JPH0272166A - 光学活性オキシラン類 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/12—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D233/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings
- C07D233/54—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D233/56—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D411/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D411/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D411/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having oxygen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な光学的活性オキシラン、その新規な製造
方法及び光学的活性並びに殺菌・殺カビ（ｆｕｎｇｉｃ
ｉｄａｌ）及び植物生長調節特性を有する活性物質の合
成に対する中間体としてのその用途に関する。
方法及び光学的活性並びに殺菌・殺カビ（ｆｕｎｇｉｃ
ｉｄａｌ）及び植物生長調節特性を有する活性物質の合
成に対する中間体としてのその用途に関する。
オキシランの多くのラセミ体がすでに開示されている［
ＥＰ−Ｏ３（ヨーロッパ特許出願公開明ｔｌｆＪ書）第
０．０４０．３４５号、ＥＰ−Ｏ５第Ｑ。
ＥＰ−Ｏ３（ヨーロッパ特許出願公開明ｔｌｆＪ書）第
０．０４０．３４５号、ＥＰ−Ｏ５第Ｑ。
０５２．４２４号、ＥＰ−Ｏ３第Ｑ、０ｉ３１．８３５
号及びＥＰ−Ｏ５！０．０８４，８３４号参照］。しか
しながら、対応するオキシランは、該オキシラン環の反
応性のために、得ることが困難である。
号及びＥＰ−Ｏ５！０．０８４，８３４号参照］。しか
しながら、対応するオキシランは、該オキシラン環の反
応性のために、得ることが困難である。
更に、オキシランを根本のケトンとスルホニウムまたは
スルホキソニウムイリドとの反応によって製造し得るこ
とが公知である（ＥＰ−Ｏ５第０゜０４０．３４５号、
ＥＰ−Ｏ３第０．１２４，００９号、ＥＰ−Ｏ３第０．
１２４，０１１号、ＥＰ−Ｏ５第０．１２４．０１３号
及びＥＰ−Ｏ３第０．１２４，０１４号参照）。しかし
ながら、公知の方法の欠点は光学的活性オキシランが立
体特異的な方法で得られないことである。
スルホキソニウムイリドとの反応によって製造し得るこ
とが公知である（ＥＰ−Ｏ５第０゜０４０．３４５号、
ＥＰ−Ｏ３第０．１２４，００９号、ＥＰ−Ｏ３第０．
１２４，０１１号、ＥＰ−Ｏ５第０．１２４．０１３号
及びＥＰ−Ｏ３第０．１２４，０１４号参照）。しかし
ながら、公知の方法の欠点は光学的活性オキシランが立
体特異的な方法で得られないことである。
式
式中、Ｒは置換されたまたは未置換アルキル、置換され
たまたは未置換シクロアルキルを表わすか、或いは置換
されたまたは未置換フェニルを表わし、そして Ｒ’、Ｒ２Ｒ’ Ｒ’ Ｒ’及びＲ６は水素または
アルキルを表わずか、但し、該基の少なくとも１つはア
ルキルを表わし、或いは Ｒ’及びＲｓは共に未置換またはアルキルで置換される
アルカンジイルを表わすか、或いはＲ４及びＲ６は隣接
炭素原子と一緒になって、未置換またはアルキルで置換
される融合した二環式炭化水素基を表わす、 の新規な光学的活性オキシランが見い出された。
たまたは未置換シクロアルキルを表わすか、或いは置換
されたまたは未置換フェニルを表わし、そして Ｒ’、Ｒ２Ｒ’ Ｒ’ Ｒ’及びＲ６は水素または
アルキルを表わずか、但し、該基の少なくとも１つはア
ルキルを表わし、或いは Ｒ’及びＲｓは共に未置換またはアルキルで置換される
アルカンジイルを表わすか、或いはＲ４及びＲ６は隣接
炭素原子と一緒になって、未置換またはアルキルで置換
される融合した二環式炭化水素基を表わす、 の新規な光学的活性オキシランが見い出された。
更に式（Ｉ）の光学的活性オキシランはＩ
式中、Ｒ，Ｒ’Ｒ”、Ｒ３、Ｒ′、Ｒ″及びＲ６は上記
の意味を有する、 のエナンチオマー的に純粋なオキサチアンケトンを強塩
基の存在下において且つ希釈剤の存在下において一７０
°Ｃ乃至＋１００°Ｃ間の温度で、α）式 のスルホニウム塩と反応させるか、或いはβ）式 式中、Ｒ’はメチルまたはフェニルを表わし、ＲＩＯは
メチルまたはフェニルを表わし、モしてＸＩ（Ｂはハラ
イドまたはメトスルフニー１・を表わす、 のスルホキソニウムと反応させる ことによって得られる。
の意味を有する、 のエナンチオマー的に純粋なオキサチアンケトンを強塩
基の存在下において且つ希釈剤の存在下において一７０
°Ｃ乃至＋１００°Ｃ間の温度で、α）式 のスルホニウム塩と反応させるか、或いはβ）式 式中、Ｒ’はメチルまたはフェニルを表わし、ＲＩＯは
メチルまたはフェニルを表わし、モしてＸＩ（Ｂはハラ
イドまたはメトスルフニー１・を表わす、 のスルホキソニウムと反応させる ことによって得られる。
最後に、式（１）の光学的活性オキシランを光学的活性
並びに殺菌・殺カビ及び植物−生長調節特性を有する活
性物質の製造に対する中間体として使用し得ることが見
い出された。かくして、式式中、Ｒ７はメチルまたはフ
ェニルヲ表わし、Ｒ８はメチルまたはフェニルを表わし
、モしてＸＣＩはハライドまたはメトスルフェートを表
わ式中、Ｒは上記の意味を有し、 Ｙは酸素、直接結合またはＣＨ，基を表わし、２はハロ
ゲン、アルキル、シクロアルキル、アルコキシ、アルキ
ルチオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキン、ハロ
ゲノアルキルチオ、置換されたまたは未置換フェノキシ
、置換されたまたは未置換フェニルアルキル或いは置換
されたまたは未置換フェノキシアルキルを表わし、そし
て ｎは数０．ｌ、２または３を表わす、 の光学的活性２−ヒドロキシエチルアゾール誘導体は式 式中、Ｒ，Ｒ’Ｒ”、ＲＪ Ｒ″、Ｒ６及びＲ′は上記
の意味を有する、 の光学的活性オキシランを、第一工程において、γ）塩
基の存在下において且つ希釈剤の存在下において０℃乃
至１５０℃間の温度で式 式中、Ｚ及びｍは上記の意味を有する、のフェノール誘
導体と反応させるか、 δ）希釈剤の存在下において一７８°Ｃ乃至＋１００°
Ｃ間の温度で式 式中、Ｚ及びｍは上記の意味を有し、 Ｍｅはアルカリ土類金属を表わすか、または亜鉛を表わ
し、そして ｘ２は塩素、臭素またはヨウ素を表わす、のグリニアー
ル化合物と反応させ、次にかくして得られた式 式中、Ｒ，Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３、Ｒ６、Ｙｌ
Ｚ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性化合物を第二工程において、希釈剤の存在
下において且つ必要に応じて、酸結合剤の存在下におい
て０℃乃至１００℃間の温度でオキサチアン化合物の開
裂に適する試薬と反応させ、そしてかくして生成した式 式中、Ｒ，Ｙ％Ｚ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性α−ヒドロキシアルデヒドを希釈剤の存在
下において一２０℃乃至＋１００℃間の温度で、アルデ
ヒドの還元に適する試薬と反応させ、更に第三工程にお
いて、かくして得られた式式中、Ｒ％Ｙ、Ｚ及びｍは上
記の意味を有する、 の光学的活性ジオール類を希釈剤の存在下において且つ
結合剤の存在下において０℃乃至１００°Ｃ間の温度で
式 ％式％（） 式中、Ｒ″はアルキル、ハロゲノアルキル或いは置換さ
れたまたは未置換フェニルを表わし、そして Ｈａｔはハロゲンを表わす、 のスルホン酸誘導体と反応させ、最後に、第四工程にお
いて、生ずる式 式中、Ｒ，Ｒ１１、Ｙ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する
、 の光学的活性化合物を希釈剤の存在下において且つ必要
に応じて、酸結合剤の存在下において２０°Ｃ乃至１５
０°Ｃ間の温度で式 式中、Ｍｅ’はアルカリ金属を表わす、のトリアゾール
塩と反応させる ことによって得られる。
並びに殺菌・殺カビ及び植物−生長調節特性を有する活
性物質の製造に対する中間体として使用し得ることが見
い出された。かくして、式式中、Ｒ７はメチルまたはフ
ェニルヲ表わし、Ｒ８はメチルまたはフェニルを表わし
、モしてＸＣＩはハライドまたはメトスルフェートを表
わ式中、Ｒは上記の意味を有し、 Ｙは酸素、直接結合またはＣＨ，基を表わし、２はハロ
ゲン、アルキル、シクロアルキル、アルコキシ、アルキ
ルチオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキン、ハロ
ゲノアルキルチオ、置換されたまたは未置換フェノキシ
、置換されたまたは未置換フェニルアルキル或いは置換
されたまたは未置換フェノキシアルキルを表わし、そし
て ｎは数０．ｌ、２または３を表わす、 の光学的活性２−ヒドロキシエチルアゾール誘導体は式 式中、Ｒ，Ｒ’Ｒ”、ＲＪ Ｒ″、Ｒ６及びＲ′は上記
の意味を有する、 の光学的活性オキシランを、第一工程において、γ）塩
基の存在下において且つ希釈剤の存在下において０℃乃
至１５０℃間の温度で式 式中、Ｚ及びｍは上記の意味を有する、のフェノール誘
導体と反応させるか、 δ）希釈剤の存在下において一７８°Ｃ乃至＋１００°
Ｃ間の温度で式 式中、Ｚ及びｍは上記の意味を有し、 Ｍｅはアルカリ土類金属を表わすか、または亜鉛を表わ
し、そして ｘ２は塩素、臭素またはヨウ素を表わす、のグリニアー
ル化合物と反応させ、次にかくして得られた式 式中、Ｒ，Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ３、Ｒ６、Ｙｌ
Ｚ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性化合物を第二工程において、希釈剤の存在
下において且つ必要に応じて、酸結合剤の存在下におい
て０℃乃至１００℃間の温度でオキサチアン化合物の開
裂に適する試薬と反応させ、そしてかくして生成した式 式中、Ｒ，Ｙ％Ｚ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性α−ヒドロキシアルデヒドを希釈剤の存在
下において一２０℃乃至＋１００℃間の温度で、アルデ
ヒドの還元に適する試薬と反応させ、更に第三工程にお
いて、かくして得られた式式中、Ｒ％Ｙ、Ｚ及びｍは上
記の意味を有する、 の光学的活性ジオール類を希釈剤の存在下において且つ
結合剤の存在下において０℃乃至１００°Ｃ間の温度で
式 ％式％（） 式中、Ｒ″はアルキル、ハロゲノアルキル或いは置換さ
れたまたは未置換フェニルを表わし、そして Ｈａｔはハロゲンを表わす、 のスルホン酸誘導体と反応させ、最後に、第四工程にお
いて、生ずる式 式中、Ｒ，Ｒ１１、Ｙ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する
、 の光学的活性化合物を希釈剤の存在下において且つ必要
に応じて、酸結合剤の存在下において２０°Ｃ乃至１５
０°Ｃ間の温度で式 式中、Ｍｅ’はアルカリ金属を表わす、のトリアゾール
塩と反応させる ことによって得られる。
本方法の場合、個々の基の立体構造をある場合にのみ式
で示した。更に不斉的に置換された炭素原子を、化合物
が光学的活性化合物である場合、（＊）によって示した
。しるしを付けた炭素原子に加えて、更に不斉的に置換
された炭素原子が追加的に存在し得る。
で示した。更に不斉的に置換された炭素原子を、化合物
が光学的活性化合物である場合、（＊）によって示した
。しるしを付けた炭素原子に加えて、更に不斉的に置換
された炭素原子が追加的に存在し得る。
式（１）の光学的活性オキシランを製造するための本発
明による反応過程は極めて驚くべきこととみなさなけれ
１ｆならない。かくして、式（ＩＩ［）のスルホニウム
塩または式（ＩＶ）のスルホキソニウム塩を強塩基で処
理した際に中間体として生成するイリドが式（Ｔ１）の
オキサチアンケトンと立体選択的に反応することは予想
できなかった。むしろ、硫黄イリドが、その高い反応性
のために、式（Ｉ）の光学的活性オキシランの２種の型
がほとんど等部で存在する混合物を生ずるように、カル
ボニル基を攻撃するものと推測すべきであった。
明による反応過程は極めて驚くべきこととみなさなけれ
１ｆならない。かくして、式（ＩＩ［）のスルホニウム
塩または式（ＩＶ）のスルホキソニウム塩を強塩基で処
理した際に中間体として生成するイリドが式（Ｔ１）の
オキサチアンケトンと立体選択的に反応することは予想
できなかった。むしろ、硫黄イリドが、その高い反応性
のために、式（Ｉ）の光学的活性オキシランの２種の型
がほとんど等部で存在する混合物を生ずるように、カル
ボニル基を攻撃するものと推測すべきであった。
式（１）の光学的活性オキシランを高い選択性及び極め
て良好な収率で式（Ｖ）の光学的活性２−ヒドロキシエ
チルアゾール誘導体に転化し得ることはまた驚くべきこ
とである。このことは合成の多段階特質のために、副反
応を起こし、また各々の場合に望ましくないエナンチオ
マーが所望のエナンチオマーに加えて、最終生成物中に
比較的多量に存在することを予想すべきであったためで
ある。
て良好な収率で式（Ｖ）の光学的活性２−ヒドロキシエ
チルアゾール誘導体に転化し得ることはまた驚くべきこ
とである。このことは合成の多段階特質のために、副反
応を起こし、また各々の場合に望ましくないエナンチオ
マーが所望のエナンチオマーに加えて、最終生成物中に
比較的多量に存在することを予想すべきであったためで
ある。
式（Ｉ）の光学的活性オキシランの製造に対する本発明
における方法は一連の利点を有することに特色がある。
における方法は一連の利点を有することに特色がある。
かくして、出発物質として必要なオキサチアンケトンが
そのエナンチオマー的に純粋な形態で得られ、そして必
要な反応成分として、またかなり多量に得られる。更に
、反応及び処理は困難でない。しかしながら、最も決定
的な利点は光学的活性オキシランを直接合成によって立
体特異的に製造することができ、ラセミ体の分割を行う
必要がないことである。
そのエナンチオマー的に純粋な形態で得られ、そして必
要な反応成分として、またかなり多量に得られる。更に
、反応及び処理は困難でない。しかしながら、最も決定
的な利点は光学的活性オキシランを直接合成によって立
体特異的に製造することができ、ラセミ体の分割を行う
必要がないことである。
また式（Ｖ）の光学的活性２−ヒドロキシエチルアゾー
ル誘導体の製造方法は顕著な利点を有している。この場
合、更に、使用する反応成分は、多量にでも得られ、そ
して取り扱いの容易な普通の試薬のみである。更にまた
、個々の反応及び各々の場合に生じた反応生成物の処理
は困難でない。
ル誘導体の製造方法は顕著な利点を有している。この場
合、更に、使用する反応成分は、多量にでも得られ、そ
して取り扱いの容易な普通の試薬のみである。更にまた
、個々の反応及び各々の場合に生じた反応生成物の処理
は困難でない。
最後に、式（Ｖ）の光学的活性２−ヒドロキシエチルア
ゾール誘導体の不斉全合成において、全ての出発物質が
所望の個々のエナンチオマーに転化されることが殊に好
ましい。
ゾール誘導体の不斉全合成において、全ての出発物質が
所望の個々のエナンチオマーに転化されることが殊に好
ましい。
本発明による光学的活性オキシランは一般に式（Ｉ）に
よって定義される。
よって定義される。
式（■）、但し、
Ｒが未置換またはハロゲン、炭素原子１〜４個を有する
アルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキルチオ、
ＣＯＨ基及びその誘導体、フェノキシ及び／またはフェ
ニルで置換される炭素原子１〜６個を有する直鎖状また
は分枝鎖状アルキルを表わすか、未置換または炭素原子
１〜４個を有するアルキル、炭素原子１〜４個を有する
アルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキルチオ及
び／またはハロゲンで置換される炭素原子３〜８個を有
するシクロアルキルを表わすか、或いは未置換または炭
素原子１〜４個を何するアルキル、炭素原子１〜４個を
有するアルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキル
チオ及び／またはハロゲンで置換されるフェニルを表わ
し、そして Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３Ｒ４、Ｒ６及びＲ６が水素または炭素
原子１〜４個を有するアルキルを表わすが、但し、数基
の少なくとも１つは炭素原子１〜４個を有するアルキル
を表わし、更にまた、Ｒ４及びＲ５は共に、未置換また
は一連の炭素原子１〜４個を有するアルキルからなる同
一もしくは相異なる置換基で一置換乃至三置換される炭
素原子３〜６個を有するアルカンジイルを表わすか、或
いは更に Ｒ４及びＲ６が隣接炭素原子と一緒になって、未置換又
は一連の炭素原子１〜４個を有するアルキルからなる同
一もしくは相異なる置換基で一置換乃至三置換される炭
素原子７個または８個を有する融合した二環式炭化水素
を表わすの化合物が好ましい。
アルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキルチオ、
ＣＯＨ基及びその誘導体、フェノキシ及び／またはフェ
ニルで置換される炭素原子１〜６個を有する直鎖状また
は分枝鎖状アルキルを表わすか、未置換または炭素原子
１〜４個を有するアルキル、炭素原子１〜４個を有する
アルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキルチオ及
び／またはハロゲンで置換される炭素原子３〜８個を有
するシクロアルキルを表わすか、或いは未置換または炭
素原子１〜４個を何するアルキル、炭素原子１〜４個を
有するアルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキル
チオ及び／またはハロゲンで置換されるフェニルを表わ
し、そして Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３Ｒ４、Ｒ６及びＲ６が水素または炭素
原子１〜４個を有するアルキルを表わすが、但し、数基
の少なくとも１つは炭素原子１〜４個を有するアルキル
を表わし、更にまた、Ｒ４及びＲ５は共に、未置換また
は一連の炭素原子１〜４個を有するアルキルからなる同
一もしくは相異なる置換基で一置換乃至三置換される炭
素原子３〜６個を有するアルカンジイルを表わすか、或
いは更に Ｒ４及びＲ６が隣接炭素原子と一緒になって、未置換又
は一連の炭素原子１〜４個を有するアルキルからなる同
一もしくは相異なる置換基で一置換乃至三置換される炭
素原子７個または８個を有する融合した二環式炭化水素
を表わすの化合物が好ましい。
式（Ｉ）、但し、
Ｒが未置換或いはフッ素、塩素、臭素、炭素原子１個ま
たは２個を有するアルコキシ、ジオキソラニル、ホルミ
ル、メトキシイミノメチル、炭素原子１個または２個を
有するアルキルチオ、フェノキシ及び／またはフェニル
で置換される炭素原子１〜４個を有するアルキルを表わ
すか、未置換或いは炭素原子１個または２（ｉを有する
アルキル、炭素原子１個または２個を有するアルコキシ
、炭素原子１個または２個を有するアルキルチオ、フッ
素、塩素及び／または臭素で置換される炭素原子３〜７
個を有するシクロアルキルを表わすか、或いは未置換ま
たは炭素原子１個または２個を有するアルキル、炭素原
子１個または２個を有するアルコキシ、炭素原子１個ま
たは２個を有するアルキルチオ、フッ素、塩素及び／ま
たは臭素で置換されるフェニルを表わし、 Ｒ’ 、Ｒ” 、Ｒ３、Ｒ’ 、Ｒ’ 及びＲ’ が水
素、メチルまたはエチルを表わすが、但し、数基の少な
くとも１つはメチルまたはエチルを表わし、更にまた、 Ｒ４及びＲ５は共に、未置換または一連のメチル及び／
またはエチルからなる同一もしくは相異なる置換基で一
置換乃至三置換される炭素原子３〜５個を有するアルカ
ンジイルを表わすか、或いは更に、 Ｒ４及びＲ６は隣接炭素原子と一緒になって、未置換ま
たは一連のメチル及び／またはエチルからなる同一もし
くは相異なる置換基で一置換乃至三置換される炭素原子
７個または８個を有する融合した二環式炭化水素を表わ
す、の光学的活性化合物が殊に好ましい。
たは２個を有するアルコキシ、ジオキソラニル、ホルミ
ル、メトキシイミノメチル、炭素原子１個または２個を
有するアルキルチオ、フェノキシ及び／またはフェニル
で置換される炭素原子１〜４個を有するアルキルを表わ
すか、未置換或いは炭素原子１個または２（ｉを有する
アルキル、炭素原子１個または２個を有するアルコキシ
、炭素原子１個または２個を有するアルキルチオ、フッ
素、塩素及び／または臭素で置換される炭素原子３〜７
個を有するシクロアルキルを表わすか、或いは未置換ま
たは炭素原子１個または２個を有するアルキル、炭素原
子１個または２個を有するアルコキシ、炭素原子１個ま
たは２個を有するアルキルチオ、フッ素、塩素及び／ま
たは臭素で置換されるフェニルを表わし、 Ｒ’ 、Ｒ” 、Ｒ３、Ｒ’ 、Ｒ’ 及びＲ’ が水
素、メチルまたはエチルを表わすが、但し、数基の少な
くとも１つはメチルまたはエチルを表わし、更にまた、 Ｒ４及びＲ５は共に、未置換または一連のメチル及び／
またはエチルからなる同一もしくは相異なる置換基で一
置換乃至三置換される炭素原子３〜５個を有するアルカ
ンジイルを表わすか、或いは更に、 Ｒ４及びＲ６は隣接炭素原子と一緒になって、未置換ま
たは一連のメチル及び／またはエチルからなる同一もし
くは相異なる置換基で一置換乃至三置換される炭素原子
７個または８個を有する融合した二環式炭化水素を表わ
す、の光学的活性化合物が殊に好ましい。
式（■）、但し、
Ｒが未置換または一連のフッ素、塩素、臭素、メトキシ
、メチルチオ、メトキシイミノメチル、フェノキシ及び
／またはフェニルからなる同一もしくは相異なる置換基
で一置換まＩ；は二置換されるメチル、エチル、イソプ
ロピルまたはｔｅｒｔ、−ブチルを表わすか、基 ＣＨ。
、メチルチオ、メトキシイミノメチル、フェノキシ及び
／またはフェニルからなる同一もしくは相異なる置換基
で一置換まＩ；は二置換されるメチル、エチル、イソプ
ロピルまたはｔｅｒｔ、−ブチルを表わすか、基 ＣＨ。
を表わすか、各々置換または一連のメチル、メチルチオ
、７ノ素及び／または塩素からなる同一もしくは相異な
る置換基で一置換または二置換されるシクロプロピル、
シクロペンチルマタはシクロヘキンルを表わすか、或い
は未置換または一連のメチル、メトキシ、メチルチオ、
フッ素及び／または塩素からなる同一もしくは相異なる
置換基で一置換または二置換されるフェニルを表わし、
そしてオキサチアン部分が式％式％ の光学的活性オキシランが殊に極めて好ましい。
、７ノ素及び／または塩素からなる同一もしくは相異な
る置換基で一置換または二置換されるシクロプロピル、
シクロペンチルマタはシクロヘキンルを表わすか、或い
は未置換または一連のメチル、メトキシ、メチルチオ、
フッ素及び／または塩素からなる同一もしくは相異なる
置換基で一置換または二置換されるフェニルを表わし、
そしてオキサチアン部分が式％式％ の光学的活性オキシランが殊に極めて好ましい。
出発物質としてエナンチオマー的に純粋なオキサチアン
ケトンを用い、反応成分としてトリメチルスルホキソニ
ウムを用い、そして塩基としてカリウムｔｅｒｔ 、−
ブチレートを用いて本発明による方法を行った場合、そ
の反応過程は次の反応式によって表わすことができる： Ｃ１１゜ （ＩＩ−１） ジアステレオマー（Ａ）（１−１） 可能な２種のジアステレオマー（Ａ） 及び（Ｂ）が本
発明による反応において生成することはオキサチアンケ
トンの立体構造に依存する。
ケトンを用い、反応成分としてトリメチルスルホキソニ
ウムを用い、そして塩基としてカリウムｔｅｒｔ 、−
ブチレートを用いて本発明による方法を行った場合、そ
の反応過程は次の反応式によって表わすことができる： Ｃ１１゜ （ＩＩ−１） ジアステレオマー（Ａ）（１−１） 可能な２種のジアステレオマー（Ａ） 及び（Ｂ）が本
発明による反応において生成することはオキサチアンケ
トンの立体構造に依存する。
本発明による方法を行う際に出発物質として必要なエナ
ンチオマー的に純粋なオキサチアンケトンは一般に式（
ｎ）によって定義される。この式において、Ｒ，Ｒ’、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ″及びＲ６は好ましくは本発明に
よる式（Ｉ）の物質の記述に関連して、これらの基に対
して好ましいものとしてすでに述べた意味を有する。式
（ＩＩ）のエナンチオマー的に純粋なオキサチアンケト
ンは公知であるか、或いは原則として公知の方法によっ
て製造することができる［ＤＥ−Ｏ３（ドイツ国特許出
願公開明細書）第３．６２７．６７３号参照］。
ンチオマー的に純粋なオキサチアンケトンは一般に式（
ｎ）によって定義される。この式において、Ｒ，Ｒ’、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ″及びＲ６は好ましくは本発明に
よる式（Ｉ）の物質の記述に関連して、これらの基に対
して好ましいものとしてすでに述べた意味を有する。式
（ＩＩ）のエナンチオマー的に純粋なオキサチアンケト
ンは公知であるか、或いは原則として公知の方法によっ
て製造することができる［ＤＥ−Ｏ３（ドイツ国特許出
願公開明細書）第３．６２７．６７３号参照］。
本発明による方法（方法ａ）を行う際に反応成分として
必要なスルホニウム塩は一般に式（Ｉ［）によって定義
される。式（■）、但し、Ｒ７はメチルまたはフェニル
を表わし、Ｒ６はメチルまたはフェニルを表わし、そし
てｘｅはクロライド、ブロマイド、アイオダイドまたは
メトスルフェートを表わす、 の化合物が好ましい。
必要なスルホニウム塩は一般に式（Ｉ［）によって定義
される。式（■）、但し、Ｒ７はメチルまたはフェニル
を表わし、Ｒ６はメチルまたはフェニルを表わし、そし
てｘｅはクロライド、ブロマイド、アイオダイドまたは
メトスルフェートを表わす、 の化合物が好ましい。
本発明による方法（方法β）を行う際に反応成分として
必要なスルホキソニウム塩は一般に式（ｒＶ）によって
定義される。式（■）、但し、Ｒ−はメチルまたはフェ
ニルを表わし、ＲＩｏはメチルまたはフェニルを表わし
、そしてＸ１θはクロライド、ブロマイド、アイオダイ
ドまたはメトスルフェートを表わす、 の化合物が好ましい。
必要なスルホキソニウム塩は一般に式（ｒＶ）によって
定義される。式（■）、但し、Ｒ−はメチルまたはフェ
ニルを表わし、ＲＩｏはメチルまたはフェニルを表わし
、そしてＸ１θはクロライド、ブロマイド、アイオダイ
ドまたはメトスルフェートを表わす、 の化合物が好ましい。
式（ＩＩＩ）のスルホニウム塩及び式（ＩＶ）のスルホ
キソニウム塩の双方が公知であるか、或いは公知の方法
によって製造することができる［ジャーナル・オブ・ジ
・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（Ｊ 、 Ａｍ
ｅｒ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、） ８７．１３５
３−１３６４ （１９６５）及びＥＰ−Ｏ５第０゜０４
０．３４５号参照１゜ 本発明による方法を行う際に、方法α及び方法βの双方
において、塩基として全ての普通の無機及び有機塩基を
用いることができる。好ましくは水素化ナトリウム、ナ
トリウムアミド及びアルカリ金属水酸化物例えば水酸化
ナトリウムまたは水酸化カリウム、並びにまたアノ１カ
リ金属アルコレート、例えばナトリウムメチレートナト
リウムエチレート及びｔｅｒｔ、−カリウムブチレート
を用いることができる。
キソニウム塩の双方が公知であるか、或いは公知の方法
によって製造することができる［ジャーナル・オブ・ジ
・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（Ｊ 、 Ａｍ
ｅｒ、 Ｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、） ８７．１３５
３−１３６４ （１９６５）及びＥＰ−Ｏ５第０゜０４
０．３４５号参照１゜ 本発明による方法を行う際に、方法α及び方法βの双方
において、塩基として全ての普通の無機及び有機塩基を
用いることができる。好ましくは水素化ナトリウム、ナ
トリウムアミド及びアルカリ金属水酸化物例えば水酸化
ナトリウムまたは水酸化カリウム、並びにまたアノ１カ
リ金属アルコレート、例えばナトリウムメチレートナト
リウムエチレート及びｔｅｒｔ、−カリウムブチレート
を用いることができる。
本発明による方法を行う際に、方法α及び方法βの双方
の方法において、希釈剤としてこのタイプの反応に対し
て普通の不活性有機溶媒を用いることができる。好まし
くは、ニトリル、例えばアセトニトリル、更にアルコー
ル、例えばメタノール、エタノール、プロパツール、ｎ
−フタノール及びｔａｒｔ、−ブタノール、また有極性
溶媒、例えばジメチルスルホキシド、更に芳香族または
脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ベンゼン、トルエン
及びキシレン、並びに最後にまたジメチルスルファイド
またはジメチルスルフニー１・を用いることができる。
の方法において、希釈剤としてこのタイプの反応に対し
て普通の不活性有機溶媒を用いることができる。好まし
くは、ニトリル、例えばアセトニトリル、更にアルコー
ル、例えばメタノール、エタノール、プロパツール、ｎ
−フタノール及びｔａｒｔ、−ブタノール、また有極性
溶媒、例えばジメチルスルホキシド、更に芳香族または
脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ベンゼン、トルエン
及びキシレン、並びに最後にまたジメチルスルファイド
またはジメチルスルフニー１・を用いることができる。
本発明による方法を行う際に、方法α及び方法βの双方
の方法において、反応温度をある範囲内で変えることが
できる。一般に、反応は一７８°Ｃ乃至＋ｌ Ｏ０℃間
、好ましくは０℃乃至６０°Ｃ間の温度で行われる。
の方法において、反応温度をある範囲内で変えることが
できる。一般に、反応は一７８°Ｃ乃至＋ｌ Ｏ０℃間
、好ましくは０℃乃至６０°Ｃ間の温度で行われる。
一般に本発明による方法は大気圧下で行われる。
しかしながら、また超大気圧下または減圧下で行うこと
もできる。
もできる。
本発明による方法を行う際に、反応成分の量を、一般に
エナンチオマー的に純粋なオキサチアンケトン１モル当
り式（ＩＩＩ）のスルホニウム塩または式（ＩＶ＞のス
ルホキソニウム塩１．０〜２．０モル、好ましくは１．
１〜１．８モル及び塩基１゜０〜２．５モル、好ましく
は１．３〜２０モルが存在するように選ぶ。
エナンチオマー的に純粋なオキサチアンケトン１モル当
り式（ＩＩＩ）のスルホニウム塩または式（ＩＶ＞のス
ルホキソニウム塩１．０〜２．０モル、好ましくは１．
１〜１．８モル及び塩基１゜０〜２．５モル、好ましく
は１．３〜２０モルが存在するように選ぶ。
詳細には、本発明による方法は、希釈剤中の式（ｎ）の
エナンチオマー的に純粋なオキサチアンケトン及び新ら
たに製造した式（１）のスルホニウム塩または式（ＩＶ
）のホスホキンニウム塩の混合物を不活性ガス雰囲気な
しにまたは存在下にて強塩基で処理し、そして混合物を
撹拌する方法で行われる。続いての処理は普通の方法で
行われる。
エナンチオマー的に純粋なオキサチアンケトン及び新ら
たに製造した式（１）のスルホニウム塩または式（ＩＶ
）のホスホキンニウム塩の混合物を不活性ガス雰囲気な
しにまたは存在下にて強塩基で処理し、そして混合物を
撹拌する方法で行われる。続いての処理は普通の方法で
行われる。
一般に、処理法は、反応混合物をまず希釈剤の蒸発によ
って濃縮し、残渣を水で処理し、生じた混合物を水と低
混和性を有する有機溶媒で抽出し、合液した有機相を乾
燥し、そして濃縮する方法である。必要に応じて、得ら
れた生成物から、まだ存在している望ましくない物質を
普通の方法によって、例えばカラムクロマトグラフィー
を用いる精製によって除去することができる。
って濃縮し、残渣を水で処理し、生じた混合物を水と低
混和性を有する有機溶媒で抽出し、合液した有機相を乾
燥し、そして濃縮する方法である。必要に応じて、得ら
れた生成物から、まだ存在している望ましくない物質を
普通の方法によって、例えばカラムクロマトグラフィー
を用いる精製によって除去することができる。
すでに述べた如く、本発明による式（Ｉ）の光学的活性
オキシランは殺菌・殺カビ及び植物−生長調節特性を有
する光学的活性２−ヒドロキシエチルアゾール誘導体の
合成に対する価値ある中間体である。
オキシランは殺菌・殺カビ及び植物−生長調節特性を有
する光学的活性２−ヒドロキシエチルアゾール誘導体の
合成に対する価値ある中間体である。
式（Ｖ）の化合物を製造するため方法γを行う際に、出
発物質として式（Ｉ−１）の光学的活性オキシラン及び
４−クロロフェノールを用い、第二工程において、オキ
サチアン化合物を開裂させるための試薬としてＮ−クロ
ロコハク酸イミド及び硝酸銀を用い、第二工程において
アルデヒドを還元するために水素化リチウムアルミニウ
ムを用い、第三工程において反応成分としてクロロメタ
ンスルホン酸を用い、そして第四工程において反応体と
して１．２．４−トリアゾールのナトリウム塩を用いる
場合、その反応過程は次の反応式によって説明すること
ができる： ジアステレオマ−（Ａ） （Ｉ−１） ＨＯ−ＣＨｚ＼本／Ｃ（Ｃ１１，）。
発物質として式（Ｉ−１）の光学的活性オキシラン及び
４−クロロフェノールを用い、第二工程において、オキ
サチアン化合物を開裂させるための試薬としてＮ−クロ
ロコハク酸イミド及び硝酸銀を用い、第二工程において
アルデヒドを還元するために水素化リチウムアルミニウ
ムを用い、第三工程において反応成分としてクロロメタ
ンスルホン酸を用い、そして第四工程において反応体と
して１．２．４−トリアゾールのナトリウム塩を用いる
場合、その反応過程は次の反応式によって説明すること
ができる： ジアステレオマ−（Ａ） （Ｉ−１） ＨＯ−ＣＨｚ＼本／Ｃ（Ｃ１１，）。
ＣＨ＞−５ｏｗ−０−ＣＨ＊＼２．・Ｃ（Ｃ１，）３式
（Ｖ）の化合物を製造するための方法δを行う際に、出
発物質として式（Ｉ）の光学的活性オキシラン及び４−
クロロベンジルマグネシウムブロマイドを用い、第二工
程において、オキサチアン化合物を開裂させるための試
薬としてＮ−クロロコハク酸イミド及び硝酸銀を用い、
第二工程においてアルデヒドを還元するために水素化リ
チウムアルミニウムを用い、第三工程において反応成分
としてクロロメタンスルホン酸を用い、そして第四工程
において反応体として１．２．４−トリアゾールのナト
リウム塩を用いる場合、その反応過程は次の反応式によ
って説明することができる： Ｓ−エナンチオマー ＨＯ−ＣＨ２ン／Ｃ（ＣＨ３）５ Ｈ，Ｃ−３ｏ２−０−ＣＨ２・１、本、、Ｃ（ＣＨｓ
） ｓ上記式及びまた統いての記述の部分において、各
々の場合に立体配置「Ｒ」または「Ｓ」の指示はカルビ
ノール炭素原子を示す。
（Ｖ）の化合物を製造するための方法δを行う際に、出
発物質として式（Ｉ）の光学的活性オキシラン及び４−
クロロベンジルマグネシウムブロマイドを用い、第二工
程において、オキサチアン化合物を開裂させるための試
薬としてＮ−クロロコハク酸イミド及び硝酸銀を用い、
第二工程においてアルデヒドを還元するために水素化リ
チウムアルミニウムを用い、第三工程において反応成分
としてクロロメタンスルホン酸を用い、そして第四工程
において反応体として１．２．４−トリアゾールのナト
リウム塩を用いる場合、その反応過程は次の反応式によ
って説明することができる： Ｓ−エナンチオマー ＨＯ−ＣＨ２ン／Ｃ（ＣＨ３）５ Ｈ，Ｃ−３ｏ２−０−ＣＨ２・１、本、、Ｃ（ＣＨｓ
） ｓ上記式及びまた統いての記述の部分において、各
々の場合に立体配置「Ｒ」または「Ｓ」の指示はカルビ
ノール炭素原子を示す。
式（Ｖ）の光学的活性２−ヒドロキシエチルアゾール誘
導体の製造に対する方法γを行う際に、反応成分として
必要なフェノール誘導体は一般に式（Ｖｌ）によって定
義される。式（■）、但し、Ｚはフッ素、塩素、臭素、
炭素原子１〜４個を有するアルキル、炭素原子３〜８個
を有するシクロアルキル、炭素原子１〜４個を有するア
ルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキルチオ、炭
素原子１個または２個及び同一もしくは相異なるハロゲ
ン原子１〜５個を有するハロゲノアルキル、炭素原子１
個または２個及び同一もしくは相異なるハロゲン原子１
〜５個を有するハロゲノアルコキシ、炭素原子１個また
は２個及び同一もしくは相異なるハロゲン原子１〜５個
を有するハロゲノアルキルチオ、未置換またはハロゲン
及び／または炭素原子１〜４個を有するアルキルで置換
されるフェニル、未置換またはハロゲン及び／または炭
素原子１〜４個を有するアルキルで置換されるフェノキ
シ、アルキル部分に炭素原子ｌ＠または２個を有し且つ
未置換またはハロゲン及び／または炭素原子１〜４個を
有するアルキルで置換されるフェニルアルキルを表わす
か、或いはアルコキシ部分に炭素原子１個または２個を
有し且つ未置換またはハロゲン及び／または炭素原子１
〜４個を有するアルキルで置換されるフェニルアルキル
を表わし、そして ｍは数Ｏ１１，２及び３を表わす、 の化合物が好ましい。
導体の製造に対する方法γを行う際に、反応成分として
必要なフェノール誘導体は一般に式（Ｖｌ）によって定
義される。式（■）、但し、Ｚはフッ素、塩素、臭素、
炭素原子１〜４個を有するアルキル、炭素原子３〜８個
を有するシクロアルキル、炭素原子１〜４個を有するア
ルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキルチオ、炭
素原子１個または２個及び同一もしくは相異なるハロゲ
ン原子１〜５個を有するハロゲノアルキル、炭素原子１
個または２個及び同一もしくは相異なるハロゲン原子１
〜５個を有するハロゲノアルコキシ、炭素原子１個また
は２個及び同一もしくは相異なるハロゲン原子１〜５個
を有するハロゲノアルキルチオ、未置換またはハロゲン
及び／または炭素原子１〜４個を有するアルキルで置換
されるフェニル、未置換またはハロゲン及び／または炭
素原子１〜４個を有するアルキルで置換されるフェノキ
シ、アルキル部分に炭素原子ｌ＠または２個を有し且つ
未置換またはハロゲン及び／または炭素原子１〜４個を
有するアルキルで置換されるフェニルアルキルを表わす
か、或いはアルコキシ部分に炭素原子１個または２個を
有し且つ未置換またはハロゲン及び／または炭素原子１
〜４個を有するアルキルで置換されるフェニルアルキル
を表わし、そして ｍは数Ｏ１１，２及び３を表わす、 の化合物が好ましい。
式（■）、但し、
Ｚはフッ素、塩素、臭素、炭素原子１〜４個を有するア
ルキル、炭素原子３〜７個を有するシクロアルキル、炭
素原子１個または２個を有するアルコキシ、炭素原子１
個または２個を有するアルキルチす、同一もしくは相異
なるハロゲン原子１〜３個を有するハロゲノメチル、同
一もしくは相異なるハロゲン原子１〜３個を有するハロ
ゲノメトキシ、同一もしくは相異なるハロゲン原子１〜
３個を有するハロゲノメチルチオ、未置換またはフッ素
、塩素及び／またはメチルで置換されるフェニル、未置
換またはフッ素、塩素及び／またはメチルで置換される
フェノキシ、未置換またはフッ素、塩素及び／またはメ
チルで置換されるベンジルを表わすか、或いは未置換ま
たはフッ素、塩素及び／またはメチルで置換されるベン
ジルオキシを表わし、そして ｍは数０．１，２または３を表わす、 のフェノール誘導体が殊に好ましい。
ルキル、炭素原子３〜７個を有するシクロアルキル、炭
素原子１個または２個を有するアルコキシ、炭素原子１
個または２個を有するアルキルチす、同一もしくは相異
なるハロゲン原子１〜３個を有するハロゲノメチル、同
一もしくは相異なるハロゲン原子１〜３個を有するハロ
ゲノメトキシ、同一もしくは相異なるハロゲン原子１〜
３個を有するハロゲノメチルチオ、未置換またはフッ素
、塩素及び／またはメチルで置換されるフェニル、未置
換またはフッ素、塩素及び／またはメチルで置換される
フェノキシ、未置換またはフッ素、塩素及び／またはメ
チルで置換されるベンジルを表わすか、或いは未置換ま
たはフッ素、塩素及び／またはメチルで置換されるベン
ジルオキシを表わし、そして ｍは数０．１，２または３を表わす、 のフェノール誘導体が殊に好ましい。
式（■）、但し、
Ｚはフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、イソプロピ
ル−ｔｅｒｔ、−ブチル、シクロプロピル、シクロペン
チル、シクロヘキシル、メトキシ、メチルチオ、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメ
トキシす、未置換または一連のフッ素、塩素及び／また
はメチルからなる同一もしくは相異なる置換基で一置換
または二置換されるフェニル、未置換または一連のフッ
素、塩素及び／またはメチルからなる同一もしくは相異
なる置換基で一置換または二置換されるフェノキシ、未
置換または一連のフッ素、塩素及び／まｌ；はメチルか
らなる同一もしくは相異なる置換基で一置換または二置
換されるベンジルを表わすか、或いは未置換または一連
のフッ素、塩素及び／またはメチルからなる同一もしく
は相異なる置換基で一置換または二置換されるベンジル
オキシを表わし、そしてｍは数０．ｌ、２または３を表
わす、 の物質が殊に極めて好ましい。
ル−ｔｅｒｔ、−ブチル、シクロプロピル、シクロペン
チル、シクロヘキシル、メトキシ、メチルチオ、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメ
トキシす、未置換または一連のフッ素、塩素及び／また
はメチルからなる同一もしくは相異なる置換基で一置換
または二置換されるフェニル、未置換または一連のフッ
素、塩素及び／またはメチルからなる同一もしくは相異
なる置換基で一置換または二置換されるフェノキシ、未
置換または一連のフッ素、塩素及び／まｌ；はメチルか
らなる同一もしくは相異なる置換基で一置換または二置
換されるベンジルを表わすか、或いは未置換または一連
のフッ素、塩素及び／またはメチルからなる同一もしく
は相異なる置換基で一置換または二置換されるベンジル
オキシを表わし、そしてｍは数０．ｌ、２または３を表
わす、 の物質が殊に極めて好ましい。
式（Ｖｌ）の７工ノール誘導体は一般に有機化学におけ
る公知の化合物である。
る公知の化合物である。
式（Ｖ）の光学的活性化合物を製造するための方法γを
行う際に使用し得る塩基はこのタイプの反応に対する普
通の酸結合剤である。好ましくは、水素化物、例えば水
素化ナトリウム、更にアルカリ金属水酸化物及びアルカ
リ金属炭酸塩、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム、並びにまた加え
て、アルカリ金属アルコレート、例えばナトリウムメチ
レート、ナトリウムメチレート及びカリウムＬｅｒｔ。
行う際に使用し得る塩基はこのタイプの反応に対する普
通の酸結合剤である。好ましくは、水素化物、例えば水
素化ナトリウム、更にアルカリ金属水酸化物及びアルカ
リ金属炭酸塩、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム、並びにまた加え
て、アルカリ金属アルコレート、例えばナトリウムメチ
レート、ナトリウムメチレート及びカリウムＬｅｒｔ。
−ブチレートを用いることができる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物を製造するだめの方法γを
行う際に使用し得る塩基はこのタイプの反応に対する普
通の全ての不活性有機溶媒である。
行う際に使用し得る塩基はこのタイプの反応に対する普
通の全ての不活性有機溶媒である。
好ましくは、アルコール、例えばメタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパツール、インプロパツール、ｎ−ブタノ
ール及びＬｅｒｔ、−ブタノール、並びにまた強有極性
溶媒、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド及びアセトニトリルを用いる。
ル、ｎ−プロパツール、インプロパツール、ｎ−ブタノ
ール及びＬｅｒｔ、−ブタノール、並びにまた強有極性
溶媒、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド及びアセトニトリルを用いる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物を製造するための方法γを
行う際に、反応温度をかなり広い範囲で変えることがで
きる。一般に、反応はＱ ’Ｃ乃至１５０°Ｃ間、好ま
しくはｌＯｏＣ乃至１３０°Ｃ間の温度で行われる。
行う際に、反応温度をかなり広い範囲で変えることがで
きる。一般に、反応はＱ ’Ｃ乃至１５０°Ｃ間、好ま
しくはｌＯｏＣ乃至１３０°Ｃ間の温度で行われる。
一般に、式（Ｖ）の光学的活性化合物を製造する方法γ
による反応は大気圧下で行われる。しかしながら、また
超大気圧下または減圧下で反応を行うこともできる。
による反応は大気圧下で行われる。しかしながら、また
超大気圧下または減圧下で反応を行うこともできる。
式（ｖ）の光学的活性化合物を製造するだめの方法γを
行う際に、一般に、式（Ｉ）の光学的活性オキシラン１
モル当り式（Ｖｌ）の７工ノール誘導体１〜５モル、好
ましくは２〜４モル及びまた塩基１〜５モル、好ましく
は２．５〜４モルを用いる。処理は普通の方法で行われ
る。一般に、処理法は反応混合物をまず濃縮し、次に水
で処理し、水と低混和性を有する有機溶媒で抽出し、合
液した有機相洗浄し、乾燥し、減圧下で希釈剤を蒸発さ
せて濃縮し、そして必要に応じて、残渣を普通の方法で
精製することからなる。
行う際に、一般に、式（Ｉ）の光学的活性オキシラン１
モル当り式（Ｖｌ）の７工ノール誘導体１〜５モル、好
ましくは２〜４モル及びまた塩基１〜５モル、好ましく
は２．５〜４モルを用いる。処理は普通の方法で行われ
る。一般に、処理法は反応混合物をまず濃縮し、次に水
で処理し、水と低混和性を有する有機溶媒で抽出し、合
液した有機相洗浄し、乾燥し、減圧下で希釈剤を蒸発さ
せて濃縮し、そして必要に応じて、残渣を普通の方法で
精製することからなる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物を製造するだめの方法δを
行う際に、反応成分として必要なグリニアール化合物は
一般に式（■）によって定義される。この式において、
Ｚ及びｍは、好ましくは式（Ｖｌ）のフェノール誘導体
の記述に関連して、数基及び指数に対して好ましいもの
としてすでに述べた意味を有する。Ｍｅは好ましくはマ
グネシウムまたは亜鉛を表わし、Ｘ２は塩素、臭素また
はヨウ素を表わす。
行う際に、反応成分として必要なグリニアール化合物は
一般に式（■）によって定義される。この式において、
Ｚ及びｍは、好ましくは式（Ｖｌ）のフェノール誘導体
の記述に関連して、数基及び指数に対して好ましいもの
としてすでに述べた意味を有する。Ｍｅは好ましくはマ
グネシウムまたは亜鉛を表わし、Ｘ２は塩素、臭素また
はヨウ素を表わす。
式（■）のグリニアール化合物は公知であるか、或いは
原則として公知の方法によって製造することができる。
原則として公知の方法によって製造することができる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物を製造するための方法δを
行う際に使用する希釈剤はこのタイプの反応に対して普
通の全ての有機溶媒であることができる。好ましくは、
エーテル、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロ７ラ
ン及びジオキサンを用いることができる。
行う際に使用する希釈剤はこのタイプの反応に対して普
通の全ての有機溶媒であることができる。好ましくは、
エーテル、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロ７ラ
ン及びジオキサンを用いることができる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物を製造するための方法δを
行う際に、反応温度をある範囲内で変えることができる
。一般に、反応は一７８°Ｃ乃至＋１００℃間、好まし
くは一７８℃乃至＋９０℃間の温度で行われる。
行う際に、反応温度をある範囲内で変えることができる
。一般に、反応は一７８°Ｃ乃至＋１００℃間、好まし
くは一７８℃乃至＋９０℃間の温度で行われる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物を製造するための方法δに
よる反応は一般に大気圧下で行われる。
よる反応は一般に大気圧下で行われる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物を製造するための方法δを
行う際に、一般に式（Ｉ）の光学的活性化合物１モル当
り式（■）のグリ二アール化合物１〜３モル、好ましく
は１−１．５モルを用いる。
行う際に、一般に式（Ｉ）の光学的活性化合物１モル当
り式（■）のグリ二アール化合物１〜３モル、好ましく
は１−１．５モルを用いる。
処理は普通の方法で行われる。一般に処理法は、塩化ア
ンモニウム水溶液を反応混合物に加え、有）幾組を分離
し、水相を水と低混和性を有する有機溶媒で数回抽出し
、合液した有機相を乾燥し、濃縮し、そして減圧下で初
期蒸留に付すことからなる。必要に応じて、更にＩ＃製
を普通の方法によって行うことができる。
ンモニウム水溶液を反応混合物に加え、有）幾組を分離
し、水相を水と低混和性を有する有機溶媒で数回抽出し
、合液した有機相を乾燥し、濃縮し、そして減圧下で初
期蒸留に付すことからなる。必要に応じて、更にＩ＃製
を普通の方法によって行うことができる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第二工程を行
う際に、磯城（■）の化合物の開裂のために使用する試
薬はかかる目的に対する普通の全ての物質である。好ま
しくは、Ｎ−クロロコハク酸イミド及び硝酸銀の混合物
を用いることができる。
う際に、磯城（■）の化合物の開裂のために使用する試
薬はかかる目的に対する普通の全ての物質である。好ま
しくは、Ｎ−クロロコハク酸イミド及び硝酸銀の混合物
を用いることができる。
式（■）のオキサチアン化合物の開裂を行う際に、使用
する希釈剤はこのタイプの反応に対して普通の全ての溶
媒である。好ましくは、水及び水と混和し得る有極性の
有機希釈剤の混合物を用いることができる。適当な例は
アセトニトリル及び水の混合物である。
する希釈剤はこのタイプの反応に対して普通の全ての溶
媒である。好ましくは、水及び水と混和し得る有極性の
有機希釈剤の混合物を用いることができる。適当な例は
アセトニトリル及び水の混合物である。
式（■）のオキサチアン化合物の開裂を行う際に、使用
する酸結合剤はこのタイプの反応に対して普通の全ての
酸受容体である。好ましくは、アルカリ金属炭酸塩及び
アルカリ金属重炭酸塩、例えば重炭酸ナトレウムを用い
ることができる。
する酸結合剤はこのタイプの反応に対して普通の全ての
酸受容体である。好ましくは、アルカリ金属炭酸塩及び
アルカリ金属重炭酸塩、例えば重炭酸ナトレウムを用い
ることができる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第二工程にお
ける式（■）のオキサチアン化合物の開裂を行う際に、
反応温度をかなり広い範囲で変えることができる。一般
に、反応は０℃乃至ｌＯＯ°Ｃ間、好ましくは２０°Ｃ
乃至６０°Ｃ間の温度で行われる。
ける式（■）のオキサチアン化合物の開裂を行う際に、
反応温度をかなり広い範囲で変えることができる。一般
に、反応は０℃乃至ｌＯＯ°Ｃ間、好ましくは２０°Ｃ
乃至６０°Ｃ間の温度で行われる。
式（■）のオキサチアン化合物の開裂を行う際に、一般
に、式（■）の化合物１モル当り開裂剤１〜３モル及び
また過剰量の酸結合剤を用いる。
に、式（■）の化合物１モル当り開裂剤１〜３モル及び
また過剰量の酸結合剤を用いる。
処理は普通の方法で行われる。一般に処理法は、塩水溶
液を反応混合物に加え、固体成分を炉別し、炉液を水に
低溶解性を有する有機溶媒で数回抽出し、合液した有機
相を洗浄し、乾燥し、そして濃縮することからなる。得
られた生成物を、更に精製せずに、続いての反応に用い
ることができる。
液を反応混合物に加え、固体成分を炉別し、炉液を水に
低溶解性を有する有機溶媒で数回抽出し、合液した有機
相を洗浄し、乾燥し、そして濃縮することからなる。得
られた生成物を、更に精製せずに、続いての反応に用い
ることができる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第二工程を行
う際に、式（［）の光学的活性σ−ヒドロキシアルデヒ
ドの還元に使用する試薬は、好ましくは複合金属水素化
物、例えば水素化リチウムアルミニウム及び水素化ホウ
素ナトリウムである。
う際に、式（［）の光学的活性σ−ヒドロキシアルデヒ
ドの還元に使用する試薬は、好ましくは複合金属水素化
物、例えば水素化リチウムアルミニウム及び水素化ホウ
素ナトリウムである。
式（Ｉりの光学的活性ａ−ヒドロキシアルデヒドの還元
に対する適当な希釈剤は全ての不活性有機溶媒である。
に対する適当な希釈剤は全ての不活性有機溶媒である。
好ましくは、エーテル、例えばジエチルエーテルまたは
テトラヒドロフランを用いることができる。還元剤とし
て水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、また希釈剤と
して未希釈または水との混合物におけるアルコール、例
えばメタノールまたはエタノール、或いはニトリル、例
えばアセトニトリルを用いることもできる。
テトラヒドロフランを用いることができる。還元剤とし
て水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合、また希釈剤と
して未希釈または水との混合物におけるアルコール、例
えばメタノールまたはエタノール、或いはニトリル、例
えばアセトニトリルを用いることもできる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第二工程にお
ける還元を行う際に、反応温度をある範囲内で変えるこ
とができる。一般に、反応は一２０°Ｃ乃至＋１００°
Ｃ間、好ましくは２０°Ｃ乃至６０°Ｃ間の温度で行わ
れる。
ける還元を行う際に、反応温度をある範囲内で変えるこ
とができる。一般に、反応は一２０°Ｃ乃至＋１００°
Ｃ間、好ましくは２０°Ｃ乃至６０°Ｃ間の温度で行わ
れる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第二工程にお
ける還元を行う際に、一般に式（ＩＩ）の光学的活性α
−ヒドロキシアルデヒド１モル当り還元剤１〜５モルを
用いる。処理は普通の方法で行われる。一般に処理法は
、水に低溶解性を有する有機溶媒及びまたアルカリ金属
水酸化物水溶液を反応混合物に加え、存在する固体成分
を吸引炉別し、乾燥後、有機相を濃縮することからなる
。
ける還元を行う際に、一般に式（ＩＩ）の光学的活性α
−ヒドロキシアルデヒド１モル当り還元剤１〜５モルを
用いる。処理は普通の方法で行われる。一般に処理法は
、水に低溶解性を有する有機溶媒及びまたアルカリ金属
水酸化物水溶液を反応混合物に加え、存在する固体成分
を吸引炉別し、乾燥後、有機相を濃縮することからなる
。
しかしながら、また、最初に、反応終了後に反応混合物
を濃縮し、残った生成物を水に低溶解性を有する有機溶
媒で抽出し、合液した有機相を乾燥し、次にこのものを
濃縮することもできる。得られた生成物を、更に精製せ
ずに、続いての反応に用いることができる。
を濃縮し、残った生成物を水に低溶解性を有する有機溶
媒で抽出し、合液した有機相を乾燥し、次にこのものを
濃縮することもできる。得られた生成物を、更に精製せ
ずに、続いての反応に用いることができる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第三工程を行
う際に反応成分として必要なスルホン酸誘導体は一般に
式（ＸＩ）によって定義される。好ましくは、式（ＩＩ
） 、但し、 Ｒ目は炭素原子１〜４個を有するアルキル、炭素原子１
個または２個及びハロゲン原子１〜５個を有するハロゲ
ノアルキルを表わすか、或いは未置換またはメチルで置
換されるフェニルを表わし、そして Ｈａｔは塩素または臭素を表わす、 のスルホン酸誘導体を用いる。
う際に反応成分として必要なスルホン酸誘導体は一般に
式（ＸＩ）によって定義される。好ましくは、式（ＩＩ
） 、但し、 Ｒ目は炭素原子１〜４個を有するアルキル、炭素原子１
個または２個及びハロゲン原子１〜５個を有するハロゲ
ノアルキルを表わすか、或いは未置換またはメチルで置
換されるフェニルを表わし、そして Ｈａｔは塩素または臭素を表わす、 のスルホン酸誘導体を用いる。
式（Ｕ）のスルホン酸誘導体の適当な例は次のものであ
る二メタンスルホニルクロライド、エタンスルホニルク
ロライド、トリフルオロメタンスルホニルクロライド及
びｐ−１−リスルホニルクロライド。
る二メタンスルホニルクロライド、エタンスルホニルク
ロライド、トリフルオロメタンスルホニルクロライド及
びｐ−１−リスルホニルクロライド。
一般に、式（ｎ）のスルホニル誘導体は有機化学におい
て公知の化合物である。
て公知の化合物である。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第三工程を行
う際に、使用する酸結合剤は好ましくは低級第三アルキ
ルアミン、シクロアルキルアミン、アラルキルアミンま
たはアリールアミンである。
う際に、使用する酸結合剤は好ましくは低級第三アルキ
ルアミン、シクロアルキルアミン、アラルキルアミンま
たはアリールアミンである。
適当な例はトリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジ
ルアミン、ピリジン、ｌ、４−ジアザビシクロ［２，２
，２］オクタン及び１．５−ジアザビシクロ［４，３，
０］ ノン−５−エンである。
ルアミン、ピリジン、ｌ、４−ジアザビシクロ［２，２
，２］オクタン及び１．５−ジアザビシクロ［４，３，
０］ ノン−５−エンである。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第三工程を行
う際に、使用する希釈剤はこのタイプの反応に対して普
通の全ての有機溶媒であることができる。好ましくは、
ハロゲン化された炭化水素例えば塩化メチレン、クロロ
ホルム及び四塩化炭素を用いることができる。
う際に、使用する希釈剤はこのタイプの反応に対して普
通の全ての有機溶媒であることができる。好ましくは、
ハロゲン化された炭化水素例えば塩化メチレン、クロロ
ホルム及び四塩化炭素を用いることができる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第三工程を行
う際に、反応温度をある範囲内で変えることができる。
う際に、反応温度をある範囲内で変えることができる。
一般に、反応は０℃乃至１００℃間、好ましくは０°Ｃ
乃至５０℃間の温度で行われる。
乃至５０℃間の温度で行われる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第三工程を行
う際に、一般に式（Ｘ）の光学的活性ジオール１モル当
り式（ＩＩ）のスルホン酸誘導体１〜１．３モル及び酸
結合剤１〜１．３モルを用いる。処理は普通の方法で行
われる。一般に処理は、反応混合物を最初に弱酸性水溶
液で、次に弱塩基性水溶液で洗浄し、乾燥し、そして濃
縮する。得られた生成物を、更に精製せずに、続いての
反応に用いることができる。
う際に、一般に式（Ｘ）の光学的活性ジオール１モル当
り式（ＩＩ）のスルホン酸誘導体１〜１．３モル及び酸
結合剤１〜１．３モルを用いる。処理は普通の方法で行
われる。一般に処理は、反応混合物を最初に弱酸性水溶
液で、次に弱塩基性水溶液で洗浄し、乾燥し、そして濃
縮する。得られた生成物を、更に精製せずに、続いての
反応に用いることができる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第四工程を行
う際に、反応成分として必要なトリアゾール塩は一般に
式（ＸＩ［Ｉ）によって定義される。
う際に、反応成分として必要なトリアゾール塩は一般に
式（ＸＩ［Ｉ）によって定義される。
Ｍ ｅ ’がナトリウムまたはカリウムを表わす物質が
好ましい。
好ましい。
式（Ｘ■）のトリアゾール塩は公知のものである。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第四工程を行
う際に、用いる酸結合剤は全ての普通の有機及び無機塩
基であることができる。
う際に、用いる酸結合剤は全ての普通の有機及び無機塩
基であることができる。
好ましくは、アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウ
ムまたは重炭酸ナトリウム、更に低級第三アルキルアミ
ン、シクロアルキルアミン、アリールアルキルアミンま
たはアリールアミン、例えばトリエチルアミン、Ｎ、Ｎ
−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、ｌ、４−ジアザ
ビシクロ［２゜２．２１オクタンまたは１．５−ジアザ
ビシクロ［４，３，０１ノン−５−エンを用いることが
できる。
ムまたは重炭酸ナトリウム、更に低級第三アルキルアミ
ン、シクロアルキルアミン、アリールアルキルアミンま
たはアリールアミン、例えばトリエチルアミン、Ｎ、Ｎ
−ジメチルベンジルアミン、ピリジン、ｌ、４−ジアザ
ビシクロ［２゜２．２１オクタンまたは１．５−ジアザ
ビシクロ［４，３，０１ノン−５−エンを用いることが
できる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第四工程を行
う際に、使用する希釈剤はこのタイプの反応に対して普
通の全ての有機溶媒であることができる。好ましくは、
有極性の非プロトン性希釈剤、例えばジメチルホルムア
ミド及びジメチルスルホキシドを用いることができる。
う際に、使用する希釈剤はこのタイプの反応に対して普
通の全ての有機溶媒であることができる。好ましくは、
有極性の非プロトン性希釈剤、例えばジメチルホルムア
ミド及びジメチルスルホキシドを用いることができる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第四工程を行
う際に、反応温度をかなり広い範囲で変えることができ
る。一般に、反応は２０°Ｃ乃至１５０°Ｃ間、好まし
くは５０°Ｃ乃至１５０°Ｃ間の温度で行われる。
う際に、反応温度をかなり広い範囲で変えることができ
る。一般に、反応は２０°Ｃ乃至１５０°Ｃ間、好まし
くは５０°Ｃ乃至１５０°Ｃ間の温度で行われる。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第四工程にお
ける反応を、望ましいならば、不活性ガス雰囲気下で、
例えば窒素またはアルゴン下で行う。
ける反応を、望ましいならば、不活性ガス雰囲気下で、
例えば窒素またはアルゴン下で行う。
式（Ｖ）の光学的活性化合物の製造方法の第四工程を行
う際に、一般に式（ｎ）の光学的活性化合物１モル当り
式（ＸＩＩ［）のトリアゾール塩２〜４モルを用いる。
う際に、一般に式（ｎ）の光学的活性化合物１モル当り
式（ＸＩＩ［）のトリアゾール塩２〜４モルを用いる。
処理は普通の方法で行われる。
一般に処理は、必要に応じて、最初に希釈剤を留去した
後、水及びまた水に低溶解性を有する有機溶媒を反応混
合物に加え、有機相を分離し、乾燥し、濃縮し、モして
残渣をクロマトグラフィーによって精製することからな
る。
後、水及びまた水に低溶解性を有する有機溶媒を反応混
合物に加え、有機相を分離し、乾燥し、濃縮し、モして
残渣をクロマトグラフィーによって精製することからな
る。
本発明による製造方法を以下の実施例によって説明する
。
。
実施例 １
（Ｉ−１）
カリウムｔｅｒｔ、−ブチレー）１４．５６９ （１
３０ミリモル）をｌＯｏＣの温度で窒素雰囲気下にて撹
拌しながら、無水ｔｅｒｔ、−ブタノール１５０ｍＱ中
の式 ％式％） ８．６ｇ （１３０ミリモル）の溶液に一部づつ加えた
。混合物をｌＯｏＣで１時間、次に室温で１６時間撹拌
した。反応混合物を、減圧下で濃縮し、残液を水に注ぎ
、得られた混合物をジクロロメタンで抽出することによ
って処理した。合液した有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、そして減圧下で濃縮した。この方法で精製物２５
．６ｇ （理論量の９８％）が得られ、このものはガス
クロマトグラフィーによれば、式（Ｉ−１）のジアステ
レオマー（Ａ）９３％及びジアステレオマー（Ｂ）７％
からなっていた（ｄ、ｅ、８６％）。
３０ミリモル）をｌＯｏＣの温度で窒素雰囲気下にて撹
拌しながら、無水ｔｅｒｔ、−ブタノール１５０ｍＱ中
の式 ％式％） ８．６ｇ （１３０ミリモル）の溶液に一部づつ加えた
。混合物をｌＯｏＣで１時間、次に室温で１６時間撹拌
した。反応混合物を、減圧下で濃縮し、残液を水に注ぎ
、得られた混合物をジクロロメタンで抽出することによ
って処理した。合液した有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、そして減圧下で濃縮した。この方法で精製物２５
．６ｇ （理論量の９８％）が得られ、このものはガス
クロマトグラフィーによれば、式（Ｉ−１）のジアステ
レオマー（Ａ）９３％及びジアステレオマー（Ｂ）７％
からなっていた（ｄ、ｅ、８６％）。
ジアステレオマーをシリカゲル上で、溶離剤として石油
エーテル／ジエチルエーテル−５：２を用いて、クロマ
トグラフィーによって分離することができた。これによ
り理論量の６１％の収率で式（Ｉ−１）の純粋なジアス
テレオマ（Ａ）が得られた。
エーテル／ジエチルエーテル−５：２を用いて、クロマ
トグラフィーによって分離することができた。これによ
り理論量の６１％の収率で式（Ｉ−１）の純粋なジアス
テレオマ（Ａ）が得られた。
ジアステレオマー（Ａ）：
Ｒ，値０．４６（シリカゲル二石油エーテル／ジエチル
エーテル−５：１） ！Ｒスペクトル（ＮａＣ１）：３０６０ｃｍ−’ （−
ＣＨ）’Ｈ−ＮＭＲスペクトル（３６０ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｈ）特徴的なシグナル： δ−０，９（ｄ、 ３Ｈ，Ｃ旦ｓ ＣＨ） ； ０．
９９（ｓ、 ９ Ｈ。
エーテル−５：１） ！Ｒスペクトル（ＮａＣ１）：３０６０ｃｍ−’ （−
ＣＨ）’Ｈ−ＮＭＲスペクトル（３６０ＭＨｚ、ＣＤＣ
ｈ）特徴的なシグナル： δ−０，９（ｄ、 ３Ｈ，Ｃ旦ｓ ＣＨ） ； ０．
９９（ｓ、 ９ Ｈ。
ｔ−ブチル’） ； １．２３及び１．４３ （双方、
Ｓ、双方３Ｈ。
Ｓ、双方３Ｈ。
Ｃ旦ｓ ＣＣ旦３） ； ２−８２及び２．９８（ｄ
ｄ、 Ｊ −５，２Ｈｚ、 ２ Ｈｓ 質量スペクトル： ｍ／ｅ＝２９８（２％１Ｍつ 実施例 ２ ５．４８（ｓ、 ｌ Ｈ，−５−ＣＨ−０−）質量ス
ペクトル： ｍ／ｅ＝２９８（２％、Ｍ”） ジアステレオマー（Ｂ）： Ｒ，値０．２９ （シリカゲル：石油エーテル／ジエチ
ルエーテル−５：１） ’Ｈ−ＮＭＲスペクトル（３６０ＭＨｚ％ＣＤＣ１３）
特徴的なシグナル： ａ −０，９１（ｄ、 ３ Ｈ、Ｃ旦３ ＣＨ） ；
１．０４（ｓ、９ Ｈ。
ｄ、 Ｊ −５，２Ｈｚ、 ２ Ｈｓ 質量スペクトル： ｍ／ｅ＝２９８（２％１Ｍつ 実施例 ２ ５．４８（ｓ、 ｌ Ｈ，−５−ＣＨ−０−）質量ス
ペクトル： ｍ／ｅ＝２９８（２％、Ｍ”） ジアステレオマー（Ｂ）： Ｒ，値０．２９ （シリカゲル：石油エーテル／ジエチ
ルエーテル−５：１） ’Ｈ−ＮＭＲスペクトル（３６０ＭＨｚ％ＣＤＣ１３）
特徴的なシグナル： ａ −０，９１（ｄ、 ３ Ｈ、Ｃ旦３ ＣＨ） ；
１．０４（ｓ、９ Ｈ。
ｔ−ブチル） ； １．２４及び１．４３ （双方、Ｓ
、双方３Ｈ。
、双方３Ｈ。
Ｃ旦ｓＣＣ旦ｓ） ； ２．７１及び２．９３（ｄｄ、
Ｊ −４，７Ｈｚ。
Ｊ −４，７Ｈｚ。
５．３０（ｓ、 ｌ Ｈ，−５−ＣＨ−０−）。
第一工程
水素化ナトリウム６．４９ （０，２７モル）（−８
０％水素化ナトリウム８．０ｇ）を無水ジメチルホルム
アミＦ８０ｍ１２中の４−クロロフェノール４３． １
ｙ （０，３４モル）の溶液に加え、混合物を２５°
Ｃで３０分間撹拌した。次にジメチルホルムアミド５０
ｍａ中の実施例１による光学的活性オキシラン（粗製の
生成物）２５ｇ （８４ミリモル）を滴下した。混合物
を２５°Ｃで３０分間、・次に１２０°Ｃで更に１時間
撹拌した。反応混合物を吸引炉別し、炉液を減圧下で濃
縮した。残渣を氷水及びジクロロメタンの混合物中に注
いだ。有機相を分離し、水相をジクロロメタンで２回抽
出し、合液した有機相を１０％水酸化ナトリウム水溶液
で２回、次に塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。硫酸ナ
トリウム上で乾燥した後、有機相を減圧下でＩＩＥ縮し
た。これにより、上記式の２種のジアステレオマー９０
％からなる生成物３２．３ｇが得られ、このジアステレ
オマーの混合物中にジアステレオマー（Ａ）９１．５％
及びジアステレオマー（Ｂ）８．５％が存在していｌ：
（８０％ｄ。
０％水素化ナトリウム８．０ｇ）を無水ジメチルホルム
アミＦ８０ｍ１２中の４−クロロフェノール４３． １
ｙ （０，３４モル）の溶液に加え、混合物を２５°
Ｃで３０分間撹拌した。次にジメチルホルムアミド５０
ｍａ中の実施例１による光学的活性オキシラン（粗製の
生成物）２５ｇ （８４ミリモル）を滴下した。混合物
を２５°Ｃで３０分間、・次に１２０°Ｃで更に１時間
撹拌した。反応混合物を吸引炉別し、炉液を減圧下で濃
縮した。残渣を氷水及びジクロロメタンの混合物中に注
いだ。有機相を分離し、水相をジクロロメタンで２回抽
出し、合液した有機相を１０％水酸化ナトリウム水溶液
で２回、次に塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。硫酸ナ
トリウム上で乾燥した後、有機相を減圧下でＩＩＥ縮し
た。これにより、上記式の２種のジアステレオマー９０
％からなる生成物３２．３ｇが得られ、このジアステレ
オマーの混合物中にジアステレオマー（Ａ）９１．５％
及びジアステレオマー（Ｂ）８．５％が存在していｌ：
（８０％ｄ。
ｅ）。
ジアステレオマーの混合物の分光学的データ＝ＩＲスペ
クトル（Ｎ ａＣｌ）：３６００−３３００ｃｍ−’（
ＯＨ）；１６００．１５８０ｃｍ−’（Ｃ＝ Ｃ）Ｈ−
ＮＭＲスペクトル（３６０Ｍ Ｈｚ％ＣＤ ＣＩｓ）：
特徴的なシグナル： δ−２，８３及び２．９７（ＯＨ） ； ３．３３０−
３−５０（、ｌ Ｈ。
クトル（Ｎ ａＣｌ）：３６００−３３００ｃｍ−’（
ＯＨ）；１６００．１５８０ｃｍ−’（Ｃ＝ Ｃ）Ｈ−
ＮＭＲスペクトル（３６０Ｍ Ｈｚ％ＣＤ ＣＩｓ）：
特徴的なシグナル： δ−２，８３及び２．９７（ＯＨ） ； ３．３３０−
３−５０（、ｌ Ｈ。
−ＣＨ−０Ｒ）；４．０７及び４．２１ （双方ｄｄ、
ＨＯ−冒０Ｈ・）；５・２３及び５・３７（双方・・−
５−ｃ旦−０−）；６．８０−６．９７及び７．２２−
７．３０（４Ｈ、芳香族Ｈ）。
ＨＯ−冒０Ｈ・）；５・２３及び５・３７（双方・・−
５−ｃ旦−０−）；６．８０−６．９７及び７．２２−
７．３０（４Ｈ、芳香族Ｈ）。
質量スペクトル（双方のジアステレオマーに対する同定
）： ｍ／ｅ−４２６（Ｍ＋ない）； ３６９ （０，５％
、Ｍ＋−（−ブチル）、１９９ （１００％オキサチア
ン７ラグメント）。
）： ｍ／ｅ−４２６（Ｍ＋ない）； ３６９ （０，５％
、Ｍ＋−（−ブチル）、１９９ （１００％オキサチア
ン７ラグメント）。
第二工程
Ｓ−エナンチオマー
１１０−ＣＨ，＼本、、Ｃ（ＣＩＬｓ）ｓ
（Ｘ ｌ ）アセトニトリル２５０ｍ１ｌ中の
式（■−１）のジアステレオマー（Ａ）の粗製の生成物
３１．９ｇ （７５ミリモル）の溶液を撹拌しながら、
Ｎ−クロロコハク酸イミド２３．・９ｇ（０，１８モル
）、硝酸銀２５．４ｇ （０，１５モル）、重炭酸ナト
リウム２０．０ｇ （０，２４モル）、アセトニトリル
８０〇−及び水１５０ｍＱの４０〜５０℃に加温した混
合物に加えた。混合物を４０〜５０°Ｃで１５分間撹拌
し、順次、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液７８ｍＱ及び飽
和塩化ナトリウム水溶液を滴下し、混合物を吸引炉別し
、残渣を塩化メチレン／ヘキサン−１：ｌで洗浄した。
（Ｘ ｌ ）アセトニトリル２５０ｍ１ｌ中の
式（■−１）のジアステレオマー（Ａ）の粗製の生成物
３１．９ｇ （７５ミリモル）の溶液を撹拌しながら、
Ｎ−クロロコハク酸イミド２３．・９ｇ（０，１８モル
）、硝酸銀２５．４ｇ （０，１５モル）、重炭酸ナト
リウム２０．０ｇ （０，２４モル）、アセトニトリル
８０〇−及び水１５０ｍＱの４０〜５０℃に加温した混
合物に加えた。混合物を４０〜５０°Ｃで１５分間撹拌
し、順次、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液７８ｍＱ及び飽
和塩化ナトリウム水溶液を滴下し、混合物を吸引炉別し
、残渣を塩化メチレン／ヘキサン−１：ｌで洗浄した。
炉液を塩化メチレン／ヘキサン−１：ｌの混合物の各同
一容量で２回抽出した。有機相を分離し、飽和重炭酸ナ
トリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧下で濃縮し、残渣から存在する溶媒を高真空下で除
去した。主に式の光学的活性α−ヒドロキシアルデヒド
からなるかくして得られた生成物を無水ジエチルエーテ
ル２５０ｎ＋ｆｆに溶解し、無水ジエチルエーテル２５
００１１２中の水素化リチウムアルミニウム１４．１ｇ
（０，３７モル）の懸濁液に室温で撹拌しながら滴下
し。反応混合物を還流下で３時間加熱し、順次、酢酸エ
チル２５ｍＱ、４Ｎ水酸化ナトリウム溶液２５ｍａ及び
水２５ｍ１２を滴下し、固体を吸引炉別し、ジエチルエ
ーテルで洗浄し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧下で濃縮した。
一容量で２回抽出した。有機相を分離し、飽和重炭酸ナ
トリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧下で濃縮し、残渣から存在する溶媒を高真空下で除
去した。主に式の光学的活性α−ヒドロキシアルデヒド
からなるかくして得られた生成物を無水ジエチルエーテ
ル２５０ｎ＋ｆｆに溶解し、無水ジエチルエーテル２５
００１１２中の水素化リチウムアルミニウム１４．１ｇ
（０，３７モル）の懸濁液に室温で撹拌しながら滴下
し。反応混合物を還流下で３時間加熱し、順次、酢酸エ
チル２５ｍＱ、４Ｎ水酸化ナトリウム溶液２５ｍａ及び
水２５ｍ１２を滴下し、固体を吸引炉別し、ジエチルエ
ーテルで洗浄し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧下で濃縮した。
この方法で、ガスクロマトグラフィーによる分析によれ
ば、式（Ｘ−１）の光学的活性ジオール６０％からなる
生成物１２．９ｇが得られた。
ば、式（Ｘ−１）の光学的活性ジオール６０％からなる
生成物１２．９ｇが得られた。
ＩＲスペクトル（ＮａＣｌ）：
３１００ ３６００ｃｍ−’にＯＨ吸収帯１６００及び
１５９０ｃｍ−’にＣ−Ｃ吸収帯質量スペクトル： ｍ／ｅ＝２５９（２０％、Ｍつ 第三工程 Ｒ−エナンチオマー ＣＨｓ−３ｏｙ−０−ＣＨ２＼＊、／Ｃ（ＣＨ３）３
（ｎ［１）無水塩化メチジ２１０ｍ１２中のメタ
ンスルホニルクロライド５．０９ （４４ミリモル）
の溶液及び無水塩化メチレン１０ｍｒｌ中のトリエチル
アミン４．４ｙ （４４ミリモル）の溶液を、無水塩
化メチレン２ＯｍＱ中の式（Ｘ−１）のＲ−エナンチオ
マーの粗製の生成物１２．７ｇの溶液に窒素雰囲気下に
て０℃で撹拌しながら滴下した。撹拌を０°Ｃで４時間
続け、次に混合物を２５°Ｃに加温した。反応混合物を
順次、飽和クエン酸水溶液及び飽和重炭酸ナトリウム水
溶液で抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、減
圧下で濃縮しＩ；。
１５９０ｃｍ−’にＣ−Ｃ吸収帯質量スペクトル： ｍ／ｅ＝２５９（２０％、Ｍつ 第三工程 Ｒ−エナンチオマー ＣＨｓ−３ｏｙ−０−ＣＨ２＼＊、／Ｃ（ＣＨ３）３
（ｎ［１）無水塩化メチジ２１０ｍ１２中のメタ
ンスルホニルクロライド５．０９ （４４ミリモル）
の溶液及び無水塩化メチレン１０ｍｒｌ中のトリエチル
アミン４．４ｙ （４４ミリモル）の溶液を、無水塩
化メチレン２ＯｍＱ中の式（Ｘ−１）のＲ−エナンチオ
マーの粗製の生成物１２．７ｇの溶液に窒素雰囲気下に
て０℃で撹拌しながら滴下した。撹拌を０°Ｃで４時間
続け、次に混合物を２５°Ｃに加温した。反応混合物を
順次、飽和クエン酸水溶液及び飽和重炭酸ナトリウム水
溶液で抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、減
圧下で濃縮しＩ；。
この方法で、式（ＸＩ−１）のＲ−エナンチオマー１６
．９ｇが得られ、このものを更に精製せずに反応させた
。
．９ｇが得られ、このものを更に精製せずに反応させた
。
ＩＲスペクトル（ＮａＣ１）：
３６００−３２００ｃｍ−’ｉ：ＯＨ吸収帯１３６０
１１８０ｃｍ−’にＣＨ３−５ｏ、−０−ＣＩ、吸収帯
第四工程 式（ＸＩ［−１）の化合物のＲ−エナンチオマーの粗製
の精製物１６．４ｙ、トリアゾールのナトリウム塩１３
．３ｇ及び無水ジメチルホルムアミド５０ｍ＜２の混合
物を窒素雰囲気下にて１２０℃で４時間撹拌した。次に
混合物を減圧下で濃縮し、残渣を水及び塩化メチレンの
混合物に加えた。有機相を分離し、水相を塩化メチレン
で２回抽出し、合液した有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、そして濃縮した。生成物９．０４９が残り、この
ものをシリカゲル３５０ｇ上で、溶離剤として塩化メチ
レン／メタノール−９５：５の混合物を用いてカラムク
ロマトグラフィーによってｔ身装した。
１１８０ｃｍ−’にＣＨ３−５ｏ、−０−ＣＩ、吸収帯
第四工程 式（ＸＩ［−１）の化合物のＲ−エナンチオマーの粗製
の精製物１６．４ｙ、トリアゾールのナトリウム塩１３
．３ｇ及び無水ジメチルホルムアミド５０ｍ＜２の混合
物を窒素雰囲気下にて１２０℃で４時間撹拌した。次に
混合物を減圧下で濃縮し、残渣を水及び塩化メチレンの
混合物に加えた。有機相を分離し、水相を塩化メチレン
で２回抽出し、合液した有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、そして濃縮した。生成物９．０４９が残り、この
ものをシリカゲル３５０ｇ上で、溶離剤として塩化メチ
レン／メタノール−９５：５の混合物を用いてカラムク
ロマトグラフィーによってｔ身装した。
溶離液の濃縮により、液体クロマトグラフィーによる分
析によれば、２−（４−クロロフェノキシメチル）−３
，３−ジメチル−１−（１，２，４トリアゾル−１−イ
ルメチル）−２−ブタノールのＳ−エナンチオマー９３
．５％を含む生成物４．４３ｇ （理論量の２９％）を
得た（光学的純度８７％ｅ、ｅ、）。
析によれば、２−（４−クロロフェノキシメチル）−３
，３−ジメチル−１−（１，２，４トリアゾル−１−イ
ルメチル）−２−ブタノールのＳ−エナンチオマー９３
．５％を含む生成物４．４３ｇ （理論量の２９％）を
得た（光学的純度８７％ｅ、ｅ、）。
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
１、式
式中、Ｒは置換されたまたは未置換アルキル、置換され
たまたは未置換シクロアルキルを表わすか、或いは置換
されたまたは未置換フェニルを表わし、そして Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ”及ｒＪＲ＠は水素または
アルキルを表わし、但し、数基の少なくとも１つはアル
キルを表わし、或いは Ｒ６及びＲ６は共に未置換まｌ；はアルキルで置換され
るアルカンジイルを表わすが、或いはＲ４及びＲ８は隣
接炭素原子と一緒になって、未置換またはアルキルで置
換される融合した二環式炭化水素基を表わす、 ノ光学的活性オキシラン。
たまたは未置換シクロアルキルを表わすか、或いは置換
されたまたは未置換フェニルを表わし、そして Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ”及ｒＪＲ＠は水素または
アルキルを表わし、但し、数基の少なくとも１つはアル
キルを表わし、或いは Ｒ６及びＲ６は共に未置換まｌ；はアルキルで置換され
るアルカンジイルを表わすが、或いはＲ４及びＲ８は隣
接炭素原子と一緒になって、未置換またはアルキルで置
換される融合した二環式炭化水素基を表わす、 ノ光学的活性オキシラン。
２、 Ｒが未置換またはハロゲン、炭素原子１〜４個を
有するアルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキル
チオ、ＣＯＨ基及びその誘導体、フェノキシ及び／また
はフェニルで置換される炭素原子１〜６個を有する直鎖
状または分枝鎖状アルキルを表わすか、未置換または炭
素原子１〜４個を有するアルキル、炭素原子１〜４個を
有するアルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキル
チオ及び／またはハロゲンで置換される炭素原子３〜８
個を有するシクロアルキルを表わすか、或いは未置換ま
たは炭素原子１〜４個を有するアルキル、炭素原子１〜
４個を有するアルコキシ、炭素原子１〜４個を有するア
ルキルチオ及び／またはハロゲンで置換されるフェニル
を表わし、そして Ｒ１，Ｒ２Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１及びＲ６が水素または炭素
原子１〜４個を有するアルキルを表わすが、但し、数基
の少なくとも１つは炭素原子１〜４個を有するアルキル
を表わし、更にまた、Ｒ４及びＲ６は共に、未置換また
は一連の炭素原子１〜４Ｉ’ｉｉを有するアルキルから
なる同一もしくは相異なる置換基で一置換乃至三置換さ
れる炭素原子３〜６個を有するアルカンジイルを表わす
か、或いは更に Ｒ４及びＲ″が隣接炭素原子と一緒になって、未置換又
は一連の炭素原子１〜４個を有するアルキルからなる同
一もしくは相異なる置換基で一置換乃至三置換される炭
素原子７個または８個を有する融合した二環式炭化水素
を表わす上記ｌに記載の式（Ｉ）の光学的活性オキシラ
ン。
有するアルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキル
チオ、ＣＯＨ基及びその誘導体、フェノキシ及び／また
はフェニルで置換される炭素原子１〜６個を有する直鎖
状または分枝鎖状アルキルを表わすか、未置換または炭
素原子１〜４個を有するアルキル、炭素原子１〜４個を
有するアルコキシ、炭素原子１〜４個を有するアルキル
チオ及び／またはハロゲンで置換される炭素原子３〜８
個を有するシクロアルキルを表わすか、或いは未置換ま
たは炭素原子１〜４個を有するアルキル、炭素原子１〜
４個を有するアルコキシ、炭素原子１〜４個を有するア
ルキルチオ及び／またはハロゲンで置換されるフェニル
を表わし、そして Ｒ１，Ｒ２Ｒ３、Ｒ４、Ｒ１及びＲ６が水素または炭素
原子１〜４個を有するアルキルを表わすが、但し、数基
の少なくとも１つは炭素原子１〜４個を有するアルキル
を表わし、更にまた、Ｒ４及びＲ６は共に、未置換また
は一連の炭素原子１〜４Ｉ’ｉｉを有するアルキルから
なる同一もしくは相異なる置換基で一置換乃至三置換さ
れる炭素原子３〜６個を有するアルカンジイルを表わす
か、或いは更に Ｒ４及びＲ″が隣接炭素原子と一緒になって、未置換又
は一連の炭素原子１〜４個を有するアルキルからなる同
一もしくは相異なる置換基で一置換乃至三置換される炭
素原子７個または８個を有する融合した二環式炭化水素
を表わす上記ｌに記載の式（Ｉ）の光学的活性オキシラ
ン。
３、式
式中、Ｒは置換されたまたは未置換アルキル、置換され
たまたは未置換シクロアルキルを表わすか、或いは置換
されたまたは未置換フェニルを表わし、そして Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ′及びＲ″は水素またはア
ルキルを表わし、但し、数基の少なくとも１つはアルキ
ルを表わし、或いは Ｒ４及びＲ５は共に未置換またはアルキルで置換される
アルカンジイルを表わすか、或いはＲ４及びＲ５は隣接
炭素原子と一緒になって、未置換またはアルキルで置換
される融合した二環式炭化水素基を表わす、 の光学的活性オキ７ランを製造するにあたり、式式中、
Ｒ，Ｒ’％Ｒ”、Ｒ３Ｒ４、Ｒ６及びＲ６は上記の意味
を有する、 のエナンチオマー的に純粋なオキサチアンケトンを強塩
基の存在下において且つ希釈剤の存在下において一７０
°Ｃ乃至＋１００°Ｃ間の温度で、ａ）式 式中 Ｒ７はメチルまたはフェニルを表わし、Ｒ１はメ
チルまたはフェニルを表わし、そしてＸＣＩはハライド
またはメトスルフェートを表ゎす のスルホニウム塩と反応させるが、或いはβ）式 式中、Ｒ’はメチルまたはフェニルを表わし、ＲＩＯは
メチルまたはフェニルを表わし、そしてＸｌｅはハライ
ドまたはメトスルフェートを表わす、 のスルホキソニウムと反応させる ことからなる上記式（１）の光学的活性オキシランの製
造方法。
たまたは未置換シクロアルキルを表わすか、或いは置換
されたまたは未置換フェニルを表わし、そして Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ′及びＲ″は水素またはア
ルキルを表わし、但し、数基の少なくとも１つはアルキ
ルを表わし、或いは Ｒ４及びＲ５は共に未置換またはアルキルで置換される
アルカンジイルを表わすか、或いはＲ４及びＲ５は隣接
炭素原子と一緒になって、未置換またはアルキルで置換
される融合した二環式炭化水素基を表わす、 の光学的活性オキ７ランを製造するにあたり、式式中、
Ｒ，Ｒ’％Ｒ”、Ｒ３Ｒ４、Ｒ６及びＲ６は上記の意味
を有する、 のエナンチオマー的に純粋なオキサチアンケトンを強塩
基の存在下において且つ希釈剤の存在下において一７０
°Ｃ乃至＋１００°Ｃ間の温度で、ａ）式 式中 Ｒ７はメチルまたはフェニルを表わし、Ｒ１はメ
チルまたはフェニルを表わし、そしてＸＣＩはハライド
またはメトスルフェートを表ゎす のスルホニウム塩と反応させるが、或いはβ）式 式中、Ｒ’はメチルまたはフェニルを表わし、ＲＩＯは
メチルまたはフェニルを表わし、そしてＸｌｅはハライ
ドまたはメトスルフェートを表わす、 のスルホキソニウムと反応させる ことからなる上記式（１）の光学的活性オキシランの製
造方法。
４、式
式中、Ｒは置換されたまたは未置換アルキル、置換され
たまたは未置換シクロアルキルを表わすか、或いは置換
されたまたは未置換フェニルを表わし、 Ｙは酸素、直接結合またはＣＨ，基を表わし、２はハロ
ゲン、アルキル、シクロアルキル、アルコキシ、アルキ
ルチオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシ、ハロ
ゲノアルキルチオ、置換されたまたは未置換フェノキシ
、置換されたまたは未置換フェニルアルキル或いは置換
されたまたは未置換フェノキシアルキルを表わし、そし
て ｎは数０．１，２または３を表わす、 の光学的活性２−ヒドロキシエチルアゾール誘導体を製
造するにあたり、式 式中、Ｒ，Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ’及びＲ’は上
記の意味を有する、 の光学的活性オキシランを第一工程において、γ）塩基
の存在下において且つ希釈剤の存在下において０°Ｃ乃
至１５０°Ｃ間の温度で式式中、Ｚ及びｍは上記の意味
を有する、のフェノール誘導体と反応させるか、 δ）希釈剤の存在下において一７８°Ｃ乃至＋１００°
Ｃ間の温度で式 式中、Ｒ，Ｒ’ Ｒ”、Ｒ”、Ｒ４、Ｒ″、Ｒ＠、Ｙ
ｌＺ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性化合物を第二工程において、希釈剤の存在
下において且つ必要に応じて、酸結合剤の存在下におい
て０°Ｃ乃至１００°Ｃ間の温度でオキサチアン化合物
の開裂に適する試薬と反応させ、そしてかくして生成し
た式 式中、Ｚ及びｍは上記の意味を存し、 Ｍｅはアルカリ土類金属を表わすか、または亜鉛を表わ
し、そして Ｘ２は塩素、臭素またはヨウ素を表わす、のグリニアー
ル化合物と反応させ、次にかくして得られた式 式中、Ｒ，Ｙ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性α−ヒドロキシアルデヒドを希釈剤の存在
下において一２０°Ｃ乃至＋１００°Ｃ間の温度で、ア
ルデヒドの還元に適する試薬と反応させ、更に第三工程
において、かくして得られた式式中、Ｒ１Ｙ％Ｚ及びｍ
は上記の意味を有する、 の光学的活性ジオール類を希釈剤の存在下において且つ
結合剤の存在下において０℃乃至１００°Ｃ間の温度で
式 ％式％（） 式中、Ｒ１′はアルキル、ハロゲノアルキル或いは置換
されたまたは未置換フェニルを表わし、そして Ｈａｌはハロゲンを表わす、 のスルホン酸誘導体と反応させ、最後に、第四工程にお
いて、生ずる式 の光学的活性化合物を希釈剤の存在下において且つ必要
に応じて、酸結合剤の存在下において２０℃乃至１５０
’Ｃ！間の温度で式 式中、Ｍｅ’はアルカリ金属を表わす、のトリアゾール
塩と反応させる ことからなる上記式（Ｖ）の光学的活性２−ヒドロキシ
エチルアゾール誘導体の製造方法。
たまたは未置換シクロアルキルを表わすか、或いは置換
されたまたは未置換フェニルを表わし、 Ｙは酸素、直接結合またはＣＨ，基を表わし、２はハロ
ゲン、アルキル、シクロアルキル、アルコキシ、アルキ
ルチオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシ、ハロ
ゲノアルキルチオ、置換されたまたは未置換フェノキシ
、置換されたまたは未置換フェニルアルキル或いは置換
されたまたは未置換フェノキシアルキルを表わし、そし
て ｎは数０．１，２または３を表わす、 の光学的活性２−ヒドロキシエチルアゾール誘導体を製
造するにあたり、式 式中、Ｒ，Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ６、Ｒ’及びＲ’は上
記の意味を有する、 の光学的活性オキシランを第一工程において、γ）塩基
の存在下において且つ希釈剤の存在下において０°Ｃ乃
至１５０°Ｃ間の温度で式式中、Ｚ及びｍは上記の意味
を有する、のフェノール誘導体と反応させるか、 δ）希釈剤の存在下において一７８°Ｃ乃至＋１００°
Ｃ間の温度で式 式中、Ｒ，Ｒ’ Ｒ”、Ｒ”、Ｒ４、Ｒ″、Ｒ＠、Ｙ
ｌＺ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性化合物を第二工程において、希釈剤の存在
下において且つ必要に応じて、酸結合剤の存在下におい
て０°Ｃ乃至１００°Ｃ間の温度でオキサチアン化合物
の開裂に適する試薬と反応させ、そしてかくして生成し
た式 式中、Ｚ及びｍは上記の意味を存し、 Ｍｅはアルカリ土類金属を表わすか、または亜鉛を表わ
し、そして Ｘ２は塩素、臭素またはヨウ素を表わす、のグリニアー
ル化合物と反応させ、次にかくして得られた式 式中、Ｒ，Ｙ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性α−ヒドロキシアルデヒドを希釈剤の存在
下において一２０°Ｃ乃至＋１００°Ｃ間の温度で、ア
ルデヒドの還元に適する試薬と反応させ、更に第三工程
において、かくして得られた式式中、Ｒ１Ｙ％Ｚ及びｍ
は上記の意味を有する、 の光学的活性ジオール類を希釈剤の存在下において且つ
結合剤の存在下において０℃乃至１００°Ｃ間の温度で
式 ％式％（） 式中、Ｒ１′はアルキル、ハロゲノアルキル或いは置換
されたまたは未置換フェニルを表わし、そして Ｈａｌはハロゲンを表わす、 のスルホン酸誘導体と反応させ、最後に、第四工程にお
いて、生ずる式 の光学的活性化合物を希釈剤の存在下において且つ必要
に応じて、酸結合剤の存在下において２０℃乃至１５０
’Ｃ！間の温度で式 式中、Ｍｅ’はアルカリ金属を表わす、のトリアゾール
塩と反応させる ことからなる上記式（Ｖ）の光学的活性２−ヒドロキシ
エチルアゾール誘導体の製造方法。
特許出願人 バイエル・アクチェンゲゼル式中、Ｒ％Ｒ
１１、Ｙｌｚ及びｍは上記の意味を有する、
１１、Ｙｌｚ及びｍは上記の意味を有する、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒは置換もしくは未置換のアルキル、置換もしく
は未置換のシクロアルキル、或いは置換もしくは未置換
のフェニルを表わし、そしてＲ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、
Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６は水素またはアルキルを表わ
し、但し該基の少なくとも１つはアルキルを表わし、或
いは Ｒ＾４及びＲ＾５は一緒になって、アルキルで置換され
ていてもよいアルカンジイルを表わすか、或いは Ｒ＾４及びＲ＾５は隣接炭素原子と一緒になって、アル
キルで置換されていてもよい融合した二環式炭化水素基
を表わす、 の光学的活性オキシラン類。 ２、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒは置換もしくは未置換のアルキル、置換もしく
は未置換のシクロアルキル、或いは置換もしくは未置換
のフェニルを表わし、そしてＲ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、
Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６は水素またはアルキルを表わ
し、但し該基の少なくとも１つはアルキルを表わし、或
いは Ｒ＾４及びＲ＾５は一緒になって、アルキルで置換され
ていてもよいアルカンジイルを表わすか、或いは Ｒ＾４及びＲ＾５は隣接炭素原子と一緒になって、アル
キルで置換されていてもよい融合した二環式炭化水素基
を表わす、 の光学的活性オキシラン類を製造する方法であって、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５及
びＲ＾６は上記の意味を有する、のエナンチオマー的に
純粋なオキサチアンケトン類を、強塩基の存在下におい
て且つ希釈剤の存在下において−７０℃乃至＋１００℃
間の温度で、α）式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 式中、Ｒ＾７はメチルまたはフェニルを表わし、Ｒ＾８
はメチルまたはフェニルを表わし、そしてＸ＾■はハラ
イドまたはメトスルフェートを表わす のスルホニウム塩と反応させるか、或いは β）式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 式中、Ｒ＾９はメチルまたはフェニルを表わし、Ｒ＾１
＾０はメチルまたはフェニルを表わし、そしてＸ＾１＾
■はハライドまたはメトスルフェートを表わす、 のスルホキソニウムと反応させる、 ことを特徴とする方法。 ３、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） 式中、Ｒは置換もしくは未置換のアルキル、置換もしく
は未置換のシクロアルキル、或いは置換もしくは未置換
のフェニルを表わし、 Ｙは酸素、直接結合またはＣＨ＿２基を表わし、Ｚはハ
ロゲン、アルキル、シクロアルキル、アルコキシ、アル
キルチオ、ハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシ、ハ
ロゲノアルキルチオ、置換もしくは未置換のフェノキシ
、置換もしくは未置換のフェニルアルキル或いは置換も
しくは未置換のフェノキシアルキルを表わし、そして ｎは数０、１、２または３を表わす、 の光学的活性２−ヒドロキシエチルアゾール誘導体を製
造する方法であって、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５及
びＲ＾６は上記の意味を有する、の光学的活性オキシラ
ンを、第一工程において、γ）塩基の存在下において且
つ希釈剤の存在下において０℃乃至１５０℃間の温度で
式 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） 式中、Ｚ及びｍは上記の意味を有する、 のフェノール誘導体と反応させるか、 δ）希釈剤の存在下において−７８℃乃至＋１００℃間
の温度で式 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） 式中、Ｚ及びｍは上記の意味を有し、 Ｍｅはアルカリ土類金属を表わすか、または亜鉛を表わ
し、そして Ｘ＾２は塩素、臭素またはヨウ素を表わす、のグリニア
ール化合物と反応させ、 次にかくして得られた式 ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII） 式中、Ｒ、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、
Ｒ＾６、Ｙ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性化合物を、第二工程において、希釈剤の存
在下において且つ、必要に応じて酸結合剤の存在下にお
いて、０℃乃至１００℃間の温度で、オキサチアン化合
物の開裂に適する試薬と反応させ、そしてかくして生成
した式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IX） 式中、Ｒ、Ｙ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性α−ヒドロキシアルデヒド類を、希釈剤の
存在下において、−２０℃乃至＋１００℃間の温度で、
アルデヒドの還元に適する試薬と反応させ、 更に第三工程において、かくして得られた式▲数式、化
学式、表等があります▼（Ｘ） 式中、Ｒ、Ｙ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する、 の光学的活性ジオール類を希釈剤の存在下において且つ
酸結合剤の存在下において０℃乃至１００℃間の温度で
式 Ｒ＾１＾１−ＳＯ＿２−Ｈａｌ（Ｘ I ） 式中、Ｒ＾１＾１はアルキル、ハロゲノアルキル或いは
置換もしくは未置換のフェニルを表わし、そして Ｈａｌはハロゲンを表わす、 のスルホン酸誘導体と反応させ、 最後に、第四工程において、生ぜられた式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸII） 式中、Ｒ、Ｒ＾１＾１、Ｙ、Ｚ及びｍは上記の意味を有
する、 の光学的活性化合物を希釈剤の存在下において且つ、必
要に応じて酸結合剤の存在下において、２０℃乃至１５
０℃間の温度で式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＸIII） 式中、Ｍｅ＾１はアルカリ金属を表わす、 のトリアゾール塩と反応させる、 ことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3823174.3 | 1988-07-08 | ||
| DE3823174A DE3823174A1 (de) | 1988-07-08 | 1988-07-08 | Optisch aktive (1,3-oxathian-2-yl)-oxirane, ihre herstellung und verwendung als zwischenprodukte, sowie verfahren zur herstellung von optisch aktiven 2-hydroxyethyl-1,2,4-triazol-derivaten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0272166A true JPH0272166A (ja) | 1990-03-12 |
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ID=6358257
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1172115A Pending JPH0272166A (ja) | 1988-07-08 | 1989-07-05 | 光学活性オキシラン類 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4988823A (ja) |
| EP (1) | EP0349856A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0272166A (ja) |
| DE (1) | DE3823174A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001239927A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-09-04 | Denso Corp | ブレーキ装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NZ268535A (en) * | 1993-06-30 | 1998-05-27 | Procter & Gamble | Absorbent article comprising layers of superabsorbent material |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3641054A (en) * | 1969-02-04 | 1972-02-08 | Stauffer Chemical Co | Method of preparing 1 4-oxathianes and derivatives thereof |
| NL160707C (nl) * | 1974-08-02 | 1979-12-17 | Firmenich & Cie | Werkwijze ter bereiding van aroma-preparaten of gearomatiseerde voedingsmiddelen, dierenvoeders, dranken, farmaceutische preparaten of tabaksprodukten respectievelijk ter bereiding van parfums of geparfumeerde produkten. |
| AU542623B2 (en) * | 1980-05-16 | 1985-02-28 | Bayer Aktiengesellschaft | 1-hydroxyethyl-azole derivatives |
| DE3175673D1 (en) * | 1980-11-19 | 1987-01-15 | Ici Plc | Triazole compounds, a process for preparing them, their use as plant fungicides and fungicidal compositions containing them |
| EP0061835B1 (en) * | 1981-03-18 | 1989-02-01 | Imperial Chemical Industries Plc | Triazole compounds, a process for preparing them, their use as plant fungicides and fungicidal compositions containing them |
| DE3202601A1 (de) * | 1982-01-27 | 1983-08-04 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Substituierte 1 -hydroxyalkyl-azolyl-derivate, verfahren zu ihrer herstellung sowie ihrer verwendung als fungizide und pflanzenwachstumsregulatoren |
| DE3315681A1 (de) * | 1983-04-29 | 1984-10-31 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von oxiranen |
| DE3315524A1 (de) * | 1983-04-29 | 1984-10-31 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von oxiranen |
| DE3315619A1 (de) * | 1983-04-29 | 1984-10-31 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von oxiranen |
| DE3315510A1 (de) * | 1983-04-29 | 1984-10-31 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von oxiranen |
| DE3627673A1 (de) * | 1986-08-14 | 1988-02-25 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung optisch aktiver 2-hydroxyethyl-azol-derivate |
-
1988
- 1988-07-08 DE DE3823174A patent/DE3823174A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-06-24 EP EP19890111517 patent/EP0349856A3/de not_active Ceased
- 1989-06-27 US US07/372,062 patent/US4988823A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-07-05 JP JP1172115A patent/JPH0272166A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001239927A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-09-04 | Denso Corp | ブレーキ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3823174A1 (de) | 1990-01-11 |
| US4988823A (en) | 1991-01-29 |
| EP0349856A2 (de) | 1990-01-10 |
| EP0349856A3 (de) | 1990-11-07 |
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