JPH023793B2

JPH023793B2 -

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Publication number: JPH023793B2
Application number: JP56044140A
Authority: JP
Inventors: Atsuo Hasato; Takeshi Ju; Takeo Ooba; Toshio Tanaka; Noriaki Okamura; Kenzo Watanabe; Kyoshi Sakauchi; Seiji Kurozumi
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1981-03-27
Filing date: 1981-03-27
Publication date: 1990-01-24
Also published as: JPS57159777A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は４−ヒドロキシシクロペンテノン類及
びその製造法に関する。更に詳細には、本発明は
プロスタグランジンの合成中間体として有用であ
り、かつまた光学純度が100％である４（Ｒ）−又
は４（Ｓ）−ヒドロキシ−２−シクロペンテン−１
−オンを与える化合物としても有用な４−ヒドロ
キシシクロペンテノン類及びその製造法に関す
る。

しかして本発明によれば下記式〔〕で表わされる４−ヒドロキシシクロペンテノン
類、すなわち６，６−ジメチル−４−（４−オキ
ソシクロペンタ−２−エニルオキシ）−３−オキ
サビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンが提供
される。

特開昭54−130556号公報には、キラル原子を有
機残基中に含む新規なエーテル化合物として式で表わされるエーテル化合物あるいは式〔式中、R″は１〜６個の炭素原子を有するア
ルキル基、２〜６個の炭素原子を有するアルケニ
ル基、２〜６個の炭素原子を有するアルキニル基
又はシアノ基を表わす。〕で表わされるエーテル化合物が開示されている。
しかしながら本発明で提供される上記式〔〕で
表わされる４−ヒドロキシシクロペンテノン類に
関しては何ら記載されていない。本発明の４−ヒ
ドロキシシクロペンテノン類は上記公知のエーテ
ル化合物が農薬との中間体合成に有効ではある
が、医薬品としてのプロスタグランジン類の中間
体合成に利用できないのとは相違して、抗血小板
凝集作用、抗潰瘍作用等の優れた薬理作用を有す
るプロスタグランジン類化合物へ導びき得る中間
体として極めて有用なものである。

本発明の上記式〔〕で表わされる４−ヒドロ
キシシクロペンテノン類は、その分子中に不整炭
素原子を有するが、本発明はこれらの不整炭素原
子に基づくすべての光学異性体、あるいはそれら
の任意の割合の混合物を包含する。これらのなか
でもプロスタグランジン類の中間体として用いる
ことを考慮すれば、特に（1R，5S）−６，６−ジ
メチル−３−オキサ−４（Ｒ）−〔１（Ｒ）−４−オ
キソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ
〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンあるいは（1S，5R）
−６，６−ジメチル−３−オキサ−４（Ｓ）−〔１
（Ｒ）−４−オキソ−２−シクロペンテニルオキ
シ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンが好
ましい。これらの４−ヒドロキシシクロペンテノ
ン類は例えば以下のフローシートで示されるよう
に、天然型の立体配位を有するプロスタグランジ
ン類に導くことができる。

このフローシートに示された反応は、特開昭51
−166号公報等が参考とされる。このフローシー
トからも明らかなように本発明の４−ヒドロキシ
シクロペンテノン類はその４位の水酸基が特定の
保護基すなわちラクトン化合物の残基によつて保
護された化合物として理解することができる。そ
してかかるラクトン化合物によつて保護された本
発明の４−ヒドロキシシクロペンテノン類は、プ
ロスタグランジン類の中間体として用いた時に、
高収率で目的とする化合物を与え、またそのラク
トン化合物の残基の脱離は、例えばメタノール−
パラトルエンスルホン酸ピリジン塩という極めて
温和な条件で行うことができる。また、フローシ
ート１の化合物(4)において15−位の保護基が例え
ばｔ−ブチルジメチルシリル基のように11−位の
保護基と異なる場合には、脱保護の条件を適当に
選ぶことによつて11−位のみを選択的に脱保護で
きるという利点もかねそなえるものである。この
ような意味からも本発明の４−ヒドロキシシクロ
ペンテノン類は極めて価値のある化合物である。

他方、本発明の４−ヒドロキシシクロペンテノ
ン類を、ただちにジオキサン−水という極めて温
和な条件で脱保護して例えば光学活性な４（Ｒ）−
ヒドロキシシクロペンテノンに導くこともでき、
かくして得られる４（Ｒ）−ヒドロキシシクロペン
テノンと例えばｔ−ブチルジメチルシリルクロラ
イドとをヘキサメチルホスホリツクアミドの如き
塩基の存在下で反応することによつて、その４位
がトリアルキルシリル基で保護された同様に、プ
ロスタグランジンの中間体として有用な４（Ｒ）−
ヒドロキシシクロペンテノンに変換することもで
きる。この反応系を図示すれば次のようになる。

上記フローシート−２の方法によつて、本発明
の４−ヒドロキシシクロペンテノン類は、その４
位の水酸基がシリル基で保護された化合物に変換
されるが、もちろん前述した如く、本発明の４−
ヒドロキシシクロペンテノン類をそのままプロス
タグランジン類の合成中間体として使用すること
が可能であり、該中間体は前述した如き利点を有
することからかかる方法は効率のよい製造法とい
い得るものである。それ故にかかる優れた製造法
に用い得る化合物としては本発明の４−ヒドロキ
シシクロペンテノン類は有用な化合物である。

しかして本発明の４−ヒドロキシシクロペンテ
ノン類は下記式〔〕で表わされる４−ヒドロキシシクロペンテノンと
下記式〔〕〔式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表
わす。〕で表わされるラクトン類とを酸剤の存在下にある
いは脱水法により反応せしめることによつて製造
される。

ここで用いられる原料化合物、４−ヒドロキシ
シクロペンテノンは本発明者らが別途に提案した
（特願昭54−163510（特公昭62−28935号公報参
照））如き方法によつて極めて簡便に得られる。
また他方の原料であるラクトン類は例えば特公昭
46−24695号公報記載の方法によつて得られる。
またかかるラクトン化合物はその分子中に不整炭
素原子を有するが、これらの不整炭素原子に基づ
くすべての光学異性体あるいはそれらの任意の割
合の混合物を包含する。ここで上記式〔〕のラ
クトン類においてＲは水素原子はメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基等の低級アルキル基
を表わす。かかるラクトン類のなかでも、光学活
性な目的化合物を得るという点において、特に
（1R，5S）−６，６−ジメチル−４（Ｒ）−ヒドロ
キシ−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−
２−オン，（1S，5R）−６，６−ジメチル−４
（Ｓ）−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−２−オンが好ましい。

これら化合物を反応せしめる際に用いる酸剤と
しては、強酸性イオン交換樹脂やパラトルエンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、カンフアースルホ
ン酸、硫酸、塩酸、シフツ化ホウ素などの酸性化
合物またはそのピリジン塩などが挙げられる。し
かしながら式〔〕で示される４−ヒドロキシシ
クロペンテノンは強い酸性条件下に長くおくと分
解しやすい性質を有しているため、これらのなか
でも特に、パラトルエンスルホン酸ピリジン塩、
メタンスルホン酸ピリジン塩、カンフアースルホ
ン酸ピリジン塩などの弱酸性化合物が好ましい。
脱水法としては共沸傾しや法を用いるかまたは脱
水剤を用いるが脱水剤としては例えば、硫酸マグ
ネシウム、モレキユラーシーブ、活性無水硫酸カ
ルシウムなどが好ましく挙げられる。

本発明の製造法にあつては、反応せしめる際の
触媒は特に弱酸性化合物が好ましく、かかる触媒
を用いることによつて目的とする４−ヒドロキシ
シクロペンテノン類を高収率で得ることができ
る。このように酸性の弱い化合物を用いることに
よつて、あるいは脱水法によつて初めて高収率で
目的化合物を得ることができ、これは本発明の製
造法の特徴の１つである。そしてこのように、酸
性の弱い化合物を用いることによつて反応を行い
得るということは工業的な製造プロススにおいて
は大きな利点といい得るものである。

かかる触媒の使用量は４−ヒドロキシシクロペ
ンテノンに対して0.01当量から１当量であり、特
に0.1当量から0.3当量が好ましい。また上記式
〔〕のラクトン類の使用量は４−ヒドロキシシ
クロペンテノンに対して、当量から２当量であ
り、特に1.2当量から1.3当量が好ましい。

反応せしめる際の溶媒としては例えば、エーテ
ル、テトラヒドロフラン、アセトン、クロロホル
ム、ベンゼン、トルエン、キシレンなど一般的な
有機溶媒が用いられるが好ましくはベンゼン、ト
ルエンである。

反応温度は、０℃から150℃であり好ましくは
室温から90℃である。

反応時間は、用いる触媒や反応温度によつて異
なるが、通常５分から120時間であり好ましくは
２時間から４時間である。

反応終了後、目的化合物を得るには通常の溶剤
からの晶出あるいはクロマトグラフイーによる分
離によつて行うことができる。そして原料化合物
として光学活性なラクトン類すなわち、例えば
（1R，5S）−６，６−ジメチル−４−ヒドロキシ
−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−
オンあるいは（1S，5R）−６，６−ジメチル−４
−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘ
キサン−２−オンを用い、他方の原料として光学
不活性な４−ヒドロキシシクロペンテノンを用い
た場合には、得られる目的化合物は上記した如き
晶出あるいはクロマトグラフイー等によつて上記
式〔〕の４−ヒドロキシシクロペンテノン類の
シクロペンテノン骨格の4′−位の水酸基が結合し
た炭素原子に相当する不整炭素原子のジアステレ
オマーすなわち、（1R，5S）−６，６−ジメチル
−３−オキサ−４（Ｒ）−〔１（Ｒ）−４−オキソ−
２−シクロペンテニル〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキ
サン−２−オンと（1R，5S）−６，６−ジメチル
−３−オキサ−４（Ｒ）〔１（Ｓ）−４−オキソ−２
−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−２−オンとを、あるいは（1S，5R）−
６，６−ジメチル−３−オキサ−４（Ｓ）〔１（Ｒ）
−４−オキソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビ
シクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンと（1S，5R）
−６，６−ジメチル−３−オキサ−４（Ｓ）〔１
（Ｓ）−４−オキソ−２−シクロペンテニルオキ
シ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンとを
それぞれ分離することが可能である。そしてかか
る分類は光学収率100％で行うことが可能であり、
これは本発明の大きな特徴の１つである。

かかる分離方法は具体的には、蒸留、再結晶や
適当な溶媒を用いたシリカゲルクロマトグラフイ
ー、アルミナカラムクロマトグラフイー、ドライ
カラムクロマトグラフイー、液体クロマトグラフ
イー、薄層クロマトグラフイーなどがあるが好ま
しくはカラムクロマトグラフイーである。

このような分離によつて、前述した如く天然型
のプロスタグランジン類に導き得る化合物、
（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキサ−４
（Ｒ）−〔１（Ｒ）−４−オキソ−２−シクロペンテ
ニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−
オンあるいは（1S，5R）−６，６−ジメチル−３
−オキサ−（4S）〔１（Ｒ）−４−オキソ−２−シ
クロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキ
サン−２−オンが極めて容易に得られる。そして
またかかる化合物は、前述した如くその４位の水
酸基が保護された４−ヒドロキシシクロペンテノ
ン類と理解され、それ故これをジオキサン−水と
いう温和な条件で脱保護することによつて、前述
した如く光学純度100％の４（Ｒ）−ヒドロキシシ
クロペント−２−エン−１−オンが得られる。

そしてかかる製造法は、容易に入手し得る４−
ヒドロキシシクロペンテノン類よりその光学活性
体を製造する方法であつて極めて価値のあるもの
である。

以上に詳述した如く、本発明で提供される４−
ヒドロキシシクロペンテノンはプロスタグランジ
ン類の中間体として極めて有用なものであり、ま
たかかる化合物は温和な条件によつてきわめて容
易に製造し得るものである。

以下本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。

実施例１（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキサ−
４（Ｒ）−〔１（Ｓ）−４−オキソ−２−シクロペ
ンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン
−２−オンと（1R，5S）−６，６−ジメチル−
３−オキサ−４（Ｒ）〔１（Ｒ）−４−オキソ−２
−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−２−オンとの混合物の合成（1R，5S）−６，６−ジメチル−４（Ｒ）−ヒド
ロキシ−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン
−２−オン8.6ｇ（60.6m mol）および４−ヒド
ロキシ−２−シクロペンテン−１−オン7.7ｇ
（78.6m mol）を90mlのベンゼンにとかし、
PPTS（ピリジニウムパラトルエンスルホネート）
３ｇ（12m mol）を加え、この混合物を加熱環
流する。生成した水を共沸傾しや系によりとりの
ぞきながら４時間反応させる。反応後溶媒を減圧
下留去し、酢酸エチルを加え、水により洗浄する
ことによりPPTSをのぞき、乾燥後、溶媒を減圧
下留去することにより、（1R，5S）−６，６−ジ
メチル−３−オキサ−４（Ｒ）−〔１（Ｓ）−４−オ
キソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ
〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンと（1R，5S）−６，
６−ジメチル−３−オキサ−４（Ｒ）〔１（Ｒ）−４
−オキソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシク
ロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンとの混合物13.1ｇ
を得る。

同様の方法により、（1S，5R）−６，６−ジメ
チル−４（Ｓ）−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ
〔3.1.0〕ヘキサン−２−を出発物として（1S，
5R）−６，６−ジメチル−３−オキサ−４（Ｓ）−
〔１（Ｓ）−４−オキソ−２−シクロペンテニルオ
キシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンと
（1S，5R）−６，６−ジメチル−３−オキサ−４
（Ｓ）−〔１（Ｒ）−４−オキソ−２−シクロペンテ
ニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−
オンの混合物を得ることが出来る。

実施例２（1S，5R）−６，６−ジメチル−３−オキサ−
４（Ｓ）−〔１（Ｓ）−４−オキソ−２−シクロペ
ンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン
−２−オンと（1S，5R）−６，６−ジメチル−
３−オキサ−４（Ｓ）−〔１（Ｒ）−４−オキソ−
２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ
〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンの混合物の合成（1S，5R）−６，６−ジメチル−４（Ｓ）−ヒド
ロキシ−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン
−２−オン1.18ｇ（8.3m mol）および４−ヒド
ロキシ−２−シクロペンテン−１−オン1.06ｇ
（10.8m mol）を20mlのベンゼンにとかし、パラ
トルエンスルホン酸30mg（0.15m mol）を加え、
この混合物を加熱環流する。生成した水を共沸傾
しや系によりとりのぞきながら３時間半反応させ
る。反応後トリエチルアミン43μを加え、反応
溶媒を減圧下留去し、酢酸エチルを加えて、水に
より洗浄する。溶媒を乾燥後、減圧下留去するこ
とにより、（1S，5R）−６，６−ジメチル−３−
オキサ−４（Ｓ）−〔１（Ｓ）−４−オキソ−２−シ
クロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキ
サン−２−オンと（1S，5R）−６，６−ジメチル
−３−オキサ−４（Ｓ）−〔１（Ｒ）−４−オキソ−
２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−２−オンの混合物1.8ｇを得る。

実施例３実施例２と同様の混合物の合成(1) （1S，5R）−６，６−ジメチル−４（Ｓ）−ヒド
ロキシ−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン
−２−オン410mg（2.9m mol）および４−ヒドロ
キシ−２−シクロペンテン−１−オン360mg
（3.7m mol）を10mlのベンゼンにとかし、パラト
ルエンスルホン酸10mg（0.05m mol）を加え、さ
らにモレキユラーシーブ4A2ｇを加え、室温にて
１日撹拌する。反応後モレキユラーシープを過
によりとりのぞき、さらにトリエチルアミンを加
えることによりパラトルエンスルホン酸を中和
し、減圧下溶媒の留去を行なう。酢酸エチルを加
え、水による洗浄後、未反応の（1S，5R）−６，
６−ジメチル−４（Ｓ）−ヒドロキシ−３−オキサ
ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンをとり除
くために飽和重ソウ水で洗浄する。溶媒を乾燥
し、濃縮することにより、実施例２と同様の混合
物を含む油状物が440mg得られる。

実施例４実施例２と同様の混合物の合成(2) （1S，5R）−６，６−ジメチル−４（Ｓ）−ヒド
ロキシ−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン
−２−オン365mg（2.6m mol）および４−ヒドロ
キシ−２−シクロペンテン−１−オン305ｇ
（3.1m mol）を７mlのベンゼンにとかし、活性無
水硫酸カルシウム１ｇを加え、さらに強酸性イオ
ン交換樹脂（ダウエクス50ω）を加え、室温にて
３日間撹拌する。反応後イオン交換樹脂と活性無
水硫酸カルシウムを別し、未反応の（1S，5R）
−６，６−ジメチル−４（Ｓ）−ヒドロキシ−３−
オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンを
飽和重ソウ水で洗浄することによりとりのぞき、
さらに水、飽和食塩水で洗浄する。

溶媒を乾燥、濃縮すると実施例２と同様の混合
物を含む油状物が395mg得られる。

実施例５（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキサ−
４（Ｒ）−〔１（Ｓ）−４−オキソ−２−シクロペ
ンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン
−２−オンと（1R，5S）−６，６−ジメチル−
３−オキサ−４（Ｒ）〔１（Ｒ）−４−オキソ−２
−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−２−オンの混合物の分離および精製実施例１において、（1R，5S）−６，６−ジメ
チル−４（Ｒ）−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ
〔3.1.0〕ヘキサン−２−オン8.6ｇ（60.6m mol）
を出発物として得た（1R，5S）−６，６−ジメチ
ル−３−オキサ−４（Ｒ）−〔１（Ｓ）−４−オキソ
−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ
〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンと（1R，5S）−６，
６−ジメチル−３−オキサ−４（Ｒ）〔１（Ｒ）−４
−オキソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシク
ロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンの混合物13.1ｇを
シリカゲルドライクロマトグラフイーに付し、ｎ
−ヘキサン−酢酸エチル（1.5：１）混液で溶離
する。

この分離操作によりジアステレオマーＲに相当
する結晶生成物5.4ｇ（40％）とジアステレオマ
ーＳに相当する結晶生成物6.1ｇ（45.3％）が得
られる。得られたそれぞれのジアステレオマー
は、イソプロピルエーテルから再結晶される。

ジアステレオマーＲ mp 90〜91℃ 〔α〕²³ _D：−45゜Ｃ：0.36 MeOH 赤外吸収スペクトル（KBr，cm^-1） 2950，2900，1780，1720，1700，1660，
1580，1460，1420，1340 核磁気共鳴吸収（CDC₃，δ（ppm））： 1.15（3H，ｓ，−Me） 1.2 （3H，ｓ，−Me） 2.05（2H，ｓ） 2.30（1H，dd，Ｊ：19Hz，３Hz） 2.80（1H，dd，Ｊ：19Hz，６Hz） 5.00（1H，ｍ） 5.30（1H，ｓ） 6.25（1H，dd，Ｊ：６Hz，1.5Hz、オレフイ
ン） 7.60（1H，dd，Ｊ：６Hz，２Hz、オレフイ
ン）ジアステレオマーＳ mp 94〜95℃ 〔α〕²³ _D：222.8゜Ｃ：0.39 MeOH 赤外吸収スペクトル（KBr，cm^-1） 3000，2950，1760，1710，1590，1450，
1420，1410，1350 核磁気共鳴吸収（CDC₃，δ（ppm））： 1.15（3H，ｓ，−Me） 1.18（3H，ｓ，−Me） 2.05（2H，ｓ） 2.35（1H，dd，Ｊ：19Hz，2.5Hz） 2.85（1H，dd，Ｊ：19Hz，７Hz） 4.95（1H，ｍ） 5.30（1H，ｓ） 6.25（1H，dd，Ｊ：６Hz，２Hz、オレフイ
ン） 7.55（1H，dd，Ｊ：６Hz，２Hz、オレフイ
ン）同様の方法により、実施例２より得られる
（1S，5R）−６，６−ジメチル−３−オキサ−４
（Ｓ）−〔１（Ｓ）−４−オキソ−２−シクロペンテ
ニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−
オンと（1S，5R）−６，６−ジメチル−３−オキ
サ−４（Ｓ）−〔１（Ｒ）−４−オキソ−２−シクロ
ペンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン
−２−オンの混合物も分解することができる。

実施例６４（Ｒ）−ヒドロキシ−２−シクロペンテン−１
−オンの合成実施例５において分離した（1R，5S）−６，６
−ジメチル−３−オキサ−４（Ｒ）〔１（Ｒ）−４−
オキソ−２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ
〔3.1.0〕ヘキサン−２−オン520mgをジオキサン
３mlにとかし、水６mlを加え70℃において３時間
撹拌する。反応後減圧下溶媒を留去し、反応混合
物を酢酸エチルにとかし、飽和重ソウ水で洗浄を
行う。

水層を塩酸により酸性化し、酢酸エチルにより
抽出を行うことにより（1R，5S）−６，６−ジメ
チル−４（Ｒ）−ヒドロキシ−３−オキサビシクロ
〔3.1.0〕ヘキサン−２−オン320mg（96.2％）が回
収される。

有機層をさらに飽和食塩水にて洗浄を行い、乾
燥後溶媒を減圧下留去すると淡黄色油状物が220
mg得られる。これをシリカゲルクロマトグラフイ
ーにより、ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（１：２）
により精製することにより４（Ｒ）−ヒドロキシ−
２−シクロペンテン−１−オン190mg（83％）が
得られる。

〔α〕²³ _D：＋94.4゜Ｃ：0.375 MeOH 同様にして、実施例５において分離した（1R，
5S）−６，６−ジメチル−３−オキサ−４（Ｒ）
〔１（Ｓ）−４−オキソ−２−シクロペンテニルオ
キシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンを
出発物質として、４（Ｓ）−ヒドロキシ−２−シク
ロペンテン−１−オンが得られる。

〔α〕²³ _D：−93゜Ｃ：0.39 MeOH 実施例７４（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−２−シ
クロペンテン−１−オンの合成４（Ｒ）−ヒドロキシ−２−シクロペンテン−１
−オン183mg（1.87m mol）をヘキサメチルホス
ホリツクトリアミド（HMPA）５mlにとかし、
０℃にてｔ−ブチルジメチルシリルクロライド
366mg（243m mol）を加え、そのまま終夜撹拌
する。反応後エーテルを加えた後水洗を行うと油
状物320mgが得られる。これをカラムクロマトグ
ラフイーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチル
（２：１）により精製することにより４（Ｒ）−ｔ
−ブチルジメチルシロキシ−２−シクロペンテン
−１−オン292mg（74％）が得られる。

〔α〕²³ _D：＋64゜Ｃ：0.42 MeOH 同様にして４（Ｓ）−ヒドロキシ−２−シクロペ
ンテン−１−オンからも４（Ｓ）−ｔ−ブチルジメ
チルシロキシ−２−シクロペンテン−１−オンが
得られる。

〔α〕²³ _D：−65.5゜Ｃ：0.51 MeOH 実施例８３（Ｓ）−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−１−ヨ
ードートランス−１−オクテン（736mg，20m
mol）のエーテル溶液（５ml）に1.1Mのｔ−ブ
チルリチウムのペンタン溶液（1.4ml，1.5m
mol）を−78℃で加え、２時間撹拌した。この溶
液にフエニルチオ銅（Ｉ）（207mg，1.2m mol）
のエーテル（２ml）懸濁液にヘキサメチルホスホ
ラストリアミド（407mg，2.5m mol）を加え、室
温で均一溶液になるまで撹拌して得られた溶液を
加え、−78℃で１時間撹拌した。この溶液に４
（Ｒ）−｛１（Ｓ），５（Ｒ）−６，６−ジメチル−３
−オキサ−４−オキソビシクロ〔3.1.0〕ヘキサ
ン−２−イルオキサ｝−２−シクロペンテノン
（222mg，1.0m mol）のエーテル溶液（５ml）を
−78℃で加え、15分撹拌し、次いで−40℃で１時
間撹拌した。その後、この溶液に６−メトキシカ
ルボニルヘキサノイルクロライド（385mg，20m
mol）のテトラヒドロフラン（５ml）とヘキサメ
チルホスホリツクトリアミド（0.2ml）の溶液を
−78℃で加え、−40℃で30分間撹拌した。反応終
了後アンモニアを含んだ塩化アンモニウム水溶液
を加え、水層をエーテル（２×100ml）で抽出し、
塩化アンモニウム水溶液で洗浄後、乾燥（Ｍｇ
SO₄）、濃縮して1.42ｇの粗生成物を得た。これ
をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１）に対して11−｛１（Ｓ），
５（Ｒ）−６，６−ジメチル−３−オキサ−４−オ
キソビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−イル｝−15
−ｔ−ブチルジメチルシリル−７−オキソプロス
タグランジンメチルエステル（272mg，0.44m
mol，44％）を得た。

核磁気共鳴吸収（CDC₃，δ（ppm））： 0.00（6H，ｓ，SiCH₃）， 0.84（9H，ｓ，tBu）， 0.9〜1.9（17H，ｍ）， 1.14と1.17（3H×２，ｓ×２）， 2.0（2H，ｓ）， 2.1〜3.1（7H，ｍ）， 3.23（1H，ｍ）， 3.63（3H，ｓ），３・７と4.1（1H×２，ｍ×２）， 5.18と5.27（1H）， 5.4〜5.55 （2H，ｍ、オレフインプロトン）。

赤外吸収スペクトル（液膜、cm^-1）： 1780，1740，1655，1615，1120，980，945，
840，775，735，670。

質量スペクトル（20eV，ｍ／ｅ）： 580（0.2），563（0.1），421（100）。

実施例９実施例８で得られた化合物（117mg，0.19m
mol）を20mlのメタノールに溶かし、ｐ−トルエ
ンスルホン酸ピリジン塩10mgを加えて室温で24時
間撹拌した。反応後メタノールを減圧留去し残渣
を調整用薄層クロマトグラフイー（ヘキサン：酢
酸エチル＝３：１）を用いて分離し、15−ｔ−ブ
チルジメチルシリル−７−オキソブロスタグラン
ジンメチルエステル（47mg，0.094m mol，50％）
を得た。

薄層クロマトグラフイー（ヘキサン：酢酸エチ
ル）： Rf 0.55 核磁気共鳴吸収（CDC₃，δ（ppm））： 0.0（6H，ｓ，SiCH₃）， 0.88（9H，ｓ，tBu）， 0.8〜2.0（17H，ｍ）， 2.0〜2.7（8H，ｍ）， 3.33（1H，ｍ，C₈−Ｈ）， 3.64（3H，ｓ，COOCH₃）， 3.80（1H，ｍ，C₁₁−Ｈ）， 4.13（1H，ｍ，C₁₅−Ｈ）， 5.4〜5.6（2H，ｍ、オレフインプロトン）。

赤外吸収スペクトル（液膜、cm^-1）： 3450，1740，1715，1650，1605，1250，
1225，1090，1040，970，935，895，830，
670。

Claims

【特許請求の範囲】１下記式〔〕で表わされる４−ヒドロキシシクロペンテノン
類。２（1R，5S）−６，６−ジメチル−３−オキサ
−４（Ｒ）−〔１（Ｒ）−４−オキソ−２−シクロペ
ンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−
２−オンもしくは（1S，5R）−６，６−ジメチル
−３−オキサ−４（Ｓ）−〔１（Ｒ）−４−オキソ−
２−シクロペンテニルオキシ〕ビシクロ〔3.1.0〕
ヘキサン−２−オンである特許請求の範囲第１項
記載の４−ヒドロキシシクロペンテノン類。３下記式〔〕で表わされる４−ヒドロキシシクロペンテノン
と、下記式〔〕〔式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基を表
わす。〕で表わされるラクトン類とを酸剤の存在下にある
いは脱水法により反応せしめることを特徴とする
下記式〔〕で表わされる４−ヒドロキシシクロペンテノン類
の製造法。４酸剤が弱酸性化合物である特許請求の範囲第
３項記載の４−ヒドロキシシクロペンテノン類の
製造法。５弱酸性化合物がパラトルエンスルホン酸ピリ
ジン塩、メタンスルホン酸ピリジン塩、カンフア
ースルホン酸ピリジン塩からなる群より選ばれた
少なくとも１種である特許請求の範囲第４項記載
の４−ヒドロキシシクロペンテノン類の製造法。６脱水法が共沸傾しや法を用いるかもしくは脱
水剤がモレキユラーシーブ、活性無水硫酸カルシ
ウム、無水硫酸マグネシウムからなる群より選ば
れた少なくとも１種である特許請求の範囲第３項
記載の４−ヒドロキシシクロペンテノン類の製造
法。