20.
9g (65,8ミリモル)とトルエン150gを仕込
み遺留する。これにγ−シクロシトラール5g (32
,9ミリモル)を加え、更に18時間を行う、その後、
除々に冷却し、10〜15’Cまで冷却する。ホスホラ
ンを濾別し、結晶はトルエンで洗浄し、濾液と洗浄液を
エバポレータによりトルエンを回収し、残査にヘキサン
を加えホスフィンオキサイドを結晶化させ濾別する。
9g (65,8ミリモル)とトルエン150gを仕込
み遺留する。これにγ−シクロシトラール5g (32
,9ミリモル)を加え、更に18時間を行う、その後、
除々に冷却し、10〜15’Cまで冷却する。ホスホラ
ンを濾別し、結晶はトルエンで洗浄し、濾液と洗浄液を
エバポレータによりトルエンを回収し、残査にヘキサン
を加えホスフィンオキサイドを結晶化させ濾別する。
結晶は、ヘキサンで洗浄し口液を合わせエバポレータで
溶媒を回収する。得られた粗製をシリカゲルカラムクロ
マト(ヘキサン/エーテル=371)で精製して、γ−
イオノンを4.2g得た。収率;66%。
溶媒を回収する。得られた粗製をシリカゲルカラムクロ
マト(ヘキサン/エーテル=371)で精製して、γ−
イオノンを4.2g得た。収率;66%。
(2)γ−ダマスコンの合成。
(2)−11−(6,8−ジメチル−2−メチレンシク
ロヘキサン−1−イル)−3−ブテン−1−オールの合
成。
ロヘキサン−1−イル)−3−ブテン−1−オールの合
成。
金属マグネシウム1.2g (49,3ミリモル)、ア
リルクロライド3.02g (39,5ミリモル)、乾
燥テトラヒドロフラン20m1からグリニアール試薬を
調整する。この中にγ−シクロシトラール5g (32
,9ミリモル)をlO〜12’Cの反応温度で滴下する
。(81下時間15分)滴下終了後、1時間室温で撹拌
を続は反応を終了する。反応液を飽和アンモニア水溶液
中に注ぎ有81層を分離、水層をエーテル抽出し有機層
と合わせる。水洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶
媒を留去して目的化合物5.7gを得た。粗収率;89
%。
リルクロライド3.02g (39,5ミリモル)、乾
燥テトラヒドロフラン20m1からグリニアール試薬を
調整する。この中にγ−シクロシトラール5g (32
,9ミリモル)をlO〜12’Cの反応温度で滴下する
。(81下時間15分)滴下終了後、1時間室温で撹拌
を続は反応を終了する。反応液を飽和アンモニア水溶液
中に注ぎ有81層を分離、水層をエーテル抽出し有機層
と合わせる。水洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶
媒を留去して目的化合物5.7gを得た。粗収率;89
%。
(2)−21−CB、6−ジメテルー2−メチレンシク
ロヘキサン−1−イル)−3−ブテン−1−オンの合成
。
ロヘキサン−1−イル)−3−ブテン−1−オンの合成
。
参考例(2)−1で得られたアルコール5g(25,8
ミリモル)、アセトン45g中にジョーンズ試11j5
.7gを20〜25′″Cの温度に保ちながら、10分
間で滴下する。滴下終了後同温で更に30分間反応を続
ける。過剰の6価クロムをイソプロピルアルコールで還
元する。次にアルカリで硫酸を中和し、固形物を除き、
アセトンを留去する。残液にエーテルを加え、食塩水で
洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥して、エールテを留去す
る。粗製をシリカゲルカラムクロマト(ヘキサン/エー
ル=3/1)により精製して目的化合物3gを得た。収
率;60%。
ミリモル)、アセトン45g中にジョーンズ試11j5
.7gを20〜25′″Cの温度に保ちながら、10分
間で滴下する。滴下終了後同温で更に30分間反応を続
ける。過剰の6価クロムをイソプロピルアルコールで還
元する。次にアルカリで硫酸を中和し、固形物を除き、
アセトンを留去する。残液にエーテルを加え、食塩水で
洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥して、エールテを留去す
る。粗製をシリカゲルカラムクロマト(ヘキサン/エー
ル=3/1)により精製して目的化合物3gを得た。収
率;60%。
(2) −3γ−ダマスコンの合成。
参考例(2)−2で得られたケトン1.3g (6,7
ミリモル)、P−)ルエンスルホン酸0゜1g、トルエ
ン50 m lを仕込み、80@Cに加温、1時間反応
を行う。反応液をアルカリで中和し、硫酸マグネシウム
で乾燥し濃縮して、粗製1.6gを得た。この粗製物を
シリカゲルカラムクロマト(ヘキサン/エーテル=3/
1)で精製してγ−ダマスコン1.28gを得た。収率
;87%。
ミリモル)、P−)ルエンスルホン酸0゜1g、トルエ
ン50 m lを仕込み、80@Cに加温、1時間反応
を行う。反応液をアルカリで中和し、硫酸マグネシウム
で乾燥し濃縮して、粗製1.6gを得た。この粗製物を
シリカゲルカラムクロマト(ヘキサン/エーテル=3/
1)で精製してγ−ダマスコン1.28gを得た。収率
;87%。
(g)効果
従来、上記式(2)に包含される2−(2−メチレン−
6,6−シメチルシクロヘキサンーエーイル)−N、’
N−ジメチルアセトニトリルから、本発明の上記式(1
)に包含される上記式(1)−1のγ−シクロシトラー
ルを合成する方法において、試薬として2硝酸銀を使用
している。
6,6−シメチルシクロヘキサンーエーイル)−N、’
N−ジメチルアセトニトリルから、本発明の上記式(1
)に包含される上記式(1)−1のγ−シクロシトラー
ルを合成する方法において、試薬として2硝酸銀を使用
している。
この硝酸銀は、極めて高価であり工業的生産方法には適
さず、加えて公害の恐れがあり、上記式(1)化合物を
工業的に安価且つ容易に製造できない不利益乃至欠点が
ある。
さず、加えて公害の恐れがあり、上記式(1)化合物を
工業的に安価且つ容易に製造できない不利益乃至欠点が
ある。
しかしながら、本発明者らの方法による上記硝酸銀に代
えて、有8!酸を使用することにより、上記の不利益乃
至欠点を解消することができる。
えて、有8!酸を使用することにより、上記の不利益乃
至欠点を解消することができる。
外1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) 但し式中、Rは水素原子又はメチル基を示 し、R1及びR2はそれぞれ低級アルキル 基を示すか、或いはR1とR2が一緒にな つて低級アルキレン基を示す、 で表わされる2−(2−メチレンー6,6−ジメチル又
は5,6,6−トリメチルシクロヘキサン−1−イル)
−N,N−ジアルキルもしくは−アルキレンアセトニト
リルを、有機酸と接触反応せしめることを特徴とする下
記式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) 但し式中、Rは水素原子もしくはメチル基 を示す、 で表わされる2−メチレン−6,6−ジメチル又は5,
6,6−トリメチルシクロヘキシルカルバルデヒドの製
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19097485A JPH0611721B2 (ja) | 1985-08-31 | 1985-08-31 | 2−メチレン−6,6−ジメチル又は5,6,6−トリメチルシクロヘキシルカルバルデヒドの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19097485A JPH0611721B2 (ja) | 1985-08-31 | 1985-08-31 | 2−メチレン−6,6−ジメチル又は5,6,6−トリメチルシクロヘキシルカルバルデヒドの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6251637A true JPS6251637A (ja) | 1987-03-06 |
JPH0611721B2 JPH0611721B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=16266767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19097485A Expired - Lifetime JPH0611721B2 (ja) | 1985-08-31 | 1985-08-31 | 2−メチレン−6,6−ジメチル又は5,6,6−トリメチルシクロヘキシルカルバルデヒドの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0611721B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5118865A (en) * | 1990-03-26 | 1992-06-02 | Firmenich Sa | Cyclic ketones and their use as perfuming ingredients |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3046829U (ja) * | 1997-09-03 | 1998-03-24 | 有限会社上野屋美香園 | 綿 棒 |
CN108031476B (zh) * | 2017-11-24 | 2020-07-24 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种制备β-紫罗兰酮的催化剂及其制备方法及其用于制备β-紫罗兰酮的方法 |
-
1985
- 1985-08-31 JP JP19097485A patent/JPH0611721B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5118865A (en) * | 1990-03-26 | 1992-06-02 | Firmenich Sa | Cyclic ketones and their use as perfuming ingredients |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0611721B2 (ja) | 1994-02-16 |
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