JPH06122643A - 光学活性２−（１−ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒド類の製法 - Google Patents
光学活性２−（１−ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒド類の製法Info
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- JPH06122643A JPH06122643A JP7221291A JP7221291A JPH06122643A JP H06122643 A JPH06122643 A JP H06122643A JP 7221291 A JP7221291 A JP 7221291A JP 7221291 A JP7221291 A JP 7221291A JP H06122643 A JPH06122643 A JP H06122643A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 野菜様、セロリー様などの香気を有する光学
活性アルキルフタリド類の合成中間体として有用な式
（１）の光学活性２−（１−ヒドロキシアルキル）ベン
ズアルデヒド類を好収率・好純度に製造する。 【構成】 式（３）の２−ハロベンズアルデヒド類と式
（４）のジアルキル亜鉛を触媒量の光学活性Ｎ，Ｎ−ジ
ブチルノルエフェドリン（ＤＢＮＥ）の存在下に反応さ
せて式（２）の光学活性１−（２−ハロフェニル）アル
カノール類を形成させ、次いで該アルカノール類をブチ
ルリチウムおよびジメチルホルムアミドで処理すること
により、式（１）の化合物を従来法と比較して短工程の
簡単な操作で合成する。 （Ｘはハロゲン原子、ＲはＣ１〜Ｃ４のアルキル基を示
す）
活性アルキルフタリド類の合成中間体として有用な式
（１）の光学活性２−（１−ヒドロキシアルキル）ベン
ズアルデヒド類を好収率・好純度に製造する。 【構成】 式（３）の２−ハロベンズアルデヒド類と式
（４）のジアルキル亜鉛を触媒量の光学活性Ｎ，Ｎ−ジ
ブチルノルエフェドリン（ＤＢＮＥ）の存在下に反応さ
せて式（２）の光学活性１−（２−ハロフェニル）アル
カノール類を形成させ、次いで該アルカノール類をブチ
ルリチウムおよびジメチルホルムアミドで処理すること
により、式（１）の化合物を従来法と比較して短工程の
簡単な操作で合成する。 （Ｘはハロゲン原子、ＲはＣ１〜Ｃ４のアルキル基を示
す）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、野菜様、セロリー様な
どの香気を有する香料化合物として有用な下記式（Ａ）
どの香気を有する香料化合物として有用な下記式（Ａ）
【化５】 式中、ＲはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示し、＊印は不斉炭
素を示す、で表される光学活性アルキルフタリド類の合
成中間体として有用な下記式（１）
素を示す、で表される光学活性アルキルフタリド類の合
成中間体として有用な下記式（１）
【化６】 式中、Ｒおよび＊印は前記と同義、で表される光学活性
２−（１−ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒド類の
新規な製法に関する。
２−（１−ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒド類の
新規な製法に関する。
【０００２】式（１）の化合物は、光学活性２−（１−
ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒドと下記式
ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒドと下記式
【化７】 式中、Ｒおよび＊印は前記したと同義、で表される光学
活性２−アルキル−５−ヒドロキシ−２，５−ジヒドロ
ベンゾ［ｃ］フラン（ラクトール）の平衡混合物［以
下、単に光学活性２−（１−ヒドロキシアルキル）ベン
ズアルデヒド類と称する］を形成している。
活性２−アルキル−５−ヒドロキシ−２，５−ジヒドロ
ベンゾ［ｃ］フラン（ラクトール）の平衡混合物［以
下、単に光学活性２−（１−ヒドロキシアルキル）ベン
ズアルデヒド類と称する］を形成している。
【０００３】
【従来の技術】従来、前記式（１）の化合物の製造法に
関してはいくつか知られており、例えば不斉化合物の
（Ｓ）−２−（アニリノメチル）ピロリジンと２−ブロ
モベンズアルデヒドを反応させ、光学活性２−（２−ブ
ロモフェニル）−３−フェニル−１，３−ジアザビシク
ロ［３．３．０］オクタン（光学活性アミナール）を形
成し、該アミナールをブチルリチウムと接触させて、ア
ミナールのリチウム化合物を形成させ、次いで該リチウ
ム化合物をｎ−ブチルアルデヒドと反応させて光学活性
２−（１−ヒドロキシペンチル）ベンズアルデヒドを合
成する方法（Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．１９８０，１７）、
また不斉源としてＮ，Ｎ′−ジメチル−１，２−ジフェ
ニルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−１，２−
ジアミノシクロヘキサンなどの光学活性１，２−ジアミ
ン類；１，２−ジフェニルエチレングリコール、１，２
−ジメトキシメチルエチレングリコールなどの光学活性
１，２−ジオール類を用いる以外は、上記従来法と同様
の方法により光学活性２−（１−ヒドロキシペンチル）
ベンズアルデヒドを製造する方法［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１，２８３，２８７（１９
９０）］などが提案されている。
関してはいくつか知られており、例えば不斉化合物の
（Ｓ）−２−（アニリノメチル）ピロリジンと２−ブロ
モベンズアルデヒドを反応させ、光学活性２−（２−ブ
ロモフェニル）−３−フェニル−１，３−ジアザビシク
ロ［３．３．０］オクタン（光学活性アミナール）を形
成し、該アミナールをブチルリチウムと接触させて、ア
ミナールのリチウム化合物を形成させ、次いで該リチウ
ム化合物をｎ−ブチルアルデヒドと反応させて光学活性
２−（１−ヒドロキシペンチル）ベンズアルデヒドを合
成する方法（Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．１９８０，１７）、
また不斉源としてＮ，Ｎ′−ジメチル−１，２−ジフェ
ニルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチル−１，２−
ジアミノシクロヘキサンなどの光学活性１，２−ジアミ
ン類；１，２−ジフェニルエチレングリコール、１，２
−ジメトキシメチルエチレングリコールなどの光学活性
１，２−ジオール類を用いる以外は、上記従来法と同様
の方法により光学活性２−（１−ヒドロキシペンチル）
ベンズアルデヒドを製造する方法［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１，２８３，２８７（１９
９０）］などが提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来提案の方法において不斉源として用いる（Ｓ）−２−
（アニリノメチル）ピロリジン、光学活性１，２−ジア
ミン類あるいは光学活性１，２−ジオール類と反応基質
である２−ブロモベンズアルデヒドとの反応は等モル反
応であり、高価な不斉源原料を多量に消費するという欠
点がある。また、この反応は２−ブロモベンズアルデヒ
ドと不斉源原料との付加生成物を形成させた後、脱着さ
せる工程が必要であるため反応操作自体も煩雑になり、
更に収率の点でも満足できるものではないなどの問題点
を有しており、更に一層の改善された工業的に有利な製
造方法の確立が強く望まれている。
来提案の方法において不斉源として用いる（Ｓ）−２−
（アニリノメチル）ピロリジン、光学活性１，２−ジア
ミン類あるいは光学活性１，２−ジオール類と反応基質
である２−ブロモベンズアルデヒドとの反応は等モル反
応であり、高価な不斉源原料を多量に消費するという欠
点がある。また、この反応は２−ブロモベンズアルデヒ
ドと不斉源原料との付加生成物を形成させた後、脱着さ
せる工程が必要であるため反応操作自体も煩雑になり、
更に収率の点でも満足できるものではないなどの問題点
を有しており、更に一層の改善された工業的に有利な製
造方法の確立が強く望まれている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述の課
題を解決しうる工業的に有利な新規製造法を確立するた
め鋭意研究を行ってきた。その結果、後記式（３）の２
−ハロベンズアルデヒド類と後記式（４）のジアルキル
亜鉛を触媒量の光学活性Ｎ，Ｎ−ジブチルノルエフェド
リン（以下、ＤＢＮＥと称する）の存在下に反応させて
後記式（２）の光学活性１−（２−ハロフェニル）アル
カノール類を形成させ、次いで該アルカノール類をブチ
ルリチウムおよびジメチルホルムアミドで処理すること
により、前記式（１）の化合物を従来法と比較して短工
程の簡単な操作で且つ好収率、好純度に合成できること
を見い出した。
題を解決しうる工業的に有利な新規製造法を確立するた
め鋭意研究を行ってきた。その結果、後記式（３）の２
−ハロベンズアルデヒド類と後記式（４）のジアルキル
亜鉛を触媒量の光学活性Ｎ，Ｎ−ジブチルノルエフェド
リン（以下、ＤＢＮＥと称する）の存在下に反応させて
後記式（２）の光学活性１−（２−ハロフェニル）アル
カノール類を形成させ、次いで該アルカノール類をブチ
ルリチウムおよびジメチルホルムアミドで処理すること
により、前記式（１）の化合物を従来法と比較して短工
程の簡単な操作で且つ好収率、好純度に合成できること
を見い出した。
【０００６】更に本発明においては、式（２）、式
（１）および式（Ａ）で表される光学活性化合物の立体
配座は、不斉触媒であるＤＢＮＥの立体配座によって決
定し、（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ＤＢＮＥを用いた場合
には、Ｓ−体の式（２）、式（１）および式（Ａ）の化
合物が生成し、（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−ＤＢＮＥを用
いた場合には、Ｒ−体の式（２）、式（１）および式
（Ａ）の化合物が生成することも判明した。
（１）および式（Ａ）で表される光学活性化合物の立体
配座は、不斉触媒であるＤＢＮＥの立体配座によって決
定し、（１Ｓ，２Ｒ）−（−）−ＤＢＮＥを用いた場合
には、Ｓ−体の式（２）、式（１）および式（Ａ）の化
合物が生成し、（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−ＤＢＮＥを用
いた場合には、Ｒ−体の式（２）、式（１）および式
（Ａ）の化合物が生成することも判明した。
【０００７】かくして、本発明によれば、式（３）の化
合物と式（４）の化合物を触媒量のＤＢＮＥの存在下に
反応させて式（２）の化合物を形成させ、次いで該式
（２）の化合物をブチルリチウムおよびジメチルホルム
アミドで処理すること特徴とする式（１）の化合物の製
造方法が提供される。本発明の式（１）の化合物の製造
方法を反応式で示すと以下のように表すことができる。
合物と式（４）の化合物を触媒量のＤＢＮＥの存在下に
反応させて式（２）の化合物を形成させ、次いで該式
（２）の化合物をブチルリチウムおよびジメチルホルム
アミドで処理すること特徴とする式（１）の化合物の製
造方法が提供される。本発明の式（１）の化合物の製造
方法を反応式で示すと以下のように表すことができる。
【０００８】
【化８】 反応式Ａ 式中、Ｘ、Ｒおよび＊印は前記したと同義、
【０００９】上記反応式Ａに従って式（１）の化合物の
製造法を詳細に説明する。式（３）および式（４）の化
合物から式（２）の化合物を合成するには、式（３）の
化合物と式（４）の化合物を有機溶媒中、不斉触媒のＤ
ＢＮＥ存在下に反応させることにより容易に行うことが
できる。
製造法を詳細に説明する。式（３）および式（４）の化
合物から式（２）の化合物を合成するには、式（３）の
化合物と式（４）の化合物を有機溶媒中、不斉触媒のＤ
ＢＮＥ存在下に反応させることにより容易に行うことが
できる。
【００１０】本発明で使用する式（３）の化合物は、塩
素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子が２位に置換した
２−ハロベンズアルデヒド類、即ち、２−塩化ベンズア
ルデヒド、２−臭化ベンズアルデヒド、２−ヨウ化ベン
ズアルデヒドであり、これらは市販品として安価且つ容
易に入手することができる。
素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子が２位に置換した
２−ハロベンズアルデヒド類、即ち、２−塩化ベンズア
ルデヒド、２−臭化ベンズアルデヒド、２−ヨウ化ベン
ズアルデヒドであり、これらは市販品として安価且つ容
易に入手することができる。
【００１１】また、式（４）のジアルキル亜鉛は、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チルなどのＣ1〜Ｃ4の低級アルキルの亜鉛化合物であ
り、例えばジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜
鉛、ジイソプロピル亜鉛、ジブチル亜鉛、ジイソブチル
亜鉛などを例示することができ、これらもまた市販品と
して容易に入手することができるほか容易に合成するこ
ともできる。これら式（４）の化合物の使用量は、例え
ば式（３）の化合物１モルに対して、約１モル〜１０モ
ル程度を例示することができる。
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チルなどのＣ1〜Ｃ4の低級アルキルの亜鉛化合物であ
り、例えばジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜
鉛、ジイソプロピル亜鉛、ジブチル亜鉛、ジイソブチル
亜鉛などを例示することができ、これらもまた市販品と
して容易に入手することができるほか容易に合成するこ
ともできる。これら式（４）の化合物の使用量は、例え
ば式（３）の化合物１モルに対して、約１モル〜１０モ
ル程度を例示することができる。
【００１２】本発明で用いる光学活性ＤＢＮＥは、（１
Ｓ，２Ｒ）−（−）体の立体配座および（１Ｒ，２Ｓ）
−（＋）体の立体配座を包含しており、これらもまた市
販品として入手することができるノルエフェドリンから
容易に合成することができる。これらＤＢＮＥの使用量
は厳密に制限されるものではないが、従来法の等モル反
応に比較するとごく少量の触媒量でよく、一般には、式
（３）の化合物１モルに対して、例えば約５０モル％以
下、通常約１モル％〜約２０モル％程度で反応を行うこ
とができる。
Ｓ，２Ｒ）−（−）体の立体配座および（１Ｒ，２Ｓ）
−（＋）体の立体配座を包含しており、これらもまた市
販品として入手することができるノルエフェドリンから
容易に合成することができる。これらＤＢＮＥの使用量
は厳密に制限されるものではないが、従来法の等モル反
応に比較するとごく少量の触媒量でよく、一般には、式
（３）の化合物１モルに対して、例えば約５０モル％以
下、通常約１モル％〜約２０モル％程度で反応を行うこ
とができる。
【００１３】上記反応の温度および時間は、適宜に選択
することができ、例えば約−２０℃〜約１００℃の温度
範囲で、約１時間〜約５０時間程度の範囲を好ましく示
すことができる。更に、この反応で用いる有機溶媒とし
ては、例えばヘキサン、トルエン、エーテル、テトラヒ
ドロフランなどを示すことができ、その使用量は、例え
ば式（３）の化合物に対して約１〜約５０重量倍程度で
行うことができる。
することができ、例えば約−２０℃〜約１００℃の温度
範囲で、約１時間〜約５０時間程度の範囲を好ましく示
すことができる。更に、この反応で用いる有機溶媒とし
ては、例えばヘキサン、トルエン、エーテル、テトラヒ
ドロフランなどを示すことができ、その使用量は、例え
ば式（３）の化合物に対して約１〜約５０重量倍程度で
行うことができる。
【００１４】反応終了後は、有機溶媒による抽出処理、
蒸留、クロマトグラフなどの手段を用いて分離、精製す
ることにより式（２）の化合物を好純度、好収率に製造
することができる。
蒸留、クロマトグラフなどの手段を用いて分離、精製す
ることにより式（２）の化合物を好純度、好収率に製造
することができる。
【００１５】このようにして得ることのできる式（２）
の化合物の具体例として、例えば、（Ｓ）−体および
（Ｒ）−体の立体配座を有する１−（２−ハロフェニ
ル）エタノール、１−（２−ハロフェニル）プロパノー
ル、１−（２−ハロフェニル）−２−メチルプロパノー
ル、１−（２−ハロフェニル）ブタノール、１−（２−
ハロフェニル）−３−メチルブタノール、１−（２−ハ
ロフェニル）ペンタノールなどを挙げることができる。
の化合物の具体例として、例えば、（Ｓ）−体および
（Ｒ）−体の立体配座を有する１−（２−ハロフェニ
ル）エタノール、１−（２−ハロフェニル）プロパノー
ル、１−（２−ハロフェニル）−２−メチルプロパノー
ル、１−（２−ハロフェニル）ブタノール、１−（２−
ハロフェニル）−３−メチルブタノール、１−（２−ハ
ロフェニル）ペンタノールなどを挙げることができる。
【００１６】本発明の式（１）の化合物類の合成は、式
（２）の化合物を有機溶媒中、ブチルリチウムと反応さ
せてリチウム付加物を形成させ、次いで該付加物をジメ
チルホルムアミドと反応させることにより容易に行うこ
とができる。
（２）の化合物を有機溶媒中、ブチルリチウムと反応さ
せてリチウム付加物を形成させ、次いで該付加物をジメ
チルホルムアミドと反応させることにより容易に行うこ
とができる。
【００１７】上記のリチウム付加物を形成させる反応の
反応温度および反応時間は、例えば約−１００℃〜約５
０℃程度の反応温度、約０．５〜約５時間程度の反応時
間で十分である。ブチルリチウムの使用量は、式（２）
の化合物１モルに対して２モル以上必要であり、例えば
約２〜約４モル程度の範囲をより好ましく示すことがで
きる。また、上記反応で使用する有機溶媒としては、例
えばヘキサン、トルエン、エーテル、テトラヒドロフラ
ンなどを挙げることができ、その使用量は式（２）の化
合物に対して約１〜約５０重量倍程度である。
反応温度および反応時間は、例えば約−１００℃〜約５
０℃程度の反応温度、約０．５〜約５時間程度の反応時
間で十分である。ブチルリチウムの使用量は、式（２）
の化合物１モルに対して２モル以上必要であり、例えば
約２〜約４モル程度の範囲をより好ましく示すことがで
きる。また、上記反応で使用する有機溶媒としては、例
えばヘキサン、トルエン、エーテル、テトラヒドロフラ
ンなどを挙げることができ、その使用量は式（２）の化
合物に対して約１〜約５０重量倍程度である。
【００１８】上述のようにして合成できるリチウム付加
物は、単離することなくそのままジメチルホルムアミド
と反応させることができ、この反応は例えば、約０℃〜
約５０℃程度の反応温度ならびに約１〜約１０時間程度
の反応時間で行うことができる。ジメチルホルムアミド
の使用量は、式（２）の化合物１モルに対して、例えば
約１〜約５モル程度の範囲を示すことができる。また、
上記反応で用いる有機溶媒およびその使用量は、リチウ
ム付加反応で採用したと同様の溶媒ならびに使用量を挙
げることができる。反応後は、常法に従って生成物を分
離・精製して本発明の式（１）で表される光学活性２−
（１−ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒド類を好収
率、好純度で得ることができる。
物は、単離することなくそのままジメチルホルムアミド
と反応させることができ、この反応は例えば、約０℃〜
約５０℃程度の反応温度ならびに約１〜約１０時間程度
の反応時間で行うことができる。ジメチルホルムアミド
の使用量は、式（２）の化合物１モルに対して、例えば
約１〜約５モル程度の範囲を示すことができる。また、
上記反応で用いる有機溶媒およびその使用量は、リチウ
ム付加反応で採用したと同様の溶媒ならびに使用量を挙
げることができる。反応後は、常法に従って生成物を分
離・精製して本発明の式（１）で表される光学活性２−
（１−ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒド類を好収
率、好純度で得ることができる。
【００１９】このようにして合成できる式（１）の化合
物としては、例えば、（Ｓ）−体および（Ｒ）−体の立
体配座を有する２−（１−ヒドロキシエチル）ベンズア
ルデヒド、２−（１−ヒドロキシプロピル）ベンズアル
デヒド、２−（１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）
ベンズアルデヒド、２−（１−ヒドロキシブチル）ベン
ズアルデヒド、２−（１−ヒドロキシ−３−メチルブチ
ル）ベンズアルデヒド、２−（１−ヒドロキシペンチ
ル）ベンズアルデヒドなどが例示される。
物としては、例えば、（Ｓ）−体および（Ｒ）−体の立
体配座を有する２−（１−ヒドロキシエチル）ベンズア
ルデヒド、２−（１−ヒドロキシプロピル）ベンズアル
デヒド、２−（１−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）
ベンズアルデヒド、２−（１−ヒドロキシブチル）ベン
ズアルデヒド、２−（１−ヒドロキシ−３−メチルブチ
ル）ベンズアルデヒド、２−（１−ヒドロキシペンチ
ル）ベンズアルデヒドなどが例示される。
【００２０】上述のようにして得ることのできる式
（１）化合物から香料化合物として有用な式（Ａ）の化
合物を合成するには、従来既知の方法で行うことがで
き、例えば式（１）の化合物を酸化銀などの金属酸化物
で酸化することにより容易に製造することができる。次
に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
（１）化合物から香料化合物として有用な式（Ａ）の化
合物を合成するには、従来既知の方法で行うことがで
き、例えば式（１）の化合物を酸化銀などの金属酸化物
で酸化することにより容易に製造することができる。次
に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。
【００２１】
【実施例１】 （Ｒ）−１−（２−ブロモフェニル）プロパノール［式
（２）の化合物］の合成。 フラスコに（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−Ｎ，Ｎ−ジブチル
ノルエフェドリン２．６３ｇ（０．０１モル）およびヘ
キサン５０ｍｌを仕込み、室温下に２−ブロモベンズア
ルデヒド９．２５ｇ（０．０５モル）を加える。更に、
ジエチル亜鉛６．１７ｇ（０．０５モル）を室温下に加
え、そのまま同条件下で１７時間撹拌する。次に、反応
混合物を１Ｎ塩酸中に注ぎ塩化メチレンで抽出する。溶
剤を回収した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフ（ヘキサン：塩化メチレン＝１：２）により
分離精製し、（Ｒ）−１−（２−ブロモフェニル）プロ
パノール１０．１ｇ（収率：９４％）を得た。光学収
率：９０％ｅ．ｅ．（ＨＰＬＣ、ダイセルキラルセルＯ
Ｂ）。
（２）の化合物］の合成。 フラスコに（１Ｒ，２Ｓ）−（＋）−Ｎ，Ｎ−ジブチル
ノルエフェドリン２．６３ｇ（０．０１モル）およびヘ
キサン５０ｍｌを仕込み、室温下に２−ブロモベンズア
ルデヒド９．２５ｇ（０．０５モル）を加える。更に、
ジエチル亜鉛６．１７ｇ（０．０５モル）を室温下に加
え、そのまま同条件下で１７時間撹拌する。次に、反応
混合物を１Ｎ塩酸中に注ぎ塩化メチレンで抽出する。溶
剤を回収した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフ（ヘキサン：塩化メチレン＝１：２）により
分離精製し、（Ｒ）−１−（２−ブロモフェニル）プロ
パノール１０．１ｇ（収率：９４％）を得た。光学収
率：９０％ｅ．ｅ．（ＨＰＬＣ、ダイセルキラルセルＯ
Ｂ）。
【００２２】
【実施例２〜６】実施例１の合成方法に準じて、式
（３）の化合物、式（４）の化合物およびＤＢＮＥを適
宜に組み合わせて、各種の式（２）の化合物を製造し
た。その結果（収率および光学収率）を表１に示す。
（３）の化合物、式（４）の化合物およびＤＢＮＥを適
宜に組み合わせて、各種の式（２）の化合物を製造し
た。その結果（収率および光学収率）を表１に示す。
【００２３】
【表１】 No アルカノール類[式(2)化合物] 収率(%) 光学収率[e.e.(%)] 2 (S)-1-(2-クロロフェニル)エタノール 92 65 3 (R)-1-(2-アイオト゛フェニル)-2-メチルフ゜ロハ゜ノール 81 71 4 (S)-1-(2-フ゛ロモフェニル)フ゛タノール 90 88 5 (R)-1-(2-クロロフェニル)-3-メチルフ゛タノール 52 70 6 (S)-1-(2-フ゛ロモフェニル)ヘ゜ンタノール 47 86
【００２４】
【実施例７】 （Ｒ）−２−（１−ヒドロキシプロピル）ベンズアルデ
ヒド［式（１）の化合物］の合成。 フラスコに（Ｒ）−１−（２−ブロモフェニル）プロパ
ノール１０．７５（０．０５モル）およびヘキサン２０
ｍｌを仕込み、−６０℃下にｎ−ブチルリチウム０．１
４４モルを加える。次に、温度を室温に戻して１時間撹
拌した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７．５２ｇ
（０．１０３モル）を加える。室温下に時間撹拌した
後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液中に注
ぎ、塩化メチレンで抽出する。溶剤を回収した後、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（ヘキサ
ン：塩化メチレン＝１：１）により分離精製し、（Ｒ）
−２−（１−ヒドロキシプロピル）ベンズアルデヒド
５，７４ｇ（収率：７０％）を得た。
ヒド［式（１）の化合物］の合成。 フラスコに（Ｒ）−１−（２−ブロモフェニル）プロパ
ノール１０．７５（０．０５モル）およびヘキサン２０
ｍｌを仕込み、−６０℃下にｎ−ブチルリチウム０．１
４４モルを加える。次に、温度を室温に戻して１時間撹
拌した後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７．５２ｇ
（０．１０３モル）を加える。室温下に時間撹拌した
後、反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液中に注
ぎ、塩化メチレンで抽出する。溶剤を回収した後、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ（ヘキサ
ン：塩化メチレン＝１：１）により分離精製し、（Ｒ）
−２−（１−ヒドロキシプロピル）ベンズアルデヒド
５，７４ｇ（収率：７０％）を得た。
【００２５】
【実施例８〜１３】実施例７の合成方法に準じて、式
（２）の化合物から各種の式（１）の化合物を製造し
た。その結果（収率）を表２に示す。
（２）の化合物から各種の式（１）の化合物を製造し
た。その結果（収率）を表２に示す。
【００２６】
【表２】 No ヘ゛ンス゛アルテ゛ヒト゛類[式(1)化合物] 収率(%) 8 (S)-2-(1-ヒト゛ロキシエチル)ヘ゛ンス゛アルテ゛ヒト゛ 71 9 (S)-2-(1-ヒト゛ロキシフ゜ロヒ゜ル)ヘ゛ンス゛アルテ゛ヒト゛ 68 10 (R)-2-(1-ヒト゛ロキシ-2-メチルフ゜ロヒ゜ル)ヘ゛ンス゛アルテ゛ヒト゛ 72 11 (S)-2-(1-ヒト゛ロキシフ゛チル)ヘ゛ンス゛アルテ゛ヒト゛ 70 12 (R)-2-(1-ヒト゛ロキシ-3-メチルフ゛チル)ヘ゛ンス゛アルテ゛ヒト゛ 73 13 (S)-2-(1-ヒト゛ロキシヘ゜ンチル)ヘ゛ンス゛アルテ゛ヒト゛ 67
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、光学活性のＤＢＮＥを
不斉触媒に選ぶことにより、従来の等モル反応と比べて
極めて少量の使用量で式（１）の化合物を合成できる。
即ち、本発明は、式（３）の化合物と式（４）の化合物
を触媒量の光学活性ＤＢＮＥの存在下に反応させて式
（２）の化合物を形成させ、次いで該式（２）化合物を
ブチルリチウムおよびジメチルホルムアミドで処理する
ことにより、式（１）の化合物を従来法と比較して短工
程の簡単な操作で且つ好収率、好純度で合成する方法を
提供するものである。式（１）の化合物は、野菜様、セ
ロリー様などの香気を有する式（Ａ）の合成中間体とし
て有用である。
不斉触媒に選ぶことにより、従来の等モル反応と比べて
極めて少量の使用量で式（１）の化合物を合成できる。
即ち、本発明は、式（３）の化合物と式（４）の化合物
を触媒量の光学活性ＤＢＮＥの存在下に反応させて式
（２）の化合物を形成させ、次いで該式（２）化合物を
ブチルリチウムおよびジメチルホルムアミドで処理する
ことにより、式（１）の化合物を従来法と比較して短工
程の簡単な操作で且つ好収率、好純度で合成する方法を
提供するものである。式（１）の化合物は、野菜様、セ
ロリー様などの香気を有する式（Ａ）の合成中間体とし
て有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 53/00 Ｂ 7419−4Ｈ 61/00 ３００
Claims (1)
- 【請求項１】 下記式（３） 【化１】 式中、Ｘはハロゲン原子を示す、で表される２−ハロベ
ンズアルデヒド類を有機溶媒中、光学活性Ｎ，Ｎ−ジブ
チルノルエフェドリンの存在下に下記式（４） 【化２】 式中、ＲはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す、で表されるジ
アルキル亜鉛と反応させて下記式（２） 【化３】 式中、Ｘはハロゲン原子を示し、ＲはＣ1〜Ｃ4のアルキ
ル基を示し、＊印は不斉炭素を示す、で表される光学活
性１−（２−ハロフェニル）アルカノール類を形成させ
た後、該アルカノール類を有機溶媒中、ブチルリチウム
と反応させ、次いでジメチルホルムアミドと反応させる
ことを特徴とする下記式（１） 【化４】 式中、ＲはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示し、＊印は不斉炭
素を示す、で表される光学活性２−（１−ヒドロキシア
ルキル）ベンズアルデヒド類の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3072212A JP2835785B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | 光学活性２−（１−ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒド類の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3072212A JP2835785B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | 光学活性２−（１−ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒド類の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06122643A true JPH06122643A (ja) | 1994-05-06 |
| JP2835785B2 JP2835785B2 (ja) | 1998-12-14 |
Family
ID=13482712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3072212A Expired - Fee Related JP2835785B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | 光学活性２−（１−ヒドロキシアルキル）ベンズアルデヒド類の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2835785B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08245671A (ja) * | 1995-03-10 | 1996-09-24 | Tosoh Corp | 光学活性１，１’−ビス（１−ヒドロキシアルキル）メタロセンの製造方法 |
| WO2003087029A1 (fr) * | 2002-04-18 | 2003-10-23 | Sumika Fine Chemicals Co., Ltd. | Procede de production de compose d'acide $g(a)-hydroxycarboxylique |
| JP2006151842A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Takasago Internatl Corp | 光学活性アルキルフタリド類の製造方法 |
-
1991
- 1991-03-13 JP JP3072212A patent/JP2835785B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08245671A (ja) * | 1995-03-10 | 1996-09-24 | Tosoh Corp | 光学活性１，１’−ビス（１−ヒドロキシアルキル）メタロセンの製造方法 |
| WO2003087029A1 (fr) * | 2002-04-18 | 2003-10-23 | Sumika Fine Chemicals Co., Ltd. | Procede de production de compose d'acide $g(a)-hydroxycarboxylique |
| JP2006151842A (ja) * | 2004-11-26 | 2006-06-15 | Takasago Internatl Corp | 光学活性アルキルフタリド類の製造方法 |
| JP4713134B2 (ja) * | 2004-11-26 | 2011-06-29 | 高砂香料工業株式会社 | 光学活性アルキルフタリド類の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2835785B2 (ja) | 1998-12-14 |
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|---|---|---|---|
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